JP4955630B2 - 組成物、磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、組成物、磁気記録媒体及びその製造方法に関する。

磁気記録技術は、媒体の繰り返し使用が可能であること、信号の電子化が容易であり周辺機器との組み合わせによるシステムの構築が可能であること、信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式にはない優れた特長を有することから、ビデオ、オーディオ、コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅広く利用されてきた。
近年の記録の大容量化、高記録密度化された磁気記録媒体は、その高度な電磁変換特性を達成するため、極めて平滑な表面を有することが要求されている。
また、上記のように極めて平滑な表面を得るため、磁気記録媒体を作製時における磁性層塗布液や非磁性層塗布液には、強磁性粉末又は非磁性粉末などの優れた分散性が要求されている。

一方、特許文献１には、非磁性支持体上に、非磁性粉末が結合剤中に分散されてなる非磁性下層と、磁性粉末が結合剤中に分散されてなる磁性層とが、順次重層形成されてなる磁気記録媒体であって、前記磁性層中には、シランカップリング剤と、ヒドロキシカルボン酸とが含有されてなることを特徴とする磁気記録媒体が記載されている。
また、特許文献２には、非磁性支持体の一方又は両面に、強磁性粉末を結合剤中に分散させた磁性分散液を塗布して０．２μｍ以下の磁性層を設けた磁気記録媒体において、上記磁性層にカルボキシル基とヒドロキシ基を分子中に有し、芳香環が２個以上の場合には縮合環である分子量が２００以下の芳香族化合物を含有し、上記強磁性粉末のＢＥＴ法による比表面積をＳｍ［ｍ²／ｇ］、芳香族化合物の含有量をＡｃ［ｍｍｏｌ］としたときに０．００４×Ｓｍ≦Ａｃ≦０．００７×Ｓｍ［ｍｍｏｌ］の関係を満足していることを特徴とする磁気記録媒体が記載されている。
さらに、特許文献３には、非磁性支持体上に、金属磁性薄膜、カーボン保護膜が形成されてなり、上記カーボン保護膜上に、ナフタレン環構造を有し且つカルボキシル基あるいはＮＨ₂ 基のいずれかが２つ以上導入された化合物、ナフタレン環構造を有し且つカルボキシル基が１つ以上とＮＯ₂ 基あるいはＮＨ₂ 基が一つ導入された化合物、ベンゼン環構造を有し且つカルボキシル基あるいはＯＨ基が二つ以上導入された化合物のいずれかが防錆剤として塗布されていることを特徴とする磁気記録媒体が記載されている。

特開２００５−２５９２７６号公報 特開２００４−３５５６８４号公報 特開平７−３２６０４５号公報

本発明の目的は、媒質への無機粉体の分散性に優れた組成物を提供することである。
また、本発明の他の目的は、表面平滑性に優れた磁気記録媒体及びその製造方法を提供することである。

本発明が解決しようとする課題は、下記＜１＞又は＜９＞から＜１２＞によって解決された。好ましい実施態様である＜２＞〜＜８＞と共に以下に示す。
＜１＞１−ナフトエ酸、無機粉体、及び、媒質を含有することを特徴とする組成物、
＜２＞前記無機粉体が、強磁性粉末又は非磁性粉末である上記＜１＞に記載の組成物、
＜３＞磁気記録媒体作製用である上記＜１＞又は＜２＞に記載の組成物、
＜４＞前記１−ナフトエ酸の含有量が、前記無機粉体の含有量１００重量部に対して、１．０〜１０．０重量部である上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の組成物、
＜５＞前記無機粉体の平均粒径が、５ｎｍ〜２μｍである上記＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の組成物、
＜６＞前記媒質が、結合剤及び／又は有機溶媒である上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の組成物、
＜７＞前記媒質が、結合剤を含む上記＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の組成物、
＜８＞前記結合剤の含有量が、前記無機粉体の含有量１００重量部に対して、１０〜４０重量部である上記＜７＞に記載の組成物、
＜９＞非磁性支持体と、前記非磁性支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の磁性層とを有し、前記磁性層のうちの少なくとも１層が、１−ナフトエ酸を含有することを特徴とする磁気記録媒体、
＜１０＞非磁性支持体と、前記非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の非磁性層と、前記非磁性層の上に強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の磁性層とを有し、前記磁性層及び／又は前記非磁性層のうちの少なくとも１層が、１−ナフトエ酸を含有することを特徴とする磁気記録媒体、
＜１１＞上記＜７＞又は＜８＞に記載の組成物を調製する工程、及び、非磁性支持体上に前記組成物を塗布し強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を設ける工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法、
＜１２＞上記＜７＞又は＜８＞に記載の組成物を調製する工程、非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層を設ける工程、及び、前記非磁性層上に強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を設ける工程を含み、前記非磁性層及び／又は前記磁性層を前記＜７＞又は＜８＞に記載の組成物を塗布して設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

本発明によれば、媒質への無機粉体の分散性に優れた組成物を提供することができた。
また、本発明によれば、表面平滑性に優れた磁気記録媒体及びその製造方法を提供することができた。

以下に、本発明を詳細に説明する。

（組成物）
本発明の組成物は、１−ナフトエ酸、無機粉体、及び、媒質を含有することを特徴とする。
本発明の組成物は、１−ナフトエ酸を分散剤として含有することにより、媒質への無機粉体の分散性に優れる。
また、本発明の組成物は、磁気記録媒体を作製する原料として、すなわち、磁気記録媒体用として好適に使用することができる。磁性層及び／又は非磁性層における強磁性粉末や非磁性粉末の分散性が向上することにより、表面平滑性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。

＜１−ナフトエ酸＞
本発明の組成物は、下記に示す１−ナフトエ酸（1-Naphthoic acid）を含有する。

組成物において、１−ナフトエ酸に代えて、カルボキシ基の置換位置の異なる２−ナフトエ酸や、置換基をさらに有するナフトエ酸類（例えば、４−メチル−１−ナフトエ酸、２−メトキシ−１−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、１−ニトロ−２−ナフトエ酸など）、塩を形成しているナフトエ酸塩類（例えば、１−ナフトエ酸カリウム塩など）、芳香環がナフタレン環以外のアリールカルボン酸類（例えば、安息香酸、９−アントラセンカルボン酸、４−ヒドロキシ安息香酸など）を使用した場合、媒質への無機粉体の分散性に劣る。
本発明者等が鋭意検討を行った結果、種々の化合物のうち、１−ナフトエ酸のみが、これらの化合物と比較して、媒質への無機粉体の分散性が特に優れることを見いだした。、また、１−ナフトエ酸を使用することにより、種々の媒質及び無機粉体を使用した場合にも分散性に優れ、汎用性に優れる。

本発明の組成物における１−ナフトエ酸の含有量は、組成物中の無機粉体の総含有量１００重量部に対し、０．５〜２０重量部であることが好ましく、１．０〜１０．０重量部であることがより好ましい。上記範囲であると、分散性に優れる。

＜無機粉体＞
本発明の組成物は、無機粉体を含有する。
本発明に用いることができる無機粉体としては、特に制限はなく種々の無機粉体を用いることができるが、強磁性粉末又は非磁性粉末が好ましく例示でき、後述する磁気記録媒体用強磁性粉末又は磁気記録媒体用非磁性粉末がより好ましく例示できる。

強磁性粉末としては、特に制限はなく、公知の強磁性粉末を用いることができ、例えば、針状強磁性体、平板状磁性体、及び、球状又は楕円状磁性体が例示できる。
針状強磁性体としては、イットリウムを含むＦｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅが挙げられる。
平板状磁性体としては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等のような六方晶フェライト粉末が挙げられる。
球状又は楕円状磁性体としては、Ｆｅ₁₆Ｎ₂を主相とする窒化鉄系の粒子が挙げられる。

非磁性粉末としては、特に制限はなく、公知の非磁性の無機物質を用いることができる。
非磁性粉末としては、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、カーボンブラックなどが挙げられる。なお、本発明において、特に断りのない限り、「金属」は、ホウ素、ケイ素、ゲルマニウム等の半金属も含むものとする。
非磁性粉末として具体的には、二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、ＢａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタン、カーボンブラック等が例示できる。
これらの中でも、非磁性粉末としては、金属酸化物を好ましく例示できる。

無機粉体の形状としては、特に制限はなく種々の形状をとることができ、例えば、球状、針状、板状、楕円状、多面体状、不定形などが挙げられる。
また、無機粉体の平均粒径としては、１ｎｍ〜１００μｍであることが好ましく、５ｎｍ〜２μｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。上記範囲であると、１−ナフトエ酸の添加効果をより発揮できる。

＜媒質＞
本発明の組成物は、媒質を含有する。
媒質としては、結合剤（「バインダー」又は「結着樹脂」ともいう。）、及び／又は、有機溶媒であることが好ましい。

結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール樹脂などから単独あるいは複数の樹脂を混合して用いることができる。
また、結合剤としては、後述する磁気記録媒体用結合剤を好ましく例示できる。

有機溶媒としては、公知のものが使用できる。
例えば、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン（２−ブタノン）、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾールなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロロヒドリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン、テトラヒドロフラン等を使用することができる。中でも、有機溶媒としては、ケトン類が好ましく例示できる。
これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなくてもよく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、１０％以下がより好ましい。
また、有機溶媒は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよく、２種以上を併用することが好ましい。

本発明の組成物中における媒質の含有量は、無機粉末１００重量部に対し、５〜２，０００重量部であることが好ましく、１０〜１，０００重量部であることがより好ましい。
また、本発明の組成物において、媒質として結合剤及び有機溶媒を用いた場合、その組成物は、有機溶媒を除去した後においても、残留する媒質である結合剤への無機粉体の分散性に優れる。
また、媒質として結合剤を少なくとも用いる場合、本発明の組成物中における結合剤の含有量は、無機粉末１００重量部に対し、５〜１００重量部であることが好ましく、１０〜４０重量部であることがより好ましい。

本発明の組成物は、媒質への無機粉体の分散性を大きく損なわない限り、公知の添加剤を含有していてもよいが、本発明の組成物は、１−ナフトエ酸、無機粉体、及び、媒質のみからなる組成物であることが好ましい。
前記添加剤は、１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。

本発明の組成物の製造方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。例えば、後述する磁気記録媒体の製造に用いる磁性層塗布液や非磁性層塗布液の製造方法を好ましく適用することができる。

（磁気記録媒体）
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と、前記非磁性支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の磁性層とを有し、前記磁性層のうちの少なくとも１層が、１−ナフトエ酸をさらに含有することを特徴とする。
また、磁気記録媒体が磁性層及び非磁性層を有する場合、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と、前記非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の非磁性層と、前記非磁性層の上に強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の磁性層とを有し、前記磁性層及び前記非磁性層のうちの少なくとも１層が、１−ナフトエ酸をさらに含有することを特徴とする。
また、本発明の磁気記録媒体は、後述する本発明の磁気記録媒体の製造方法により製造されたものであることが好ましい。

１−ナフトエ酸を含有する磁性層及び／又は非磁性層における１−ナフトエ酸の含有量は、強磁性粉末又は非磁性粉末の含有量１００重量部に対し、０．５〜２０重量部であることが好ましく、１．０〜１０．０重量部であることがより好ましい。上記範囲であると、強磁性粉末又は非磁性粉末の分散性に優れ、磁気記録媒体の平滑性に優れる。

＜磁性層＞
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、強磁性粉末を結合剤中に分散させた磁性層を少なくとも１層有する。なお、「非磁性支持体上」とは、非磁性支持体上部に設けられていればよく、必ずしも非磁性支持体と接している必要はない。
前記磁性層は、１−ナフトエ酸を含有していることが好ましい。

１．強磁性粉末
本発明の磁気記録媒体には、強磁性粉末として、長軸長が２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の針状強磁性体、板径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の平板状磁性体、又は直径１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の球状又は楕円状磁性体を使用することが好ましい。
以下、それぞれについて説明する。

（１）針状強磁性体
本発明の磁気記録媒体に使用される強磁性粉末としては、針状強磁性体を使用することが好ましい。
針状強磁性体としては、針状であるコバルト含有強磁性酸化鉄又は強磁性合金粉末等の強磁性金属粉末が例示でき、ＢＥＴ比表面積（Ｓ_BET）が、４０ｍ²／ｇ以上８０ｍ²／ｇ以下であることが好ましく、５０ｍ²／ｇ以上７０ｍ²／ｇ以下であることがより好ましい。結晶子サイズは、８ｎｍ以上２５ｎｍ以下であることが好ましく、９ｎｍ以上２２ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが特に好ましい。長軸長は、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上４５ｎｍ以下であることがより好ましい。

強磁性粉末としては、イットリウムを含むＦｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅが挙げられる。強磁性粉末中のイットリウム含有量は、鉄原子に対してイットリウム原子の比、Ｙ／Ｆｅは、０．５原子％以上２０原子％以下であることが好ましく、５原子％以上１０原子％以下であることがより好ましい。０．５原子％以上であると、強磁性粉末が高σＳ化することができ、良好な磁気特性が得られ、電磁変換特性が良好である。２０原子％以下であると鉄の含有量が適切であり、良好な磁気特性が得られ、電磁変換特性が良好である。
さらに、鉄１００原子％に対して２０原子％以下の範囲内で、アルミニウム、ケイ素、硫黄、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、銅、亜鉛、モリブデン、ロジウム、パラジウム、錫、アンチモン、ホウ素、バリウム、タンタル、タングステン、レニウム、金、鉛、リン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、テルル、ビスマス等を含むことができる。また、強磁性金属粉末が少量の水、水酸化物又は酸化物を含むものなどであってもよい。

本発明に用いることができるコバルト、イットリウムを導入した強磁性粉末の製造方法の一例を示す。
第一鉄塩とアルカリを混合した水性懸濁液に、酸化性気体を吹き込むことによって得られるオキシ水酸化鉄を出発原料とする例を挙げることができる。
このオキシ水酸化鉄の種類としては、α−ＦｅＯＯＨが好ましい。その製法としては、第一鉄塩を水酸化アルカリで中和してＦｅ（ＯＨ）₂の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性ガスを吹き込んで針状のα−ＦｅＯＯＨとする第一の製法がある。一方、第一鉄塩を炭酸アルカリで中和してＦｅＣＯ₃の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性気体を吹き込んで紡錘状のα−ＦｅＯＯＨとする第二の製法がある。このようなオキシ水酸化鉄は第一鉄塩水溶液とアルカリ水溶液とを反応させて水酸化第一鉄を含有する水溶液を得て、これを空気酸化等により酸化して得られたものであることが好ましい。この際、第一鉄塩水溶液にＮｉ塩や、Ｃａ塩、Ｂａ塩、Ｓｒ塩等のアルカリ土類元素の塩、Ｃｒ塩、Ｚｎ塩などを共存させてもよく、このような塩を適宜選択して用いることによって粒子形状（軸比）などを調整することができる。

第一鉄塩としては、塩化第一鉄、硫酸第一鉄等が好ましい。またアルカリとしては水酸化ナトリウム、アンモニア水、炭酸アンモニウム、炭酸ナトリウム等が好ましい。また、共存させることができる塩としては、塩化ニッケル、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化ストロンチウム、塩化クロム、塩化亜鉛等の塩化物が好ましい。

次いで、鉄にコバルトを導入する場合は、イットリウムを導入する前に、硫酸コバルト、塩化コバルト等のコバルト化合物の水溶液を前記のオキシ水酸化鉄のスラリーに撹拌混合する。コバルトを含有するオキシ水酸化鉄のスラリーを調製した後、このスラリーにイットリウムの化合物を含有する水溶液を添加し、撹拌混合することによって導入することができる。

本発明において、強磁性粉末には、イットリウム以外にもネオジム、サマリウム、プラセオジウム、ランタン、ガドリニウム等を導入することができる。これらは、塩化イットリウム、塩化ネオジム、塩化サマリウム、塩化プラセオジウム、塩化ランタン等の塩化物、硝酸ネオジム、硝酸ガドリニウム等の硝酸塩などを用いて導入することができ、これらは、二種以上を併用してもよい。

強磁性金属粉末の抗磁力（Ｈｃ）は、１５９．２ｋＡ／ｍ以上２３８．８ｋＡ／ｍ以下（２，０００Ｏｅ以上３，０００Ｏｅ以下）であることが好ましく、１６７．２ｋＡ／ｍ以上２３０．８ｋＡ／ｍ以下（２，１００Ｏｅ以上２，９００Ｏｅ以下）であることがより好ましい。
また、飽和磁束密度は、１５０ｍＴ以上３００ｍＴ以下（１，５００Ｇ以上３，０００Ｇ以下）であることが好ましく、１６０ｍＴ以上２９０ｍＴ以下（１，６００Ｇ以上２，９００Ｇ以下）であることがより好ましい。
また、飽和磁化（σｓ）は、１００Ａ・ｍ²／ｋｇ以上１７０Ａ・ｍ²／ｋｇ以下（１００ｅｍｕ／ｇ以上１７０ｅｍｕ／ｇ以下）であることが好ましく、１１０Ａ・ｍ²／ｋｇ以上１６０Ａ・ｍ²／ｋｇ以下（１１０ｅｍｕ／ｇ以上１６０ｅｍｕ／ｇ以下）であることがより好ましい。

磁性体自体のＳＦＤ（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ ｆｉｅｌｄ ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）は小さい方が好ましく、０．８以下であることがより好ましい。ＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また磁化反転がシャープでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃ分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲータイトの粒度分布を良くする、単分散α−Ｆｅ₂Ｏ₃を使用する、粒子間の焼結を防止するなどの方法がある。

（２）平板状磁性体
本発明で用いることのできる平板状磁性体としては、六方晶フェライト粉末が好ましい。
六方晶フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、さらに一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｚｎなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。

粒子サイズは、六角板径で１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましい。磁気抵抗ヘッドで再生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は４０ｎｍ以下であることが好ましい。板径が上記範囲であると、熱揺らぎがなく安定な磁化が望める。また、ノイズも低くなるため高密度磁気記録に適する。
板状比（板径／板厚）は１以上１５以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。上記範囲であると配向性が十分であり、粒子間のスタッキングが起こりにくくノイズが小さくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積は１０ｍ²／ｇ以上２００ｍ²／ｇ以下を示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。結晶子サイズは５０Å以上４５０Å以下であることが好ましく、１００Å以上３５０Å以下であることがより好ましい。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１以上２．０以下であることが好ましい。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。

磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは、３９．８ｋＡ／ｍ以上３９８ｋＡ／ｍ以下（５００Ｏｅ以上５，０００Ｏｅ以下）程度まで作製できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限されるが、６３．７ｋＡ／ｍ以上３１８．４ｋＡ／ｍ以下（８００Ｏｅ以上４，０００Ｏｅ以下）であることが好ましく、１１９．４ｋＡ／ｍ（１，５００Ｏｅ）以上２７８．６ｋＡ／ｍ（３，５００Ｏｅ）以下であることがより好ましい。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越える場合は、１５９．２ｋＡ／ｍ（２，０００Ｏｅ）以上にすることが好ましい。
Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σｓは、４０Ａ・ｍ²／ｋｇ以上８０Ａ・ｍ²／ｋｇ以下（４０ｅｍｕ／ｇ以上８０ｅｍｕ／ｇ以下）であることが好ましい。σｓは高い方が好ましいが、微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のため、マグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等がよく知られている。また、Ｗ型六方晶フェライトを用いることも可能である。

磁性体（磁性粉末）を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物又は水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は、磁性体に対して０．１％以上１０％以下であることが好ましい。磁性体のｐＨも分散に重要である。ｐＨは、４以上１２以下であることが好ましく、分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６以上１０以下であることがより好ましい。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが、好ましくは０．０１％以上２．０％以下が選ばれる。

六方晶フェライトの製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法。（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法。（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１，１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。

（３）球状又は楕円状磁性体
球状又は楕円状磁性体としては、Ｆｅ₁₆Ｎ₂を主相とする窒化鉄系の強磁性粉末が好ましい。Ｆｅ、Ｎ原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。Ｆｅに対するＮの含有量は１．０原子％以上２０．０原子％以下が好ましい。
窒化鉄は、球状又は楕円状が好ましく、長軸径／短軸径の軸比は１以上２以下が好ましい。
ＢＥＴ比表面積（Ｓ_BET）は、３０ｍ²／ｇ以上１００ｍ²／ｇ以下であることが好ましく、５０ｍ²／ｇ以上７０ｍ²／ｇ以下であることがより好ましい。
結晶子サイズは１２ｎｍ以上２５ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１３ｎｍ以上２２ｎｍ以下である。
飽和磁化σｓは、５０Ａ・ｍ²／ｋｇ（５０ｅｍｕ／ｇ）以上２００Ａ・ｍ²／ｋｇ（２００ｅｍｕ／ｇ）以下であることが好ましく、７０Ａ・ｍ²／ｋｇ（７０ｅｍｕ／ｇ）以上１５０Ａ・ｍ²／ｋｇ（１５０ｅｍｕ／ｇ）以下であることがより好ましい。

２．結合剤
磁性層に用いる結合剤としてはポリウレタン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール樹脂などから単独あるいは複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいのは、ポリウレタン樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、塩化ビニル系樹脂である。

結合剤には強磁性粉末、非磁性粉体の分散性を向上させるためこれらの粉体表面に吸着する官能基（極性基）を持つことが好ましい。好ましい官能基としては、−ＳＯ₃Ｍ、−ＳＯ₄Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）₂、−ＯＰＯ（ＯＭ）₂、−ＣＯＯＭ、＞ＮＳＯ₃Ｍ、＞ＮＲＳＯ₃Ｍ、−ＮＲ¹Ｒ²、−Ｎ⁺Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｘ^-などがある。ここでＭは水素又はＮａ、Ｋ等のアルカリ金属、Ｒはアルキレン基、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はアルキル基又はヒドロキシアルキル基又は水素、ＸはＣｌ、Ｂｒ等のハロゲンである。
結合剤中の官能基の量は、１０μｅｑ／ｇ以上２００μｅｑ／ｇ以下が好ましく、３０μｅｑ／ｇ以上１２０μｅｑ／ｇ以下がより好ましい。上記範囲であると、良好な分散性が得られる。

結合剤には吸着官能基のほかにイソシアネート硬化剤と反応して架橋構造を形成し塗膜強度を向上させるために−ＯＨ基などの活性水素を持つ官能基を付与することが好ましい。好ましい量は０．１ｍｅｑ／ｇ以上２ｍｅｑ／ｇ以下である。
結合剤の分子量は、重量平均分子量で１０，０００以上２００，０００以下であることが好ましく、２０，０００以上１００，０００以下であることがより好ましい。上記範囲であると、塗膜強度が十分であり、耐久性が良好であり、また分散性が向上する。

好ましい結合剤であるポリウレタン樹脂は、例えば、「ポリウレタン樹脂ハンドブック」（岩田敬治編、１９８６年、日刊工業新聞社）に詳しく記載されているが、通常、長鎖ジオール、短鎖ジオール（鎖延長剤と呼ばれることもある。）とジイソシアネート化合物との付加重合によって得られる。長鎖ジオールは、分子量５００以上５，０００以下のポリエステルジオール、ポリエーテルジオール、ポリエーテルエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリオレフィンジオールなどが好適に用いられる。この長鎖ポリオールの種類によりポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン、ポリエーテルエステルウレタン、ポリカーボネートウレタンなどと呼ばれる。

ポリエステルジオールとしては、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、などの脂肪族二塩基酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族二塩基酸とグリコールとの縮重合によって得られる。
グリコールとしては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノールＡなどが例示できる。また、ポリエステルジオールにはこのほかに、ε−カプロラクトン、γ−バレロラクトンなどのラクトンを開環重合したポリカプロラクトンジオール、ポリバレロラクトンジオールなども用いることができる。
ポリエステルジオールは、耐加水分解性の観点で分岐側鎖をもつもの、芳香族、脂環族の原料から得られるものが好ましい。

ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールや、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＰ、水素化ビスフェノールＡなどの芳香族グリコールや、脂環族ジオールにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどのアルキレンオキサイドを付加重合したものなどがある。
これらの長鎖ジオールは複数の種類のものを併用、混合して用いることもできる。

短鎖ジオールとしては、上記ポリエステルジオールの縮重合に使用するグリコールとして例示したものと同じ化合物群の中から選ぶことができる。また、３官能以上の多価アルコール、例えば、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどを少量併用すると分岐構造のポリウレタン樹脂が得られ溶液粘度を低下させたり、ポリウレタンの末端のＯＨ基を増やすことでイソシアネート系硬化剤との硬化性を高めることができる。

ジイソシアネート化合物としては、ＭＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）、２，４−ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）、２，６−ＴＤＩ、１，５−ＮＤＩ（ナフタレンジイソシアネート）、ＴＯＤＩ（トリジンジイソシアネート）、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ＸＤＩ（キシリレンジイソシアネート）などの芳香族ジイソシアネート、トランスシクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、ＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）、ＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）、Ｈ₆ＸＤＩ（水素添加キシリレンジイソシアネート）、Ｈ₁₂ＭＤＩ（水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート）などの脂肪族、脂環族ジイソシアネートなどが用いられる。

ポリウレタン樹脂中の長鎖ジオール／短鎖ジオール／ジイソシアネートの好ましい組成は、長鎖ジオール／短鎖ジオール／ジイソシアネート＝（８０〜１５重量％）／（５〜４０重量％）／（１５〜５０重量％）である。
ポリウレタン樹脂のウレタン基濃度は、１ｍｅｑ／ｇ以上５ｍｅｑ／ｇ以下が好ましく、１．５ｍｅｑ／ｇ以上４．５ｍｅｑ／ｇ以下がより好ましい。ウレタン基濃度が上記範囲内であると、高い力学的強度が得られると共に、溶液粘度が良好であり、良好な分散性が得られる。
ポリウレタン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、０℃以上２００℃以下であることが好ましく、４０℃以上１６０℃以下であることがより好ましい。ガラス転移温度が上記範囲内であると、高い耐久性が得られると共に、良好なカレンダー成形性が得られ、良好な電磁変換特性が得られる。

ポリウレタン樹脂に前述した吸着官能基（極性基）を導入する方法としては官能基を長鎖ジオールのモノマーの一部に用いる方法、短鎖ジオールの一部に用いる方法やポリウレタンを重合した後、高分子反応で極性基を導入する方法などがある。

塩化ビニル系樹脂としては、塩化ビニルモノマーに種々のモノマーと共重合したものが用いられる。
共重合モノマーとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどの脂肪酸ビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどのアクリレート、メタクリレート類、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル、アリルブチルエーテルなどのアルキルアリルエーテル類、その他スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、エチレン、ブタジエン、アクリルアミド、更に官能基をもつ共重合モノマーとしてビニルアルコール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、２−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、３−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、ｐ−ビニルフェノール、マレイン酸、無水マレイン酸、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、ホスホエチル（メタ）アクリレート、スルホエチル（メタ）アクリレート、ｐ−スチレンスルホン酸、及び、これらのＮａ塩、Ｋ塩などが用いられる。
塩化ビニル系樹脂中の塩化ビニルモノマーの組成は、６０重量％以上９５重量％以下であることが好ましい。上記範囲内にあると、良好な力学強度が得られると共に、溶媒への溶解性が良好で、好適な溶液粘度のために良好な分散性が得られる。

吸着官能基（極性基）、ポリイソシアネート系硬化剤との硬化性を高めるための官能基の好ましい量は前述したとおりである。これらの官能基の導入方法は上記の官能基含有モノマーを共重合してもよいし、塩化ビニル系樹脂を共重合した後、高分子反応で官能基を導入してもよい。
好ましい重合度は２００以上６００以下であり、より好ましくは２４０以上４５０以下である。この範囲内にあると、良好な力学強度が得られると共に、好適な溶液粘度のために良好な分散性が得られる。

本発明に用いることができる結合剤を架橋、硬化させ塗膜の力学強度や耐熱性高めるために硬化剤を用いることができる。
硬化剤としては、ポリイソシアネート化合物が好ましい。
また、ポリイソシアネート化合物は、３官能以上のポリイソシアネートが好ましい。
具体的には、トリメチロールプロパン（ＴＭＰ）にＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＸＤＩ（キシリレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、などアダクト型ポリイソシアネート化合物。ＴＤＩの縮合イソシアヌレート型３量体、ＴＤＩの縮合イソシアヌレート５量体、ＴＤＩの縮合イソシアヌレート７量体、及び、これらの混合物。ＨＤＩのイソシアヌレート型縮合物、ＩＰＤＩのイソシアヌレート型縮合物。さらに、クルードＭＤＩなどが例示できる。
これらの中で好ましいのは、ＴＭＰにＴＤＩを３モル付加した化合物、ＴＤＩのイソシアヌレート型３量体などである。

イソシアネート系硬化剤以外に、電子線あるいは紫外線などの放射線硬化性の硬化剤を用いてもよい。この場合放射線硬化性官能基としてアクリロイル基又はメタクリロイル基を分子内に好ましくは２個以上、より好ましくは３個以上有する硬化剤を用いることができる。例えば、ＴＭＰ（トリメチロールプロパン）のトリアクリレート、ペンタエリスリトールのテトラアクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマーなどがある。この場合、硬化剤のほかに結合剤にも（メタ）アクリロイル基を導入するのが好ましい。紫外線硬化の場合はこのほかに光増感剤が併用される。
硬化剤は、結合剤１００重量部に対して、０重量部以上８０重量部以下添加するのが好ましい。上記範囲内にあると分散性が良好である。

結合剤の添加量は、磁性層の場合は強磁性粉末１００重量部に対して、５重量部以上３０重量部以下が好ましく、１０重量部以上２０重量部以下がより好ましい。

磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。
添加剤としては、研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶媒、カーボンブラックなどを挙げることができる。
これら添加剤としては、例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基を持つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸基、フェネチルホスホン酸、α−メチルベンジルホスホン酸、１−メチル−１−フェネチルホスホン酸、ジフェニルメチルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、ベンジルフェニルホスホン酸、α−クミルホスホン酸、トルイルホスホン酸、キシリルホスホン酸、エチルフェニルホスホン酸、クメニルホスホン酸、プロピルフェニルホスホン酸、ブチルフェニルホスホン酸、ヘプチルフェニルホスホン酸、オクチルフェニルホスホン酸、ノニルフェニルホスホン酸等の芳香族環含有有機ホスホン酸及びそのアルカリ金属塩、オクチルホスホン酸、２−エチルヘキシルホスホン酸、イソオクチルホスホン酸、イソノニルホスホン酸、イソデシルホスホン酸、イソウンデシルホスホン酸、イソドデシルホスホン酸、イソヘキサデシルホスホン酸、イソオクタデシルホスホン酸、イソエイコシルホスホン酸等のアルキルホスホン酸及びそのアルカリ金属塩、リン酸フェニル、リン酸ベンジル、リン酸フェネチル、リン酸α−メチルベンジル、リン酸１−メチル−１−フェネチル、リン酸ジフェニルメチル、リン酸ビフェニル、リン酸ベンジルフェニル、リン酸α−クミル、リン酸トルイル、リン酸キシリル、リン酸エチルフェニル、リン酸クメニル、リン酸プロピルフェニル、リン酸ブチルフェニル、リン酸ヘプチルフェニル、リン酸オクチルフェニル、リン酸ノニルフェニル等の芳香族リン酸エステル及びそのアルカリ金属塩、リン酸オクチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸イソオクチル、リン酸イソノニル、リン酸イソデシル、リン酸イソウンデシル、リン酸イソドデシル、リン酸イソヘキサデシル、リン酸イソオクタデシル、リン酸イソエイコシル等のリン酸アルキルエステル及びそのアルカリ金属塩、アルキルスルホン酸エステル及びそのアルカリ金属塩、フッ素含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、エルカ酸等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸及びこれらの金属塩、又はステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ラウリル酸ブチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート等の炭素数１０〜２４以下の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸と炭素数２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい１〜６価アルコール、炭素数１２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよいアルコキシアルコール又はアルキレンオキサイド重合物のモノアルキルエーテルのいずれか一つとからなるモノ脂肪酸エステル、ジ脂肪酸エステル又は多価脂肪酸エステル、炭素数２〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。また、上記炭化水素基以外にもニトロ基及びＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＦ₃、ＣＣｌ₃、ＣＢｒ₃等の含ハロゲン炭化水素等炭化水素基以外の基が置換したアルキル基、アリール基、アラルキル基を持つものでもよい。

また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。

上記分散剤、潤滑剤等は必ずしも純粋ではなく主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれても構わない。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、より好ましくは１０重量％以下である。
これらの添加物の具体例としては、例えば、日本油脂（株）製：ＮＡＡ−１０２、ヒマシ油硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、カチオンＳＡ、ナイミーンＬ−２０１、ノニオンＥ−２０８、アノンＢＦ、アノンＬＧ、竹本油脂（株）製：ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化（株）製：エヌジェルブＯＬ、信越化学工業（株）製：ＴＡ−３、ライオンアーマー（株）製：アーマイドＰ、ライオン（株）製：デュオミンＴＤＯ、日清製油（株）製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成工業（株）製：プロファン２０１２Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００等が挙げられる。

磁性層で用いられる有機溶媒は、公知のものが使用できる。
有機溶媒は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾールなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロロヒドリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン、テトラヒドロフラン等を任意の比率で使用することができる。

これら有機溶媒は、必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、１０％以下がより好ましい。
使用する有機溶媒は、磁性層と非磁性層とでその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性を上げる、具体的には上層溶媒組成の算術平均値が非磁性層溶媒組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶媒組成の内、誘電率が１５以上の溶媒が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは、８以上１１以下であることが好ましい。

磁性層で用いられるこれらの分散剤、潤滑剤、界面活性剤は、磁性層及び後述する非磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。
例えば、無論ここに示した例のみに限られるものではないが、分散剤は極性基で吸着もしくは結合する性質を有しており、磁性層においては主に強磁性粉末の表面に、また後述する非磁性層においては主に非磁性粉末の表面に前記の極性基で吸着もしくは結合し、一度吸着した分散剤は金属あるいは金属化合物等の表面から脱着しがたいと推察される。したがって、本発明の強磁性粉末表面あるいは後述する非磁性粉末表面は、アルキル基、芳香族基等で被覆されたような状態になるので、強磁性粉末あるいは非磁性粉末の結合剤樹脂成分に対する親和性が向上し、さらに強磁性粉末あるいは非磁性粉末の分散安定性も改善される。また、潤滑剤としては遊離の状態で存在するため非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなどが考えられる。また本発明で用いられる添加剤のすべて又はその一部は、磁性層あるいは非磁性層用塗布液の製造時のいずれの工程で添加してもよい。例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶媒による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。

また、本発明における磁性層には、必要に応じてカーボンブラックを添加することができる。

カーボンブラックは、１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。カーボンブラックを使用する場合、強磁性粉末の重量に対して、０．１重量％以上３０重量％以下で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。したがって、本発明で使用されるこれらのカーボンブラックは、磁性層でその種類、量、組み合わせを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を基に目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。

カーボンブラックの種類は、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。磁性層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
カーボンブラックの比表面積は、１００ｍ²／ｇ以上５００ｍ²／ｇ以下であることが好ましく、１５０ｍ²／ｇ以上４００ｍ²／ｇ以下であることがより好ましい。
ジブチルフタレート（ＤＢＰ）を用いた吸油量は、２０ｍｌ／１００ｇ以上４００ｍｌ／１００ｇ以下であることが好ましく、３０ｍｌ／１００ｇ以上２００ｍｌ／１００ｇ以下であることがより好ましい。
カーボンブラックの粒子径は、５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
カーボンブラックのｐＨは、２以上１０以下であることが好ましく、含水率は０．１％以上１０％以下であることが好ましく、タップ密度は０．１ｇ／ｍｌ以上１ｇ／ｍｌ以下であることが好ましい。

本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製 ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製 ＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コンロンビアカーボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。
カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもよい。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ放射線硬化性化合物に分散してもよい。
これらのカーボンブラックは、１種単独、又は、２種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明に用いることができるカーボンブラックは、例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。

＜非磁性層＞
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に結合剤及び非磁性粉末を含む非磁性層を１層以上有していてもよい。
前記非磁性層には、１−ナフトエ酸を含有していることが好ましい。
非磁性層に使用できる非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、非磁性層には非磁性粉末と共に、必要に応じてカーボンブラックを混合してもよい。
次に非磁性層に関する詳細な内容について説明する。

１．非磁性粉末
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に結合剤及び非磁性粉末を含む非磁性層（下層）を有していてもよい。
非磁性層には、下層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末を使用してもよいが、非磁性粉末を用いることが好ましい。
非磁性層に使用できる非磁性粉末は、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、カーボンブラックなどが挙げられる。

具体的には、二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、ＢａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどが１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用される。好ましいのは、α−酸化鉄、酸化チタンである。

非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれでもあってもよい。
非磁性粉末の結晶子サイズは、４ｎｍ以上１μｍ以下が好ましく、４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下がより好ましい。結晶子サイズが４ｎｍ以上１μｍ以下の範囲であれば、分散が困難になることもなく、また、好適な表面粗さを有するため好ましい。
これら非磁性粉末の平均粒径は、５ｎｍ以上２μｍ以下が好ましいが、必要に応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒径は、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。平均粒径が５ｎｍ以上２μｍ以下の範囲であれば、分散も良好で、かつ好適な表面粗さを有するため好ましい。

非磁性粉末の比表面積は、１ｍ²／ｇ以上１００ｍ²／ｇ以下であることが好ましく、５ｍ²／ｇ以上７０ｍ²／ｇ以下であることがより好ましく、１０ｍ²／ｇ以上６５ｍ²／ｇ以下であることがさらに好ましい。比表面積が１ｍ²／ｇ以上１００ｍ²／ｇ以下の範囲内にあれば、好適な表面粗さを有し、かつ、所望の結合剤量で分散できる。
ジブチルフタレート（ＤＢＰ）を用いた吸油量は、５ｍｌ／１００ｇ以上１００ｍｌ／１００ｇ以下であることが好ましく、１０ｍｌ／１００ｇ以上８０ｍｌ／１００ｇ以下であることがより好ましく、２０〜６０ｍｌ／１００ｇであることがさらに好ましい。
比重は、１以上１２以下であることが好ましく、３以上６以下であることがより好ましい。
タップ密度は、０．０５ｇ／ｍｌ以上２ｇ／ｍｌ以下であることが好ましく、０．２ｇ／ｍｌ以上１．５ｇ／ｍｌ以下であることがより好ましい。タップ密度が上記範囲であれば、飛散する粒子が少なく操作が容易であり、また装置にも固着しにくくなる傾向がある。

非磁性粉末のｐＨは、２以上１１以下であることが好ましく、ｐＨは６以上９以下が特に好ましい。ｐＨが上記範囲であれば、高温、高湿下又は脂肪酸の遊離による摩擦係数の増加を抑制できる。
非磁性粉末の含水率は、０．１重量％以上５重量％以下であることが好ましく、０．２重量％以上３重量％以下であることがより好ましく、０．３重量％以上１．５重量％以下であることがさらに好ましい。含水量が上記範囲であると、分散も良好で、分散後の塗料粘度も安定する。
強熱減量は小さいものが好ましく、強熱減量が２０重量％以下であることがより好ましい。

また、非磁性粉末が無機粉末である場合には、モース硬度は４以上１０以下のものが好ましい。モース硬度が４以上１０以下の範囲であれば耐久性を確保することができる。
非磁性粉末のステアリン酸吸着量は、１μｍｏｌ／ｍ²以上２０μｍｏｌ／ｍ²以下であることが好ましく、２μｍｏｌ／ｍ²以上１５μｍｏｌ／ｍ²以下であることがより好ましい。
非磁性粉末の２５℃での水への湿潤熱は、２０μＪ／ｃｍ²以上６０μＪ／ｃｍ²以下（２００ｅｒｇ／ｃｍ²以上６００ｅｒｇ／ｃｍ²以下）の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することが好ましい。
１００℃以上４００℃以下での表面の水分子の量は、１個／１００Å以上１０個／１００Å以下であることが好ましい。
水中での等電点のｐＨは、３以上９以下であることが好ましい。

これらの非磁性粉末の表面は、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯで表面処理することが好ましい。分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂であるが、より好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、まずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、又はその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。

非磁性層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、例えば、昭和電工（株）製ナノタイト、住友化学（株）製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業（株）製ＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＢ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ、石原産業（株）製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、ＭＪ−７、α−酸化鉄Ｅ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、チタン工業（株）製ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ（株）製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、Ｔ−６００Ｂ、Ｔ−１００Ｆ、Ｔ−５００ＨＤ、堺化学工業（株）製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業（株）製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル（株）製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ₂Ｐ２５、宇部興産（株）製１００Ａ、５００Ａ、チタン工業（株）製Ｙ−ＬＯＰ、及び、これらを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は、二酸化チタン及びα−酸化鉄である。

非磁性層には非磁性粉末と共に、カーボンブラックを混合し表面電気抵抗を下げ、光透過率を小さくすると共に、所望のμビッカース硬度を得ることができる。
非磁性層のμビッカース硬度は、２５ｋｇ／ｍｍ²以上６０ｋｇ／ｍｍ²以下であることが好ましく、より好ましくはヘッド当りを調整する点から、３０ｋｇ／ｍｍ²以上５０ｋｇ／ｍｍ²以下であることがより好ましい。
μビッカース硬度は、薄膜硬度計（日本電気（株）製ＨＭＡ−４００）を用いて、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて測定することができる。
光透過率は、一般に波長９００ｎｍ程度の赤外線の吸収が３％以下、例えば、ＶＨＳ用磁気テープでは０．８％以下であることが規格化されている。このためにはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。

非磁性層に用いられるカーボンブラックの比表面積は、１００ｍ²／ｇ以上５００ｍ²／ｇ以下であることが好ましく、１５０ｍ²／ｇ以上４００ｍ²／ｇ以下であることがより好ましい。
ジブチルフタレート（ＤＢＰ）を用いた吸油量は、２０ｍｌ／１００ｇ以上４００ｍｌ／１００ｇ以下であることが好ましく、３０ｍｌ／１００ｇ以上２００ｍｌ／１００ｇ以下であることがより好ましい。
カーボンブラックの粒子径は、５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
カーボンブラックのｐＨは２以上１０以下であることが好ましく、含水率は０．１％以上１０％以下であることが好ましく、タップ密度は０．１ｇ／ｍｌ以上１ｇ／ｍｌ以下であることが好ましい。

非磁性層に用いることができるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化学（株）製＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、コロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。

また、カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもよい。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもよい。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用することが好ましい。これらのカーボンブラックは単独、又は、組み合わせて使用することができる。非磁性層で使用できるカーボンブラックは、例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。

また、非磁性層には目的に応じて有機質粉末を添加することもできる。
このような有機質粉末としては、例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は、特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記されているようなものが使用できる。

＜非磁性支持体＞
本発明に用いることのできる非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。
これらの支持体は、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。
また、本発明に用いることのできる非磁性支持体の表面粗さはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて中心平均粗さＲａが３〜１０ｎｍであることが好ましい。

＜放射線硬化層（平滑化層）＞
本発明の磁気記録媒体には、放射線硬化層（平滑化層）を設けてもよい。
放射線硬化層とは、非磁性支持体表面の突起を埋めるための層であり、非磁性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体の場合は非磁性支持体と磁性層の間、非磁性支持体上に非磁性層及び磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体の場合には非磁性支持体と非磁性層の間に設けられる。
放射線硬化層は、放射線硬化型化合物を放射線照射により硬化させて形成することができる。
放射線硬化型化合物とは、紫外線又は電子線などの放射線を照射すると重合又は架橋を開始し、高分子化して硬化する性質を有する化合物をいう。

＜バックコート層＞
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して繰り返し走行性が強く要求される。このような高い保存安定性を維持させるために、非磁性支持体の非磁性層及び磁性層が設けられた面とは反対の面にバックコート層を設けることもできる。
バックコート層用塗料は、研磨剤、帯電防止剤などの粒子成分と結合剤とを有機溶媒に分散させることで調製できる。粒子成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することができる。
また、結合剤としては、例えば、ニトロセルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独又はこれらを混合して使用することができる。

＜層構成＞
本発明の磁気記録媒体において、非磁性支持体の好ましい厚さは、３μｍ以上８０μｍ以下である。
また、放射線硬化層（平滑化層）の厚さは、０．１μｍ以上１．０μｍ以下が好ましく、０．３μｍ以上０．７μｍ以下がより好ましい。
また、非磁性支持体の非磁性層及び磁性層が設けられた面とは反対側の面に設けられたバックコート層の厚さは、０．１μｍ以上１．０μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以上０．８μｍ以下がより好ましい。

磁性層の厚さは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものであるが、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることが好ましく、０．０２μｍ以上０．１２μｍ以下であることがより好ましい。また、磁性層の厚さ変動率は±５０％以内が好ましく、±４０％以内がより好ましい。
磁性層は、少なくとも１層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
また、磁性層の上に設けられる突起付与層の厚さは、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがより好ましい。

非磁性層の厚さは、０．２μｍ以上３．０μｍ以下であることが好ましく、０．３μｍ以上２．５μｍ以下であることがより好ましく、０．４μｍ以上２．０μｍ以下であることがさらに好ましい。なお、本発明の磁気記録媒体における非磁性層は、実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば不純物として、あるいは意図的に少量の磁性体を含んでいても、本発明の効果を示すものであり、本発明の磁気記録媒体と実質的に同一の構成とみなすことができる。なお、実質的に同一とは、非磁性層の残留磁束密度が１０ｍＴ（１００Ｇ）以下又は抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力を持たないことを意味する。

＜磁気記録媒体の物理特性＞
磁性層の飽和磁束密度は、１００ｍＴ以上３００ｍＴ以下（１，０００Ｇ以上３，０００Ｇ以下）であることが好ましい。
また、磁性層の抗磁力（Ｈｒ）は、１４３．３ｋＡ／ｍ以上３１８．４ｋＡ／ｍ以下（１，８００〜４，０００Ｏｅ）であることが好ましく、５９．２ｋＡ／ｍ以上２７８．６ｋＡ／ｍ以下（２，０００Ｏｅ以上３，５００Ｏｅ以下）であることがより好ましい。
抗磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤ及びＳＦＤｒは、０．６以下であることが好ましく、０．２以下であることがより好ましい。

磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は、温度−１０℃以上４０℃以下、湿度０％以上９５％以下の範囲において、０．５以下であることが好ましく、０．３以下であることがより好ましい。また、帯電位は、−５００Ｖ以上＋５００Ｖ以下が好ましい。
磁性層の０．５％伸びでの弾性率は、面内各方向で、０．９８ＧＰａ以上１９．６ＧＰａ以下（１００ｋｇ／ｍｍ²以上２，０００ｋｇ／ｍｍ²以下）であることが好ましく、破断強度は、９８ＭＰａ以上６８６ＭＰａ以下（１０ｋｇ／ｍｍ²以上７０ｋｇ／ｍｍ²以下）であることが好ましい。
磁気記録媒体の弾性率は、面内各方向で、０．９８ＧＰａ以上１４．７ＧＰａ以下（１００ｋｇ／ｍｍ²以上１，５００ｋｇ／ｍｍ²以下）であることが好ましく、残留のびは、０．５％以下であることが好ましく、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は、１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、０．１％以下であることがさらに好ましい。

磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１８０℃以下が好ましく、非磁性層のガラス転移温度は０℃以上１８０℃以下が好ましい。損失弾性率は１×１０⁷以上８×１０⁸Ｐａ以下（１×１０⁸ｄｙｎｅ／ｃｍ²以上８×１０⁹ｄｙｎｅ／ｃｍ²以下）の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が０．２以下であると粘着故障が発生し難いので好ましい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向において１０％以内でほぼ等しいことが好ましい。
磁性層中に含まれる残留溶媒は、１００ｍｇ／ｍ²以下であることが好ましく、１０ｍｇ／ｍ²以下であることがより好ましい。
塗布層が有する空隙率は、非磁性層、磁性層とも、３０容量％以下であることが好ましく、２０容量％以下であることがより好ましい。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方がよい場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が保存安定性は好ましいことが多い。

デジタルオプチカルプロフィメーター（ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄ）を用いて測定した磁性層の中心面表面粗さＲａは、４．０ｎｍ以下であることが好ましく、３．０ｎｍ以下であることがより好ましく、２．０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。磁性層の最大高さＳＲ_maxは、０．５μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＳＲｐは０．３μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒは２０％以上８０％以下、平均波長Ｓλａは５μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。磁性層の表面突起は０．０１μｍ以上１μｍ以下の大きさのものを１００μｍ²当たり０個以上２，０００個以下の範囲で任意に設定することが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロールや磁性層に添加する粉末の粒径と量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。

本発明の磁気記録媒体における非磁性層と磁性層と間では、目的に応じ、非磁性層と磁性層とでこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし保存安定性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りをよくするなどである。
本発明の磁気記録媒体は、磁気記録媒体に磁気記録された信号を再生するヘッドについては特に制限はないが、ＭＲヘッドのために用いることが好ましい。
本発明の磁気記録媒体の再生にＭＲヘッドを用いる場合、ＭＲヘッドには特に制限はなく、例えば、ＧＭＲヘッドやＴＭＲヘッドを用いることもできる。また、磁気記録に用いるヘッドは特に制限されないが、飽和磁化量は、１．０Ｔ以上であることが好ましく、１．５Ｔ以上であることがより好ましい。

（磁気記録媒体の製造方法）
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、１−ナフトエ酸、無機粉体、及び、結合剤を含有する組成物を調製する工程、及び、非磁性支持体上に前記組成物を塗布し強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を設ける工程を含むことを特徴とする。
また、磁気記録媒体が磁性層及び非磁性層を有する場合、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、１−ナフトエ酸、無機粉体、及び、結合剤を含有する組成物を調製する工程、非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層を設ける工程、及び、前記非磁性層上に強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を設ける工程を含み、前記非磁性層及び／又は前記磁性層を、前記組成物を塗布して設けることを特徴とする。

磁気記録媒体の磁性層塗布液を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、及びこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなることが好ましい。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもよい。
１−ナフトエ酸、強磁性六方晶フェライト粉末又は強磁性金属粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨材、帯電防止剤、潤滑剤、溶媒などすべての原料は、どの工程の最初又は途中で添加してもよい。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもよい。例えば、ポリウレタン樹脂を混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。
混練工程では、オープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニーダを用いる場合は、強磁性粉末又は非磁性粉末と結合剤のすべて又はその一部（但し、全結合剤の３０％以上が好ましい）とを強磁性粉末１００重量部に対し結合剤１５〜５００重量部の範囲で混練処理されることが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、磁性層用液及び非磁性層用液を分散させるには、ガラスビーズを用いることができる。このようなガラスビーズは、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。

本発明の磁気記録媒体の製造方法は、例えば、走行下にある非磁性支持体の表面に磁性層用塗布液を所定の膜厚となるように塗布する。ここで複数の磁性層用塗布液を逐次あるいは同時に重層塗布してもよく、下層の磁性層用塗布液と上層の磁性層用塗布液とを逐次あるいは同時に重層塗布してもよい。上記磁性層用塗布液もしくは磁性層の下層に非磁性層を設ける場合には、非磁性層用塗布液を塗布する塗布機としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。これらについては例えば（株）総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にできる。

磁性層塗布液の塗布層は、磁気テープの場合、磁性層塗布液の塗布層中に含まれる強磁性粉末にコバルト磁石やソレノイドを用いて長手方向に磁場配向処理を施す。ディスクの場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。六方晶フェライトの場合は一般的に面内及び垂直方向の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダムとすることも可能である。また、異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向としてもよい。
乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できるようにすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ／分以上１，０００ｍ／分以下が好ましく、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともできる。

乾燥された後、塗布層に表面平滑化処理を施すことが好ましい。
表面平滑化処理には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用される。表面平滑化処理を行うことにより、乾燥時の溶媒の除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。
カレンダー処理ロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用することが好ましい。また、金属ロールで処理することもできる。
本発明の磁気記録媒体は、表面の中心面平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて、好ましくは０．１ｎｍ以上４．０ｎｍ以下、より好ましくは０．５ｎｍ以上３．０ｎｍ以下の範囲という極めて優れた平滑性を有する表面であることが好ましい。その方法として、例えば、上述したように特定の強磁性粉末と結合剤を選んで形成した磁性層を上記カレンダー処理を施すことが好ましい。
カレンダー処理条件としては、カレンダーロールの温度は、好ましくは６０℃以上１００℃以下の範囲、より好ましくは７０℃以上１００℃以下の範囲、特に好ましくは８０℃以上１００℃以下の範囲であり、圧力は、好ましくは１００ｋｇ／ｃｍ以上５００ｋｇ／ｃｍ以下の範囲、より好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ以上４５０ｋｇ／ｃｍ以下の範囲であり、特に好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ以上４００ｋｇ／ｃｍ以下の範囲の条件で作動させることによって行われる。

熱収縮率低減手段として、低テンションでハンドリングしながらウェッブ状で熱処理する方法と、バルク又はカセットに組み込んだ状態などテープが積層した形態で熱処理する方法（サーモ処理）があり、両者が利用できる。前者は、バックコート層表面の突起写りの影響が少ないが、熱収縮率を大きく下げることができない。一方、後者のサーモ処理は、熱収縮率を大幅に改善できるが、バックコート層表面の突起写りの影響を強く受けると、磁性層が面荒れし、出力低下及びノイズ増加を引き起こす。特に、サーモ処理を伴う磁気記録媒体で、高出力、低ノイズの磁気記録媒体を供給することができる。
得られた磁気記録媒体は、裁断機、打抜機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。

以下に本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。なお、ここに示す成分、割合、操作、順序等は本発明の精神から逸脱しない範囲で変更し得るものであり、下記の実施例に制限されるべきものではない。また、実施例中の「部」は、特に示さない限り重量部を示す。

〔強磁性粉末及び結合剤を使用した実施例・比較例〕
（実施例１）
下記強磁性六方晶バリウムフェライト粉末７．３部、スルホン酸基を含まないポリウレタン１．０部、１−ナフトエ酸０．５７部を、シクロヘキサノン１１．９部、２−ブタノン１７．７部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（（株）ニッカトー製）２７部を添加し、６時間分散させた。得られた液を塗布し、乾燥させることで磁気シートを作製した。
シートの光沢を測定したところ、光沢値１８４であった。なお、実施例及び比較例における光沢値は、スガ試験機株式会社製ＧＫ−４５Ｄを用いて測定した。
また、シート表面の平均粗さ（Ｒａ）をzygo社製表面粗さ測定器によって測定したところ、５．２ｎｍであった。
・強磁性六方晶バリウムフェライト粉末
酸素を除く組成（モル比）：Ｂａ／Ｆｅ／Ｃｏ／Ｚｎ＝１／９／０．２／１
Ｈｃ：１７６ｋＡ／ｍ（２，２００ Ｏｅ）
平均板径：２５ｎｍ
平均板状比：３
ＢＥＴ比表面積：６５ｍ²／ｇ
σｓ：４９Ａ・ｍ²／ｋｇ（４９ｅｍｕ／ｇ）
ｐＨ：７

（実施例２）
スルホン酸基を含まないポリウレタンの代わりに、スルホン酸基含有量：０．６×１０^-4モル／ｇのポリウレタンを使用した以外は、実施例１と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１８４であった。

（実施例３）
スルホン酸基を含まないポリウレタンの代わりに、スルホン酸基含有量：３．３×１０^-4モル／ｇのポリウレタンを使用した以外は、実施例１と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１９０であった。

（実施例４）
スルホン酸基を含まないポリウレタンの代わりに、標準ポリスチレン（東ソー（株）製、Ｍｗ＝３．７２×１０⁴、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１）を使用した以外は、実施例１と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１６０であった。

（実施例５）
スルホン酸基を含まないポリウレタンの代わりに、スルホン酸基：０．７×１０^-4モル／ｇの塩化ビニルを使用した以外は、実施例１と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１６５であった。
また、シート表面の平均粗さ（Ｒａ）をzygo社製表面粗さ測定器によって測定したところ、６．０ｎｍであった。

（比較例１）
前記強磁性六方晶バリウムフェライト粉末７．３部、スルホン酸基を含まないポリウレタン１部を、シクロヘキサノン１１．９部、２−ブタノン１７．７部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（（株）ニッカトー製）２７部を添加し、６．５時間分散させた。得られた液を塗布し、乾燥させることで磁気シートを作製した。
シートの光沢を測定したところ、光沢値０であった。
また、シート表面の平均粗さ（Ｒａ）をzygo社製表面粗さ測定器によって測定したところ、検出限界以上に粗面化しており、測定不能であった。

（比較例２）
スルホン酸基を含まないポリウレタンの代わりに、スルホン酸基含有量：０．６×１０^-4モル／ｇのポリウレタンを使用した以外は、比較例１と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値７９であった。

（比較例３）
スルホン酸基を含まないポリウレタンの代わりに、標準ポリスチレン（東ソー（株）製、Ｍｗ＝３．７２×１０⁴、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１）を使用した以外は、比較例１と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値０であった。

（比較例４）
スルホン酸基を含まないポリウレタンの代わりに、スルホン酸基：０．７×１０^-4モル／ｇの塩化ビニルを使用した以外は、比較例１と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１１１であった。
また、シート表面の平均粗さ（Ｒａ）をzygo社製表面粗さ測定器によって測定したところ、４９．０ｎｍであった。

（比較例５）
１−ナフトエ酸０．５７部に代えて、４−メチル−１−ナフトエ酸０．６２部を用いた以外は、実施例２と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１０８であった。

（比較例６）
１−ナフトエ酸０．５７部に代えて、２−メトキシ−１−ナフトエ酸０．６７部を用いた以外は、実施例２と同様の処理を行い得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１０３であった。

（比較例７）
１−ナフトエ酸０．５７部に代えて、１−ナフトエ酸カリウム塩０．７０部を用いた以外は、実施例２と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値９５であった。

（比較例８）
前記強磁性六方晶バリウムフェライト粉末７．３部、スルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：３．３×１０^-4モル／ｇ）１部、安息香酸０．３０部をシクロヘキサノン１１．９部、２−ブタノン１７．７部から成る溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（（株）ニッカトー製）９０部を添加し、６時間分散させた。得られた液を塗布し、乾燥させることで磁気シートを作製した。
シートの光沢を測定したところ、光沢値１５６であった。

（比較例９）
スルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：３．３×１０^-4モル／ｇ）に代えて、スルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：０．６×１０^-4モル／ｇ）を使用した以外は、比較例８と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１１１であった。

（比較例１０）
スルホン酸基含有ポリウレタンに代えて、スルホン酸基を含まないポリウレタン１部を使用した以外は、比較例８と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値４０であった。

（比較例１１）
スルホン酸基含有ポリウレタンに代えて、標準ポリスチレン（東ソー（株）製、Ｍｗ＝３．７２×１０⁴、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１）１部を使用した以外は、比較例８と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１０であった。

（比較例１２）
安息香酸０．３０部に代えて、２−ナフトエ酸０．５７部を用いた以外は、比較例８と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１４８であった。

（比較例１３）
安息香酸０．３０部に代えて、９−アントラセンカルボン酸０．５７部を用いた以外は、比較例８と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１４８であった。

〔非磁性粉末及び結合剤を使用した実施例・比較例〕
（実施例６）
下記非磁性粉末４．１部、スルホン酸基含有ポリウレタン（スルホン酸基含有量：０．６×１０^-4モル／ｇ）１部、１−ナフトエ酸０．１部を、シクロヘキサノン１０．８部、２−ブタノン１６．２部からなる溶液に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ（（株）ニッカトー製）９０部を添加し、６時間分散させた。得られた液を塗布し、乾燥させることで磁気シートを作製した。
シートの光沢を測定したところ、光沢値２０８であった。
・非磁性粉末
α−酸化鉄
表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂
平均長軸長：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ法による比表面積：５２ｍ²／ｇ
ｐＨ：８

（実施例７）
スルホン酸基含有ポリウレタンに代えて、スルホン酸基含有塩化ビニル（スルホン酸基含有量：０．６×１０^-4モル／ｇ）を使用した以外は、実施例６と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値２０８であった。

（実施例８）
スルホン酸基含有ポリウレタンに代えて、スルホン酸基を含まないアクリル樹脂を使用した以外は、実施例６と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値２１０であった。

（実施例９）
１−ナフトエ酸を０．２部使用した以外は、実施例７と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値２２０であった。

（実施例１０）
１−ナフトエ酸を０．３部使用した以外は、実施例７と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値２２２であった。

（比較例１４）
１−ナフトエ酸を使用しなかった以外は、実施例６と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１５５であった。

（比較例１５）
１−ナフトエ酸を使用しなかった以外は、実施例７と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１１６であった。

（比較例１６）
１−ナフトエ酸を使用しなかった以外は、実施例８と同様の処理を行い、得られたシートの光沢を測定したところ、光沢値１６０であった。

〔結合剤を使用しない実施例・比較例〕
（実施例１１）
強磁性六方晶フェライト粉末１００部、１−ナフトエ酸１０部を、シクロヘキサノン３９０部に添加した。この液を、バッチ式サンドミルを用いて６時間分散させた。分散液１部をシクロヘキサノン９９部で希釈し、レーザー散乱式粒度分布計（（株）堀場製作所製ＬＢ５００）を用いて体積平均による平均粒子径を測定したところ、３２ｎｍであった。

（比較例１７）
強磁性六方晶フェライト粉末１００部を、シクロヘキサノン３９０部に添加した。この液を、バッチ式サンドミルを用いて６時間分散させた。分散液１部をシクロヘキサノン９９重量部で希釈し、レーザー散乱式粒度分布分布計（（株）堀場製作所製ＬＢ５００）を用いて体積平均による平均粒子径を測定したところ、３００ｎｍであった。

〔磁気記録媒体の作製〕
（実施例１２）
＜磁性層塗布液＞
・磁性体（六方晶バリウムフェライト粉末） １００部
酸素を除く組成（モル比）：Ｂａ／Ｆｅ／Ｃｏ／Ｚｎ＝１／９／０．２／１
Ｈｃ：１７６ｋＡ／ｍ（２，２００ Ｏｅ）
平均板径：３０ｎｍ
平均板状比：３
ＢＥＴ比表面積：６５ｍ²／ｇ
σｓ：４９Ａ・ｍ²／ｋｇ（４９ｅｍｕ／ｇ）
ｐＨ：７
・結合剤（ポリウレタン樹脂） １４部
分岐側鎖含有ポリエステルポリオール／ジフェニルメタンジイソシアネート系、
−ＳＯ₃Ｎａ＝０．０６ｍｅｑ／ｇ
・１−ナフトエ酸 ６部
・α−アルミナ（粒子サイズ０．１５μｍ） ５部
・ダイヤモンド粉末（平均粒径６０ｎｍ） １部
・カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ） １部
・シクロヘキサノン １１０部
・メチルエチルケトン １００部
・トルエン １００部
・ブチルステアレート ２部
・ステアリン酸 １部

＜非磁性層塗布液＞
・非磁性無機粉体（α−酸化鉄） ８５部
表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂
平均長軸長：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ法による比表面積：５２ｍ²／ｇ
ｐＨ：８
・カーボンブラック １５部
・塩化ビニル共重合体（日本ゼオン（株）製ＭＲ１１０） １０部
・ポリウレタン樹脂 １０部
分岐側鎖含有ポリエステルポリオール／ジフェニルメタンジイソシアネート系、
−ＳＯ₃Ｎａ＝０．２ｍｅｑ／ｇ
・１−ナフトエ酸 ３部
・シクロヘキサノン １４０部
・メチルエチルケトン １７０部
・ブチルステアレート ２部
・ステアリン酸 １部

＜バックコート層塗布液＞
・微粒子状カーボンブラック粉末 １００部
（キャポット社製ＢＰｒ８００、平均粒子サイズ：１７ｎｍ）
・粗粒子状カーボンブラック粉末 １０部
（カーンカルブ社製サーマルブラック、平均粒子サイズ：２７０ｎｍ）
・α−アルミナ（硬質無機粉末）
平均粒子サイズ：２００ｎｍ、モース硬度：９
・ニトロセルロース樹脂 １４０部
・ポリウレタン樹脂 １５部
・ポリエステル樹脂 ５部
・分散剤：オレイン酸銅 ５部
銅フタロシアニン ５部
硫酸バリウム ５部
（堺化学工業（株）製ＢＦ−１、平均粒径：５０ｎｍ、モース硬度：３）
・メチルエチルケトン １，２００部
・酢酸ブチル ３００部
・トルエン ６００部

非磁性層塗布液については、各成分をオープンニーダーで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタン（株）製コロネートＬ）を５部加え、さらにメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、混合、撹拌した後、１μｍの孔径を有するフィルターを用いて濾過して非磁性層塗布液を調製した。
磁性層塗布液については、六方晶フェライト粉末と１−ナフトエ酸とを乾式で１５分間分散させた後、この分散物を上記磁性層成分と共にオープンニーダーで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタン（株）製コロネートＬ）を２．５部加え、さらにメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、混合、撹拌した後、１μｍの孔径を有するフィルターを用いて濾過して磁性層塗布液を調製した。
バックコート層塗布液については、上記成分を連続ニーダーで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液に、ポリイソシアネート４０部（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）、メチルエチルケトン１，０００部を添加し、撹拌した後、１μｍの孔径を有するフィルターを用いて濾過した。

得られた非磁性層塗布液及び磁性層用塗布液を、非磁性層は乾燥後の膜厚で１．５μｍ、磁性層は乾燥後の膜厚で０．１０μｍになるように、更に乾燥後のテ−プ総厚が８．６μｍになるように厚さ７μｍの支持体（二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート）上に同時重層塗布を行い、乾燥させた。その後、磁性層面とは反対の面に、バックコート層を乾燥後に厚さ０．５μｍになるように塗布した。

その後、金属ロールのみから構成される７段のカレンダーで速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３５０ｋｇ／ｃｍ（３４３ｋＮ／ｍ）、温度８０℃でカレンダー処理を行い、得られたロールを５０℃で４８時間加熱処理を行った。次いで、１２．７ｍｍ（１／２インチ）幅にスリットして磁気テープを作製した。

得られた磁気記録媒体の表面の平均粗さ（Ｒａ）をzygo社製表面粗さ測定器によって測定したところ、３．３ｎｍであった。

（比較例１８）
１−ナフトエ酸を使用しなかった点以外は、実施例１と同様に、磁気記録媒体を作製した。得られた磁気テープの表面の平均粗さ（Ｒａ）をzygo社製表面粗さ測定器によって測定したところ、１８．６ｎｍであった。

Claims (12)

1. １−ナフトエ酸、
   無機粉体、及び、
   媒質を含有し、
   前記１−ナフトエ酸の含有量が、前記無機粉体の含有量１００重量部に対して、０．５〜２０重量部であることを特徴とする
   組成物。
2. 前記無機粉体が、強磁性粉末又は非磁性粉末である請求項１に記載の組成物。
3. 磁気記録媒体作製用である請求項１又は２に記載の組成物。
4. 前記１−ナフトエ酸の含有量が、前記無機粉体の含有量１００重量部に対して、１．０〜１０．０重量部である請求項１〜３のいずれか１つに記載の組成物。
5. 前記無機粉体の平均粒径が、５ｎｍ〜２μｍである請求項１〜４のいずれか１つに記載の組成物。
6. 前記媒質が、結合剤及び／又は有機溶媒である請求項１〜５のいずれか１つに記載の組成物。
7. 前記媒質が、結合剤を含む請求項１〜６のいずれか１つに記載の組成物。
8. 前記結合剤の含有量が、前記無機粉体の含有量１００重量部に対して、１０〜４０重量部である請求項７に記載の組成物。
9. 非磁性支持体と、
   前記非磁性支持体上に強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の磁性層とを有し、
   前記磁性層のうちの少なくとも１層が、１−ナフトエ酸を含有することを特徴とする
   磁気記録媒体。
10. 非磁性支持体と、
    前記非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の非磁性層と、
    前記非磁性層の上に強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の磁性層とを有し、
    前記磁性層及び／又は前記非磁性層のうちの少なくとも１層が、１−ナフトエ酸を含有することを特徴とする
    磁気記録媒体。
11. 請求項７又は８に記載の組成物を調製する工程、及び、
    非磁性支持体上に前記組成物を塗布し強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を設ける工程を含むことを特徴とする
    磁気記録媒体の製造方法。
12. 請求項７又は８に記載の組成物を調製する工程、
    非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層を設ける工程、及び、
    前記非磁性層上に強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を設ける工程を含み、
    前記非磁性層及び／又は前記磁性層を前記請求項７又は８に記載の組成物を塗布して設けることを特徴とする
    磁気記録媒体の製造方法。