JPH0253219A - バインダーおよび磁気記録材料 - Google Patents
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Landscapes
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- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、バインダーおよび磁気記録材料に関するもの
である。
である。
[従来の技術]
従来、磁気記録材料のバインダーとしては、高分子ポリ
オール、低分子ポリオールおよびジメチロールプロピオ
ン酸からなるポリオール成分と有機ポリイソシアネート
とを反応させて得られるポリウレタン樹脂が知られてい
る(特開昭59−148m27号公報)。
オール、低分子ポリオールおよびジメチロールプロピオ
ン酸からなるポリオール成分と有機ポリイソシアネート
とを反応させて得られるポリウレタン樹脂が知られてい
る(特開昭59−148m27号公報)。
[発明が解決しようとする問題点コ
しかしながら、従来のバインダーは、磁性材料の分散機
能がほとんどなく、その分散機能を分散剤に委ねていた
が、バインダーに分散剤を配合した系では、分散剤が磁
性材料の耐久性に悪影響を与え、磁性塗膜物性を劣化さ
せる等の問題点かある。
能がほとんどなく、その分散機能を分散剤に委ねていた
が、バインダーに分散剤を配合した系では、分散剤が磁
性材料の耐久性に悪影響を与え、磁性塗膜物性を劣化さ
せる等の問題点かある。
[問題点を解決するための手段]
本発明者らは、分散性の優れた磁気記録材料用バインダ
ーおよび磁気記録材料について鋭意検討した結果、本発
明に到達した。
ーおよび磁気記録材料について鋭意検討した結果、本発
明に到達した。
すなわち、本発明は、当量200〜2000の高分子ポ
リオール(A1)、低分子ポリオール(A2)および下
記(aL (b)、 (c)からなる群より選ばれる官
能基を有する活性水素含有化合物(A3)からなる活性
水素化合物(A)と有機ポリイソシアネートCB)とか
らのポリウレタン樹脂(C)からなることを特徴とする
磁気記録材料用のノ(インダー(a)−COOX (b)−5OsX (C) −PO(OXh X:NH4またはアミンカチオン および 前記磁気記録材料用のバインダーと磁性体を含有させて
なることを特徴とする磁気記録材料である。
リオール(A1)、低分子ポリオール(A2)および下
記(aL (b)、 (c)からなる群より選ばれる官
能基を有する活性水素含有化合物(A3)からなる活性
水素化合物(A)と有機ポリイソシアネートCB)とか
らのポリウレタン樹脂(C)からなることを特徴とする
磁気記録材料用のノ(インダー(a)−COOX (b)−5OsX (C) −PO(OXh X:NH4またはアミンカチオン および 前記磁気記録材料用のバインダーと磁性体を含有させて
なることを特徴とする磁気記録材料である。
アミンカチオンを形成するアミンとしては、アルキルア
ミン(モノメチルアミン、トリエチルアミン等)、アル
カノールアミン(ジェタノールアミン、 トリエタノー
ルアミン等)、複素環式アミン(ピペリジン、モルホリ
ン、ピペラジン等)および芳香族アミン(アニリン等)
等が挙げられる。
ミン(モノメチルアミン、トリエチルアミン等)、アル
カノールアミン(ジェタノールアミン、 トリエタノー
ルアミン等)、複素環式アミン(ピペリジン、モルホリ
ン、ピペラジン等)および芳香族アミン(アニリン等)
等が挙げられる。
これらのうち、好ましいものは、 トリエチルアルアミ
ン、 トリメチルアミンである。
ン、 トリメチルアミンである。
本発明における(a)、 (b)、(c)からなる群よ
り選ばれる官能基を有する活性水素含有化合物(A3)
としては、一般式 %式%(1) [式中、XはOH,NH,NH2またはSH;Zは有機
基: YはC00X、503X、またはPO(OX)2;Xは
NHAまたはアミンカチオン; mは好ましくは1または2;nは1以上の整数である]
で示される化合物が挙げられる。
り選ばれる官能基を有する活性水素含有化合物(A3)
としては、一般式 %式%(1) [式中、XはOH,NH,NH2またはSH;Zは有機
基: YはC00X、503X、またはPO(OX)2;Xは
NHAまたはアミンカチオン; mは好ましくは1または2;nは1以上の整数である]
で示される化合物が挙げられる。
具体的には、C00Xを存する活性水素化合物(ai)
としては、 HOCHsCOOX HOCH(COOX)* HOCHCOOX nocncoox (HOCh)*C(C1h)COOX (HQc、h Ct12)tNcHt CHaGOOX
H2N−CH−COOX CH2C00X 11s−CH−COOX Hs−CH−COOX ならびにその誘導体(これらの塩を含有するポリエーテ
ルポリオール、ポリエステルポリオールまたはポリウレ
タンプレポリマー等、例えばプロピレンオキサイドとの
反応物、カプロラクトンとの反応物あるいはポリイソシ
アネートとの反応物等)が挙げられる。
としては、 HOCHsCOOX HOCH(COOX)* HOCHCOOX nocncoox (HOCh)*C(C1h)COOX (HQc、h Ct12)tNcHt CHaGOOX
H2N−CH−COOX CH2C00X 11s−CH−COOX Hs−CH−COOX ならびにその誘導体(これらの塩を含有するポリエーテ
ルポリオール、ポリエステルポリオールまたはポリウレ
タンプレポリマー等、例えばプロピレンオキサイドとの
反応物、カプロラクトンとの反応物あるいはポリイソシ
アネートとの反応物等)が挙げられる。
SO3Xを有する活性水素化合物(a2)としては、(
HOCIla h C(CH3)SOs XHaN(J
aSO3X HOCH2CHa 503X (HOCHtCH*)tNc112cTIasQaX(
IIOClla CH* OCO)20m Ha SO
a X等ならびにその誘導体(これらの塩を含有するポ
リエーテルポリオール、ポリエステルポリオールまたは
ポリウレタンプレポリマー等、例えばプロピレンオキサ
イドとの反応物、カプロラクトンとの反応物あるいはポ
リイソシアネートとの反応物等)が挙げられる。
HOCIla h C(CH3)SOs XHaN(J
aSO3X HOCH2CHa 503X (HOCHtCH*)tNc112cTIasQaX(
IIOClla CH* OCO)20m Ha SO
a X等ならびにその誘導体(これらの塩を含有するポ
リエーテルポリオール、ポリエステルポリオールまたは
ポリウレタンプレポリマー等、例えばプロピレンオキサ
イドとの反応物、カプロラクトンとの反応物あるいはポ
リイソシアネートとの反応物等)が挙げられる。
po(ox)、を有する活性水素化合物(a3)として
は、(HOCIla)ac(CH*)PO(OX)s(
HOCHa(EH20GO)zcaB3Po(OX)a
等ならびにその誘導体(これらの塩を含有するポリエー
テルポリオール、ポリエステルポリオールまたはポリウ
レタンプレポリマー等、例えばプロピレンオキサイドと
の反応物、カプロラクトンとの反応物あるいはポリイソ
シアネートとの反応物等)が挙げられる。
は、(HOCIla)ac(CH*)PO(OX)s(
HOCHa(EH20GO)zcaB3Po(OX)a
等ならびにその誘導体(これらの塩を含有するポリエー
テルポリオール、ポリエステルポリオールまたはポリウ
レタンプレポリマー等、例えばプロピレンオキサイドと
の反応物、カプロラクトンとの反応物あるいはポリイソ
シアネートとの反応物等)が挙げられる。
これらのうち、好ましいものは、ジメチロールプロピオ
ン酸、フタル酸グリコールジエステルスルホン酸、ビス
ヒドロキシエチルアミノエタンスルホン ンリン酸のアンモニウム塩またはアミン塩である。
ン酸、フタル酸グリコールジエステルスルホン酸、ビス
ヒドロキシエチルアミノエタンスルホン ンリン酸のアンモニウム塩またはアミン塩である。
本発明における当量200〜2000の高分子ポリオー
ル( A I)としては、次のものが挙げられる。
ル( A I)としては、次のものが挙げられる。
ポリエーテルジオールとしては低分子ジオール[エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、1.4−または1.
3−ブタンジオール、ネオペンチルグリ・コール、1.
6−ヘキサンジオール、11訃オクタメチレンジオール
、1.10−デカンジオール、アルキルジアルカノール
アミン;環状基を有する低分子ジオール類〔例えばシク
ロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタツール等の
グリコール類および特公昭45−1474号記載のもの
: ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、I−お
よびp−キシリレングリコール、ビス(ヒドロキシエチ
ルベンゼン、1゜4−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)
ベンゼン、4.4’−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)
−ジフェニルプロパン(ビスフェノールAのエチレンオ
キシド付加物)等〕、およびこれらの2種以上の混合均
等コのアルキレンオキシド(炭素数2〜4のアルキレン
オキシド:エチレンオキシド、プロピレンオキシド、l
、2−1213−11.3−ブチレンオキシド等)付加
物、およびアルキレンオキシド、環状エーテル(テトラ
ヒドロフラン等)を開環重合または開環共重合(ブロッ
クおよび/またはランダム)させて得られるもの、例え
ばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール
、ポリエチレンーボリプロビレン(ブロックおよび/ま
たはランダム)グリコール、ポリテトラメチレンエーテ
ルグリコール、ポリテトラメチレン−エチレン(ブロッ
クおよび/またはランダム)グリコール、ポリテトラメ
チレン−プロピレン(ブロックおよび/またはランダム
)グリコール、ポリへキサメチレンエーテルグリコール
、ポリオクタメチレンエーテルグリコールおよびこれら
の2種以上の混合物が挙げられる。
ングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、1.4−または1.
3−ブタンジオール、ネオペンチルグリ・コール、1.
6−ヘキサンジオール、11訃オクタメチレンジオール
、1.10−デカンジオール、アルキルジアルカノール
アミン;環状基を有する低分子ジオール類〔例えばシク
ロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタツール等の
グリコール類および特公昭45−1474号記載のもの
: ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、I−お
よびp−キシリレングリコール、ビス(ヒドロキシエチ
ルベンゼン、1゜4−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)
ベンゼン、4.4’−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)
−ジフェニルプロパン(ビスフェノールAのエチレンオ
キシド付加物)等〕、およびこれらの2種以上の混合均
等コのアルキレンオキシド(炭素数2〜4のアルキレン
オキシド:エチレンオキシド、プロピレンオキシド、l
、2−1213−11.3−ブチレンオキシド等)付加
物、およびアルキレンオキシド、環状エーテル(テトラ
ヒドロフラン等)を開環重合または開環共重合(ブロッ
クおよび/またはランダム)させて得られるもの、例え
ばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール
、ポリエチレンーボリプロビレン(ブロックおよび/ま
たはランダム)グリコール、ポリテトラメチレンエーテ
ルグリコール、ポリテトラメチレン−エチレン(ブロッ
クおよび/またはランダム)グリコール、ポリテトラメ
チレン−プロピレン(ブロックおよび/またはランダム
)グリコール、ポリへキサメチレンエーテルグリコール
、ポリオクタメチレンエーテルグリコールおよびこれら
の2種以上の混合物が挙げられる。
ポリエステルジオールとしては、前記低分子ジオールお
よび/または分子量1000以下のポリエーテルジオー
ルとジカルボン酸とを反応させて得られる縮合ポリエス
テルジオールや、ラクトンの開環重合により得られるポ
リラクトンジオール等が含まれる。分子量1000以下
のポリエーテルジオールとしては、前記ポリエーテルジ
オール例えばポリエチレングリコール、ポリテトラメチ
レンエーテルグリコール、ポリプロピレングリコール、
トリエチレングリコール;およびこれらの2種以上の混
合物が挙げられる。また、ジカルボン酸としては脂肪族
ジカルボン酸(コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、グ
ルタル酸、アゼライン酸、マレイン酸、フマル酸等)、
芳香族ジカルボン酸(テレフタル酸、イソフタル酸等)
およびこれらの2種以、7ヒの混合物が挙げられ、ラク
トンとしてはε−カプロラクトンが挙げられる。
よび/または分子量1000以下のポリエーテルジオー
ルとジカルボン酸とを反応させて得られる縮合ポリエス
テルジオールや、ラクトンの開環重合により得られるポ
リラクトンジオール等が含まれる。分子量1000以下
のポリエーテルジオールとしては、前記ポリエーテルジ
オール例えばポリエチレングリコール、ポリテトラメチ
レンエーテルグリコール、ポリプロピレングリコール、
トリエチレングリコール;およびこれらの2種以上の混
合物が挙げられる。また、ジカルボン酸としては脂肪族
ジカルボン酸(コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、グ
ルタル酸、アゼライン酸、マレイン酸、フマル酸等)、
芳香族ジカルボン酸(テレフタル酸、イソフタル酸等)
およびこれらの2種以、7ヒの混合物が挙げられ、ラク
トンとしてはε−カプロラクトンが挙げられる。
ポリエステルジオールは通常の方法、例えば低分子ジオ
ールおよび/まは分子量1000以下のポリエーテルジ
オールを、ジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘
導体[例えば無水物(無水マレイン酸、無水フタル酸等
)、低級エステル(テレフタル酸ジメチル等)、ハライ
ド等]と、またはその無水物およびアルキレンオキシド
(例えばエチレンオキシドおよび/またはプロピレンオ
キシド)とを反応(縮合)させる、あるいは開始剤(低
分子ジオールおよび/または分子量1000以下のポリ
エーテルジオール、ポリエステルジオール)にラクトン
を付加させることにより製造することができる。
ールおよび/まは分子量1000以下のポリエーテルジ
オールを、ジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘
導体[例えば無水物(無水マレイン酸、無水フタル酸等
)、低級エステル(テレフタル酸ジメチル等)、ハライ
ド等]と、またはその無水物およびアルキレンオキシド
(例えばエチレンオキシドおよび/またはプロピレンオ
キシド)とを反応(縮合)させる、あるいは開始剤(低
分子ジオールおよび/または分子量1000以下のポリ
エーテルジオール、ポリエステルジオール)にラクトン
を付加させることにより製造することができる。
これらのポリエステルジオールの具体例としては、ポリ
エチレンフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリへ
キサメチレンフタレート、ポリネオペンチルフタレート
、ポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、
ポリへキサメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジ
ペート、ポリエチレンプロピレンアジペート、ポリエチ
レンブチレンアジベート、ポリブチレンヘキサメチレン
アジペート、ポリジエチレンアジペート、ポリ(ポリテ
トラメチレンエーテル)アジベー)・、ポリエチレンア
ゼレート、ポリエチレンセバケート、ポリブチレンアゼ
レート、ポリブチレンセバケート、ポリカプロラクトン
ジオールおよびこれらの2種以上の混合物が挙げられる
。
エチレンフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリへ
キサメチレンフタレート、ポリネオペンチルフタレート
、ポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、
ポリへキサメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジ
ペート、ポリエチレンプロピレンアジペート、ポリエチ
レンブチレンアジベート、ポリブチレンヘキサメチレン
アジペート、ポリジエチレンアジペート、ポリ(ポリテ
トラメチレンエーテル)アジベー)・、ポリエチレンア
ゼレート、ポリエチレンセバケート、ポリブチレンアゼ
レート、ポリブチレンセバケート、ポリカプロラクトン
ジオールおよびこれらの2種以上の混合物が挙げられる
。
ポリカーボネートジオールとしては、低分子ジオールと
カーボネートとを反応し”C得られる化合物が挙げられ
る。低分子ジオールとしては、炭素数4〜I7の脂肪族
ジオール(例えば!、4−ブタンジオール、!、5−ベ
ンタンジオール、ネオペンチルクリコ−ル、1.トヘキ
サンジオール、l、7−へブタンジオール、l、8−オ
クタンジオール、2−エチル−1,8−ヘキサンジオー
ル、2.2.4−トリメチル−1,6ヘキサンジオール
、1.10−デカンジオール、水素化シリルイルグリコ
ール、水素化ジオレイルグリコール)、脂環式ジオール
(例えば1.3−シクロヘキサンジオール、1.4−ジ
メチロールシクロヘキサン、1,4−シクロヘキサンジ
オール、■、3−ジメチロールシクロヘキサン、1,4
−エンドメチレン−2−ヒドロキシ−5−ヒドロキシメ
チルシクロヘキサン)およびポリオキシアルキレングリ
コール等を挙げることができる。使用するジオールは、
最終生成に所望な性質に依存して、単一のジオールであ
ってもジオールの混合物であってもよい。カーボネート
としては、エチレンカーボネート、トリメチルカーボネ
ート、テトラメチレンカーボネート、1,2−プロピレ
ンカーボネート、1,2−ブチレンカーボネート、2,
3−ブチレンカーボネート、1.2−エチレンカーボネ
ート等が挙げられる。
カーボネートとを反応し”C得られる化合物が挙げられ
る。低分子ジオールとしては、炭素数4〜I7の脂肪族
ジオール(例えば!、4−ブタンジオール、!、5−ベ
ンタンジオール、ネオペンチルクリコ−ル、1.トヘキ
サンジオール、l、7−へブタンジオール、l、8−オ
クタンジオール、2−エチル−1,8−ヘキサンジオー
ル、2.2.4−トリメチル−1,6ヘキサンジオール
、1.10−デカンジオール、水素化シリルイルグリコ
ール、水素化ジオレイルグリコール)、脂環式ジオール
(例えば1.3−シクロヘキサンジオール、1.4−ジ
メチロールシクロヘキサン、1,4−シクロヘキサンジ
オール、■、3−ジメチロールシクロヘキサン、1,4
−エンドメチレン−2−ヒドロキシ−5−ヒドロキシメ
チルシクロヘキサン)およびポリオキシアルキレングリ
コール等を挙げることができる。使用するジオールは、
最終生成に所望な性質に依存して、単一のジオールであ
ってもジオールの混合物であってもよい。カーボネート
としては、エチレンカーボネート、トリメチルカーボネ
ート、テトラメチレンカーボネート、1,2−プロピレ
ンカーボネート、1,2−ブチレンカーボネート、2,
3−ブチレンカーボネート、1.2−エチレンカーボネ
ート等が挙げられる。
ポリカーボネートジオールは、通常の方法、例えばジオ
ールとカーボネートとを、モル比lO:1〜1:101
好ましくは3:l〜1:3で、エステル交換触媒の
存在もしくは不存在において100−300℃の温度で
かつ0.1−300mm+Hgの圧力で反応させ、また
、その間に低沸点ジオールを蒸留により除去することに
より製造することができる。
ールとカーボネートとを、モル比lO:1〜1:101
好ましくは3:l〜1:3で、エステル交換触媒の
存在もしくは不存在において100−300℃の温度で
かつ0.1−300mm+Hgの圧力で反応させ、また
、その間に低沸点ジオールを蒸留により除去することに
より製造することができる。
また、ポリマーポリオールおよびポリブタジェンポリオ
ール等も使用できる。
ール等も使用できる。
これらのうち、好ましいのは、芳香族ジカルボン酸系ポ
リエステルジオール、アジピン酸系ポリエステルジオー
ル、ポリカプロラクトンジオールおよびポリカーボネー
トジオールである。
リエステルジオール、アジピン酸系ポリエステルジオー
ル、ポリカプロラクトンジオールおよびポリカーボネー
トジオールである。
高分子ポリオール(A、)の当量は、通常200〜20
00、好ましくは、250−1500である。200未
満の場合には生成ウレタン樹脂が皮膜形成性に乏しい脆
い樹脂となり、磁気記録材料用バインダーとして充分で
ない。一方当量が2000を越えると磁性粉の分散性が
低下し、フィルム強度が不十分となり、耐摩耗性、耐ス
クラッチ性、耐加水分解性が低下する。
00、好ましくは、250−1500である。200未
満の場合には生成ウレタン樹脂が皮膜形成性に乏しい脆
い樹脂となり、磁気記録材料用バインダーとして充分で
ない。一方当量が2000を越えると磁性粉の分散性が
低下し、フィルム強度が不十分となり、耐摩耗性、耐ス
クラッチ性、耐加水分解性が低下する。
本発明における低分子ポリオール(A2)としては、
(A+)で説明した低分子ジオールおよびグリセリン、
トリメチロールプロパン、 トリメチロールエタン、
ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグリセ
リン、α−メチルグルコシド、ソルビトール、キシリッ
ト、マンニット、グルコース、フラクトース、蔗糖等の
3〜8価のアルコール類が挙げられる。
(A+)で説明した低分子ジオールおよびグリセリン、
トリメチロールプロパン、 トリメチロールエタン、
ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグリセ
リン、α−メチルグルコシド、ソルビトール、キシリッ
ト、マンニット、グルコース、フラクトース、蔗糖等の
3〜8価のアルコール類が挙げられる。
これらのうち、好ましいのは、炭素数2〜lOのアルキ
レングリコールおよびトリメチロールエタンくンである
。
レングリコールおよびトリメチロールエタンくンである
。
本発明における有機ポリイソシアネート(B)としては
、次のものが挙げられる。
、次のものが挙げられる。
脂肪族ジイソシアネートとしては、エチレンジイソシア
ネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート(HMD1)、ドデカメチレンジ
イソシアネー)、2,2.4− トリメチルヘキサンジ
イソシアネート、リジンジイソシアネート、2.トリイ
ソシアネートメチルカプロエート、ビス(2−イソシア
ネートエチル)フマレート、ビス (2−インシアネー
トエチル)カーボネー)・、テトラメチレンキシリレン
ジイソシアネート(TMIDI)等が挙げられる。
ネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート(HMD1)、ドデカメチレンジ
イソシアネー)、2,2.4− トリメチルヘキサンジ
イソシアネート、リジンジイソシアネート、2.トリイ
ソシアネートメチルカプロエート、ビス(2−イソシア
ネートエチル)フマレート、ビス (2−インシアネー
トエチル)カーボネー)・、テトラメチレンキシリレン
ジイソシアネート(TMIDI)等が挙げられる。
脂環式ジイソシアネートとしては、イソホロンジイソシ
アネート(IPDI) 、ジシクロヘキシルメタンジイ
ソシアネート(水添MDI) 、シクロヘキシレンジイ
ソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネー
ト(水添TDI) 、ビス(2−インシアネートエチル
)4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレート等
が挙げられる。
アネート(IPDI) 、ジシクロヘキシルメタンジイ
ソシアネート(水添MDI) 、シクロヘキシレンジイ
ソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネー
ト(水添TDI) 、ビス(2−インシアネートエチル
)4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレート等
が挙げられる。
芳香族ジイソシアネートとしては1.3−および/*り
4tl、4−フェニレンジイソシアネート、2,4−お
よび/または2,6−ドリレンジイソシアネー)(TD
1)、ジフェニルメタン−2,4′−および/または4
,4−ジイソシアネート(fllD1)、ナフチレン−
1,5−ジイソシアネート、m−および/またはp−イ
ンシアネートフェニルスルホニルイソシアネー)等)カ
挙げられる。
4tl、4−フェニレンジイソシアネート、2,4−お
よび/または2,6−ドリレンジイソシアネー)(TD
1)、ジフェニルメタン−2,4′−および/または4
,4−ジイソシアネート(fllD1)、ナフチレン−
1,5−ジイソシアネート、m−および/またはp−イ
ンシアネートフェニルスルホニルイソシアネー)等)カ
挙げられる。
ポリイソシアネートとしては、HDIの水変性物、IP
DIの玉量化物、ボリトリレンジイソシアネート(粗製
TD1)、ポリフェニルメタンポリイソシアネート(粗
製MD1)、変性MDI(カーポジイミド変性MDI等
)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
DIの玉量化物、ボリトリレンジイソシアネート(粗製
TD1)、ポリフェニルメタンポリイソシアネート(粗
製MD1)、変性MDI(カーポジイミド変性MDI等
)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
これらのうち、好ましいものは、脂肪族ジイソシアネー
ト、脂環式ジイソシアネートおよび芳香族ジイソシアネ
ートであり、特に好ましいものはHMDI、 IPD
I、 MDIおよびTDIである。
ト、脂環式ジイソシアネートおよび芳香族ジイソシアネ
ートであり、特に好ましいものはHMDI、 IPD
I、 MDIおよびTDIである。
ポリオール中で(A3)は通常0.1〜70当量x1
好ましくは、0.1〜60当量Xである。 (A、)
の量が0.1当量1%未満では、磁性粉に対する分散性
が十分でなり、60当量Xを越える場合は、磁性塗料の
粘度が著しく上昇し塗工性が悪くなる。尚、(al)、
(aZ)および(a3)は必要に応じて、任意の割合で
併用することができる。
好ましくは、0.1〜60当量Xである。 (A、)
の量が0.1当量1%未満では、磁性粉に対する分散性
が十分でなり、60当量Xを越える場合は、磁性塗料の
粘度が著しく上昇し塗工性が悪くなる。尚、(al)、
(aZ)および(a3)は必要に応じて、任意の割合で
併用することができる。
(A2)は、5〜80当量x1 好まシクハ、 10
〜50当量Xである。 (A2)の量が5%当量未満で
は、生成ウレタン樹脂のフィルム特性が低下し易く、磁
性粉の分散性も不良となる。一方(A、)の量が80当
量Xを越えると基材に対する密着性が低下する。
〜50当量Xである。 (A2)の量が5%当量未満で
は、生成ウレタン樹脂のフィルム特性が低下し易く、磁
性粉の分散性も不良となる。一方(A、)の量が80当
量Xを越えると基材に対する密着性が低下する。
活性水素化合物の当量は通常100−1[iooである
。
。
(A)の当量が100未満の場合には生成ウレタン樹脂
が皮膜形成性に乏しい脆い樹脂となり、磁気記録材料用
バインダーとして充分でない。・一方当量がIGOOを
越えると磁性粉の分散性が低下し、フィルム強度が不十
分となり、耐摩耗性、耐スクラッチ性、耐加水分解性が
低下する。
が皮膜形成性に乏しい脆い樹脂となり、磁気記録材料用
バインダーとして充分でない。・一方当量がIGOOを
越えると磁性粉の分散性が低下し、フィルム強度が不十
分となり、耐摩耗性、耐スクラッチ性、耐加水分解性が
低下する。
(A)と(B)を反応させるに際し、 (B)と(A)
の当量比は通常0.6〜1.5、好ましくは、0゜8〜
1.2である。当量比が0.8未満および1.5を越え
ると(A)と(B)との反応により得られるポリウレタ
ン樹脂の分子量が低くなり分散性が低下し、また磁気記
録材料の耐摩耗性、耐スクラッチ性、耐加水分解性が低
下し易い。
の当量比は通常0.6〜1.5、好ましくは、0゜8〜
1.2である。当量比が0.8未満および1.5を越え
ると(A)と(B)との反応により得られるポリウレタ
ン樹脂の分子量が低くなり分散性が低下し、また磁気記
録材料の耐摩耗性、耐スクラッチ性、耐加水分解性が低
下し易い。
上記反応はイソシアネート基に対して不活性な溶媒の存
在下または不存在下に行なうことができる。この溶媒と
してはエステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、
エーテル系溶媒(ジオキサン、テトラハイドロフラン等
)、ケトン系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン等)、芳香族炭化水素系
溶媒(トルエン、キシレン等)およびこれらの二種以上
の混合溶媒が挙げられる。
在下または不存在下に行なうことができる。この溶媒と
してはエステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、
エーテル系溶媒(ジオキサン、テトラハイドロフラン等
)、ケトン系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン等)、芳香族炭化水素系
溶媒(トルエン、キシレン等)およびこれらの二種以上
の混合溶媒が挙げられる。
反応方法としては(A)と(B)とを−括して反応容器
に仕込み反応させる方法、 (A)と(B)とを分割し
て多段反応をさせる方法彰よびあらかじめ混合した(A
)とCB)を加熱されたコンティニュアスニーダ−中を
通過させ反応させる方法が挙げられる。
に仕込み反応させる方法、 (A)と(B)とを分割し
て多段反応をさせる方法彰よびあらかじめ混合した(A
)とCB)を加熱されたコンティニュアスニーダ−中を
通過させ反応させる方法が挙げられる。
反応温度は通常40〜180℃、好ましくは80〜12
0℃である。反応においては、反応を促進させるため通
常のウレタン反応において用いられる触媒、例えば錫系
触媒(トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒド
ロキサイド、ジメチルチンジラウレート、ジブチルチン
ジラウレート、スタナスオクトエート等)、鉛系触媒(
レッドオレート、レッド2−エチルヘキソエート等)等
を使用することもできる。
0℃である。反応においては、反応を促進させるため通
常のウレタン反応において用いられる触媒、例えば錫系
触媒(トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒド
ロキサイド、ジメチルチンジラウレート、ジブチルチン
ジラウレート、スタナスオクトエート等)、鉛系触媒(
レッドオレート、レッド2−エチルヘキソエート等)等
を使用することもできる。
得られるポリウレタン樹脂(C)は、数平均分子量が通
常3,000〜200,000、好ましくはs、ooo
〜lso 、oooである。
常3,000〜200,000、好ましくはs、ooo
〜lso 、oooである。
官能基1個当りの分子量は通常1,000〜200,0
00、好ましくは5,000〜150,000である。
00、好ましくは5,000〜150,000である。
官能基1個当りの分子量が1,000未満の場合、耐加
水分解性が低下する。
水分解性が低下する。
(A)と(B)を反応させてなるポリウレタン樹脂(C
)は磁気記録材料用バインダーとして用いられるが、必
要により、磁気記録材料用として通常使用されている他
の高分子材料を併用することができる。この高分子材料
としてはポリ塩化ビニル系[塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体(vYHH; UCC製、エスレックC;積水化
学製等)、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
共重合体(VAGH,エスレックA等)、塩化ビニル−
塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体(サラン;
旭ダウ製)等」、ポリウレタン系[ウレタン樹脂(ニス
テン; グツドリッチ製等)]、ブタジェン系[アクリ
ロニトリル−ブタジェン共重合体(ハイカー1482;
日本ゼオン製等)、アクリロニトリル−ブタジェン
−スチレン& 34 合体(A −155) 等1、ア
クリル系(アクリル酸エステル系共重合体等)、ニトロ
セルロース、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂等が挙げら
れる。
)は磁気記録材料用バインダーとして用いられるが、必
要により、磁気記録材料用として通常使用されている他
の高分子材料を併用することができる。この高分子材料
としてはポリ塩化ビニル系[塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体(vYHH; UCC製、エスレックC;積水化
学製等)、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
共重合体(VAGH,エスレックA等)、塩化ビニル−
塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体(サラン;
旭ダウ製)等」、ポリウレタン系[ウレタン樹脂(ニス
テン; グツドリッチ製等)]、ブタジェン系[アクリ
ロニトリル−ブタジェン共重合体(ハイカー1482;
日本ゼオン製等)、アクリロニトリル−ブタジェン
−スチレン& 34 合体(A −155) 等1、ア
クリル系(アクリル酸エステル系共重合体等)、ニトロ
セルロース、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂等が挙げら
れる。
本発明の磁気記録材料用バインダーはこれに磁性体を含
有させることにより磁気記録材料(以下磁性塗料という
ことがある)とする事ができる。
有させることにより磁気記録材料(以下磁性塗料という
ことがある)とする事ができる。
この磁性体としては、酸化鉄例えばγ−Fe2rg (
γ−へマタイト)、Crys(二酸化クロム)および合
金系の磁性体例えばCO−γ−Fears (コバルト
フェライトまたはコバルトドープγ−酸化鉄)、Fe−
co−Cr、 純鉄Fe (メタルパウダー)および
炭化鉄が挙げられる。本発明においては特に最近のより
一層微粉末化されたγ−Fe2es、Co 7 F
e20m、メタル、炭化鉄(例えば粒子のBET法によ
る比表面積が40m2/g以上のもの)に対して有用で
ある。
γ−へマタイト)、Crys(二酸化クロム)および合
金系の磁性体例えばCO−γ−Fears (コバルト
フェライトまたはコバルトドープγ−酸化鉄)、Fe−
co−Cr、 純鉄Fe (メタルパウダー)および
炭化鉄が挙げられる。本発明においては特に最近のより
一層微粉末化されたγ−Fe2es、Co 7 F
e20m、メタル、炭化鉄(例えば粒子のBET法によ
る比表面積が40m2/g以上のもの)に対して有用で
ある。
磁性体は磁性粉でありその形状は通常、粒状および針状
である。磁性体の形状の一例を示せば、径が0.02〜
0.7μ、例えば長径0.2〜0.7μ、短径0.02
〜0.1μである。
である。磁性体の形状の一例を示せば、径が0.02〜
0.7μ、例えば長径0.2〜0.7μ、短径0.02
〜0.1μである。
磁性塗料にはポリウレタン樹脂を架橋させるために架橋
剤を用いることができる。この架橋剤としてはNGO含
有化合物および活性水素含有化合物が挙げられる。NG
O含有化合物としてはポリイソシアネート[変性MDI
(ミリオネートME。
剤を用いることができる。この架橋剤としてはNGO含
有化合物および活性水素含有化合物が挙げられる。NG
O含有化合物としてはポリイソシアネート[変性MDI
(ミリオネートME。
採土ケ谷化学製)、3.3′−ジメトキシ−4,4′−
ジイソシアネート等コおよびNCO末端プレポリマー[
ポリイソシアネート(TDI、MDI等)とポリオール
(低分子ポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエ
ステルポリオール等)とのNGO末端プレポリマー例え
ばデスモジュールL(バイエル製)、コロネートL(日
本ポリウレタン製)等コが挙げられる。また活性水素含
有化合物としてはポリアミン[トリレンジアミン(TD
A)、4.4′−ジアミノ−3,3′−ジクロロジフェ
ニルメタン等)およびポリオール(低分子ポリオール、
ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール等)
が挙げられる。
ジイソシアネート等コおよびNCO末端プレポリマー[
ポリイソシアネート(TDI、MDI等)とポリオール
(低分子ポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエ
ステルポリオール等)とのNGO末端プレポリマー例え
ばデスモジュールL(バイエル製)、コロネートL(日
本ポリウレタン製)等コが挙げられる。また活性水素含
有化合物としてはポリアミン[トリレンジアミン(TD
A)、4.4′−ジアミノ−3,3′−ジクロロジフェ
ニルメタン等)およびポリオール(低分子ポリオール、
ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール等)
が挙げられる。
架橋剤の添加量はポリウレタン樹脂に対し通常0〜25
重量%、好ましくは2〜15重量%である。25重量%
を越えるとフィルムの可撓性が低下し易い。
重量%、好ましくは2〜15重量%である。25重量%
を越えるとフィルムの可撓性が低下し易い。
その他必要により分散剤(レシチンあるいはアニオン、
ノニオン、カチオン等の界面活性剤例えばドデシルベン
ゼンスルホン酸ソーダ等)および潤滑剤(高級脂肪酸エ
ステル例えばステアリン酸ブチル)を加えることもでき
る。
ノニオン、カチオン等の界面活性剤例えばドデシルベン
ゼンスルホン酸ソーダ等)および潤滑剤(高級脂肪酸エ
ステル例えばステアリン酸ブチル)を加えることもでき
る。
磁性塗料には粘度調整のため溶媒が用いられる。
この溶媒としてはポリウレタン樹脂生成反応の箇所で記
載したのと同様の溶媒すなわちエステル系溶媒(酢酸エ
チル、酢酸ブチル等)、エーテル系溶媒(ジオキサン、
テトラヒドロフラン等)、ケトン系溶媒(ンクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等
)、芳香族炭化水素溶媒(トルエン、キシレン等)およ
びこれらの二種以上の混合溶媒を用いることができる。
載したのと同様の溶媒すなわちエステル系溶媒(酢酸エ
チル、酢酸ブチル等)、エーテル系溶媒(ジオキサン、
テトラヒドロフラン等)、ケトン系溶媒(ンクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等
)、芳香族炭化水素溶媒(トルエン、キシレン等)およ
びこれらの二種以上の混合溶媒を用いることができる。
これらのうち好ましいものはケトン系と芳香族炭化水素
系の混合溶媒である。
系の混合溶媒である。
磁性塗料中のポリウレタン樹脂(C)の含有量は塗料の
重量に基づいて通常5重量%以上、好ましくは6〜20
重量%である。 (C)を5重量%以上含ませることに
より本発明の目的を十分に達成することができる。
重量に基づいて通常5重量%以上、好ましくは6〜20
重量%である。 (C)を5重量%以上含ませることに
より本発明の目的を十分に達成することができる。
磁性塗料中の磁性体の量は通常30〜80重量%、好ま
しくは32〜BO重量%であ、る。
しくは32〜BO重量%であ、る。
磁性塗料中の溶媒の量は通常30〜80重量%、好まし
くは40〜70重量%である。
くは40〜70重量%である。
他の高分子材料の量は通常0〜20重量%、好ましくは
2〜15重量%である。
2〜15重量%である。
その他(架橋剤、分散剤、潤滑剤等)の量は通常0〜3
重量%、好ましくは0.01〜2重量%である。
重量%、好ましくは0.01〜2重量%である。
磁性塗料を製造する方法としてはバインダー溶媒および
磁性体を必要により予めプレミキサ−等で混合したのち
混合分散機(ボールミル、ペイントコンディショナー
サンドグラインダー サンドミル、プラストミル等)で
分散させ、濾過する方法が挙げられる。
磁性体を必要により予めプレミキサ−等で混合したのち
混合分散機(ボールミル、ペイントコンディショナー
サンドグラインダー サンドミル、プラストミル等)で
分散させ、濾過する方法が挙げられる。
この磁性塗料は磁気記録媒体用支持体フィルムに適用さ
れ磁気記録媒体(磁気テープ等)を作成することができ
る。この支持体フィルムとしては、紙、セロハン、アセ
テート、ポリエステルCPET)、強化ポリエステル、
ポリイミド等のフィルムが挙げられる。これらのフィル
ムのうちよく用いられるのはポリエステルフィルムであ
る。
れ磁気記録媒体(磁気テープ等)を作成することができ
る。この支持体フィルムとしては、紙、セロハン、アセ
テート、ポリエステルCPET)、強化ポリエステル、
ポリイミド等のフィルムが挙げられる。これらのフィル
ムのうちよく用いられるのはポリエステルフィルムであ
る。
磁性塗料を支持体フィルムに適用する場合、塗布厚は通
常数71から数十μである。適用法としてはドクターブ
レード法、転写印刷法(グラビア法、リバースロール法
等)等の塗布法が挙げられる。
常数71から数十μである。適用法としてはドクターブ
レード法、転写印刷法(グラビア法、リバースロール法
等)等の塗布法が挙げられる。
磁性塗料を塗布されたフィルムは以後例えば配向、乾燥
、表面加工、切断、巻取り等の工程を経て磁気記録媒体
とされる。
、表面加工、切断、巻取り等の工程を経て磁気記録媒体
とされる。
磁気記録媒体は支持体フィルムと磁性層(磁性体バイン
ダー)からなるものが−殻内であるが、支持体フィルム
と磁性層の間に中間層(下塗層)を設けたもの、支持体
フィルムの両面に磁性層を有するもの、磁気特性の異な
る磁性層を重積したもの、磁性層の一トに保護層を設け
たもの等もある。
ダー)からなるものが−殻内であるが、支持体フィルム
と磁性層の間に中間層(下塗層)を設けたもの、支持体
フィルムの両面に磁性層を有するもの、磁気特性の異な
る磁性層を重積したもの、磁性層の一トに保護層を設け
たもの等もある。
[実施例コ
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。以下において、部は重
量部を示す。
これに限定されるものではない。以下において、部は重
量部を示す。
実施例]
当量lOθ0のアジピン酸とブタンジオールからのポリ
エステルジオール1モル、当量500のポリテトラメチ
レングリコール1モル、ネオペンチルグリコール3モル
、およびジメチロールプロピオン酸のNH4カチオン0
.1モルと1,4−ブタンジオール1モルの混合物とT
D I G、tモルを反応させてポリウレタン樹脂(
OHY:10) (C+ )を得た。
エステルジオール1モル、当量500のポリテトラメチ
レングリコール1モル、ネオペンチルグリコール3モル
、およびジメチロールプロピオン酸のNH4カチオン0
.1モルと1,4−ブタンジオール1モルの混合物とT
D I G、tモルを反応させてポリウレタン樹脂(
OHY:10) (C+ )を得た。
この(C4)をバインダーとして使用し、下記組成の混
合物をペイントコンディショナーで混合、分散させて磁
性塗料(D、)を作成した。
合物をペイントコンディショナーで混合、分散させて磁
性塗料(D、)を作成した。
7−Fe20.微粉末 100部ポリウレタン
樹脂(C+) 20部塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体 10部 デスモジュールし 2部 レシチン 1部 メチルエチルケトン 75部 トルエン 75部 この磁性塗料をポリエステルフィルムに塗布しく乾燥膜
厚5μ)、10000eの磁場をかけ、配向させ、テー
プを得た。更に、このテープをカレンダーロールで処理
し、磁気テープ(E、)を得た。
樹脂(C+) 20部塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体 10部 デスモジュールし 2部 レシチン 1部 メチルエチルケトン 75部 トルエン 75部 この磁性塗料をポリエステルフィルムに塗布しく乾燥膜
厚5μ)、10000eの磁場をかけ、配向させ、テー
プを得た。更に、このテープをカレンダーロールで処理
し、磁気テープ(E、)を得た。
実施例2
当ffi 1000のアジピン酸とヘキサンジオールか
らのポリエステルジオール 1モル 当量200のポリプロピレンレンゲリコール1モル ジメチロールプロピオン酸のN(C2H6)3カチオン
0.1モル エチレングリコール 1モル MDI 3モルを反応させ
て得られたポリウレタン樹脂(C2) (OHV:3
.7)を用い実施例1と同様にして磁性塗料を作成し、
磁気テープ(H2)を得たう 実施例3 当fi 1000のアジピン酸とへ゛キサンソオールか
らのポリエステルジオール 1モル 当量200のポリプロピレンレンゲリコール1モル ビスヒト°ロ壽ジエチルアミノエタンヌルホン酸のN(
02H6)3 カ チ オン0.1モル エチレングリコール 1モル MDI 3モルを反応させ
て得られたポリウレタン樹脂(C3) (OHM:3
.7)を用い実施例1と同様にして磁性塗料を作成し、
磁気テープ(H3)を得た。
らのポリエステルジオール 1モル 当量200のポリプロピレンレンゲリコール1モル ジメチロールプロピオン酸のN(C2H6)3カチオン
0.1モル エチレングリコール 1モル MDI 3モルを反応させ
て得られたポリウレタン樹脂(C2) (OHV:3
.7)を用い実施例1と同様にして磁性塗料を作成し、
磁気テープ(H2)を得たう 実施例3 当fi 1000のアジピン酸とへ゛キサンソオールか
らのポリエステルジオール 1モル 当量200のポリプロピレンレンゲリコール1モル ビスヒト°ロ壽ジエチルアミノエタンヌルホン酸のN(
02H6)3 カ チ オン0.1モル エチレングリコール 1モル MDI 3モルを反応させ
て得られたポリウレタン樹脂(C3) (OHM:3
.7)を用い実施例1と同様にして磁性塗料を作成し、
磁気テープ(H3)を得た。
比較例1
当量1000のアジピン酸とヘキサンジオールからのポ
リエステルジオール 1モル 当量200のポリプロピレンレンゲリコール1モル ジメチロールプロピオン酸 0.1モルエチレングリコ
ール 1モル MDI 3モルを反応させ
て得られたポリウレタン樹脂(C,)(OHV:3.7
)を用い実施例1と同様にして磁性塗料を作成し、磁気
テープ(E、)を得た。
リエステルジオール 1モル 当量200のポリプロピレンレンゲリコール1モル ジメチロールプロピオン酸 0.1モルエチレングリコ
ール 1モル MDI 3モルを反応させ
て得られたポリウレタン樹脂(C,)(OHV:3.7
)を用い実施例1と同様にして磁性塗料を作成し、磁気
テープ(E、)を得た。
試験例1
実施例1〜3および比較例1で得られたテープについて
、表面の光沢度、磁気特性(角型比)およびカレンダー
性を評価した。
、表面の光沢度、磁気特性(角型比)およびカレンダー
性を評価した。
ダーおよび材料は、例えばオーディオテープ、ビデオテ
ープ、コンピューターテープ、データーレコーダーテー
プ、ビデオシート、メタルテープ、メタルディスク、磁
気カード用の磁気記録材料用バインダーおよび磁気記録
材料として有用である。
ープ、コンピューターテープ、データーレコーダーテー
プ、ビデオシート、メタルテープ、メタルディスク、磁
気カード用の磁気記録材料用バインダーおよび磁気記録
材料として有用である。
光沢度:光沢針を用い60°の正反射率を測定した。
角型比:振動試料型磁力計を用い測定した。
[発明の効果コ
本発明の磁気記録材料用バインダーおよび磁気記録材料
は、従来のバインダー(前記特開昭59−148127
号公報のもの)に比べて、次のような効果を奏する。
は、従来のバインダー(前記特開昭59−148127
号公報のもの)に比べて、次のような効果を奏する。
(1)磁性粉に対する分散性が優れており、磁性塗料の
耐久性に悪影響を与える分散剤を使用する必要がなく、
磁性塗膜の物性を劣化させない。
耐久性に悪影響を与える分散剤を使用する必要がなく、
磁性塗膜の物性を劣化させない。
(2)支持体フィルムに対する密着性に優れている。
(3)カレンダー性が優れている。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、当量200〜2000の高分子ポリオール(A_1
)、低分子ポリオール(A_2)および下記(a)、(
b)、(c)からなる群より選ばれる官能基を有する活
性水素含有化合物(A_3)からなる活性水素化合物(
A)と有機ポリイソシアネート(B)とからのポリウレ
タン樹脂(C)からなることを特徴とする磁気記録材料
用のバインダー。 (a)−COOX (b)−SO_3X (c)−PO(OX)_2 X=NH_4またはアミンカチオン 2、請求項1記載のバインダーと磁性体を含有させてな
ることを特徴とする磁気記録材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63204529A JPH0253219A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | バインダーおよび磁気記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63204529A JPH0253219A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | バインダーおよび磁気記録材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0253219A true JPH0253219A (ja) | 1990-02-22 |
Family
ID=16492049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63204529A Pending JPH0253219A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | バインダーおよび磁気記録材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0253219A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03248319A (ja) * | 1990-02-27 | 1991-11-06 | Taiyo Yuden Co Ltd | 磁性塗料及び磁気記録媒体 |
JPH0641474A (ja) * | 1992-07-24 | 1994-02-15 | Sanyo Chem Ind Ltd | 磁性塗料用バインダー |
JPH06172704A (ja) * | 1992-12-02 | 1994-06-21 | Sanyo Chem Ind Ltd | 磁性塗料用バインダー |
US5491029A (en) * | 1993-10-07 | 1996-02-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium having a binder composition comprising phosphonated polyurethane and a vinyl chloride copolymer with ammonium functionalities |
US5501903A (en) * | 1994-07-29 | 1996-03-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium having a binder system including a non halogenated vinyl polymer and a polyurethane polymer each with specified pendant groups |
US5674604A (en) * | 1995-03-31 | 1997-10-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium comprising magnetic particles, binder, and a non halogenated vinyl oligomer dispersant |
JP2009096798A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Fujifilm Corp | スルホン酸ポリオール化合物、ポリウレタン樹脂、磁気記録媒体用ポリウレタン樹脂及び磁気記録媒体 |
JP2010254918A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Fujifilm Corp | スルホン酸塩基含有化合物を含む混合物およびその製造方法、溶液組成物、ポリウレタン樹脂およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-08-17 JP JP63204529A patent/JPH0253219A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03248319A (ja) * | 1990-02-27 | 1991-11-06 | Taiyo Yuden Co Ltd | 磁性塗料及び磁気記録媒体 |
JPH0641474A (ja) * | 1992-07-24 | 1994-02-15 | Sanyo Chem Ind Ltd | 磁性塗料用バインダー |
JPH06172704A (ja) * | 1992-12-02 | 1994-06-21 | Sanyo Chem Ind Ltd | 磁性塗料用バインダー |
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US5501903A (en) * | 1994-07-29 | 1996-03-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium having a binder system including a non halogenated vinyl polymer and a polyurethane polymer each with specified pendant groups |
US5712345A (en) * | 1994-07-29 | 1998-01-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Binder system for magnetic media |
US5674604A (en) * | 1995-03-31 | 1997-10-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium comprising magnetic particles, binder, and a non halogenated vinyl oligomer dispersant |
JP2009096798A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Fujifilm Corp | スルホン酸ポリオール化合物、ポリウレタン樹脂、磁気記録媒体用ポリウレタン樹脂及び磁気記録媒体 |
JP2014088365A (ja) * | 2007-09-28 | 2014-05-15 | Fujifilm Corp | スルホン酸ポリオール化合物、ポリウレタン樹脂、磁気記録媒体用ポリウレタン樹脂及び磁気記録媒体 |
JP2010254918A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Fujifilm Corp | スルホン酸塩基含有化合物を含む混合物およびその製造方法、溶液組成物、ポリウレタン樹脂およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
US8889813B2 (en) | 2009-04-28 | 2014-11-18 | Fujifilm Corporation | Mixture comprising sulfonate group-containing compound and method of manufacturing the same, solution composition, polyurethane resin and method of manufacturing the same, and magnetic recording medium |
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