JP2014088365A - スルホン酸ポリオール化合物、ポリウレタン樹脂、磁気記録媒体用ポリウレタン樹脂及び磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】有機溶媒への溶解性に優れたスルホン酸ポリオール化合物の提供。
【解決手段】下記式（２）で表されることを特徴とする化合物。（Ｘはエチレン基又はフェニレン基、ＭはＨ又は陽イオン、Ｒ³及びＲ⁴は、それぞれ独立に、アリール基、アラルキル基、アルコキシアルキル基、又は、アリールオキシアルキル基）

該化合物を用いて、強磁性粉末を分散するのに用いる磁気記録媒体用ポリウレタン樹脂を製造できる。
【選択図】なし

Description

本発明は、スルホン酸ポリオール化合物、ポリウレタン樹脂、磁気記録媒体用ポリウレタン樹脂及び磁気記録媒体に関する。

スルホン酸化合物は一般に水溶性が高く有機溶媒に溶解しない化合物であり、有機合成薬品として使用が限られていた。例えば、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−２−アミノエタンスルホン酸（ＣＡＳ番号：１０１９１−１８−１）は、２つの水酸基を持つスルホン酸化合物であるものの有機溶媒に溶解しないため、不均一系での反応、水系での反応に利用が限られていた。
また、特許文献１には、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシエチル）アミノエチルスルホン酸塩等の製造方法が開示されている。

磁気記録技術は、媒体の繰り返し使用が可能であること、信号の電子化が容易であり周辺機器との組合せによるシステムの構築が可能であること、信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式にはない優れた特長を有することから、ビデオ、オーディオ、コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅広く利用されてきた。
一般にコンピューター用等の磁気記録媒体への高密度記録化の要求に対して、より一層の電磁変換特性の向上が必要とされ、強磁性粉末の微粒子化、媒体表面の超平滑化などが重要となる。

磁性体の微粒子化においては最近の磁性体では０．１μｍ以下の強磁性金属粉末や板径４０ｎｍ以下の強磁性六方晶フェライト微粉末が使用されている。また、支持体表面に非磁性下層を設けてから磁性層を上層として設けた重層構成である場合の非磁性層に用いられる微粒子の非磁性粉体や前記の微粒子磁性体を高度に分散するために、結合剤には水酸基や親水性極性基である−ＳＯ₃Ｍ（Ｍは水素又はアルカリ金属あるいはアンモニウム塩を表す。）を導入し、極性基を介して磁性体及び非磁性粉体にバインダー鎖を吸着させ、平滑化するための分散技術が提案されている。

例えば、特許文献２には、強磁性粉末を結合剤中に分散させた磁性材料を非磁性支持体上に塗布した磁気記録媒体において、磁性層の結合剤成分として分子量５００以上の高分子量ポリオール（Ａ）、有機ジイソシアネート（Ｂ）、及び必要により分子量５００以下のポリオール化合物（Ｃ）よりなるポリウレタン樹脂を含み、前記高分子量ポリオール（Ａ）は二塩基酸成分が芳香族二塩基酸である親水性極性基含有芳香族ポリエステルジオール（Ａ−１）と他の高分子量ポリオール（Ａ−２）からなることを特徴とする磁気記録媒体が開示されている。

また、特許文献３では、ポリオール分子部分及びポリエーテル分子部分が、ウレタン結合を介して鎖延長されたポリエーテルポリウレタン樹脂であって、該樹脂の重量平均分子量が２万〜２０万で、しかも、ポリエーテル部分がＳＯ₃Ｍ基（ただし、Ｍはアルカリ金属原子又は水素原子）を有する低分子量ジオールを開始剤とするポリエーテルポリオールであることを特徴とするポリウレタン樹脂、前記ポリウレタン樹脂を含む磁気記録媒体の結合剤、並びに、磁気記録媒体が開示されている。

特開平３−６６６６０号公報 特開平９−１３８９３９号公報 特開平５−７０５４５号公報

本発明の目的は、有機溶媒への溶解性に優れたスルホン酸ポリオール化合物を提供することである。さらに、本発明の他の目的は、優れた分散性、塗膜平滑性、電磁変換特性を有し、走行耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することができるポリウレタン樹脂、及び、前記ポリウレタン樹脂を用いた磁気記録媒体を提供することを目的とする。

上記の課題は、以下の＜１＞、＜６＞、＜１１＞に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である、＜２＞〜＜５＞、＜７＞〜＜１０＞及び＜１２＞〜＜１４＞とともに以下に記載する。
＜１＞ 下記式（１）で表されることを特徴とする化合物、

（式（１）中、Ｘは二価の連結基を表し、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、少なくとも１つの水酸基を有する炭素数３以上のアルキル基又は少なくとも１つの水酸基を有する炭素数８以上のアラルキル基を表し、前記アルキル基及びアラルキル基は置換基を有していてもよく、Ｍは水素原子又は陽イオンを表す。）

＜２＞ 下記式（２）及び／又は下記式（３）で表される化合物である、上記＜１＞に記載の化合物、

（式（２）及び式（３）中、Ｘは二価の連結基を表し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ独立に、炭素数２〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数２〜２０のアルコキシアルキル基、又は、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基を表し、Ｍは水素原子又は陽イオンを表す。）

＜３＞ 前記Ｘがエチレン基、又は、フェニレン基である、上記＜１＞又は上記＜２＞に記載の化合物、
＜４＞ 前記Ｍが無機陽イオンである、上記＜１＞〜上記＜３＞のいずれか１つに記載の化合物、
＜５＞ 前記Ｍがアルカリ金属イオンである、上記＜１＞〜上記＜４＞のいずれか１つに記載の化合物、
＜６＞ ポリオール及びポリイソシアネートを重合して得られ、前記ポリオールが、上記＜１＞〜上記＜５＞いずれか１つに記載の化合物を含むことを特徴とするポリウレタン樹脂、
＜７＞ 前記ポリオールが、前記式（２）で表される化合物及び前記式（３）で表される化合物を含む、上記＜６＞に記載のポリウレタン樹脂、
＜８＞ スルホン酸（塩）基含有量が１×１０^-5ｅｑ／ｇ以上２×１０^-3ｅｑ／ｇ以下である、上記＜６＞又は上記＜７＞に記載のポリウレタン樹脂、
＜９＞ 前記ポリオールが、（メタ）アクリロイルオキシ基を有するジオールをさらに含有する、上記＜６＞〜上記＜８＞いずれか１つに記載のポリウレタン樹脂、
＜１０＞ 磁気記録媒体用である、上記＜６＞〜上記＜９＞いずれか１つに記載のポリウレタン樹脂、
＜１１＞ 非磁性支持体上に、強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の磁性層を有し、前記結合剤が上記＜６＞〜上記＜１０＞いずれか１つに記載のポリウレタン樹脂を含有することを特徴とする磁気記録媒体、
＜１２＞ 非磁性支持体上に、非磁性粉末を結合剤（１）中に分散した少なくとも１層の非磁性層を有し、該非磁性層の上に強磁性粉末を結合剤（２）中に分散した少なくとも１層の磁性層を有し、結合剤（１）及び／又は結合剤（２）が上記＜６＞〜上記＜１０＞いずれか１つに記載のポリウレタン樹脂であることを特徴とする磁気記録媒体、
＜１３＞ 前記結合剤（１）が、上記＜９＞に記載のポリウレタン樹脂を含有する、上記＜１２＞に記載の磁気記録媒体、
＜１４＞ 前記強磁性粉末が、長軸長が２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の針状強磁性体、板径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の平板状磁性体、及び、直径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の球状又は回転楕円状磁性体よりなる群から選択される少なくとも１つである上記＜１１＞〜上記＜１３＞いずれか１つに記載の磁気記録媒体。

本発明によれば、有機溶媒への溶解性に優れたスルホン酸ポリオール化合物を提供することができた。さらに本発明によれば、優れた分散性、塗膜平滑性、電磁変換特性を有し、走行耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することができるポリウレタン樹脂、及び、前記ポリウレタン樹脂を用いた磁気記録媒体を提供することができた。

（１）式（１）で表される化合物
本発明の化合物は、式（１）で表されることを特徴とする。

（式（１）中、Ｘは二価の連結基を表し、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、少なくとも１つの水酸基を有する炭素数３以上のアルキル基又は少なくとも１つの水酸基を有する炭素数８以上のアラルキル基を表し、前記アルキル基及びアラルキル基は置換基を有していてもよく、Ｍは水素原子又は陽イオンを表す。）

本発明の化合物は、スルホン酸ポリオール化合物であり、他のスルホン酸ポリオール化合物と比較し、有機溶媒への溶解性に優れる化合物である。
また、本発明の化合物は、有機溶媒への溶解性に優れ、有機溶媒中での均一系の反応に使用することができるため、合成反応の基質として好適に用いることができ、種々の樹脂の製造に使用する、単量体としてより好適に用いることができる。
さらに、本発明の化合物を樹脂の製造に使用することにより、有機溶媒中での均一系の反応を行うことができ、スルホン酸（塩）基を導入した樹脂を容易に製造することができる。

式（１）におけるＸは、二価の連結基を表し、炭素数２〜２０であることが好ましく、また、二価の炭化水素基であることが好ましく、アルキレン基、アリーレン基、又は、これらを２以上組み合わせた基であることがより好ましく、アルキレン基又はアリーレン基であることがさらに好ましく、エチレン基又はフェニレン基であることが特に好ましく、エチレン基であることが最も好ましい。
また、前記フェニレン基としては、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、及び、ｐ−フェニレン基が例示できるが、ｏ−フェニレン基又はｍ−フェニレン基であることが好ましく、ｍ−フェニレン基であることがより好ましい。
前記アルキレン基の炭素数は、２以上２０以下であることが好ましく、２以上４以下であることがより好ましく、２であることがさらに好ましい。また、前記アルキレン基は、直鎖状のアルキレン基であっても、分岐を有するアルキレン基であってもよいが、直鎖状のアルキレン基であることが好ましい。
前記アリーレン基の炭素数は、６以上２０以下であることが好ましく、６以上１０以下であることがより好ましく、６であることがさらに好ましい。
前記アルキレン基及び前記アリーレン基は、下記に示す置換基を有していてもよいが、炭素原子及び水素原子のみからなる基であることが好ましい。
前記アルキレン基が有していてもよい置換基としては、アリール基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルコキシ基、アリールオキシ基、及び、アルキル基が例示できる。
前記アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルコキシ基、アリールオキシ基、及び、アリール基が例示できる。

式（１）におけるＲ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、少なくとも１つの水酸基（以下、「ヒドロキシ基」ともいう。）を有する炭素数３以上のアルキル基又は少なくとも１つの水酸基を有する炭素数８以上のアラルキル基を表し、前記アルキル基及びアラルキル基は置換基を有していてもよい。
前記アルキル基及びアラルキル基がヒドロキシ基以外に有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、スルホニル基、及び、シリル基が例示できる。これらの中でも、アルコキシ基又はアリールオキシ基であることが好ましく、炭素数１〜２０のアルコキシ基又は炭素数６〜２０のアリールオキシ基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基又はフェノキシ基であることがさらに好ましい。
また、前記アルキル基及びアラルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐を有していてもよい。

Ｒ¹及びＲ²における水酸基の数は、１以上であり、１又は２であることが好ましく、１であることが特に好ましい。すなわち、本発明のスルホン酸ポリオール化合物は、スルホン酸ジオール化合物であることが特に好ましい。
Ｒ¹及びＲ²におけるアルキル基の炭素数は、３以上であり、３〜２２であることが好ましく、４〜２２であることがより好ましく、４〜８であることがさらに好ましい。
Ｒ¹及びＲ²におけるアラルキル基の炭素数は、８以上であり、８〜２２であることが好ましく、８〜１２であることがより好ましく、８であることがさらに好ましい。また、Ｒ¹及びＲ²におけるアラルキル基は、窒素原子のα位及びβ位が飽和炭化水素鎖であることが好ましい。また、その場合、窒素原子のβ位には水酸基を有していてもよい。
また、Ｒ¹及びＲ²は、窒素原子のα位には水酸基を有しないことが好ましく、少なくとも窒素原子のβ位に水酸基を１つ有していることがより好ましく、窒素原子のβ位のみに水酸基を１つ有していることが特に好ましい。窒素原子のβ位に水酸基を有することにより、本発明の化合物の合成が容易であり、また、有機溶媒への溶解性に優れる。

また、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、少なくとも１つの水酸基を有する炭素数３〜２２のアルキル基、少なくとも１つの水酸基を有する炭素数８〜２２のアラルキル基、少なくとも１つの水酸基を有する炭素数４〜２２のアルコキシアルキル基、又は、少なくとも１つの水酸基を有する炭素数９〜２２のアリールオキシアルキル基であることが好ましく、少なくとも１つの水酸基を有する炭素数４〜２２のアルキル基、少なくとも１つの水酸基を有する炭素数８〜２２のアラルキル基、少なくとも１つの水酸基を有する炭素数４〜２２のアルコキシアルキル基、又は、少なくとも１つの水酸基を有する炭素数９〜２２のアリールオキシアルキル基であることがより好ましい。

前記少なくとも１つの水酸基を有する炭素数３以上のアルキル基として具体的には、２−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシペンチル基、２−ヒドロキシヘキシル基、２−ヒドロキシオクチル基、２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル基、２−ヒドロキシ−３−エトキシプロピル基、２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピル基、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル基、２−ヒドロキシ−３−メトキシ−ブチル基、２−ヒドロキシ−３−メトキシ−３−メチルブチル基、２，３−ジヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシブチル基、及び、４−ヒドロキシブチル基、１−メチル−２−ヒドロキシエチル基、１−エチル−２−ヒドロキシエチル基、１−プロピル−２−ヒドロキシエチル基、１−ブチル−２−ヒドロキシエチル基、１−ヘキシル−２−ヒドロキシエチル基、１−メトキシメチル−２−ヒドロキシエチル基、１−エトキシメチル−２−ヒドロキシエチル基、１−ブトキシメチル−２−ヒドロキシエチル基、１−フェノキシメチル−２−ヒドロキシエチル基、１−（１−メトキシエチル）−２−ヒドロキシエチル基、１−（１−メトキシ−１−メチルエチル）−２−ヒドロキシエチル基、１，３−ジヒドロキシ−２−プロピル基等が例示できる。この中でも、２−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル基、２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピル基、及び、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル基、１−メチル−２−ヒドロキシエチル基、１−メトキシメチル−２−ヒドロキシエチル基、１−ブトキシメチル−２−ヒドロキシエチル基、１−フェノキシエチル−２−ヒドロキシエチル基を好ましく例示できる。

前記少なくとも１つの水酸基を有する炭素数８以上のアラルキル基として具体的には、２−ヒドロキシ−２−フェニルエチル基、２−ヒドロキシ−２−フェニルプロピル基、２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピル基、２−ヒドロキシ−２−フェニルブチル基、２−ヒドロキシ−４−フェニルブチル基、２−ヒドロキシ−５−フェニルペンチル基、２−ヒドロキシ−２−（４−メトキシフェニル）エチル基、２−ヒドロキシ−２−（４−フェノキシフェニル）エチル基、２−ヒドロキシ−２−（３−メトキシフェニル）エチル基、２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）エチル基、２−ヒドロキシ−２−（４−ヒドロキシフェニル）エチル基、２−ヒドロキシ−３−（４−メトキシフェニル）プロピル基、及び、２−ヒドロキシ−３−（４−クロロフェニル）プロピル基、１−フェニル−２−ヒドロキシエチル基、１−メチル−１−フェニル−２−ヒドロキシエチル基、１−ベンジル−２−ヒドロキシエチル基、１−エチル−１−フェニル−２−ヒドロキシエチル基、１−フェネチル−２−ヒドロキシエチル基、１−フェニルプロピル−２−ヒドロキシエチル基、１−（４−メトキシフェニル）−２−ヒドロキシエチル基、１−（４−フェノキシフェニル）２−ヒドロキシ−エチル基、１−（３−メトキシフェニル）−２−ヒドロキシエチル基、１−（４−クロロフェニル）−２−ヒドロキシエチル基、１−（４−ヒドロキシフェニル）２−ヒドロキシエチル基、１−（４−メトキシフェニル）−３−ヒドロキシ−２−プロピル基等が例示できる。この中でも、２−ヒドロキシ−２−フェニルエチル基、１−フェニル−２−ヒドロキシフェニル基を好ましく例示できる。

式（１）におけるＭは、水素原子又は陽イオンを表す。
前記陽イオンは、無機陽イオンであっても、有機陽イオンであってもよい。前記陽イオンは、式（１）中の−ＳＯ₃ ^-を電気的に中和するものであり、１価の陽イオンに限定されず、２価以上の陽イオンとすることもできるが陽イオンとしては１価の陽イオンが好ましい。なお、ｎ価の陽イオンを使用する場合には、前記式（１）で表される化合物に対して、（１／ｎ）モルの陽イオンを意味する。
無機陽イオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン又はアルカリ土類金属イオンが好ましく例示でき、アルカリ金属イオンがより好ましく例示でき、Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺又はＫ⁺がさらに好ましく例示できる。
有機陽イオンとしては、アンモニウムイオン、第四級アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン等を例示できる。

前記Ｍは、水素原子又はアルカリ金属イオンであることが好ましく、水素原子、Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺又はＫ⁺であることがより好ましく、Ｋ⁺であることが特に好ましい。

本発明の化合物は、有機溶媒への溶解性をさらに向上させるため、分子内に１以上の芳香環を有していることが好ましい。
また、式（１）におけるＲ¹とＲ²とは、同じであっても、異なっていてもよいが、合成上の容易性から、同じであることが好ましい。
式（１）におけるＲ¹及びＲ²は、それぞれ、炭素数５以上の基であることが好ましい。また、式（１）におけるＲ¹及びＲ²は、それぞれ、芳香環及び／又はエーテル結合を有する基であることが好ましい。

本発明の化合物は、様々な有機溶媒に可能であるが、本発明の化合物以外の他のスルホン酸ポリオール化合物と比較して、有機溶媒への溶解性に優れ、特にケトン系溶媒に対する溶解性に優れる。
有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、及び、イソホロン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル等のエステル系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、シクロヘキサンが挙げられる。
この中でも、ケトン系、芳香族系溶媒溶媒が好ましく、トルエン、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノンがより好ましく、シクロヘキサノンがさらに好ましい。
本発明の化合物は、シクロヘキサノンへの溶解性として、シクロヘキサノン１００重量部に対して、４０℃において、１０重量部以上溶解することが好ましく、２０重量部以上溶解することがより好ましく、４０重量部以上溶解することがさらに好ましい。

本発明の化合物の合成方法としては、特に制限はないが、下記に示す方法を特に好ましく例示できる。
アミノアルカンスルホン酸若しくはその塩、又は、アミノアレーンスルホン酸若しくはその塩に対し、水中で塩基を作用させる。続いて、前記水中にエポキシ化合物を添加して反応を行い、本発明の化合物を得ることができる。前記スルホン酸塩とエポキシド化合物がほぼ定量的に反応するため水溶液を濃縮乾固させることで純度の高いスルホン酸化合物を得ることができる。また、公知の方法により単離してもよく、液−液抽出を行うことにより純度を高めることができる。
また、得られたスルホン酸塩化合物は、公知の方法により塩交換を行い、他のスルホン酸塩化合物としてもよく、また、公知の方法により塩を除去し、スルホン酸化合物を得てもよい。

前記塩基としては、特に制限はなく、所望の塩化合物に応じて選択すればよいが、アルカリ金属の水酸化物であることが好ましい。
前記エポキシ化合物としては、特に制限はなく、所望の化合物に応じて選択すればよい

本発明の化合物としては、下記式（２）及び／又は下記式（３）で表される化合物であることが好ましい。

（式（２）及び式（３）中、Ｘは二価の連結基を表し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶はそれぞれ独立に、炭素数２〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数２〜２０のアルコキシアルキル基、又は、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基を表し、Ｍは水素原子又は陽イオンを表す。）

式（２）及び式（３）におけるＸ及びＭは、式（１）におけるＸ及びＭと同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（２）及び式（３）におけるＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶はそれぞれ独立に、炭素数２〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数２〜２０のアルコキシアルキル基、又は、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基を表す。
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶におけるアルキル基の炭素数は、２〜２０であり、２〜２０であることが好ましく、２〜８であることがより好ましく、２〜４であることがさらに好ましい。
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶におけるアリール基の炭素数は、６〜２０であり、６〜１０であることが好ましく、６であることがより好ましい。
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶におけるアラルキル基の炭素数は、７〜２０であり、７〜１１であることが好ましい。
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶におけるアルコキシアルキル基の炭素数は、２〜２０であり、２〜１２であることが好ましく、２〜５であることがより好ましい。
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶におけるアリールオキシアルキル基の炭素数は、７〜２０であり、７〜１２であることが好ましく、７であることがより好ましい。
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶におけるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシアルキル基、又は、アリールオキシアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ヒドロキシ基、スルホニル基、及び、シリル基が例示できる。
また、前記アルキル基及びアラルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐を有していてもよい。

これらの中でも、Ｒ³及びＲ⁴としては、エチル基、メトキシメチル基、ブトキシメチル基、フェノキシメチル基、及び、フェニル基を好ましく例示でき、メトキシメチル基、ブトキシメチル基、フェノキシメチル基、及び、フェニル基をより好ましく例示できる。

また、Ｒ⁵及びＲ⁶としては、エチル基、メトキシメチル基、ブトキシメチル基、フェノキシメチル基、及び、フェニル基を好ましく例示でき、メトキシメチル基、ブトキシメチル基、フェノキシメチル基、及び、フェニル基をより好ましく例示できる。

本発明の化合物として具体的には、下記に示す（Ｓ−１）〜（Ｓ−７０）が好ましく例示できるが、本発明の化合物はこれらに限定されるわけではない。なお、下記具体例中、Ｐｈはフェニル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。

なお、本発明において、式（２）で表される化合物と式（３）で表される化合物とを任意の割合で混合して使用することも好ましい。式（２）又は式（３）で表される化合物を単独で使用した場合に比して、式（２）及び式（３）で表される化合物を混合した場合に、前述したシクロヘキサン等の溶媒に対する溶解性が向上することがあるので好ましい。

なお、式（２）で表される化合物の好ましい合成条件は、タウリンもしくはベンゼンスルホン酸のリチウム塩とエポキシドを水中で２５〜５０℃で反応させることである。一方、式（３）で表される化合物は、タウリンもしくはベンゼンスルホン酸のカリウム塩とエポキシドを水中で２５〜５０℃で反応させることができる。
合成中のｐＨは６〜１０であることが好ましく、より好ましくはｐＨ７〜９である。
また、反応条件によっては、式（２）で表される化合物と式（３）で表される化合物の混合物を得ることができる。

（２）ポリウレタン樹脂
本発明のポリウレタン樹脂は、ポリオールとポリイソシアネートとを重合させて得られるポルウレタン樹脂であり、ポリオールとして少なくとも式（１）で表される化合物を使用する。
なお、本発明において「ポリオール」とは、分子内に２個以上の水酸基を有する化合物又は化合物群をいう。また、ポリオールは１種類の化合物であっても２種類以上を任意の割合で組み合わせて使用してもよい。

上述した特許文献２にあるように、特に磁気記録媒体の結合剤として用いる場合には、磁性体に吸着させるための吸着官能基であるカルボン酸、スルホン酸やこれらの金属塩等をポリウレタン樹脂に導入することが一般的に知られている。ポリウレタン樹脂中の吸着性官能基量を増やすことで、分散性や塗膜の力学強度の向上に繋がることから、従来、比較的強い極性基であるスルホン酸（塩）基を導入し、ある程度の効果を発現してきた。
吸着官能基を有するグリコールやポリオールを用いることによって、これらの吸着官能基を導入することができるが、スルホン酸（塩）基のような強い極性基を含有するグリコール等は、ポリウレタン樹脂の重合溶媒として一般的に使用されているメチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサン等の溶媒へ溶解しにくい。そこでスルホン酸（塩）基を含有するグリコールを予めポリエステルに組み込み、ポリウレタン重合時にスルホン酸（塩）基を含有するポリエステルポリオールを重合成分として使用することで、ポリウレタン重合溶媒に溶解し、ポリウレタン樹脂を製造している。

このようなスルホン酸（塩）基を含有するポリエステルポリオールは、５−スルホイソフタル酸ナトリウム、５−スルホイソフタル酸カリウム、スルホテレフタル酸ナトリウム等のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサン等の重合溶媒に不溶のスルホン酸金属塩含有芳香族ジカルボン酸とグリコールの間でエステル化反応により生成している。このエステル化反応は以下のようにジカルボン酸とグリコール反応を繰り返したオリゴマー成分の生成が避けられず、結果として得られたオリゴマー１分子中にはスルホン酸金属塩が数個含有することになる。
ここで、グリコール（Ａ）とスルホン酸金属塩含有芳香族ジカルボン酸（Ｂ）との反応を例に挙げて説明する。グリコール（Ａ）及びスルホン酸金属塩含有芳香族ジカルボン酸（Ｂ）は、それぞれ以下の式（Ａ）及び式（Ｂ）で表される。
グリコール：ＨＯ−Ｒ¹−ＯＨ・・・（Ａ）
スルホン酸金属塩含有芳香族ジカルボン酸：ＨＯＣＯ−Ｒ²−ＣＯＯＨ
・・・（Ｂ）（Ｒ²はスルホン酸金属塩含有芳香環を有する）

グリコール（Ａ）二分子と、スルホン酸金属塩含有芳香族ジカルボン酸（Ｂ）１分子の反応物は、以下の通りである。
ＨＯ−Ｒ¹−ＯＣＯ−Ｒ²−ＣＯＯ−Ｒ¹−ＯＨ ・・・（Ｃ）
上記の（Ｃ）１分子と（Ｂ）２分子の反応物は以下の通りである。
ＨＯＣＯ−Ｒ²−ＣＯＯ−Ｒ¹−ＯＣＯ−Ｒ²−ＣＯＯ−Ｒ¹−ＯＣＯ−Ｒ²−ＣＯＯＨ ・・・（Ｄ）

このようなポリエステルポリオールは、吸着官能基であるスルホン酸（塩）基が一部のオリゴマー成分に局在化した、不均一な存在形態になる。このポリエステルポリオールはポリウレタン化反応の際に重合溶媒であるメチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサン等に溶解し、他のグリコール原料と均一にポリウレタン化反応を行ったとしても、吸着官能基であるスルホン酸（塩）基が一部のオリゴマー成分に局在化した、不均一な存在形態にならざるを得ない。スルホン酸（塩）基がポリウレタン中に不均一に存在するため、生成したポリウレタンの中にスルホン酸（塩）基を全く含有しない成分も存在する。このような吸着官能基を含有しない成分は磁性体への吸着による分散機能を発揮せず、近年の高密度媒体に使用されている微粒子強磁性粉末及び非磁性下層粉体（非磁性粉末）の分散性を劣化させるとともに、吸着できないポリウレタン成分は塗布、乾燥の過程で媒体表面にマイグレートし、媒体の耐久性を劣化させる原因になっていることが分かった。

なお、従来、この課題を解決するためにポリエステル化による溶剤溶解性付与を必要としないスルホン酸（塩）基含有ジオールを検討した例として特許文献３があるものの、十分な溶剤溶解性を付与できていない。この結果、十分な分散性が得られていない。

上述の通り、磁気記録媒体の結合剤として使用されるポリウレタン樹脂には、強磁性粉末及び／又は非磁性粉末との吸着性を向上させるために、スルホン酸（塩）基等の吸着性官能基を導入することが求められている。従来のように、ポリエステルポリオール等にスルホン酸（塩）基を導入した場合には、スルホン酸（塩）基がポリウレタン中に不均一に存在することによる種々の問題があった。
一方、これらの吸着性官能基を有する低分子量のグリコールやポリオールは、ポリウレタン重合時に使用する溶剤（例えば、ＭＥＫ、シクロヘキサノン等）への溶解性が低く、使用することが困難であった。
本発明者らは、スルホン酸（塩）基を含有するタウリンなどのアミン化合物にエポキシ基を含有する化合物を付加したジオールを各種合成した結果、三級アミンの窒素原子の近傍に分岐を導入することで溶剤溶解性を確保でき、直接ポリウレタン樹脂に導入できることを見出し、上記課題を解決するに至った。

すなわち、式（１）で表される化合物は、スルホン酸（塩）基を有しているものの、ポリウレタン重合時に使用する溶剤への溶解性が高く、また、スルホン酸（塩）基含有ジオールをモノマーとしてポリウレタン重合溶媒に溶解、反応を行えるためポリウレタン中にスルホン酸（塩）基を均一に導入することができ、スルホン酸（塩）基を全く含有しない成分をポリエステルジオールを使用した場合よりも低減することができる。
また、式（１）で表される化合物を用いて重合したポリウレタン樹脂は、磁性体及び／又は非磁性粉末を高度に分散させ、得られる塗膜は平滑性に優れる。その結果、優れた電磁変換特性を有する磁気記録媒体が得られる。
本発明のポリウレタン樹脂は、−ＳＯ₃Ｍ基を有する低分子ジオールを鎖延長剤として使用するものであり、従来のようにポリエステルポリオールやポリエーテルポリオールに−ＳＯ₃Ｍ基を導入することなく、直接重合して得ることができる。

なお、本発明のポリウレタン樹脂は、ポリオールとポリイソシアネートを重合して得られ、ポリオールとして重量平均分子量５００以下の短鎖ジオール及びその他のポリオールを使用することが好ましく、短鎖ジオールとして上記式（１）で表される化合物を使用することがより好ましい。式（２）及び／又は式（３）で表される化合物を使用することがより好ましい。

＜その他のポリオール＞
上記の式（１）で表される化合物と、他のポリオールを併用することが好ましい。
併用するポリオールは特に限定されず、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエーテルエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール、ダイマージオール等、公知のものを必要に応じて用いてもよい。
これらの中でも、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオールが好ましい。

ポリエステルポリオールは、ポリカルボン酸（多塩基酸）と、ポリオールとを重縮合して得られ、二塩基酸（ジカルボン酸）とジオールとの反応により得られるものであることが好ましい。ポリエステルポリオールに用いることができる二塩基酸成分としては特に限定されないが、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸、Ｎａスルホイソフタル酸等が好ましい。ジオールとしては２，２−ジメチル−１，３プロパンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール等の分岐側鎖を有するものが好ましい。

ポリエーテルポリオールはビスフェノールＡのポリプロピレンオキサイド付加物やビスフェノールＡのポリエチレンオキサイド付加物等の環状構造を有するものが好ましい。

＜鎖延長剤＞
前記のポリオールのほかに必要に応じて分子量２００〜５００程度の公知の短鎖ジオールを鎖延長剤として用いてもよい。中でも炭素数２以上の分岐側鎖をもつ脂肪族ジオールや環構造を有するエーテル化合物、有橋炭化水素構造を有する短鎖ジオール、スピロ構造を有する短鎖ジオールが好ましい。
また、放射線硬化性を付与するために、分子内にアクリル系二重結合を少なくとも１個有するジオールを併用することができる。ここにいうアクリル系二重結合とは、アクリル酸、アクリル酸エステル、アクリル酸アミド、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、メタクリル酸アミド等の残基（アクリロイル基またはメタクリロイル基）をいう。これらの中でも、（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも１個有するジオールが好ましく、アクリロイルオキシ基を少なくとも１個有するジオールがより好ましい。

炭素数２以上の分岐側鎖をもつ脂肪族ジオールとしては以下のものがある。
２−メチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−３−エチル−１，５−ペンタンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−３−プロピル−１，５−ペンタンジオール、２−メチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−３−ブチル−１，５−ペンタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、３，３−ジエチル−１，５−ペンタンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、３−エチル−３−ブチル−１，５−ペンタンジオール、２−エチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、３−エチル−３−プロピル−１，５−ペンタンジオール、２，２−ジブチル−１，３−プロパンジオール、３，３−ジブチル−１，５−ペンタンジオール、２，２−ジプロピル−１，３−プロパンジオール、３，３−ジプロピル−１，５−ペンタンジオール、２−ブチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、３−ブチル−３−プロピル−１，５−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−プロパンジオール、２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−ブチル−１，３−プロパンジオール、３−エチル−１，５−ペンタンジオール、３−プロピル−１，５−ペンタンジオール、３−ブチル−１，５−ペンタンジオール、３−オクチル−１，５−ペンタンジオール、３−ミリスチル−１，５−ペンタンジオール、３−ステアリル−１，５−ペンタンジオール、２−エチル−１，６−ヘキサンジオール、２−プロピル−１，６−ヘキサンジオール、２−ブチル−１，６−ヘキサンジオール、５−エチル−１，９−ノナンジオール、５−プロピル−１，９−ノナンジオール、５−ブチル−１，９−ノナンジオール等。
これらの中でも好ましいものは、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオールである。

環構造を有するエ−テル化合物としてはビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物、水素化ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、水素化ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物が挙げられる。

有橋炭化水素構造又はスピロ構造としては、式（１）〜（３）よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構造であることが好ましい。

有橋炭化水素構造を有する短鎖ジオールの具体例としては、ビシクロ［１．１．０］ブタンジオ−ル、ビシクロ［１．１．１］ペンタンジオ−ル、ビシクロ［２．１．０］ペンタンジオ−ル、ビシクロ［２．１．１］ヘキサンジオール、ビシクロ［３．１．０］ヘキサンジオール、ビシクロ［２．２．１］ヘプタンジオール、ビシクロ［３．２．０］ヘプタンジオ−ル、ビシクロ［３．１．１］ヘプタンジオール、ビシクロ［２．２．２］オクタンジオール、ビシクロ［３．２．１］オクタンジオール、ビシクロ［４．２．０］オクタンジオール、ビシクロ［５．２．０］ノナンジオール、ビシクロ［３．３．１］ノナンジオール、ビシクロ［３．３．２］デカンジオール、ビシクロ［４．２．２］デカンジオール、ビシクロ［４．３．３］ドデカンジオール、ビシクロ［３．３．３］ウンデカンジオール、ビシクロ［１．１．０］ブタンジメタノ−ル、ビシクロ［１．１．１］ペンタンジメタノ−ル、ビシクロ［２．１．０］ペンタンジメタノール、ビシクロ［２．１．１］ヘキサンジメタノール、ビシクロ［３．１．０］ヘキサンジメタノール、ビシクロ［２．２．１］ヘプタンジメタノール、ビシクロ［３．２．０］ヘプタンジメタノール、ビシクロ［３．１．１］ヘプタンジメタノール、ビシクロ［２．２．２］オクタンジメタノール、ビシクロ［３．２．１］オクタンジメタノール、ビシクロ［４．２．０］オクタンジメタノール、ビシクロ［５．２．０］ノナンジメタノール、ビシクロ［３．３．１］ノナンジメタノール、ビシクロ［３．３．２］デカンジメタノール、ビシクロ［４．２．２］デカンジメタノール、ビシクロ［４．３．３］ドデカンジメタノール、ビシクロ［３．３．３］ウンデカンジメタノール、トリシクロ［２．２．１．０］ヘプタンジオール、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカンジオール、トリシクロ［４．２．１．２^7,9］ウンデカンジオール、トリシクロ［５．４．０．０^2,9］ウンデカンジオール、トリシクロ［５．３．１．１］ドデカンジオール、トリシクロ［４．４．１．１］ドデカンジオール、トリシクロ［７．３．２．０^5,13］テトラデカンジオール、トリシクロ［５．５．１．０^3,11］トリデカンジオール、トリシクロ［２．２．１．０］ヘプタンジメタノール、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカンジメタノール、トリシクロ［４．２．１．２^7,9］ウンデカンジメタノール、トリシクロ［５．４．０．０^2,9］ウンデカンジメタノール、トリシクロ［５．３．１．１］ドデカンジメタノール、トリシクロ［４．４．１．１］ドデカンジメタノール、トリシクロ［７．３．２．０^5,13］テトラデカンジメタノール、トリシクロ［５．５．１．０^3,11］トリデカンジメタノールが例示できる。
これらの中でも、好ましいものとしては、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカンジメタノールが挙げられる。

スピロ構造を有する短鎖ジオールの具体例としては、スピロ［３．４］オクタンジメタノール、スピロ［３．４］ヘプタンジメタノール、スピロ［３．４］デカンジメタノール、ジスピロ［５．１．７．２］ヘプタデカンジメタノール、シクロペンタンスピロシクロブタンジメタノール、シクロヘキサンスピロシクロペンタンジメタノール、スピロビシクロヘキサンジメタノール、ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンなどがある。
好ましくはビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンが好ましい。

分子内にアクリル系二重結合を少なくとも１個有するジオールの具体例としては、グリセリンモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート（日油（株）製ブレンマーＧＬＭ）、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（共栄社化学（株）製エポキシエステル３０００Ａ）が挙げられる。

＜ポリイソシアネート＞
本発明において、ポリイソシアネートとしては、ジイソシアネートが好適に使用できる。
ジイソシアネートとしては特に限定されず、公知のものが用いられる。具体的には、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）、ＭＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｏ−フェニレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどが好ましい。

本発明で用いるポリウレタン樹脂は、触媒の存在下、上記の式（１）で表される化合物、その他のポリオール、ポリイソシアネート、及び必要に応じて鎖延長剤を重合（重付加）させることにより製造することができる。
触媒としては公知のポリウレタン樹脂の重合触媒を使用することができ、第三級アミン触媒や有機スズ触媒が例示できる。第三級アミン触媒としては、ジエチレントリアミン、Ｎ−メチルモルホリン、及び、テトラメチルヘキサメチレンジアミンが例示でき、有機スズ触媒としては、ジブチルスズジラウレート、スズオクトエートが例示できる。本発明において、触媒として有機スズ触媒を使用することが好ましい。
触媒の添加量は、重合に使用する式（１）で表される化合物、その他のポリオール、ポリイソシアネート、及び必要に応じてその他の鎖延長剤を含む重合成分の全重量に対して０．０１〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部、さらに好ましくは０．０１〜０．１重量部である。

また、式（１）で表される化合物、ポリオール及びポリイソシアネートを溶剤（重合溶媒）に溶解し、必要に応じて加熱、加圧、窒素置換等を行いながら重合することが好ましい。使用する溶剤としては、ポリウレタン樹脂の合成に使用されている公知の溶剤から選択することができ、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル等のエステル系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、シクロヘキサンが挙げられる。これらの中でも、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノンが好適に使用される。

＜重量平均分子量＞
本発明のポリウレタン樹脂の重量平均分子量は１万以上２０万以下（本発明において、「１万以上２０万以下」を、「１万〜２０万」とも記載することとする。以下、同様。）が好ましく、４万〜１０万がより好ましく、５万〜９万がさらに好ましい。本発明のポリウレタン樹脂の重量平均分子量が１万以上であると、良好な保存性が得られるので好ましい。また、２０万以下であると、良好な分散性が得られるので好ましい。

重量平均分子量を上記範囲にコントロールする方法としては以下のものが挙げられる。
例えば、グリコール由来のＯＨ基とジイソシアネート由来のＮＣＯ基のモル比の微調整や反応触媒を用いることで重量平均分子量を調整することができる。
反応触媒としてはジブチルスズジラウレート等の有機金属化合物、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン等の３級アミン類、酢酸カリウム、ステアリン酸亜鉛等の金属塩が挙げられる。好ましくはジブチルスズジラウレートが挙げられる。
その他の方法としては反応時の固形分濃度、反応温度、反応溶媒、反応時間等を調整することで重量平均分子量を調整することができる。

＜分子量分布＞
本発明のポリウレタン樹脂の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０〜２．５であることが好ましい。より好ましくは１．５〜２．０である。分子量分布が２．５以下であると、組成分布が少なく、良好な分散性が得られるので好ましい。

＜ウレタン基濃度＞
本発明のポリウレタン樹脂のウレタン基濃度は２．５ｍｍｏｌ／ｇ〜４．５ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、３．０ｍｍｏｌ／ｇ〜４．０ｍｍｏｌ／ｇであることがさらに好ましい。
ウレタン基濃度が２．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であると、塗膜のＴｇが低下することなく、良好な耐久性を得ることができるので好ましい。また、４．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であると、良好な溶剤溶解性が得られ、分散性が良好であるので、ポリオール含有量の調整が可能であり、分子量のコントロールが容易であるので好ましい。

＜ガラス転移温度＞
本発明で用いるポリウレタン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は放射線硬化性を有しない場合は、８０℃〜２００℃が好ましく、９０℃〜１６０℃がより好ましい。
ガラス転移温度が８０℃以上であると、良好な塗膜強度が得られ、耐久性、保存性が向上するので好ましい。また、２００℃以下であると、カレンダー成形性が良好であり、電磁変換特性が良好であるので好ましい。

また、放射線硬化性を有するポリウレタン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、１０℃〜１６０℃が好ましく、１０℃〜１００℃がより好ましい。ガラス転移温度が１０℃以上であると、放射線硬化後に良好な塗膜強度が得られ、耐久性、保存性が向上するので好ましい。また、１６０℃以下であると、放射線硬化後にカレンダー処理をする場合でもカレンダー成形性が良好であり、電磁変換特性が良好であるので好ましい。

＜ポリウレタン樹脂中の極性基＞
本発明のポリウレタン樹脂は、ポリオールとして式（１）で表される化合物を使用して得られるので、極性基として−ＳＯ₃Ｍを有する。ここで、Ｍは、水素原子、アルカリ金属又はアルカリ土類金属である。
本発明において、Ｍは好ましくはアルカリ金属であり、より好ましくはＭはＫ⁺である。すなわち、本発明のポリウレタン樹脂は、極性基として−ＳＯ₃Ｍを有する。

極性基の含有量は、１×１０^-5ｅｑ／ｇ〜２×１０^-3ｅｑ／ｇであることが好ましく、１×１０^-5ｅｑ／ｇ〜１×１０^-3ｅｑ／ｇであることがより好ましく、１×１０^-5ｅｑ／ｇ〜５×１０^-4ｅｑ／ｇであることがさらに好ましい。
極性基の含有量が１×１０^-5以上であると、磁性体への十分な吸着力を得ることができ、分散性が良好であるので好ましい。また、２×１０^-3ｅｑ／ｇ以下であると、良好な溶剤への溶解性が得られるので好ましい。

本発明のポリウレタン樹脂は、他の極性基を有していてもよい。
他の極性基としては、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ₃Ｍ₂、−ＣＯＯＭが好ましい。この中でも、−ＯＳＯ₃Ｍがさらに好ましい。Ｍは、水素原子又は１価のカチオンを表す。１価のカチオンとしては、アルカリ金属又はアンモニウムが例示できる。

＜ポリウレタン樹脂中の水酸基＞
本発明に使用するポリウレタン樹脂には、水酸基（ＯＨ基）が含まれていてもよい。ＯＨ基は１分子あたり２〜２０個が好ましく、３〜１５個がより好ましい。ＯＨ基の個数が上記範囲内であると、イソシアネート硬化剤との反応性が向上するために塗膜強度、及び耐久性が向上し、また、溶剤への溶解性が向上するので分散性が良好となる。

＜ポリウレタン樹脂中のアクリル系二重結合＞
本発明のポリウレタン樹脂は、分子内にアクリル系二重結合を少なくとも１個有するジオールを使用することで、アクリル系二重結合を導入することができる。
二重結合（エチレン性不飽和結合）の含有量は、１×１０^-5ｅｑ／ｇ〜２×１０^-3ｅｑ／ｇであることが好ましく、１×１０^-5ｅｑ／ｇ〜１×１０^-3ｅｑ／ｇであることがより好ましく、１×１０^-4ｅｑ／ｇ〜１×１０^-3ｅｑ／ｇであることがさらに好ましい。
二重結合の含有量が１×１０^-5ｅｑ／ｇ以上であると、放射線硬化後に良好な塗膜強度を得ることができるので好ましい。また、２×１０^-3ｅｑ／ｇ以下であると、放射線硬化後にカレンダー処理をする場合でもカレンダー成形性が良好であり、電磁変換特性が良好であるので好ましい。

（磁気記録媒体）
本発明の磁気記録媒体は、結合剤中に強磁性粉末を分散した少なくとも１層の磁性層を非磁性支持体上に有する。また、本発明の磁気記録媒体は、結合剤中に非磁性粉末を分散した非磁性層及び磁性層をこの順に非磁性支持体上に有することが好ましい。本発明の磁気記録媒体は、磁性層及び／又は非磁性層の結合剤として本発明のポリウレタン樹脂を含み、好ましくは磁性層及び非磁性層の結合剤として、本発明のポリウレタン樹脂を含む。

１．磁性層
＜結合剤＞
本発明において、上記の本発明のポリウレタン樹脂と併用して、他の結合剤を使用することができる。
併用する結合剤としては本発明のポリウレタン樹脂を除くポリウレタン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール樹脂などから単独あるいは複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいのはポリウレタン樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、塩化ビニル系樹脂である。

併用する結合剤には強磁性粉末、非磁性粉体の分散性を向上させるため、これらの粉体表面に吸着する官能基（極性基）を持つことが好ましい。好ましい官能基としては−ＳＯ₃Ｍ、−ＳＯ₄Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）₂、−ＯＰＯ（ＯＭ）₂、−ＣＯＯＭ、＞ＮＳＯ₃Ｍ、＞ＮＲＳＯ₃Ｍ、−ＮＲ¹Ｒ²、−Ｎ⁺Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｘ^-などがある。ここでＭは水素又はＮａ、Ｋ等のアルカリ金属、Ｒはアルキレン基、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はアルキル基又はヒドロキシアルキル基又は水素、ＸはＣｌ、Ｂｒ等のハロゲンである。結合剤中の官能基の量は１０μｅｑ／ｇ以上２００μｅｑ／ｇ以下が好ましく、３０μｅｑ／ｇ以上１２０μｅｑ／ｇ以下がさらに好ましい。この範囲内にあると、良好な分散性が得られるので好ましい。

併用する結合剤には吸着官能基のほかにイソシアネート硬化剤と反応して架橋構造を形成し塗膜強度を向上させるために−ＯＨ基などの活性水素を持つ官能基を付与することが好ましい。好ましい極性基の含有量は、１×１０^-5ｅｑ／ｇ〜２×１０^-3ｅｑ／ｇであり、より好ましくは１×１０^-5ｅｑ／ｇ〜１×１０^-3ｅｑ／ｇであり、さらに好ましくは１×１０^-5ｅｑ／ｇ〜５×１０^-4ｅｑ／ｇである。極性基の含有量が１×１０^-5以上であると、磁性体への十分な吸着力を得ることができ、分散性が良好であるので好ましい。また、２×１０^-3ｅｑ／ｇ以下であると、良好な溶剤への溶解性が得られるので好ましい。
結合剤の分子量は重量平均分子量で１０，０００以上２００，０００以下であることが好ましく、２０，０００以上１００，０００以下であることがさらに好ましい。この範囲内にあると、塗膜強度が十分であり、耐久性が良好であり、また分散性が向上するので好ましい。

併用する結合剤として好ましいポリウレタン樹脂は例えば「ポリウレタン樹脂ハンドブック」（岩田敬治 編、１９８６年 日刊工業新聞社）に詳しく記載されているが、通常、長鎖ジオール、短鎖ジオール（鎖延長剤と呼ばれることもある）とジイソシアネート化合物の付加重合によって得られる。長鎖ジオールは分子量５００以上５，０００以下のポリエステルジオール、ポリエーテルジオール、ポリエーテルエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリオレフィンジオールなどが好適に用いられる。この長鎖ポリオールの種類によりポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン、ポリエーテルエステルウレタン、ポリカーボネートウレタンなどと呼ばれる。

ポリエステルジオールとしてはアジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、などの脂肪族二塩基酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族二塩基酸とグリコールとの縮重合によって得られる。グリコール成分としてはエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノールＡなどがある。また、ポリエステルジオールにはこのほかに、ε−カプロラクトン、γ−バレロラクトンなどのラクトンを開環重合したポリカプロラクトンジオール、ポリバレロラクトンジオールなども用いることができる。
ポリエステルジオールは耐加水分解性の観点で分岐側鎖をもつもの、芳香族、脂環族の原料から得られるものが好ましい。

ポリエーテルジオールとしてはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、やビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＰ、水素化ビスフェノールＡなどの芳香族グリコールや脂環族ジオールにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどのアルキレンオキサイドを付加重合したものなどがある。
これらの長鎖ジオールは複数の種類のものを併用、混合して用いることもできる。

短鎖ジオールとしては上記ポリエステルジオールのグリコール成分に例示したものと同じ化合物群の中から選ぶことができる。また３官能以上の多価アルコール例えばトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどを少量併用すると分岐構造のポリウレタン樹脂が得られ溶液粘度を低下させたり、ポリウレタンの末端のＯＨ基を増やすことでイソシアネート系硬化剤との硬化性を高めることができる。

ジイソシアネート化合物としてはＭＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）、２，４−ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）、２，６−ＴＤＩ、１，５−ＮＤＩ（ナフタレンジイソシアネート）、ＴＯＤＩ（トリジンジイソシアネート）、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ＸＤＩ（キシリレンジイソシアネート）などの芳香族ジイソシアネート、トランスシクロヘキサン１，４−ジイソシアネート、ＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）、ＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）、Ｈ₆ＸＤＩ（水素添加キシリレンジイソシアネート）、Ｈ₁₂ＭＤＩ（水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート）などの脂肪族、脂環族ジイソシアネートなどが用いられる。

併用するポリウレタン樹脂中の長鎖ジオール／短鎖ジオール／ジイソシアネートの好ましい組成は（８０〜１５重量％）／（５〜４０重量％）／（１５〜５０重量％）である。
併用するポリウレタン樹脂のウレタン基濃度は１ｍｅｑ／ｇ以上５ｍｅｑ／ｇ以下が好ましく、１．５ｍｅｑ／ｇ以上４．５ｍｅｑ／ｇ以下がさらに好ましい。ウレタン基濃度が上記範囲内であると、高い力学的強度が得られると共に、溶液粘度が良好であり、良好な分散性が得られるので好ましい。
併用するポリウレタン樹脂のガラス転移温度は０℃以上２００℃以下が好ましく、より好ましくは４０℃以上１６０℃以下である。ガラス転移温度が上記範囲内であると、高い耐久性が得られると共に、良好なカレンダー成形性が得られ、良好な電磁変換特性が得られるので好ましい。

併用するポリウレタン樹脂に前述した吸着官能基（極性基）を導入する方法としては官能基を長鎖ジオールのモノマーの一部に用いる方法、短鎖ジオールの一部に用いる方法やポリウレタンを重合した後、高分子反応で極性基を導入する方法などがある。

本発明のポリウレタン樹脂と併用する塩化ビニル系樹脂としては塩化ビニルモノマーに種々のモノマーと共重合したものが用いられる。
共重合モノマーとしては酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどの脂肪酸ビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどのアクリレート、メタクリレート類、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル、アリルブチルエーテルなどのアルキルアリルエーテル類、その他スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、エチレン、ブタジエン、アクリルアミド、さらに官能基をもつ共重合モノマーとしてビニルアルコール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、２−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、３−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、ｐ−ビニルフェノール、マレイン酸、無水マレイン酸、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、ホスホエチル（メタ）アクリレート、スルホエチル（メタ）アクリレート、ｐ−スチレンスルホン酸、及びこれらのＮａ塩、Ｋ塩などが用いられる。
塩化ビニル系樹脂中の塩化ビニルモノマーの組成は６０重量％以上９５重量％以下であることが好ましい。上記範囲内にあると、良好な力学強度が得られると共に、溶剤溶解性が良好で、好適な溶液粘度のために良好な分散性が得られるので好ましい。

吸着官能基（極性基）、ポリイソシアネート系硬化剤との硬化性を高めるための官能基の好ましい量は前述したとおりである。これらの官能基の導入方法は上記の官能基含有モノマーを共重合してもよいし、塩化ビニル系樹脂を共重合した後、高分子反応で官能基を導入してもよい。
好ましい重合度は２００以上６００以下、より好ましくは２４０以上４５０以下である。この範囲内にあると、良好な力学強度が得られると共に、好適な溶液粘度のために良好な分散性が得られるので好ましい。

本発明に使用する結合剤を架橋、硬化させ塗膜の力学強度や耐熱性高めるために硬化剤を用いることができる。好ましい硬化剤としてポリイソシアネート化合物がある。ポリイソシアネート化合物は３官能以上のポリイソシアネートが好ましい。
具体的にはトリメチロールプロパン（ＴＭＰ）にＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＸＤＩ（キシリレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、などアダクト型ポリイソシアネート化合物。ＴＤＩの縮合イソシアヌレート型３量体、ＴＤＩの縮合イソシアヌレート５量体、ＴＤＩの縮合イソシアヌレート７量体、及びこれらの混合物。ＨＤＩのイソシアヌレート型縮合物、ＩＰＤＩのイソシアヌレート型縮合物。さらに、クルードＭＤＩなどがある。
これらの中で好ましいのはＴＭＰにＴＤＩを３モル付加した化合物、ＴＤＩのイソシアヌレート型３量体などである。

イソシアネート系硬化剤以外に電子線あるいは紫外線などの放射線硬化性の硬化剤を用いてもよい。この場合放射線硬化性官能基としてアクリロイル基又はメタクリロイル基を分子内に２個以上、好ましくは３個以上有する硬化剤を用いることができる。例えばＴＭＰ（トリメチロールプロパン）のトリアクリレート、ペンタエリスリトールのテトラアクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマーなどがある。この場合、硬化剤のほかに結合剤にも（メタ）アクリロイル基を導入するのが好ましい。紫外線硬化の場合はこのほかに光増感剤が併用される。
硬化剤は結合剤１００重量部に対して０重量部以上８０重量部以下添加するのが好ましい。上記範囲内にあると分散性が良好であるので好ましい。

結合剤の添加量は磁性層の場合は強磁性粉末１００重量部に対して、５重量部以上３０重量部以下が好ましく、１０重量部以上２０重量部以下がより好ましい。

また、本発明のポリウレタン樹脂を、結合剤全体の５０重量％以上含有することが好ましく、６０〜１００重量％含有することが好ましく、７０〜１００重量％含有することが特に好ましい。
結合剤中の添加量が上記範囲内であると、分散性が良好であるので好ましい。

＜強磁性粉末＞
本発明の磁気記録媒体には、強磁性粉末として、平均長軸長が２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の針状強磁性体、平均板径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の平板状磁性体、又は平均直径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の球状又は回転楕円状磁性体を使用することが好ましい。以下、それぞれについて説明する。
（１）針状強磁性体
本発明の磁気記録媒体に使用される強磁性粉末として、平均長軸長が２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である針状強磁性体を使用することが好ましい。針状強磁性体としては、針状であるコバルト含有強磁性酸化鉄又は強磁性合金粉末等の強磁性金属粉末が例示でき、ＢＥＴ比表面積（Ｓ_BET）が好ましくは４０ｍ²／ｇ以上８０ｍ²／ｇ以下、より好ましくは５０ｍ²／ｇ以上７０ｍ²／ｇ以下である。結晶子サイズは好ましくは８ｎｍ以上２５ｎｍ以下、より好ましくは９ｎｍ以上２２ｎｍ以下であり、特に好ましくは１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。長軸長は２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２０ｎｍ以上４５ｎｍ以下である。

強磁性粉末としては、イットリウムを含むＦｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅが挙げられ、強磁性粉末中のイットリウム含有量は、鉄原子に対してイットリウム原子の比、Ｙ／Ｆｅが０．５原子％以上２０原子％以下が好ましく、さらに好ましくは、５原子％以上１０原子％以下である。０．５原子％以上であると、強磁性粉末が高σＳ化することができ、良好な磁気特性が得られ、電磁変換特性が良好であるので好ましい。２０原子％以下であると鉄の含有量が適切であり、良好な磁気特性が得られ、電磁変換特性が良好であるので好ましい。さらに、鉄１００原子％に対して２０原子％以下の範囲内で、アルミニウム、ケイ素、硫黄、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、銅、亜鉛、モリブデン、ロジウム、パラジウム、錫、アンチモン、ホウ素、バリウム、タンタル、タングステン、レニウム、金、鉛、リン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、テルル、ビスマス等を含むことができる。また、強磁性金属粉末が少量の水、水酸化物又は酸化物を含むものなどであってもよい。

本発明に使用する、コバルト、イットリウムを導入した強磁性粉末の製造方法の一例を示す。
第一鉄塩とアルカリを混合した水性懸濁液に、酸化性気体を吹き込むことによって得られるオキシ水酸化鉄を出発原料とする例を挙げることができる。
このオキシ水酸化鉄の種類としては、α−ＦｅＯＯＨが好ましい。その製法としては、第一鉄塩を水酸化アルカリで中和してＦｅ（ＯＨ）₂の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性ガスを吹き込んで針状のα−ＦｅＯＯＨとする第一の製法がある。一方、第一鉄塩を炭酸アルカリで中和してＦｅＣＯ₃の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性気体を吹き込んで紡錘状のα−ＦｅＯＯＨとする第二の製法がある。このようなオキシ水酸化鉄は第一鉄塩水溶液とアルカリ水溶液とを反応させて水酸化第一鉄を含有する水溶液を得て、これを空気酸化等により酸化して得られたものであることが好ましい。この際、第一鉄塩水溶液にＮｉ塩や、Ｃａ塩、Ｂａ塩、Ｓｒ塩等のアルカリ土類元素の塩、Ｃｒ塩、Ｚｎ塩などを共存させてもよく、このような塩を適宜選択して用いることによって粒子形状（軸比）などを調製することができる。

第一鉄塩としては、塩化第一鉄、硫酸第一鉄等が好ましい。またアルカリとしては水酸化ナトリウム、アンモニア水、炭酸アンモニウム、炭酸ナトリウム等が好ましい。また、共存させることができる塩としては、塩化ニッケル、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化ストロンチウム、塩化クロム、塩化亜鉛等の塩化物が好ましい。

次いで、鉄にコバルトを導入する場合は、イットリウムを導入する前に、硫酸コバルト、塩化コバルト等のコバルト化合物の水溶液を前記のオキシ水酸化鉄のスラリーに撹拌混合する。コバルトを含有するオキシ水酸化鉄のスラリーを調製した後、このスラリーにイットリウムの化合物を含有する水溶液を添加し、撹拌混合することによって導入することができる。

本発明において、強磁性粉末には、イットリウム以外にもネオジム、サマリウム、プラセオジウム、ランタン、ガドリニウム等を導入することができる。これらは、塩化イットリウム、塩化ネオジム、塩化サマリウム、塩化プラセオジウム、塩化ランタン等の塩化物、硝酸ネオジム、硝酸ガドリニウム等の硝酸塩などを用いて導入することができ、これらは、二種以上を併用してもよい。

強磁性金属粉末の抗磁力（Ｈｃ）は、好ましくは１５９．２ｋＡ／ｍ以上２３８．８ｋＡ／ｍ以下（２，０００Ｏｅ以上３，０００Ｏｅ以下）であり、さらに好ましくは１６７．２ｋＡ／ｍ以上２３０．８ｋＡ／ｍ以下（２，１００Ｏｅ以上２，９００Ｏｅ以下）である。
また、飽和磁束密度は、好ましくは１５０ｍＴ以上３００ｍＴ以下（１，５００Ｇ以上３，０００Ｇ以下）であり、さらに好ましくは１６０ｍＴ以上２９０ｍＴ以下（１，６００Ｇ以上２，９００Ｇ以下）である。また飽和磁化（σｓ）は、好ましくは１００Ａ・ｍ²／ｋｇ以上１７０Ａ・ｍ²／ｋｇ以下（１００ｅｍｕ／ｇ以上１７０ｅｍｕ／ｇ以下）であり、さらに好ましくは１１０Ａ・ｍ²／ｋｇ以上１６０Ａ・ｍ²／ｋｇ以下（１１０ｅｍｕ／ｇ以上１６０ｅｍｕ／ｇ以下）である。

磁性体自体のＳＦＤ（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ ｆｉｅｌｄ ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）は小さい方が好ましく、０．８以下であることが好ましい。ＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また磁化反転がシャープでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃ分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲータイトの粒度分布をよくする、単分散α−Ｆｅ₂Ｏ₃を使用する、粒子間の焼結を防止するなどの方法がある。

（２）平板状磁性体
本発明で用いることのできる平均板径が１０〜５０ｎｍである平板状磁性体としては六方晶フェライト粉末が好ましい。
六方晶フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、さらに一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｚｎなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。

粒子サイズは六角板径で１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましい。磁気抵抗ヘッドで再生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は４０ｎｍ以下であることが好ましい。板径が上記範囲であると、熱揺らぎがなく安定な磁化が望める。また、ノイズも低くなるため高密度磁気記録に適する。
板状比（板径／板厚）は１以上１５以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。上記範囲であると配向性が十分であり、粒子間のスタッキングが起こりにくくノイズが小さくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積は１０ｍ²／ｇ以上２００ｍ²／ｇ以下を示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。結晶子サイズは５０Å以上４５０Å以下であることが好ましく、より好ましくは１００Å以上３５０Å以下である。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１以上２．０以下であることが好ましい。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。

磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは３９．８ｋＡ／ｍ以上３９８ｋＡ／ｍ以下（５００Ｏｅ以上５，０００Ｏｅ以下）程度まで作製できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。通常６３．７ｋＡ／ｍ以上３１８．４ｋＡ／ｍ以下（８００Ｏｅ以上４，０００Ｏｅ以下）程度であるが、好ましくは１１９．４ｋＡ／ｍ（１，５００Ｏｅ）以上２７８．６ｋＡ／ｍ（３，５００Ｏｅ）以下である。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越える場合は、１５９．２ｋＡ／ｍ（２，０００Ｏｅ）以上にすることが好ましい。
Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σｓは４０Ａ・ｍ²／ｋｇ以上８０Ａ・ｍ²／ｋｇ以下（４０ｅｍｕ／ｇ以上８０ｅｍｕ／ｇ以下）である。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等がよく知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。

磁性体（磁性粉末）を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物又は水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して０．１％以上１０％以下である。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４以上１２以下程度であり、分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６以上１０以下程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１％以上２．０％以下が選ばれる。

六方晶フェライトの製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法。（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法。（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１，１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。

（３）球状又は回転楕円状磁性体
球状又は回転楕円状磁性体としては、Ｆｅ₁₆Ｎ₂を主相とする窒化鉄系の強磁性粉末が好ましい。Ｆｅ、Ｎ原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。Ｆｅに対するＮの含有量は１．０原子％以上２０．０原子％以下が好ましい。
窒化鉄は球状又は回転楕円状が好ましく、長軸径／短軸径の軸比は１以上２以下が好ましい。ＢＥＴ比表面積（Ｓ_BET）が３０ｍ²／ｇ以上１００ｍ²／ｇ以下であることが好ましく、より好ましくは５０ｍ²／ｇ以上７０ｍ²／ｇ以下である。結晶子サイズは１２ｎｍ以上２５ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１３ｎｍ以上２２ｎｍ以下である。
飽和磁化σｓは５０Ａ・ｍ²／ｋｇ（５０ｅｍｕ／ｇ）以上２００Ａ・ｍ²／ｋｇ（２００ｅｍｕ／ｇ）以下が好ましい。さらに好ましくは７０Ａ・ｍ²／ｋｇ（７０ｅｍｕ／ｇ）以上１５０Ａ・ｍ²／ｋｇ（１５０ｅｍｕ／ｇ）以下である。

＜その他の成分＞
本発明における磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤、カーボンブラックなどを挙げることができる。
これら添加剤としては、例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基を持つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸基、フェネチルホスホン酸、α−メチルベンジルホスホン酸、１−メチル−１−フェネチルホスホン酸、ジフェニルメチルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、ベンジルフェニルホスホン酸、α−クミルホスホン酸、トルイルホスホン酸、キシリルホスホン酸、エチルフェニルホスホン酸、クメニルホスホン酸、プロピルフェニルホスホン酸、ブチルフェニルホスホン酸、ヘプチルフェニルホスホン酸、オクチルフェニルホスホン酸、ノニルフェニルホスホン酸等の芳香族環含有有機ホスホン酸及びそのアルカリ金属塩、オクチルホスホン酸、２−エチルヘキシルホスホン酸、イソオクチルホスホン酸、イソノニルホスホン酸、イソデシルホスホン酸、イソウンデシルホスホン酸、イソドデシルホスホン酸、イソヘキサデシルホスホン酸、イソオクタデシルホスホン酸、イソエイコシルホスホン酸等のアルキルホスホン酸及びそのアルカリ金属塩、リン酸フェニル、リン酸ベンジル、リン酸フェネチル、リン酸α−メチルベンジル、リン酸１−メチル−１−フェネチル、リン酸ジフェニルメチル、リン酸ビフェニル、リン酸ベンジルフェニル、リン酸α−クミル、リン酸トルイル、リン酸キシリル、リン酸エチルフェニル、リン酸クメニル、リン酸プロピルフェニル、リン酸ブチルフェニル、リン酸ヘプチルフェニル、リン酸オクチルフェニル、リン酸ノニルフェニル等の芳香族リン酸エステル及びそのアルカリ金属塩、リン酸オクチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸イソオクチル、リン酸イソノニル、リン酸イソデシル、リン酸イソウンデシル、リン酸イソドデシル、リン酸イソヘキサデシル、リン酸イソオクタデシル、リン酸イソエイコシル等のリン酸アルキルエステル及びそのアルカリ金属塩、アルキルスルホン酸エステル及びそのアルカリ金属塩、フッ素含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、エルカ酸等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸及びこれらの金属塩、又はステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ラウリル酸ブチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸と炭素数２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい１〜６価アルコール、炭素数１２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよいアルコキシアルコール又はアルキレンオキサイド重合物のモノアルキルエーテルのいずれか一つとからなるモノ脂肪酸エステル、ジ脂肪酸エステル又は多価脂肪酸エステル、炭素数２〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。また、上記炭化水素基以外にもニトロ基及びＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＦ₃、ＣＣｌ₃、ＣＢｒ₃等の含ハロゲン炭化水素等炭化水素基以外の基が置換したアルキル基、アリール基、アラルキル基を持つものでもよい。

また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。

上記分散剤、潤滑剤等は必ずしも純粋ではなく主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下である。
これらの添加物の具体例としては、例えば、日本油脂社製：ＮＡＡ−１０２、ヒマシ油硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、カチオンＳＡ、ナイミーンＬ−２０１、ノニオンＥ−２０８、アノンＢＦ、アノンＬＧ、竹本油脂社製：ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジェルブＯＬ、信越化学社製：ＴＡ−３、ライオンアーマー社製：アーマイドＰ、ライオン社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製：プロファン２０１２Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００等が挙げられる。

本発明において、磁性層で用いられる有機溶剤は、公知のものが使用できる。有機溶剤は、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン、テトラヒドロフラン、等を使用することができる。

これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性を上げる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が非磁性層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。

本発明において、磁性層で用いられるこれらの分散剤、潤滑剤、界面活性剤は磁性層及び後述する非磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。また本発明で用いられる添加剤のすべて又はその一部は、磁性層あるいは非磁性層用塗布液の製造時のいずれの工程で添加してもよい。例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。

また、本発明における磁性層には、必要に応じてカーボンブラックを添加することができる。
カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。放射線硬化層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。

カーボンブラックの比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は５〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。

本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製 ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製 ＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コロンビアカーボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。

カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。

これらのカーボンブラックは単独又は組み合せで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合、磁性体の重量に対して０．１〜３０重量％で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。したがって本発明で使用されるこれらのカーボンブラックは、磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を基に目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。

２．非磁性層
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末を結合剤に分散させた少なくとも一層の非磁性層を有していてもよい。非磁性層を有する場合、磁性層に使用する結合剤と同じ結合剤を非磁性層にも使用することができる。
また、特に、逐次重合する場合には、上記式（１）で表される化合物、及び、エチレン性不飽和結合（好ましくは（メタ）アクリロイル基）を少なくとも１つ有するジオール成分、並びに、ジイソシアネートを用いて重合したポリウレタン樹脂を結合剤として使用することが好ましい。また、この場合、後述するように非磁性層を塗布後、放射線（好ましくは電子線）を照射して硬化させることが好ましい。
非磁性層に使用できる非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、非磁性層には非磁性粉末と共に、必要に応じてカーボンブラックを混合してもよい。

＜非磁性粉末＞
非磁性層には、非磁性層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末を使用してもよいが、非磁性粉末を用いることが好ましい。
非磁性層に使用できる非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物などが挙げられる。

具体的には二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、ＢａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどが単独又は２種類以上を組み合わせて使用される。好ましいのは、α−酸化鉄、酸化チタンである。

非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれでもあってもよい。
非磁性粉末の結晶子サイズは、４ｎｍ〜１μｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好ましい。結晶子サイズが４ｎｍ〜１μｍの範囲であれば、分散が困難になることもなく、また好適な表面粗さを有するため好ましい。
これら非磁性粉末の平均粒径は、５ｎｍ〜２μｍが好ましいが、必要に応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒径は、１０〜２００ｎｍである。５ｎｍ〜２μｍの範囲であれば、分散も良好で、かつ好適な表面粗さを有するため好ましい。

非磁性粉末の比表面積は、好ましくは１〜１００ｍ²／ｇであり、より好ましくは５〜７０ｍ²／ｇであり、さらに好ましくは１０〜６５ｍ²／ｇである。比表面積が１〜１００ｍ²／ｇの範囲内にあれば、好適な表面粗さを有し、かつ、所望の結合剤量で分散できるため好ましい。
ジブチルフタレート（ＤＢＰ）を用いた吸油量は、好ましくは５〜１００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、さらに好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。
比重は好ましくは１〜１２、より好ましくは３〜６である。タップ密度は好ましくは０．０５〜２ｇ／ｍｌ、より好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。タップ密度が０．０５〜２ｇ／ｍｌの範囲であれば、飛散する粒子が少なく操作が容易であり、また装置にも固着しにくくなる傾向がある。

非磁性粉末のｐＨは２〜１１であることが好ましいが、ｐＨは６〜９の間が特に好ましい。ｐＨが２〜１１の範囲にあれば、高温、高湿下又は脂肪酸の遊離により摩擦係数が大きくなることはない。
非磁性粉末の含水率は、好ましくは０．１〜５重量％、より好ましくは０．２〜３重量％、さらに好ましくは０．３〜１．５重量％である。含水量が０．１〜５重量％の範囲であれば、分散も良好で、分散後の塗料粘度も安定するため好ましい。
強熱減量は、２０重量％以下であることが好ましく、強熱減量が小さいものが好ましい。

また、非磁性粉末が無機粉末である場合には、モース硬度は４〜１０のものが好ましい。モース硬度が４〜１０の範囲であれば耐久性を確保することができる。非磁性粉末のステアリン酸吸着量は、１〜２０μｍｏｌ／ｍ²であり、さらに好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ²である。
非磁性粉末の２５℃での水への湿潤熱は、２０〜６０μＪ／ｃｍ²（２００〜６００ｅｒｇ／ｃｍ²）の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。
１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１００Åが適当である。水中での等電点のｐＨは、３〜９の間にあることが好ましい。

これらの非磁性粉末の表面にはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯで表面処理することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂であるが、さらに好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。
これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、又はその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしてもかまわないが、均質で密である方が一般には好ましい。

本発明において、非磁性層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、例えば、昭和電工（株）製ナノタイト、住友化学（株）製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業（株）製ＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＢ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ 石原産業（株）製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、ＭＪ−７、α−酸化鉄Ｅ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、チタン工業（株）製ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ（株）製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、Ｔ−６００Ｂ、Ｔ−１００Ｆ、Ｔ−５００ＨＤなどが挙げられる。堺化学（株）製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業（株）製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル（株）製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ₂Ｐ２５、宇部興産（株）製１００Ａ、５００Ａ、チタン工業（株）製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。

非磁性層には非磁性粉末と共に、カーボンブラックを混合し表面電気抵抗を下げ、光透過率を小さくすると共に、所望のμビッカース硬度を得ることができる。非磁性層のμビッカース硬度は、通常２５〜６０ｋｇ／ｍｍ²、好ましくはヘッド当りを調整するために、３０〜５０ｋｇ／ｍｍ²であり、薄膜硬度計（日本電気（株）製 ＨＭＡ−４００）を用いて、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて測定することができる。光透過率は一般に波長９００ｎｍ程度の赤外線の吸収が３％以下、たとえばＶＨＳ用磁気テープでは０．８％以下であることが規格化されている。このためにはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。

本発明において、非磁性層に用いられるカーボンブラックの比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は５〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。

本発明において、非磁性層に用いることができるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業（株）製＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、コロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。

また、カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、又は組合せで使用することができる。本発明において、非磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編、を参考にすることができる。

また非磁性層には目的に応じて有機質粉末を添加することもできる。このような有機質粉末としては、例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は、特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記されているようなものが使用できる。

非磁性層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。

３．非磁性支持体
本発明に用いることのできる非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。
これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。また、本発明に用いることのできる非磁性支持体の表面粗さはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて中心平均粗さＲａ３〜１０ｎｍが好ましい。

４．平滑化層
本発明の磁気記録媒体には、平滑化層を設けてもよい。平滑化層とは、非磁性支持体表面の突起を埋めるための層であり、非磁性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体の場合は非磁性支持体と磁性層の間、非磁性支持体上に非磁性層及び磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体の場合には非磁性支持体と非磁性層の間に設けられる。
平滑化層は、放射線硬化型化合物を放射線照射により硬化させて形成することができる。放射線硬化型化合物とは、紫外線又は電子線などの放射線を照射すると重合又は架橋を開始し、高分子化して硬化する性質を有する化合物をいう。

５．バックコート層
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して繰り返し走行性が強く要求される。このような高い保存安定性を維持させるために、非磁性支持体の非磁性層及び磁性層が設けられた面とは反対の面にバックコート層を設けることもできる。バックコート層用塗料は、研磨剤、帯電防止剤などの粒子成分と結合剤とを有機溶媒に分散させる。粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することができる。また、結合剤としては、例えば、ニトロセルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独又はこれらを混合して使用することができる。

６．層構成
本発明で用いられる磁気記録媒体の構成において、非磁性支持体の好ましい厚さは、３〜８０μｍである。また、非磁性支持体と非磁性層又は磁性層の間に下塗層（平滑化層）を設けた場合、下塗層の厚さは０．０１〜０．８μｍ、好ましくは０．０２〜０．６μｍである。また、非磁性支持体の非磁性層及び磁性層が設けられた面とは反対側の面に設けられたバックコート層の厚さは、０．１〜１．０μｍ、好ましくは０．２〜０．８μｍである。

磁性層の厚さは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものであるが、一般には０．０１〜０．１０μｍ以下であり、好ましくは０．０２μｍ以上０．０８μｍ以下であり、さらに好ましくは０．０３〜０．０８μｍである。また、磁性層の厚さ変動率は±５０％以内が好ましく、さらに好ましくは±４０％以内である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。

本発明において、非磁性層の厚さは、０．２〜３．０μｍが好ましく、０．３〜２．５μｍであることがより好ましく、０．４〜２．０μｍであることがさらに好ましい。なお、本発明の磁気記録媒体の非磁性層は、実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば不純物として、あるいは意図的に少量の磁性体を含んでいても、本発明の効果を示すものであり、本発明の磁気記録媒体と実質的に同一の構成とみなすことができる。なお、実質的に同一とは、非磁性層の残留磁束密度が１０ｍＴ（１００Ｇ）以下又は抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００ Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力を持たないことを意味する。

７．製造方法
本発明で用いられる磁気記録媒体の磁性層塗布液を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、及びこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなることが好ましい。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる六方晶フェライト強磁性粉末又は強磁性金属粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨材、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初又は途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末又は非磁性粉末と結合剤のすべて又はその一部（但し、全結合剤の３０％以上が好ましい）及び磁性体１００重量部に対し１５〜５００重量部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、磁性層用液及び非磁性層用液を分散させるには、ガラスビーズを用いることができる。このようなガラスビーズは、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。

本発明の磁気記録媒体の製造方法は、例えば、走行下にある非磁性支持体の表面に磁性層用塗布液を所定の膜厚となるように塗布する。ここで複数の磁性層用塗布液及び非磁性用塗布液を逐次あるいは同時に重層塗布してもよく、下層の磁性層用塗布液と上層の磁性層用塗布液とを逐次あるいは同時に重層塗布してもよい。下層の非磁性層用塗布液と上層の磁性層用塗布液とを逐次で重層塗布する場合には、上層の磁性層用塗布液を塗布する前に放射線照射を行い、硬化した非磁性層上に磁性層を形成することができる。このとき、非磁性層の結合剤として、式（１）で表される化合物及びジイソシアネートとともに、エチレン性不飽和結合、好ましくは（メタ）アクリロイル基、より好ましくはアクリロイル基を有するジオール成分を用いて得られたポリウレタン樹脂を使用することが好ましい。放射線照射により、エチレン性不飽和結合（好ましくは（メタ）アクリロイル基、より好ましくはアクリロイル基）が重合・架橋し、高分子量化が生じるため、上層に含まれる溶剤への溶解性が低減するので好ましい。

上記磁性層用塗布液、下層の磁性層用塗布液、又は非磁性層を塗布する塗布機としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。これらについては例えば（株）総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にできる。

磁性層塗布液の塗布層は、磁気テープの場合、磁性層塗布液の塗布層中に含まれる強磁性粉末にコバルト磁石やソレノイドを用いて長手方向に磁場配向処理を施す。ディスクの場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。六方晶フェライトの場合は一般的に面内及び垂直方向の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダムとすることも可能である。また異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向としてもよい。
乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できるようにすることが好ましく、塗布速度は２０〜１，０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともできる。

乾燥された後、塗布層に表面平滑化処理を施す。表面平滑化処理には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用される。表面平滑化処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。
カレンダー処理ロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用する。また金属ロールで処理することもできる。本発明の磁気記録媒体は、表面の中心面平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて０．１〜４．０ｎｍ、好ましくは０．５〜３．０ｎｍの範囲という極めて優れた平滑性を有する表面であることが好ましい。その方法として、例えば上述したように特定の強磁性粉末と結合剤を選んで形成した磁性層を上記カレンダー処理を施すことにより行われる。カレンダー処理条件としては、カレンダーロールの温度を６０〜１００℃の範囲、好ましくは７０〜１００℃の範囲、特に好ましくは８０〜１００℃の範囲であり、圧力は１００〜５００ｋｇ／ｃｍの範囲、好ましくは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍの範囲であり、特に好ましくは３００〜４００ｋｇ／ｃｍの範囲の条件で作動させることによって行われることが好ましい。

熱収縮率低減手段として、低テンションでハンドリングしながらウエッブ状で熱処理する方法と、バルク又はカセットに組み込んだ状態などテープが積層した形態で熱処理する方法（サーモ処理）があり、両者が利用できる。前者は、バックコート層表面の突起写りの影響が少ないが、熱収縮率を大きく下げることができない。一方、後者のサーモ処理は、熱収縮率を大幅に改善できるが、バックコート層表面の突起写りの影響を強く受けるため、磁性層が面荒れし、出力低下及びノイズ増加を引き起こす。特に、サーモ処理を伴う磁気記録媒体で、高出力、低ノイズの磁気記録媒体を供給することができる。得られた磁気記録媒体は、裁断機、打抜機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。

８．物理特性
本発明に用いられる磁気記録媒体の磁性層の飽和磁束密度は、１００〜３００Ｔ・ｍ（１，０００〜３，０００Ｇ）である。また磁性層の抗磁力（Ｈｃ）は、１４３．３〜３１８．４ｋＡ／ｍ（１，８００〜４，０００Ｏｅ）であるが、好ましくは１５９．２〜２７８．６ｋＡ／ｍ（２，０００〜３，５００Ｏｅ）である。抗磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤ及びＳＦＤｒは０．６以下、さらに好ましくは０．２以下である。

本発明で用いられる磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は、温度−１０〜４０℃、湿度０〜９５％の範囲において０．５以下であり、好ましくは０．３以下である。また、帯電位は−５００〜＋５００Ｖ以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は、面内各方向で好ましくは０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００〜２，０００ｋｇ／ｍｍ²）、破断強度は、好ましくは９８〜６８６ＭＰａ（１０〜７０ｋｇ／ｍｍ²）、磁気記録媒体の弾性率は、面内各方向で好ましくは０．９８〜１４．７ＧＰａ（１００〜１，５００ｋｇ／ｍｍ²）、残留のびは、好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は、好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、最も好ましくは０．１％以下である。

磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０〜１８０℃が好ましく、非磁性層のそれは０〜１８０℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁷〜８×１０⁸Ｐａ（１×１０⁸〜８×１０⁹ｄｙｎｅ／ｃｍ²）の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向において１０％以内でほぼ等しいことが好ましい。
磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方がよい場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が保存安定性は好ましいことが多い。

デジタルオプチカルプロフィメーター（ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄ）を用いて測定した磁性層の中心面表面粗さＲａは、好ましくは４．０ｎｍ以下であり、より好ましくは３．０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは２．０ｎｍ以下である。磁性層の最大高さＳＲ_maxは、０．５μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＳＲｐは０．３μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒは２０〜８０％、平均波長Ｓλａは５〜３００μｍが好ましい。磁性層の表面突起は０．０１〜１μｍの大きさのものを０〜２，０００個の範囲で任意に設定することが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロールや磁性層に添加する粉末の粒径と量、カレンダー処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。

本発明の磁気記録媒体における非磁性層と磁性層と間では、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし保存安定性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りをよくするなどである。
本発明の磁気記録媒体は、磁気記録媒体に磁気記録された信号を再生するヘッドについては特に制限はないが、ＭＲヘッドのために用いることが好ましい。本発明の磁気記録媒体の再生にＭＲヘッドを用いる場合、ＭＲヘッドには特に制限はなく、例えばＧＭＲヘッドやＴＭＲヘッドを用いることもできる。また、磁気記録に用いるヘッドは特に制限されないが、飽和磁化量が１．０Ｔ以上であることが好ましく、１．５Ｔ以上であることがより好ましい。

以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は、断らない限り「重量部」の意味である。

（実施例１）
（１−１）スルホン酸（塩）ジオール化合物の合成
２−アミノエタンスルホン酸１００重量部（１モル当量）、水酸化リチウム１水和物３３．５重量部（１モル当量）を水２５０重量部に添加し、４５℃、３０分撹拌した。１，２−ブチレンオキシド１５６重量部を添加し、４５℃でさらに２時間撹拌した。トルエン４００重量部を添加し１０分撹拌した後、静置して下層を分取した。得られた下層を固化・乾燥し、ビス（２−ヒドロキシブチル）アミノエタンスルホン酸のリチウム塩（Ｓ−１）を得た。（Ｓ−１）の¹Ｈ ＮＭＲデータ及びその帰属を以下に示す。なお、本実施例における¹Ｈ ＮＭＲの測定には、４００ＭＨｚのＮＭＲ（ＢＲＵＫＥＲ社製ＡＶＡＮＣＥＩＩ−４００）を使用した。
（Ｓ−１）：¹H NMR (D₂O = 4.75 ppm) δ(ppm) = 3.68 (2H, m), 3.10 (2H, m), 2.59 (2H, m), 2.40 (4H, m), 1.45 (4H, m), 0.89 (6H, t).

ビス（２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピル）アミノエタンスルホン酸のリチウム塩（Ｓ−２）を、（Ｓ−１）の合成と同様の操作で合成した。（Ｓ−２）の¹Ｈ ＮＭＲデータ及びその帰属を以下に示す。
（Ｓ−２）：¹H NMR (D₂O = 4.75 ppm) δ(ppm) = 3.84 (2H, m), 3.55-3.30 (8H, m), 3.38 (2H, m), 2.95 (4H, m), 2.51 (2H, m), 1.49 (4H, m), 1.27 (4H, m), 0.83 (6H, t).

また、前記スルホン酸（塩）ジオール化合物（Ｓ−３）〜（Ｓ−３３）を、（Ｓ−１）と同様の操作で合成した。なお、（Ｓ−３）〜（Ｓ−３３）のうち、塩を有さないスルホン酸ジオール化合物は、対応するスルホン酸塩ジオール化合物１重量部とシクロヘキサノン５重量部との溶液に対し、強酸性のイオン交換樹脂（Ａｌｄｒｉｃｈ社製アンバーライトＩＲＩ１２０Ｈ）を使用して、アルカリ金属イオンの除去を行うことにより、塩を有さないスルホン酸ジオール化合物をそれぞれ得た。

上記に示すスルホン酸（塩）ジオール化合物（Ｓ−１）〜（Ｓ−３３）をそれぞれ用い、以下に示す方法にて溶解性を確認した。

（１−２）溶解性テスト方法
スルホン酸（塩）ジオール化合物１重量部をシクロヘキサノン５重量部に加え、超音波を使用し、４０℃において３時間溶解させた。得られた液をろ過し、溶け残りの有無を確認した。

前記スルホン酸（塩）ジオール化合物（Ｓ−１）〜（Ｓ−３３）のそれぞれについて、上記溶解性テストを行った結果、スルホン酸（塩）ジオール化合物（Ｓ−１）〜（Ｓ−３３）の全てにおいて溶け残りが見られなかった。
一方、ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノエチルスルホン酸、並びに、そのリチウム塩、ナトリウム塩及びカリウム塩のそれぞれについて、上記溶解性テストを行った結果、その全てにおいて溶け残りが見られた。

（実施例２）
（スルホン酸（塩）基含有ジオールの合成）
（１）スルホン酸（塩）基含有ジオール（Ｓ２−１）の合成
２−アミノエタンスルホン酸１００重量部、水酸化リチウム１水和物３３．５重量部を水２５０重量部に添加し、４５℃、３０分撹拌した。１，２−ブチレンオキシド１５６重量部を添加し、４５℃でさらに２時間撹拌した。トルエン４００重量部を添加し１０分撹拌した後、静置し下層を分取した。得られた下層を固化・乾燥した。

（２）Ｓ２−２の合成
使用するエポキシドをスチレンオキシドに変えて（１）と同様の操作により目的物を得た。

（３）Ｓ２−３の合成
ｍ−アミノベンゼンスルホン酸１００重量部、水酸化リチウム１水和物２４重量部を水２５０重量部に添加し、４５℃、３０分撹拌した。１，２−ブチレンオキシド１１２重量部を添加し、４５℃でさらに２時間撹拌した。トルエン４００重量部を添加し１０分撹拌した後、静置し下層を分取した。得られた下層を固化・乾燥した。

（４）Ｓ２−４の合成
使用するアルカリを水酸化ナトリウムに変えて（３）と同様の操作により目的物を得た。
（５）Ｓ２−５の合成
使用するアルカリを水酸化カリウムに変えて（３）と同様の操作により目的物を得た。

（６）Ｓ２−６の合成
使用するアミノベンゼンスルホン酸をスルホナトリウムエチルジエタノールアミンに変え、１，２−ブチレンオキシドの代わりにエチレンオキシドを使用した以外は、（３）と同様の操作により目的物を得た。

（ポリウレタン樹脂合成）
表２に示した組成のジオール成分及び反応触媒であるジ−ｎ−ブチルチンラウレートを、還流式冷却器、撹拌機を具備し、予め窒素置換した容器に、シクロヘキサノン５０％溶液となるように入れ、窒素気流下６０℃で１時間撹拌した。さらに表２に示したジイソシアネ−ト成分を加え９０℃にて６時間加熱反応し、ポリウレタン樹脂溶液Ａ〜Ｋを得た。
なお、反応触媒であるジ−ｎ−ブチルチンラウレートは、重合成分（ポリオール及びポリイソシアネートの総量）に対して０．０１重量部添加した。

表２中には得られたポリウレタンの重量平均分子量及び重量平均分子量／数平均分子量比を示す。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。
また、スルホン酸（塩）濃度（ｅｑ／ｇ）を示した。スルホン酸（塩）濃度は、蛍光Ｘ線分析により硫黄（Ｓ）元素のピーク面積から硫黄元素量を定量し、ポリウレタン樹脂１ｇあたりの硫黄元素量に換算した。
さらに、表２に示した組成のジオール成分及び反応触媒をシクロヘキサノンに５０％溶液となるように添加し、窒素気流下、６０℃にて１時間撹拌後の溶液の状態を観察した。
結果を以下の表２に示す。

（実施例２−１）
＜磁性塗料の調液＞
表３に示した磁性体 １００部をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いでポリウレタン樹脂溶液２−Ａ １５部（固形分）で６０分間混練し、次いで、研磨剤（Ａｌ₂Ｏ₃、粒子サイズ ０．３μｍ） ２部、カーボンブラック（粒子サイズ ４０μｍ） ２部、メチルエチルケトン／トルエン＝１／１ ２００部を加えてサンドミルで３６０分間分散した。
これに、ブチルステアレート ２部、ステアリン酸 １部、シクロヘキサノン ５０部を加え、さらに２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料を調製した。

＜下層用非磁性塗料の調液＞
α−Ｆｅ₂Ｏ₃（平均粒径 ０．１５μｍ、Ｓ_BET ５２ｍ²／ｇ、表面処理Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ｐＨ６．５〜８．０） ８５部をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いで塩化ビニル／酢酸ビニル／グリシジルメタクリレート＝８６／９／５の共重合体にヒドロキシエチルスルフォネートナトリウム塩を付加した化合物（ＳＯ₃Ｎａ＝６×１０^-5ｅｑ／ｇ、エポキシ＝１０^-3ｅｑ／ｇ、Ｍｗ ３０，０００）を７．５部、及び、ポリウレタン樹脂２−Ａ １０部（固形分）、シクロヘキサノン６０部で６０分間混練し、次いで
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝６／４ ２００部
を加えてサンドミルで１２０分間分散した。これに
ブチルステアレート ２部
ステアリン酸 １部
メチルエチルケトン ５０部
を加え、さらに２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層用非磁性塗料を調製した。

＜磁気記録媒体の作製＞
接着層としてスルホン酸含有ポリエステル樹脂を乾燥後の厚さが０．１μｍになるようにコイルバーを用いて厚さ７μｍのポリエチレンテレフタレート支持体の表面に塗布した。
次いで、得られた下層用非磁性塗料を１．５μｍに、さらにその直後に上層磁性塗料を乾燥後の厚さが０．１μｍになるように、リバースロールを用いて同時重層塗布した。磁性塗料が塗布された非磁性支持体を、磁性塗料が未乾燥の状態で５，０００ガウスのＣｏ磁石と４，０００ガウスのソレノイド磁石で磁場配向を行ない、塗布したものを金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロールの組合せによるカレンダー処理を（速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度９０℃）で行なった後１／２インチ（１７．７ｍｍ）幅にスリットした。

（実施例２−２〜２−１３及び比較例２−１〜２−４）
上層磁性塗料のポリウレタン樹脂及び磁性体を表３に示したものを用いた以外は実施例２−１と同様の方法で磁気記録媒体を作製した。

実施例２−１〜２−１３及び比較例２−１〜２−４で作製した磁気記録媒体について、以下の評価を行った。
（測定方法）
（１）平滑性
Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ IIを用い、トンネル電流１０ｎＡ、バイアス電流４００ｍＶで３０μｍ×３０μｍの範囲を走査して１０ｎｍ〜２０ｎｍの突起数を求め、比較例２−４を１００としたときの相対値で示した。

（２）電磁変換特性
ヘッドを固定した１／２インチ リニアシステムで測定した。ヘ−ド／テ−プの相対速度は１０ｍ／ｓｅｃとした。記録は飽和磁化１．４ＴのＭＩＧヘッド（トラック幅１８μｍ）を使い、記録電流は各テープの最適電流に設定した。再生ヘッドには素子厚み２５ｎｍ、シールド間隔０．２μｍの異方性型ＭＲヘッド（Ａ−ＭＲ）を用いた。
記録波長０．２μｍの信号を記録し、再生信号をシバソク製スペクトラムアナライザーで周波数分析し、キャリア信号（波長０．２μｍ）の出力とスペクトル全域の積分ノイズとの比をＳ／Ｎ比とし、比較例２−４を０ｄＢとした相対値で示した。

（３）繰り返し摺動耐久
テ−プを４０℃１０％環境下で磁性層面をＡｌＴｉＣ製の円柱棒に接触させて荷重１００ｇ（Ｔ１）をかけ、２ｍ／ｓｅｃの摺動速度で繰り返し１０，０００パスまで摺動を行ったあとのテープダメージを以下のランクで評価した。
優秀：ややキズが見られるが、キズのない部分の方が多い。
良好：キズがない部分よりもキズがある部分の方が多い。
不良：磁性層が完全に剥離している。

（４）保存性
ＬＴＯ−Ｇ３カートリッジ用のリールにテ−プを６００ｍ巻いた状態で６０℃９０％２週間保存した。
保存後のテ−プの摺動耐久性を（３）と同じ方法で測定した。

（実施例３）
（スルホン酸（塩）基含有ジオールの合成）
（３−１）スルホン酸（塩）基含有ジオール（Ｓ３−１）の合成
２−アミノエタンスルホン酸１００重量部、水酸化リチウム１水和物３３．５重量部を水２５０重量部に添加し、４５℃、３０分撹拌した。１，２−ブチレンオキシド１５６重量部を添加し、４５℃でさらに２時間撹拌した。トルエン４００重量部を添加し１０分撹拌した後、静置し下層を分取した。得られた下層を固化・乾燥した。

（３−２）Ｓ３−２の合成
使用するエポキシドをスチレンオキシドに変えて（３−１）と同様の操作により目的物を得た。
（３−３）Ｓ３−３の合成
使用するエポキシドをグリシジルメチルエーテルに変えて（３−１）と同様の操作により目的物を得た。
（３−４）Ｓ３−４の合成
使用するエポキシドをグリシジルフェニルエーテルに変えて（３−１）と同様の操作により目的物を得た。

（３−５）Ｓ３−５の合成
ｍ−アミノベンゼンスルホン酸１００重量部、水酸化リチウム１水和物２４重量部を水２５０重量部に添加し、４５℃、３０分撹拌した。１，２−ブチレンオキシド１１２重量部を添加し、４５℃でさらに２時間撹拌した。トルエン４００重量部を添加し１０分撹拌した後、静置し下層を分取した。得られた下層を固化・乾燥した。

（３−６）Ｓ３−６の合成
Ｓ３−５を強酸性イオン交換樹脂でスルホン酸に変換した後、水酸化ナトリウムで中和することで目的物を得た。
（３−７）Ｓ３−７の合成
Ｓ３−５を強酸性イオン交換樹脂でスルホン酸に変換した後、水酸化カリウムで中和することで目的物を得た。

（３−８）Ｓ３−８の合成
Ｓ３−１を強酸性イオン交換樹脂でスルホン酸に変換した後、水酸化カリウムで中和することで目的物を得た。
（３−９）Ｓ３−９の合成
２−アミノエタンスルホン酸１００重量部、水酸化カリウム４４．８重量部を水２５０重量部に添加し、４５℃、３０分撹拌した。ブチルグリシジルエーテル２６０重量部を添加し、４５℃でさらに２時間撹拌した。トルエン４００重量部を添加し１０分撹拌した後、静置し下層を分取した。得られた下層を固化・乾燥した。

（ポリエステルジオール（Ａ）の合成）
５−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチルエステルと２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２'，２'−ジメチル−３−ヒドロキシプロパネートとを３：４のモル比で仕込み、未反応のグリコール成分を残存させた。温度計、撹拌機、リービッヒ冷却器を具備した反応容器に５−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチルエステル８８８部、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２'，２'−ジメチル−３−ヒドロキシプロパネート１８３６部及びテトラブトキシチタン０．２部を仕込み２４０℃で５時間エステル交換した。温度を１００℃まで下げトルエン６３３部で希釈しポリエステルジオール（Ａ）溶液（固形分濃度：８０ｗｔ％）を得た。得られたポリエステルジオール（Ａ）の数平均分子量は１，５００であった。

（ポリウレタン樹脂合成）
表５に示した組成のジオール成分及び反応触媒であるジ−ｎ−ブチルチンラウレートを、還流式冷却器、撹拌機を具備し、予め窒素置換した容器に、シクロヘキサノン５０％溶液となるように入れ、窒素気流下６０℃で１時間撹拌した。さらに表５に示したジイソシアネ−ト成分を加え９０℃にて６時間加熱反応し、ポリウレタン樹脂溶液３−Ａ〜３−Ｌを得た。
なお、反応触媒であるジ−ｎ−ブチルチンラウレートは、重合成分（ポリオール及びポリイソシアネートの総量）に対して０．０１重量部添加した。

表５中には得られたポリウレタンの重量平均分子量及び重量平均分子量／数平均分子量比（Ｍｗ／Ｍｎ）を示す。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。
また、スルホン酸（塩）濃度（ｅｑ／ｇ）を示した。スルホン酸（塩）濃度は、蛍光Ｘ線分析により硫黄（Ｓ）元素のピーク面積から硫黄元素量を定量し、ポリウレタン樹脂１ｇあたりの硫黄元素量に換算した。
さらに、表５に示した組成のジオール成分及び反応触媒をシクロヘキサノンに５０％溶液となるように添加し、窒素気流下、６０℃にて１時間撹拌後の溶液の状態を観察した。
結果を以下の表５に示す。

（実施例３−１）
＜磁性塗料の調液＞
表６に示した磁性体 １００部をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いでポリウレタン樹脂溶液３−Ａ １５部（固形分）で６０分間混練し、次いで、研磨剤（Ａｌ₂Ｏ₃、粒子サイズ ０．３μｍ） ２部、カーボンブラック（粒子サイズ ４０μｍ） ２部、メチルエチルケトン／トルエン＝１／１ ２００部を加えてサンドミルで３６０分間分散した。
これに、ブチルステアレート ２部、ステアリン酸 １部、シクロヘキサノン ５０部を加え、３官能性低分子量ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン製、コロネート３０４１）を６部加え、さらに２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層用（上層用）磁性塗布液（磁性塗料）を調製した。

＜下層用非磁性塗料の調液＞
α−Ｆｅ₂Ｏ₃（平均粒径 ０．１５μｍ、Ｓ_BET ５２ｍ²／ｇ、表面処理Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ｐＨ６．５〜８．０） ８５部をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いで塩化ビニル／酢酸ビニル／グリシジルメタクリレート＝８６／９／５の共重合体にヒドロキシエチルスルフォネートナトリウム塩を付加した化合物（ＳＯ₃Ｎａ＝６×１０^-5ｅｑ／ｇ、エポキシ＝１０^-3ｅｑ／ｇ、Ｍｗ ３０，０００）を７．５部、及び、ポリウレタン樹脂３−Ａ １０部（固形分）、シクロヘキサノン６０部で６０分間混練し、次いで
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝６／４ ２００部
を加えてサンドミルで１２０分間分散した。これに
ブチルステアレート ２部
ステアリン酸 １部
メチルエチルケトン ５０部
を加え、３官能性低分子量ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネート３０４１）を５０部加え、さらに２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層用非磁性塗料を調製した。

＜磁気記録媒体の作製＞
接着層としてスルホン酸含有ポリエステル樹脂を乾燥後の厚さが０．１μｍになるようにコイルバーを用いて厚さ７μｍのポリエチレンテレフタレート支持体の表面に塗布した。
次いで、得られた下層用非磁性塗料を１．５μｍに、さらにその直後に上層磁性塗料を乾燥後の厚さが０．１μｍになるように、リバースロールを用いて同時重層塗布した。磁性塗料が塗布された非磁性支持体を、磁性塗料が未乾燥の状態で５，０００ガウスのＣｏ磁石と４，０００ガウスのソレノイド磁石で磁場配向を行ない、塗布したものを金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロールの組合せによるカレンダー処理を（速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度９０℃）で行なった後１／２インチ（１７．７ｍｍ）幅にスリットした。

（実施例３−２〜３−１５及び比較例３−１〜３−３）
上層磁性塗料のポリウレタン樹脂及び磁性体を表６に示したものを用いた以外は実施例３−１と同様の方法で磁気記録媒体を作製した。

（実施例３−１６）
＜磁性塗料の調液＞
実施例３−１と同様に作成した。

＜下層用非磁性塗料の調液＞
α−Ｆｅ₂Ｏ₃（平均粒径 ０．１５μｍ、Ｓ_BET ５２ｍ²／ｇ、表面処理Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ｐＨ６．５〜８．０） ８５部をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いで塩化ビニル／酢酸ビニル／グリシジルメタクリレート＝８６／９／５の共重合体にヒドロキシエチルスルフォネートカリウム塩を付加した化合物（ＳＯ₃Ｋ＝６×１０^-5ｅｑ／ｇ、エポキシ＝１０^-3ｅｑ／ｇ、Ｍｗ ３０，０００）に２−イソシアネートエチルメタクリレート（ＭＯＩ）を使用してメタクリレート基を付与した樹脂（メタクリレート基含有量３５０×１０^-6ｅｑ／ｇ）を７．５部、及び、ポリウレタン樹脂３−Ｍ １０部（固形分）、シクロヘキサノン６０部で６０分間混練し、次いで
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝６／４ ２００部
を加えてサンドミルで１２０分間分散した。これに
ブチルステアレート ２部
ステアリン酸 １部
メチルエチルケトン ５０部
を加え、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５０部加え、さらに２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層用非磁性塗料を調製した。

＜磁気記録媒体の作製＞
接着層としてスルホン酸含有ポリエステル樹脂を乾燥後の厚さが０．１μｍになるようにコイルバーを用いて厚さ１０μｍのアラミド支持体の表面に塗布した。次いで乾燥膜厚みが１μｍになるように下層用非磁性塗料を塗布した。
その後、加速電圧１７５ＫＶ、ビーム電流１０ｍＡで吸収線量が１０Ｍｒａｄになるように電子線を照射しして硬化させ、非磁性層を形成した。

形成された非磁性層上に磁性塗布液をリバースロールを用いて乾燥膜厚で０．１μｍになるように塗布した。磁性塗料が未乾燥の状態で０．５Ｔ（５，０００ガウス）のＣｏ磁石と０．４Ｔ（４，０００ガウス）のソレノイド磁石で磁場配向を行い、塗布したものを金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロールの組合せによるカレンダー処理を（速度１００ｍ/ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ/ｃｍ、温度９０℃）で行った。さらに７０℃で２４時間加熱硬化処理を行い１／２インチ（１７．７ｍｍ）幅にスリットした。

（実施例３−１７〜３−１９及び比較例３−４〜３−６）
非磁性塗料のポリウレタン樹脂及び磁性体を表６に示したものを用いた以外は実施例３−１６と同様の方法で磁気記録媒体を作製した。

実施例３−１〜３−１９及び比較例３−１〜３−６で作製した磁気記録媒体について、以下の評価を行った。
（測定方法）
（１）平滑性
Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ IIを用い、トンネル電流１０ｎＡ、バイアス電流４００ｍＶで３０μｍ×３０μｍの範囲を走査して１０ｎｍ〜２０ｎｍの突起数を求め、比較例３−２を１００としたときの相対値で示した。

（２）電磁変換特性
ヘッドを固定した１／２インチ リニアシステムで測定した。ヘ−ド／テ−プの相対速度は１０ｍ／ｓｅｃとした。記録は飽和磁化１．４ＴのＭＩＧヘッド（トラック幅１８μｍ）を使い、記録電流は各テープの最適電流に設定した。再生ヘッドには素子厚み２５ｎｍ、シールド間隔０．２μｍの異方性型ＭＲヘッド（Ａ−ＭＲ）を用いた。
記録波長０．２μｍの信号を記録し、再生信号を（株）シバソク製スペクトラムアナライザーで周波数分析し、キャリア信号（波長０．２μｍ）の出力とスペクトル全域の積分ノイズとの比をＳ／Ｎ比とし、比較例３−２を０ｄＢとした相対値で示した。

（３）繰り返し摺動耐久
磁気記録媒体（テ−プ）を４０℃１０％環境下で磁性層面をＡｌＴｉＣ製の円柱棒に接触させて荷重１００ｇ（Ｔ１）をかけ、２ｍ／ｓｅｃの摺動速度で繰り返し１０，０００パスまで摺動を行ったあとのテープダメージを以下のランクで評価した。
優秀：ややキズが見られるが、キズのない部分の方が多い。
良好：キズがない部分よりもキズがある部分の方が多い。
不良：磁性層が完全に剥離している。

（４）保存性
ＬＴＯ−Ｇ３カートリッジ用のリールに磁気記録媒体（テ−プ）を６００ｍ巻いた状態で６０℃９０％２週間保存した。
保存後のテープの摺動耐久性を（３）と同じ方法で測定した。
結果を以下の表に示す。

（実施例４）
（４−１）スルホン酸（塩）基含有ジオールの合成
（４−１−１）スルホン酸（塩）基含有ジオールの合成−１
２−アミノエタンスルホン酸１００重量部、水酸化リチウム１水和物３３．５重量部を水２５０重量部に添加し、４５℃、３０分撹拌した。１，２−ブチレンオキシド１５６重量部を添加し、４５℃でさらに２時間撹拌した。トルエン４００重量部を添加し１０分撹拌した後、静置して下層を分取した。得られた下層を固化・乾燥し、下記のＳ４−１を得た。

（４−１−２）スルホン酸（塩）基含有ジオールの合成−２
２−アミノエタンスルホン酸１００重量部、水酸化カリウム４４．８重量部を水２５０重量部に添加し、４５℃、３０分撹拌した。１，２−ブチレンオキシド１５６重量部を添加し、４５℃でさらに２時間撹拌した。トルエン４００重量部を添加し１０分撹拌した後、静置して下層を分取した。得られた下層を固化・乾燥し、下記のＳ４−２とＳ４−３を１：１の比率で得た。

（４−２）ポリウレタンの合成
（４−２−１）ポリウレタン合成−１（実施例４−２−１）
下記Ｓ４−４を２．４重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）３９．８重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）２１．６重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッシャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−２−２）ポリウレタン合成−２（実施例４−２−２）
Ｓ―２：Ｓ−６４＝１：１で含有するスルホン酸混合物２．５重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）３９．８重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）２１．６重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッシャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−２−３）ポリウレタン合成−３（実施例４−２−３）
Ｓ―６４を２．５重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）３９．６重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）２１．６重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッシャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−２−４）ポリウレタン合成−４（実施例４−２−４）
Ｓ−１を１．７重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）４０．７重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）２１．４重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッシャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−２−５）ポリウレタン合成−５（実施例４−２−５）
Ｓ−１：Ｓ−３４＝１：１で含有するスルホン酸混合物１．７重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）４０．７重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）２１．４重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−２−６）ポリウレタン合成−６（実施例４−２−６）
Ｓ−３４を１．７重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）４０．７重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）２１．４重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−２−７）ポリウレタン合成−７（実施例４−２−７）
Ｓ４−２：Ｓ４−３＝１：１で含有するスルホン酸混合物１．８重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）４０．５重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）２１．４重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッシャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−２−８）ポリウレタン合成−８（実施例４−２−８）
Ｓ４−４を１４．０重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）３２．０重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）１７．８重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッシャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−２−９）ポリウレタン合成−９（比較例４−２−１）
下記構造のポリエステル（ＭＷ＝４，５００）を含有するスルホン酸化合物を５．７重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）３５．７重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）２２．４重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッシャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−２−１０）ポリウレタン合成−１０（比較例４−２−２）
上記構造のポリエステル（ＭＷ＝４，５００）を含有するスルホン酸化合物を３１．２重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）１０．６重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）２１．９重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッシャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−２−１１）ポリウレタン合成−１１（実施例４−２−９）
Ｓ−２を２．５重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）４１．８重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）１４．３重量部、ブレンマーＧＬＭ（日油）５．１１重量部、ｐ−メトキシフェノール０．２重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッシャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−２−１２）ポリウレタン合成−１２（実施例４−２−１０）
Ｓ４−２を１．８重量部、ＢＰＸ−１０００（アデカポリエーテル）４２．６重量部、トリシクロ［５，２，１，０（２，６）］デカンジメタノール（東京化成）１４．１重量部、ブレンマーＧＬＭ（日油）５．１重量部、ｐ−メトキシフェノール０．２重量部、ジラウリン酸ジブチルすず０．１重量部をシクロヘキサノン５４．１重量部に添加し、室温で３０分撹拌し完溶させた。フラスコ内の水分をカールフィッシャー水分計で測定し、含有する水に対して１倍モルのミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を添加した。内温を８０℃に設定した後、内温８０〜９０℃になる速度で５０ｗｔ％のミリオネートＭＴ（日本ポリウレタン）を含有するシクロヘキサノン溶液７１．９重量部を滴下した。内温８０℃〜９０℃で４時間撹拌した後室温に冷却した。
得られたポリウレタンは重量平均分子量７０，０００及び重量平均分子量／数平均分子量比、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９０であった。なお、ポリウレタンの重量平均分子量は０．３ｗｔ％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。

（４−３）分散テスト
（４−３−１）分散テスト−１（実施例４−３−１）
下記の非磁性粉末４．１重量部、上記（４−２−１）で合成した、上記Ｓ４−４を含有するスルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：０．６×１０^-4ｅｑ／ｇ）１重量部、をシクロヘキサノン１０．８重量部、２−ブタノン１６．２重量部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（ニッカトー製）９０重量部を添加し、６時間分散させた。得られた液を塗布し、乾燥させることでシートを作製した。シートの光沢を測定したところ光沢値１９０であった。
非磁性粉末：α−酸化鉄（表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂）
平均長軸長：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ法による比表面積 ５２ｍ²／ｇ、ｐＨ８

（４−３−２）分散テスト−２（実施例４−３−２）
下記バリウムフェライト粉末７．３重量部、上記（４−２−４）で合成した、Ｓ−１を含有するスルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：３．３×１０^-4モル／ｇ）１重量部、をシクロヘキサノン１１．９重量部、２−ブタノン１７．７重量部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（ニッカトー製）９０重量部を添加し、６時間分散させた。分散させた液のポリウレタンのバリウムフェライト粉末表面／溶液中の存在比率を以下の方法で測定したところ、４．０／１であった。溶液中のポリウレタンに含まれる硫黄含量を蛍光Ｘ線を用いて測定したところ検出限界以下であった。得られた液を塗布し、乾燥させることでシートを作製した。シートの光沢を測定したところ光沢値１７１であった。
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末
酸素を除く組成（モル比）：Ｂａ／Ｆｅ／Ｃｏ／Ｚｎ＝１／９／０．２／１
Ｈｃ：１７６ｋＡ／ｍ（２，２００Ｏｅ）、平均板径：２５ｎｍ、平均板状比：３
ＢＥＴ比表面積：６５ｍ²／ｇ
σｓ：４９Ａ・ｍ²／ｋｇ（４９ｅｍｕ／ｇ）
ｐＨ：７

−ポリウレタンの存在比率の測定方法−
日立製分離用小型超遠心機ＣＳ１５０ＧＸＬにて１００，０００ｒｐｍ、８０分の条件で分散液中の強磁性粉末と溶液を遠心分離した。上澄み液３ｍｌを測り取り重量を測定した。４０℃、１８時間の条件で乾燥させた後、１４０℃、３時間真空条件下で乾燥した。乾燥したものの重量を結合剤非吸着固形分とし、分散に使用したバインダーと上澄み液中から観察されたバインダーの比率から、強磁性粉末（バリウムフェライト粉末）表面／溶液中の結合剤の存在比を計算した。

（４−３−３）分散テスト−３（実施例４−３−３）
下記非磁性粉末４．１重量部、上記（４−２−６）で合成した、Ｓ−３４を含有するスルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：０．６×１０^-4ｅｑ／ｇ）１重量部を、シクロヘキサノン１０．８重量部、２−ブタノン１６．２重量部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（ニッカトー製）９０重量部を添加し、６時間分散させた。得られた液を帝人（株）製ＰＥＮフィルムに塗布し、乾燥させることでシートを作製した。シートの光沢を測定したところ光沢値１９１であった。
非磁性粉末：α−酸化鉄（表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂）
平均長軸長：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ法による比表面積 ５２ｍ²／ｇ、ｐＨ８

（４−３−４）分散テスト−４（実施例４−３−４）
下記非磁性粉末４．１重量部、上記（４−２−７）で合成した、Ｓ４−２：Ｓ４−３＝１：１で含有するスルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：０．６×１０^-4ｅｑ／ｇ）１重量部を、シクロヘキサノン１０．８重量部、２−ブタノン１６．２重量部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（ニッカトー製）９０重量部を添加し、６時間分散させた。得られた液を帝人（株）製ＰＥＮフィルムに塗布し、乾燥させることでシートを作製した。シートの光沢を測定したところ光沢値１９４であった。
非磁性粉末：α−酸化鉄（表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂）
平均長軸長：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ法による比表面積 ５２ｍ²／ｇ、ｐＨ８

（４−３−５）分散テスト−５（実施例４−３−５）
下記バリウムフェライト粉末４．１重量部、上記（４−２−８）で合成した、Ｓ４−４を含有するスルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：３．３×１０^-4ｅｑ／ｇ）１重量部、をシクロヘキサノン１０．８重量部、２−ブタノン１６．２重量部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（ニッカトー製）９０重量部を添加し、６時間分散させた。得られた液を塗布し、乾燥させることでシートを作製した。シートの光沢を測定したところ光沢値１８３であった。
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末
酸素を除く組成（モル比）：Ｂａ／Ｆｅ／Ｃｏ／Ｚｎ＝１／９／０．２／１
Ｈｃ：１７６ｋＡ／ｍ（２，２００Ｏｅ）、平均板径：２５ｎｍ、平均板状比：３
ＢＥＴ比表面積：６５ｍ²／ｇ
σｓ：４９Ａ・ｍ²／ｋｇ（４９ｅｍｕ／ｇ）
ｐＨ：７

（４−３−６）分散テスト−６（比較例４−３−１）
下記非磁性粉末４．１重量部、上記（４−２−９）で合成した、ポリエステルを含有するスルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：０．６×１０^-4ｅｑ／ｇ）１重量部、をシクロヘキサノン１０．８重量部、２−ブタノン１６．２重量部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（ニッカトー製）９０重量部を添加し、６時間分散させた。分散させた液のポリウレタンの非磁性粉末表面／溶液中の存在比率を上述の方法で測定したところ、２．７／１であった。溶液中のポリウレタンに含まれる硫黄含量を蛍光Ｘ線を用いて測定したところ検出限界以下であった。
得られた液を塗布し、乾燥させることでシートを作製した。シートの光沢を測定したところ光沢値１４５であった。
非磁性粉末：α−酸化鉄（表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂）
平均長軸長：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ法による比表面積 ５２ｍ²／ｇ、ｐＨ８

（４−３−７）分散テスト−７（比較例４−３−２）
下記バリウムフェライト粉末７．３重量部、上記（４−２−１０）で合成した、スルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：３．３×１０^-4モル／ｇ）１重量部、をシクロヘキサノン１１．９重量部、２−ブタノン１７．７重量部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（ニッカトー製）９０重量部を添加し、６時間分散させた。分散させた液のポリウレタンのバリウムフェライト粉末表面／溶液中の存在比率を上述の方法で測定したところ、２．６／１であった。溶液中のポリウレタンに含まれる硫黄含量を蛍光Ｘ線を用いて測定したところ検出限界以下であった。
得られた液を塗布し、乾燥させることでシートを作製した。シートの光沢を測定したところ光沢値１８０であった。
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末
酸素を除く組成（モル比）：Ｂａ／Ｆｅ／Ｃｏ／Ｚｎ＝１／９／０．２／１
Ｈｃ：１７６ｋＡ／ｍ（２，２００Ｏｅ）、平均板径：２５ｎｍ、平均板状比：３
ＢＥＴ比表面積：６５ｍ²／ｇ
σｓ：４９Ａ・ｍ²／ｋｇ（４９ｅｍｕ／ｇ）
ｐＨ：７

（４−３−８）分散テスト−８（実施例４−３−６）
下記非磁性粉末４．１重量部、上記（４−２−１０）で合成したスルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：０．６×１０^-4ｅｑ／ｇ）１重量部、をシクロヘキサノン１０．８重量部、２−ブタノン１６．２重量部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（ニッカトー製）９０重量部を添加し、６時間分散させた。
得られた液を塗布し、乾燥させることでシートを作製した。シートの光沢を測定したところ１９０であった。
非磁性粉末：α−酸化鉄（表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂）
平均長軸長：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ法による比表面積 ５２ｍ²／ｇ、ｐＨ８

（４−３−９）分散テスト−９（実施例４−３−７）
下記非磁性粉末４．１重量部、上記（４−２−１１）で合成した、Ｓ−２を含有するポリウレタン（スルホン酸基含有量：０．６×１０^-4ｅｑ／ｇ）１重量部、をシクロヘキサノン１０．８重量部、２−ブタノン１６．２重量部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（ニッカトー製）９０重量部を添加し、６時間分散させた。分散させた液のポリウレタンの非磁性粉末表面／溶液中の存在比率を上述の方法で測定したところ、２．７／１であった。溶液中のポリウレタンに含まれる硫黄含量を蛍光Ｘ線を用いて測定したところ検出限界以下であった。
得られた液を塗布し、乾燥させることでシートを作製した。シートの光沢を測定したところ光沢値１９３であった。
非磁性粉末：α−酸化鉄（表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂）
平均長軸長：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ法による比表面積 ５２ｍ²／ｇ、ｐＨ８

なお、光沢値の測定は、スガ試験機器株式会社製ＧＫ−４５Ｄを用い測定した。

（４−４）電子線硬化性試験
上記ポリウレタン合成法−１、１０、１１（実施例４−２−１、４−２−９、４−２−１０）で合成したポリウレタン溶液をガラス板に塗布し、乾燥させることで膜圧２０μｍのシートを作製した。
ガラス板上のポリウレタンに、２０ｋＧｙで電子線を照射させた。
電子線照射後にガラス板表面のポリウレタンを削り取り、ＴＨＦに添加し６０℃、２時間抽出した。（抽出後残存率）÷（初期サンプリング量）＝ゲル分率として電子線照射による硬化性（溶剤耐久性）を評価した。

（実施例５）
（５−１）スルホン酸（塩）基含有ジオールの合成
２−アミノエタンスルホン酸１００重量部、水酸化カリウム４４．８重量部を水２５０重量部に添加し、４５℃、３０分撹拌した。１，２−ブチレンオキシド１１５重量部を添加し、４５℃でさらに２時間撹拌した。反応液を濃縮、乾固させ¹Ｈ−ＮＭＲによりＳ５−１：Ｓ５−２＝１：１であることを確認した。

Ｓ５−１、Ｓ５−２からなる混合物１重量部を水１０重量部に溶解させ強酸性イオン交換樹脂でＳ５−３：Ｓ５−４＝１：１の水溶液に変換した後、１Ｎ水酸化リチウム水溶液を用いてｐＨ６〜８になるように中和した。得られた水溶液を濃縮乾固させＳ５−５：Ｓ５−６＝１：１の粘体を得た。

２−アミノエタンスルホン酸１００重量部（１モル当量）、水酸化リチウム１水和物３３．５重量部（１モル当量）を水２５０重量部に添加し、４５℃、３０分撹拌した。１，２−ブチレンオキシド１５６重量部を添加し、４５℃でさらに２時間撹拌した。反応液を濃縮乾固させ¹Ｈ−ＮＭＲによりＳ５−６であることを確認した。
Ｓ５−６ １重量部を水１０重量部に溶解させ強酸性イオン交換樹脂でＳ５−４に変換した後、１Ｎ水酸化カリウム水溶液を用いてｐＨ６〜８になるように中和した。得られた水溶液を濃縮乾固させＳ５−２の粘体を得た。

（５−２）溶解性テスト方法
Ｓ５−１、Ｓ５−２、Ｓ５−５及びＳ５−６を任意の割合で混合した混合物にシクロヘキサノンに加え、超音波を使用し４０℃で３時間溶解させた。得られた液をろ過し、溶け残りの有無を確認した（表中数字は重量部を表す。）。

Claims (13)

1. 下記式（２）で表されることを特徴とする化合物。
   

   

   （式（２）中、Ｘはエチレン基又はフェニレン基を表し、Ｍは水素原子又は陽イオンを表し、Ｘがエチレン基の場合には、Ｒ³及びＲ⁴は、それぞれ独立に、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数２〜５のアルコキシアルキル基、又は、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基を表し、Ｘがフェニレン基の場合には、Ｒ³及びＲ⁴は、それぞれ独立に、炭素数２〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数２〜２０のアルコキシアルキル基、又は、炭素数７〜２０のアリールオキシアルキル基を表す。）
2. 下記（Ｓ−２）〜（Ｓ−１８）、（Ｓ−２０）〜（Ｓ−２７）、及び、（Ｓ−３０）〜（Ｓ−３３）よりなる群から選択される、請求項１に記載の化合物。
   

   

   

   

   
3. 式（２）中、前記Ｍが無機陽イオンである、請求項１又は２に記載の化合物。
4. 式（２）中、前記Ｍがアルカリ金属イオンである、請求項１〜３いずれか１つに記載の化合物。
5. 式（２）中、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、メトキシメチル基、ブトキシメチル基、フェノキシメチル基及びフェニル基よりなる群から選択される、請求項１〜４いずれか１つに記載の化合物。
6. ポリオール及びポリイソシアネートを重合して得られ、
   前記ポリオールが、請求項１〜５いずれか１つに記載の化合物を含むことを特徴とする
   ポリウレタン樹脂。
7. スルホン酸（塩）基含有量が１×１０^-5ｅｑ／ｇ以上２×１０^-3ｅｑ／ｇ以下である、請求項６に記載のポリウレタン樹脂。
8. 前記ポリオールが、（メタ）アクリロイルオキシ基を有するジオールをさらに含有する、請求項６又は７に記載のポリウレタン樹脂。
9. 磁気記録媒体用である、請求項６〜８いずれか１つに記載のポリウレタン樹脂。
10. 非磁性支持体上に、強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の磁性層を有し、
    前記結合剤が請求項６〜９いずれか１つに記載のポリウレタン樹脂を含有することを特徴とする
    磁気記録媒体。
11. 非磁性支持体上に、非磁性粉末を結合剤（１）中に分散した少なくとも１層の非磁性層を有し、該非磁性層の上に強磁性粉末を結合剤（２）中に分散した少なくとも１層の磁性層を有し、
    結合剤（１）及び／又は結合剤（２）が請求項６〜９いずれか１つに記載のポリウレタン樹脂であることを特徴とする
    磁気記録媒体。
12. 前記結合剤（１）が、請求項９に記載のポリウレタン樹脂を含有する、請求項１１に記載の磁気記録媒体。
13. 前記強磁性粉末が、平均長軸長が２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の針状強磁性体、平均板径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の平板状磁性体、及び、平均直径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の球状又は回転楕円状磁性体よりなる群から選択される少なくとも１つである請求項１０〜１２いずれか１つに記載の磁気記録媒体。