JPH03201211A - バインダーおよび磁気記録材料 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、バインダーおよび磁気記録材料に関するもの
である。
である。
[従来の技術]
従来、磁気記録材料用のバインダーとしては高分子ジオ
ールとOH基の様な活性水素を含有する低分子化合物と
有機ポリインシアネートとからなるポリウレタン樹脂が
知られている。 (特゛開昭57−80529号公報) [発明が解決しようとする問題点コ しかしながら、これら従来のバインダーは、磁性粉の分
散性が悪く良好な磁気特性を有する磁気記録媒体が得ら
れなかった。
ールとOH基の様な活性水素を含有する低分子化合物と
有機ポリインシアネートとからなるポリウレタン樹脂が
知られている。 (特゛開昭57−80529号公報) [発明が解決しようとする問題点コ しかしながら、これら従来のバインダーは、磁性粉の分
散性が悪く良好な磁気特性を有する磁気記録媒体が得ら
れなかった。
[問題点を解決するための手段]
本発明者らは、分散性に優れかつ耐久性に優れた磁気記
録材料用バインダーについて鋭意検討した結果、本発明
に到達した。
録材料用バインダーについて鋭意検討した結果、本発明
に到達した。
すなわち、本発明は、
ポリエーテル系ポリウレタンブロック(U+)とポリエ
ステル系ポリウレタンブロック(U2)を含有するウレ
タン樹脂(U)からなることを特徴とする磁気記録材料
用バインダー;及び 請求項1〜3のいずれか記載のバインダーと磁性体を含
有させてなることを特徴とする磁気記録材料である。
ステル系ポリウレタンブロック(U2)を含有するウレ
タン樹脂(U)からなることを特徴とする磁気記録材料
用バインダー;及び 請求項1〜3のいずれか記載のバインダーと磁性体を含
有させてなることを特徴とする磁気記録材料である。
本発明におけるウレタン樹脂(U)はポリエーテル系ポ
リウレタンブロック(U1)とポリエステル系ポリウレ
タンブロック(U2)とを鎖伸長剤あるいは有機ポリイ
ンシアネートで結合したものでありその構造は一般式(
1)および(2)で示される。
リウレタンブロック(U1)とポリエステル系ポリウレ
タンブロック(U2)とを鎖伸長剤あるいは有機ポリイ
ンシアネートで結合したものでありその構造は一般式(
1)および(2)で示される。
T [(U+)p−X−(Us)−] −T
(1)T [(Ut)p Z −(Us)*コ 、
T (2)(ここでUlはポリエーテル系ポリ
ウレタンブロック、U2はポリエステル系ポリウレタン
ブロックである。X及び2は2価の有機基である。Tは
Rs(O)、及び/またはRs (NH)bl ; R
+ (0)−はポリオールR+(OH)−の残基。R2
(NH)bはポリアミンR* (NHa)bの残基。;
L bl は2以上の整数、m1p、qは1以上の
整数である。)一般式(1)におけるXの2価の有機基
としてはグリコール残基及び一部ウレタン変性されたポ
リオールの残基(例えば、X’−[(Q)、−Tl11
−2で表される基が挙げられる。ここでX9はn価のア
ルコールの残基である。;QはU、またはU2である。
(1)T [(Ut)p Z −(Us)*コ 、
T (2)(ここでUlはポリエーテル系ポリ
ウレタンブロック、U2はポリエステル系ポリウレタン
ブロックである。X及び2は2価の有機基である。Tは
Rs(O)、及び/またはRs (NH)bl ; R
+ (0)−はポリオールR+(OH)−の残基。R2
(NH)bはポリアミンR* (NHa)bの残基。;
L bl は2以上の整数、m1p、qは1以上の
整数である。)一般式(1)におけるXの2価の有機基
としてはグリコール残基及び一部ウレタン変性されたポ
リオールの残基(例えば、X’−[(Q)、−Tl11
−2で表される基が挙げられる。ここでX9はn価のア
ルコールの残基である。;QはU、またはU2である。
;rは0以上の整数、nは3以上の整数。
)である。
一般式(2)における2の2価の有機基としては有機ポ
リイソシアネート残基及び一部ウレタン変性された有機
ポリイソシアネートの残基(例えば、Z’ −[(Q”
) 1−Tl。・−2で表される基が挙げられる。ここ
で29はn9価の有機ポリイソシアネートの残基である
。Q9はUlまたはU2である。;r9は0以上の整数
、n′は3以上の整数。
リイソシアネート残基及び一部ウレタン変性された有機
ポリイソシアネートの残基(例えば、Z’ −[(Q”
) 1−Tl。・−2で表される基が挙げられる。ここ
で29はn9価の有機ポリイソシアネートの残基である
。Q9はUlまたはU2である。;r9は0以上の整数
、n′は3以上の整数。
)である。
本発明におけるポリエーテル系ポリウレタンブロックと
しては例えば、高分子ポリエーテルジオール(八1)と
低分子活性水素含有化合物(a)とからなる活性水素含
有化合物(A)と有機ポリイソシアネート(B)とのブ
ロックなどが挙げられる。
しては例えば、高分子ポリエーテルジオール(八1)と
低分子活性水素含有化合物(a)とからなる活性水素含
有化合物(A)と有機ポリイソシアネート(B)とのブ
ロックなどが挙げられる。
高分子ポリエーテルジオール(A 1)としては、低分
子ジオール[エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
1,4−、 1.3−ブタンジオール、ネオペンチルグ
リコール、!、6−ヘキサンジオール、1.8−オクタ
メチレンジオール、1.10−デカンジオール、アルキ
ルジアルカノールアミン;環状基を有する低分子ジオー
ル類〔例えばシクロヘキサンジオール、シクロヘキサン
ジメタツール等のグリコール類および特公昭45−14
74号記載のもの: ビス(ヒドロキシメチル)シクロ
ヘキサン、鵬−及びp−キシリレングリコール、ビス(
ヒドロキシエチルベンゼン、1.4−ビス(2−ヒドロ
キシエトキシ)ベンゼン、4.v−ビス(2−ヒドロキ
シエトキシ)−ジフェニルプロパン(ビスフェノールA
のエチレンオキシド付加物)等〕、及びこれらの2種以
上の混合物など]のアルキレンオキシド(炭素数2〜4
のアルキレンオキシド:エチレンオキシド、プロピレン
オキシド、1.2−12.3−11.3−ブチレンオキ
シドなど)付加物、及びアルキレンオキシド、環状エー
テル(テトラヒドロフランなど)を開環重合又は開環共
重合 (ブロック及び/又はランダム)させて得られる
もの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ポリエチレン−ポリプロピレン(ブロック
及び/又はランダム)グリコール、ポリテトラメチレン
エーテルグリコール、ポリテトラメチレン−エチレン(
ブロック及び/又はランダム)グリコール、ポリテトラ
メチレン−プロピレン(ブロック及び/又はランダム)
グリコール、ポリへキサメチレンエーテルグリコール、
ポリオクタメチレンエーテルグリコール及びこれらの2
種以上の混合物が挙げられる。
子ジオール[エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
1,4−、 1.3−ブタンジオール、ネオペンチルグ
リコール、!、6−ヘキサンジオール、1.8−オクタ
メチレンジオール、1.10−デカンジオール、アルキ
ルジアルカノールアミン;環状基を有する低分子ジオー
ル類〔例えばシクロヘキサンジオール、シクロヘキサン
ジメタツール等のグリコール類および特公昭45−14
74号記載のもの: ビス(ヒドロキシメチル)シクロ
ヘキサン、鵬−及びp−キシリレングリコール、ビス(
ヒドロキシエチルベンゼン、1.4−ビス(2−ヒドロ
キシエトキシ)ベンゼン、4.v−ビス(2−ヒドロキ
シエトキシ)−ジフェニルプロパン(ビスフェノールA
のエチレンオキシド付加物)等〕、及びこれらの2種以
上の混合物など]のアルキレンオキシド(炭素数2〜4
のアルキレンオキシド:エチレンオキシド、プロピレン
オキシド、1.2−12.3−11.3−ブチレンオキ
シドなど)付加物、及びアルキレンオキシド、環状エー
テル(テトラヒドロフランなど)を開環重合又は開環共
重合 (ブロック及び/又はランダム)させて得られる
もの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ポリエチレン−ポリプロピレン(ブロック
及び/又はランダム)グリコール、ポリテトラメチレン
エーテルグリコール、ポリテトラメチレン−エチレン(
ブロック及び/又はランダム)グリコール、ポリテトラ
メチレン−プロピレン(ブロック及び/又はランダム)
グリコール、ポリへキサメチレンエーテルグリコール、
ポリオクタメチレンエーテルグリコール及びこれらの2
種以上の混合物が挙げられる。
本発明におけるポリエステル系ポリウレタンブロックと
しては例えば、高分子ポリエステルジオール(A2)と
低分子活性水素含有化合物(a)とからなる活性水素含
有化合物(A′)と有機ポリイソシアネート(B)との
ブロックなどが挙げられる。
しては例えば、高分子ポリエステルジオール(A2)と
低分子活性水素含有化合物(a)とからなる活性水素含
有化合物(A′)と有機ポリイソシアネート(B)との
ブロックなどが挙げられる。
ポリエステルジオール(A2)としては、前記低分子ジ
オール及び/又は分子量1000以下のポリエーテルジ
オールとジカルボン酸とを反応させて得られる縮合ポリ
エステルジオールや、ラクトンの開環重合により得られ
るポリラクトンジオール、ポリカーボネートジオールな
どが含まれる。分子量1000以下のポリエーテルジオ
ールとしては、前記ポリエーテルジオール例えばポリエ
チレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコ
ール、ポリプロピレングリコール、トリエチレングリコ
ール;及びこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
オール及び/又は分子量1000以下のポリエーテルジ
オールとジカルボン酸とを反応させて得られる縮合ポリ
エステルジオールや、ラクトンの開環重合により得られ
るポリラクトンジオール、ポリカーボネートジオールな
どが含まれる。分子量1000以下のポリエーテルジオ
ールとしては、前記ポリエーテルジオール例えばポリエ
チレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコ
ール、ポリプロピレングリコール、トリエチレングリコ
ール;及びこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
又、ジカルボン酸としては脂肪族ジカルボン酸(コハク
酸、アジピン酸、セバシン酸、グルタル酸、アゼライン
酸、マレイン酸、フマル酸など)、芳香族ジカルボン酸
(テレフタル酸、イソフタル酸など)及びこれらの2種
以上の混合物が挙げられる。
酸、アジピン酸、セバシン酸、グルタル酸、アゼライン
酸、マレイン酸、フマル酸など)、芳香族ジカルボン酸
(テレフタル酸、イソフタル酸など)及びこれらの2種
以上の混合物が挙げられる。
ラクトンとしてはε−カプロラクトン、δ−バレロラク
トンが挙げられる。カーボネートとしては、エチレンカ
ーボネート、トリメチルカーボネート、テトラメチレン
カーボネート等が挙げられる。
トンが挙げられる。カーボネートとしては、エチレンカ
ーボネート、トリメチルカーボネート、テトラメチレン
カーボネート等が挙げられる。
ポリエステルジオールは通常の方法、例えば低分子ジオ
ール及び/又は分子量1000以下のポリエーテルジオ
ールを、ジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導
体[例えば無水物(無水マレイン酸、無水フタル酸など
)、低級エステル(テレフタル酸ジメチルなど)、ハラ
イド等コやアルキレンカーボネート(例えばエチレンカ
ーボネート等)と、またはその無水物及びアルキレンオ
キシド(例えばエチレンオキシド及び/又はプロピレン
オキシド)とを反応(縮合)させる、あるいは開始剤(
低分子ジオール及び/又は分子量1000以下のポリエ
ーテルジオール、ポリエステルジオール)にラクトンを
付加させることにより製造することができる。
ール及び/又は分子量1000以下のポリエーテルジオ
ールを、ジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導
体[例えば無水物(無水マレイン酸、無水フタル酸など
)、低級エステル(テレフタル酸ジメチルなど)、ハラ
イド等コやアルキレンカーボネート(例えばエチレンカ
ーボネート等)と、またはその無水物及びアルキレンオ
キシド(例えばエチレンオキシド及び/又はプロピレン
オキシド)とを反応(縮合)させる、あるいは開始剤(
低分子ジオール及び/又は分子量1000以下のポリエ
ーテルジオール、ポリエステルジオール)にラクトンを
付加させることにより製造することができる。
これらのポリエステルジオールの具体例としては、ポリ
エチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリへ
キサメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート
、ポリエチレンプロピレンアジペート、ポリエチレンブ
チレンアジペート、ポリブチレンヘキサメチレンアジペ
ート、ポリジエチレンアジペート、ポリ(ポリテトラメ
チレンエーテル)アジペート、ポリエチレンアゼレート
、ポリエチレンセバケート、ポリブチレンアゼレート、
ポリブチレンセバケート、ポリエチレンフタレート、ポ
リブチレンフタレート、ポリカプロラクトンジオール、
l、6−ヘキサンジオールとエチレンカーボネートを反
応して得られるポリカーボネート及びこれらの2種以上
の混合物が挙げられる。
エチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリへ
キサメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート
、ポリエチレンプロピレンアジペート、ポリエチレンブ
チレンアジペート、ポリブチレンヘキサメチレンアジペ
ート、ポリジエチレンアジペート、ポリ(ポリテトラメ
チレンエーテル)アジペート、ポリエチレンアゼレート
、ポリエチレンセバケート、ポリブチレンアゼレート、
ポリブチレンセバケート、ポリエチレンフタレート、ポ
リブチレンフタレート、ポリカプロラクトンジオール、
l、6−ヘキサンジオールとエチレンカーボネートを反
応して得られるポリカーボネート及びこれらの2種以上
の混合物が挙げられる。
これらのうち、好ましいのは、芳香族ジカルボン酸系ポ
リエステルジオール、アジピン酸系ポリエステルジオー
ル、ポリカプロラクトンジオール、ポリカーボネートジ
オール等である。
リエステルジオール、アジピン酸系ポリエステルジオー
ル、ポリカプロラクトンジオール、ポリカーボネートジ
オール等である。
高分子ポリオール(A + )及び(A2)の当量は、
通常200〜2000. 好ましくは、250〜!5
00である。
通常200〜2000. 好ましくは、250〜!5
00である。
本発明における低分子活性水素含有化合物(a)として
は、低分子ポリオール及びポリアミンが挙げられる。低
分子ポリオールとしては、前記低分子ジオール及びグリ
セリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタ
ン、ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグ
リセリン、 α−メチルグルコシド、ソルビトール、キ
シリット、マンニット、グルコース、フラクトース、蔗
糖等の3〜8価のアルコール類、が挙げられる。これら
のうち、好ましいのは、炭素数2〜10のアルキレング
リコール、 トリメチロールプロパン等である。また、
前記低分子ジオールとモノヒドロキシモノカルボン酸と
を反応して得られるエステルジオールが挙げられる。モ
ノヒドロキシモノカルボン酸としては、グリコール酸、
乳酸、ヒドロキシアクリル酸、α−オキシ酪酸、オキシ
ピバリン酸、サリチル酸、m−またはp−オキシ安息香
酸及びこれらの二種以上の混合物が挙げられる。
は、低分子ポリオール及びポリアミンが挙げられる。低
分子ポリオールとしては、前記低分子ジオール及びグリ
セリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタ
ン、ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグ
リセリン、 α−メチルグルコシド、ソルビトール、キ
シリット、マンニット、グルコース、フラクトース、蔗
糖等の3〜8価のアルコール類、が挙げられる。これら
のうち、好ましいのは、炭素数2〜10のアルキレング
リコール、 トリメチロールプロパン等である。また、
前記低分子ジオールとモノヒドロキシモノカルボン酸と
を反応して得られるエステルジオールが挙げられる。モ
ノヒドロキシモノカルボン酸としては、グリコール酸、
乳酸、ヒドロキシアクリル酸、α−オキシ酪酸、オキシ
ピバリン酸、サリチル酸、m−またはp−オキシ安息香
酸及びこれらの二種以上の混合物が挙げられる。
これらのうち、好ましいものは、炭素数2〜6のグリコ
ールとオキシピバリン酸とを反応して得られるエステル
ジオールである。
ールとオキシピバリン酸とを反応して得られるエステル
ジオールである。
ポリアミンとしては脂肪族ポリアミン(エチレンジアミ
ン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン
など)、脂環族ポリアミン(4,1−ジアミノジシクロ
ヘキシルメタン、!、4−ジアミノシクロヘキサンイソ
ホロンジアミンなど)、芳香環を有する脂肪族ジアミン
(キシリレンジアミン、テトラメチルキシリレンジアミ
ンなど)、芳香族ポリアミン(ジフェニルメタンジアミ
ン、ジクロロジフェニルメタンシなど)アルカノールア
ミン(モノ−またはジ−エタノールアミン、プロパツー
ルアミンなど)ポリアルキレンオキシドポリアミン[炭
素数2〜4のアルキレンオキシド例えばエチレンオキシ
ド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドなどの1種
または2種以上(ランダム及び/またはブロック)の付
加物、アルキレンオキシドの開環重合物(ポリテトラメ
チレンエーテルグリコールなと)のポリエーテルポリオ
ールの末端OH基がアミノ基によって置換された構造の
化合物例えばポリオキシエチレンエーテルジアミン及び
ポリオキシプロピレンエーテルジアミン]など、及びこ
れらの2種以上の混合物が挙げられる。
ン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン
など)、脂環族ポリアミン(4,1−ジアミノジシクロ
ヘキシルメタン、!、4−ジアミノシクロヘキサンイソ
ホロンジアミンなど)、芳香環を有する脂肪族ジアミン
(キシリレンジアミン、テトラメチルキシリレンジアミ
ンなど)、芳香族ポリアミン(ジフェニルメタンジアミ
ン、ジクロロジフェニルメタンシなど)アルカノールア
ミン(モノ−またはジ−エタノールアミン、プロパツー
ルアミンなど)ポリアルキレンオキシドポリアミン[炭
素数2〜4のアルキレンオキシド例えばエチレンオキシ
ド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドなどの1種
または2種以上(ランダム及び/またはブロック)の付
加物、アルキレンオキシドの開環重合物(ポリテトラメ
チレンエーテルグリコールなと)のポリエーテルポリオ
ールの末端OH基がアミノ基によって置換された構造の
化合物例えばポリオキシエチレンエーテルジアミン及び
ポリオキシプロピレンエーテルジアミン]など、及びこ
れらの2種以上の混合物が挙げられる。
ポリアミンのうちで好ましいのはへキサメチレンジアミ
ン、イソホロンジアミン、及び4・V−ジアミノジシク
ロヘキシルメタンである。
ン、イソホロンジアミン、及び4・V−ジアミノジシク
ロヘキシルメタンである。
本発明における有機ポリイソシアネート(B)としては
、脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、
芳香族ジイソシアネート、ポリイソシアネートが挙げら
れる。
、脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、
芳香族ジイソシアネート、ポリイソシアネートが挙げら
れる。
脂肪族ジイソシアネートとしては、エチレンジイソシア
ネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート(HMD1)、ドデカメチレンジ
イソシアネート、2,2.4− )リメチルヘキサンジ
イソシアネート、リジンジイソシアネート、2.トジイ
ソシアネートメチルカプロエート、ビス(2−イソシア
ネートエチル)フマレート、ビス (2−イソシアネー
トエチル)カーボネートなどが挙げられる。
ネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート(HMD1)、ドデカメチレンジ
イソシアネート、2,2.4− )リメチルヘキサンジ
イソシアネート、リジンジイソシアネート、2.トジイ
ソシアネートメチルカプロエート、ビス(2−イソシア
ネートエチル)フマレート、ビス (2−イソシアネー
トエチル)カーボネートなどが挙げられる。
脂環式ジイソシアネートとしては、インホロンジイソシ
アネート(IPD1)、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート(水添MD1) 、シクロヘキシレンジイン
シアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート
(水添TD1)、テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート(TMID1) 、ビス(2−インシアネートエチ
ル)4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレート
などが挙げられる。
アネート(IPD1)、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート(水添MD1) 、シクロヘキシレンジイン
シアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート
(水添TD1)、テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート(TMID1) 、ビス(2−インシアネートエチ
ル)4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレート
などが挙げられる。
芳香族ジイソシアネートとしては1,3−及び/又ハ1
,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−及ヒ/又
は2.6−)リレンジイソシアネー) (TD1)、ジ
フェニルメタン−2,v−及び/又は4.v−ジインシ
アネ−) (MD1)、ナフチレン−1,5−ジイソシ
アネート、−一及び/又はp−インシアネートフェニル
スルホニルイソシアネートなど)が挙げられる。
,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−及ヒ/又
は2.6−)リレンジイソシアネー) (TD1)、ジ
フェニルメタン−2,v−及び/又は4.v−ジインシ
アネ−) (MD1)、ナフチレン−1,5−ジイソシ
アネート、−一及び/又はp−インシアネートフェニル
スルホニルイソシアネートなど)が挙げられる。
ポリイソシアネートとしては、BDIの水膨性物、IP
DIの三量化物、ポリトリレンジイソシアネート(粗製
TD1)、ポリフェニルメタンポリイソシアネート(粗
製MD1)、変性MDI(カーポジイミド変性MDIな
ど)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
DIの三量化物、ポリトリレンジイソシアネート(粗製
TD1)、ポリフェニルメタンポリイソシアネート(粗
製MD1)、変性MDI(カーポジイミド変性MDIな
ど)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
これらのうち好ましいものは脂肪族ジイソシアネート、
脂環式ジイソシアネートおよび芳香族ジイソシアネート
であり、特に好ましいものはHMDI、IPDI、
MDI、TDIである。
脂環式ジイソシアネートおよび芳香族ジイソシアネート
であり、特に好ましいものはHMDI、IPDI、
MDI、TDIである。
ウレタン樹脂(U)を製造するにあたり、ポリエーテル
系ポリウレタンブロック(U 1)とポリエステル系ポ
リウレタンブロック(U2)の重量比は通常l:4〜4
:lであり、好ましくはl:3〜2:lである。
系ポリウレタンブロック(U 1)とポリエステル系ポ
リウレタンブロック(U2)の重量比は通常l:4〜4
:lであり、好ましくはl:3〜2:lである。
これ以外の範囲の重量比では本発明の目的である分散性
が充分にでない。
が充分にでない。
ポリウレタンブロック(U1)及び(U2)を合成する
場合(A1)及び(At)It、通常5〜90当量x1
好ましくは、10〜80当量冥である。 (A 1)及
び(A2)の量が5%当量未満では、生成ウレタン樹脂
のフィルム物性が低下する。一方(A、)及び(A2)
の量が90当量%を越えるとフィルムが剛直になり、基
材に対する密着性が低下する。
場合(A1)及び(At)It、通常5〜90当量x1
好ましくは、10〜80当量冥である。 (A 1)及
び(A2)の量が5%当量未満では、生成ウレタン樹脂
のフィルム物性が低下する。一方(A、)及び(A2)
の量が90当量%を越えるとフィルムが剛直になり、基
材に対する密着性が低下する。
(a)は通常lO〜90当量%、好ましくは15〜80
当量%である。lO当量%未満では生成ウレタン樹脂の
溶解性が低下し磁性粉の分散性が悪くなる。
当量%である。lO当量%未満では生成ウレタン樹脂の
溶解性が低下し磁性粉の分散性が悪くなる。
90当量%を越えるとウレタン樹脂のフィルム物性が低
下し磁性層の強度が悪くなる。
下し磁性層の強度が悪くなる。
活性水素含有化合物(A)及び(A′)の当量は通常1
00−1800である。 (A)及び(A′)の当量が
100未満の場合には生成ウレタン樹脂が皮膜形成性に
乏しい脆い樹脂となり、磁気記録材料用バインダーとし
て充分でない。一方当量がteooを越えるとフィルム
強度が低下し、耐摩耗性、耐スクラッチ性も低下する。
00−1800である。 (A)及び(A′)の当量が
100未満の場合には生成ウレタン樹脂が皮膜形成性に
乏しい脆い樹脂となり、磁気記録材料用バインダーとし
て充分でない。一方当量がteooを越えるとフィルム
強度が低下し、耐摩耗性、耐スクラッチ性も低下する。
(A)または(A′)と(B)を反応させるに際し、
(B)と(A)または(A′)の当量比は通常0.6〜
1.5、好ましくは、0.8〜1.2である。当量比が
0.6未満および1.5を越えると(A)または(A′
)と(B)との反応によりえられるポリウレタンブロッ
クの分子量が低くなり分散性が低下する。
(B)と(A)または(A′)の当量比は通常0.6〜
1.5、好ましくは、0.8〜1.2である。当量比が
0.6未満および1.5を越えると(A)または(A′
)と(B)との反応によりえられるポリウレタンブロッ
クの分子量が低くなり分散性が低下する。
上記反応はインシアネート基に対して不活性な溶媒の存
在下または不存在下に行なうことができる。この溶媒と
してはエステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、
エーテル系溶媒(ジオキサン、テトラハイドロフラン等
)、ケトン系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン等)、芳香族炭化水素系
溶媒(トルエン、キシレン等)およびこれらの二種以上
の混合溶媒が挙げられる。
在下または不存在下に行なうことができる。この溶媒と
してはエステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、
エーテル系溶媒(ジオキサン、テトラハイドロフラン等
)、ケトン系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン等)、芳香族炭化水素系
溶媒(トルエン、キシレン等)およびこれらの二種以上
の混合溶媒が挙げられる。
反応方法としては(A)または(A′)と(B)とを−
括して反応容器に仕込み反応させる方法、(A)または
(A′)と(B)とを分割して多段反応をさせる方法及
びあらかじめ混合した(A)または(A′)と(B)を
加熱されたコンティニュアスニーダ−中を通過させ反応
させる方法が挙げられる。
括して反応容器に仕込み反応させる方法、(A)または
(A′)と(B)とを分割して多段反応をさせる方法及
びあらかじめ混合した(A)または(A′)と(B)を
加熱されたコンティニュアスニーダ−中を通過させ反応
させる方法が挙げられる。
反応温度は通常4G−180℃、好ましくは60〜12
0℃である。反応においては、反応を促進させるため通
常のウレタン反応において用いられる触媒、例えば錫系
触媒(トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒド
ロキサイド、ジメチルチンジラウレート、ジブチルチン
ジラウレート、スタナスオクトエート等)、鉛系触媒(
レッドオレート、レッド2−エチルヘキソエート等)等
を使用することもできる。
0℃である。反応においては、反応を促進させるため通
常のウレタン反応において用いられる触媒、例えば錫系
触媒(トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒド
ロキサイド、ジメチルチンジラウレート、ジブチルチン
ジラウレート、スタナスオクトエート等)、鉛系触媒(
レッドオレート、レッド2−エチルヘキソエート等)等
を使用することもできる。
得られるポリウレタンブロック(U、)及び(U2)は
、数平均分子量が通常3,000〜50,000、好ま
しくは5.000〜30,000である。
、数平均分子量が通常3,000〜50,000、好ま
しくは5.000〜30,000である。
(A)または(A′)と(B)とを反応して得られたポ
リウレタンブロック(U1)と(U2)に鎖伸長剤(例
えば低分子ジオール、ジアミン或は有機ポリイソシアネ
ート)を加えて伸長反応を行いウレタン樹脂(U)を製
造する。反応温度、反応溶媒等は(A)または(A′)
と(B)を反応させる場合と同じでよい。
リウレタンブロック(U1)と(U2)に鎖伸長剤(例
えば低分子ジオール、ジアミン或は有機ポリイソシアネ
ート)を加えて伸長反応を行いウレタン樹脂(U)を製
造する。反応温度、反応溶媒等は(A)または(A′)
と(B)を反応させる場合と同じでよい。
得られるウレタン樹脂(U)は、数平均分子量が通常1
0.000〜200,000、好ましくは15,000
〜100.000である。
0.000〜200,000、好ましくは15,000
〜100.000である。
(U、)と(U2)を反応させてなるポリウレタン樹脂
(U)は磁気記録材料用バインダーとして用いられるが
、必要により、磁気記録材料用として通常使用されてい
る他の高分子材料を併用することができる。この高分子
材料としてはポリ塩化ビニル系[塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体(VYHH; UCC製、エスレックC;積
水化学製等)、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体(V A G H,エスレックA等)、塩
化ビニル−塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体
(サラン:旭ダウ製)等」、ポリウレタン系[ウレタン
樹脂(ニステン;グツドリッチ製等)]、ブタジェン系
[アクリロニトリル−ブタジェン共重合体(ハイカー1
482; 日本ゼオン製等)、アクリロニトリル−ブタ
ジェン−スチレン共重合体(A−135)等]、アクリ
ル系(アクリル酸エステル系共重合体等)、ニトロセル
ロース、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる
。
(U)は磁気記録材料用バインダーとして用いられるが
、必要により、磁気記録材料用として通常使用されてい
る他の高分子材料を併用することができる。この高分子
材料としてはポリ塩化ビニル系[塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体(VYHH; UCC製、エスレックC;積
水化学製等)、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体(V A G H,エスレックA等)、塩
化ビニル−塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体
(サラン:旭ダウ製)等」、ポリウレタン系[ウレタン
樹脂(ニステン;グツドリッチ製等)]、ブタジェン系
[アクリロニトリル−ブタジェン共重合体(ハイカー1
482; 日本ゼオン製等)、アクリロニトリル−ブタ
ジェン−スチレン共重合体(A−135)等]、アクリ
ル系(アクリル酸エステル系共重合体等)、ニトロセル
ロース、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる
。
本発明の磁気記録材料用バインダーはこれに磁性体を含
有させることにより磁気記録材料(以下磁性塗料という
ことがある)とする事ができる。
有させることにより磁気記録材料(以下磁性塗料という
ことがある)とする事ができる。
この磁性体としては、酸化鉄例えばγ−FezOa (
γ−へマタイト)、Cr Os (二酸化クロム)およ
び合金系の磁性体例えばCo−γ−Fe2rs (コバ
ルトフェライトまたはコバルトドープγ−酸化鉄)、F
e−Go’−Cr1 純鉄Fe(メタルパウダー)およ
び炭化鉄が挙げられる。本発明においては特に最近のよ
り一層微粉末化されたγ−Fe2O3、CO−γ−Fe
eOs、メタル、炭化鉄に対して有用である。
γ−へマタイト)、Cr Os (二酸化クロム)およ
び合金系の磁性体例えばCo−γ−Fe2rs (コバ
ルトフェライトまたはコバルトドープγ−酸化鉄)、F
e−Go’−Cr1 純鉄Fe(メタルパウダー)およ
び炭化鉄が挙げられる。本発明においては特に最近のよ
り一層微粉末化されたγ−Fe2O3、CO−γ−Fe
eOs、メタル、炭化鉄に対して有用である。
磁性体は磁性粉でありその形状は通常、粒状および針状
である。磁性体の形状の一例を示せば、径が0.02〜
0.7μ、例えば長径0.2〜0.7μ、短径0.02
〜0.1μである〇 磁性塗料にはポリウレタン樹脂を架橋させるために架橋
剤を用いることができる。この架橋剤としてはNGO含
有化合物および活性水素含有化合物が挙げられる。NG
O含有化合物としてはポリイソシアネート[変性MDI
(ミリオネートME。
である。磁性体の形状の一例を示せば、径が0.02〜
0.7μ、例えば長径0.2〜0.7μ、短径0.02
〜0.1μである〇 磁性塗料にはポリウレタン樹脂を架橋させるために架橋
剤を用いることができる。この架橋剤としてはNGO含
有化合物および活性水素含有化合物が挙げられる。NG
O含有化合物としてはポリイソシアネート[変性MDI
(ミリオネートME。
採土ケ谷化学製)、3.3′−ジメトキシ−4,4′−
ジイソシアネート等]およびNGO末端プレポリマー[
ポリイソシアネート(TDI、MDI等)とポリオール
(低分子ポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエ
ステルポリオール等)とのNCO末端プレポリマー例え
ばデスモジュールL(バイエル製)、コロネー)L(日
本ポリウレタン製)等]が挙げられる。また活性水素含
有化合物としてはポリアミン[トリレンジアミン(TD
A)、4.4′−ジアミノ−3,3′−ジクロロジフェ
ニルメタン等)およびポリオール(低分子ポリオール、
ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール等)
が挙げられる。
ジイソシアネート等]およびNGO末端プレポリマー[
ポリイソシアネート(TDI、MDI等)とポリオール
(低分子ポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエ
ステルポリオール等)とのNCO末端プレポリマー例え
ばデスモジュールL(バイエル製)、コロネー)L(日
本ポリウレタン製)等]が挙げられる。また活性水素含
有化合物としてはポリアミン[トリレンジアミン(TD
A)、4.4′−ジアミノ−3,3′−ジクロロジフェ
ニルメタン等)およびポリオール(低分子ポリオール、
ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール等)
が挙げられる。
架橋剤の添加量はポリウレタン樹脂に対し通常0〜50
重量%、好ましくは5〜30重量%である。50重量%
を越えるとフィルムの可撓性が低下し易い。
重量%、好ましくは5〜30重量%である。50重量%
を越えるとフィルムの可撓性が低下し易い。
その他必要により分散剤(レシチンあるいはアニオン、
ノニオン、カチオン等の界面活性剤例えばドデシルベン
ゼンスルホン酸ソーダ等)および潤滑剤(高級脂肪酸エ
ステル例えばステアリン酸ブチル)を加えることもでき
る。
ノニオン、カチオン等の界面活性剤例えばドデシルベン
ゼンスルホン酸ソーダ等)および潤滑剤(高級脂肪酸エ
ステル例えばステアリン酸ブチル)を加えることもでき
る。
磁性塗料には粘度調整のため溶媒が用いられる。
この溶媒としてはポリウレタン樹脂生成反応の箇所で記
載したのと同様の溶媒すなわちエステル系溶媒(酢酸エ
チル、酢酸ブチル等)、エーテル系溶媒(ジオキサン、
テトラヒドロフラン等)、ケトン系溶媒(シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルルケトン
等)、芳香族炭化水素溶媒(トルエン、キシレン等)お
よびこれらの二種以上の混合溶媒を用いることができる
。
載したのと同様の溶媒すなわちエステル系溶媒(酢酸エ
チル、酢酸ブチル等)、エーテル系溶媒(ジオキサン、
テトラヒドロフラン等)、ケトン系溶媒(シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルルケトン
等)、芳香族炭化水素溶媒(トルエン、キシレン等)お
よびこれらの二種以上の混合溶媒を用いることができる
。
これらのうち好ましいものはケトン系と芳香族炭化水素
系の混合溶媒である。
系の混合溶媒である。
磁性塗料中のポリウレタン樹脂(U)の含有量は塗料の
重量に基づいて通常5重量%以上、好ましくは6〜20
重量%である。 (U)を5重量%以上含ませることに
より本発明の目的を十分に達成することができる。
重量に基づいて通常5重量%以上、好ましくは6〜20
重量%である。 (U)を5重量%以上含ませることに
より本発明の目的を十分に達成することができる。
磁性塗料中の磁性体の量は通常30〜80重量%、好ま
しくは32〜60重量%である。
しくは32〜60重量%である。
磁性塗料中の溶媒の量は通常30〜80−重量%、好ま
しくは40〜70重量%である。
しくは40〜70重量%である。
他の高分子材料の量は通常0〜20重量%、好ましくは
2〜15重量%である。
2〜15重量%である。
その他(架橋剤、分散剤、潤滑剤等)の量は通常0〜3
重量%、好ましくは0.01〜2重量%である。
重量%、好ましくは0.01〜2重量%である。
磁性塗料を製造する方法としてはバインダー溶媒および
磁性体を必要により予めプレミキサ−等で混合したのち
混合分散機(ボールミル、ペイントコンディジeナー
サンドグラインダー サンドミル、プラストミル等)で
分散させ、濾過する方法が挙げられる。
磁性体を必要により予めプレミキサ−等で混合したのち
混合分散機(ボールミル、ペイントコンディジeナー
サンドグラインダー サンドミル、プラストミル等)で
分散させ、濾過する方法が挙げられる。
この磁性塗料は磁気記録媒体用支持体フィルムに適用さ
れ磁気記録媒体(磁気テープ等)を作成することができ
る。この支持体フィルムとしては、紙、セロハン、アセ
テート、ポリエステルCPET)、強化ポリエステル、
ポリイミド等のフィルムが挙げられる。これらのフィル
ムのうちよく用いられるのはポリエステルフィルムであ
る。
れ磁気記録媒体(磁気テープ等)を作成することができ
る。この支持体フィルムとしては、紙、セロハン、アセ
テート、ポリエステルCPET)、強化ポリエステル、
ポリイミド等のフィルムが挙げられる。これらのフィル
ムのうちよく用いられるのはポリエステルフィルムであ
る。
磁性塗料を支持体フィルムに適用する場合、塗布厚は通
常数μから数十μである。適用法としてはドクターブレ
ード法、転写印刷法(グラビア法、リバースロール法等
)等の塗布法が挙げら・れる。
常数μから数十μである。適用法としてはドクターブレ
ード法、転写印刷法(グラビア法、リバースロール法等
)等の塗布法が挙げら・れる。
磁性塗料を塗布されたフィルムは以後例えば配向、乾燥
、表面加工、切断、巻取り等の工程を経て磁気記録媒体
とされる。
、表面加工、切断、巻取り等の工程を経て磁気記録媒体
とされる。
磁気記録媒体は支持体フィルムと磁性層(磁性体バイン
ダー)からなるものが−膜内であるが、支持体フィルム
と磁性層の間に中間層(下塗層)を設けたもの、支持体
フィルムの両面に磁性層を有するもの、磁気特性の異な
る磁性層を重積したもの、磁性層の上に保護層を設けた
もの等もある。
ダー)からなるものが−膜内であるが、支持体フィルム
と磁性層の間に中間層(下塗層)を設けたもの、支持体
フィルムの両面に磁性層を有するもの、磁気特性の異な
る磁性層を重積したもの、磁性層の上に保護層を設けた
もの等もある。
[実施例コ
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。以下において、部は重
量部を示す。
これに限定されるものではない。以下において、部は重
量部を示す。
実施例1
当量500のポリプロピレングリコール1モル、ネオペ
ンチルグリコール2モルをMD I 2.9モルを反応
させてポリウレタンブロック(U + 、)を得た。
ンチルグリコール2モルをMD I 2.9モルを反応
させてポリウレタンブロック(U + 、)を得た。
また当量1.000のポリカプロラクトンジオール1モ
ルとネオペンチルグリコール4七ルヲMD I 4.8
モルと反応させてポリウレタンブロック(U 21 )
を得た。
ルとネオペンチルグリコール4七ルヲMD I 4.8
モルと反応させてポリウレタンブロック(U 21 )
を得た。
この(U + + )と(U21)を重量比でU +
I/ U 21=1/1になるように配合した。これに
MDIを加えて反応し、数平均分子量19.500で分
子量末端にOH基を有するウレタン樹脂(U−1)を得
た。
I/ U 21=1/1になるように配合した。これに
MDIを加えて反応し、数平均分子量19.500で分
子量末端にOH基を有するウレタン樹脂(U−1)を得
た。
(U−1)をバインダーとして使用し、下記組成の混合
物をペイントコンディジeナーで混合、分散させて磁性
塗料(D + )を作成した。
物をペイントコンディジeナーで混合、分散させて磁性
塗料(D + )を作成した。
γ−Fe203微粉末 100部ポリウレタ
ン樹脂(U−1) 20部塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体 10部 デスモジュールL 2部 レシチン 1部 メチルエチルケト7 75部 トルエン 75部この磁性塗料を
ポリエステルフィルムに塗布しく乾燥膜厚5μ) 、1
0000eの磁場をかけ、配向させ、テープ(E1)を
得た。更に、このテープをカレンダーロールで処理し、
磁気テープを得た。
ン樹脂(U−1) 20部塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体 10部 デスモジュールL 2部 レシチン 1部 メチルエチルケト7 75部 トルエン 75部この磁性塗料を
ポリエステルフィルムに塗布しく乾燥膜厚5μ) 、1
0000eの磁場をかけ、配向させ、テープ(E1)を
得た。更に、このテープをカレンダーロールで処理し、
磁気テープを得た。
実施例2
当量500のポリテトラメチレングリコール1モル、ネ
オペンチルグリコール2モルとMDI2.95モルを反
応させウレタンブロック(UI2)を得た。
オペンチルグリコール2モルとMDI2.95モルを反
応させウレタンブロック(UI2)を得た。
これと実施例1で合成したウレタンブロック(U21)
とを重量比でUI2/U21=1/3になるように配合
し、これにMDIを加えて反応させ数平均分子量22.
000で分子量末端にOH基を有するウレタン樹脂(U
−2)を得た。実施例1と同様にして磁性塗料(D2)
を作成し、磁気テープ(E2)を得た。
とを重量比でUI2/U21=1/3になるように配合
し、これにMDIを加えて反応させ数平均分子量22.
000で分子量末端にOH基を有するウレタン樹脂(U
−2)を得た。実施例1と同様にして磁性塗料(D2)
を作成し、磁気テープ(E2)を得た。
実施例3
当量1000のポリテトラメチレングリコール1モル、
ネオペンチルグリコール3モル及び1.4−ブタンジオ
ール1モルとTDI5.9モルを反応させウレタンブロ
ック(U + s )を得た。またアジピン酸と1.8
−ヘキサンジオールとを反応して得られる当量500の
ポリエステルジオール1モルと1.8−ヘキサンジオー
ル1.5モルとMDI3モルとを反応してポリウレタン
ブロック(U*a)を得た。重量比でU +a/ U
ts = 1 / 2となるように配合し、これにネオ
ペンチルグリコールを加えて反応して数平均分子量25
、GOGで分子量末端にOH基を持つウレタン樹脂(
U−3)を得た。実施例1と同様にして磁性塗料(D3
)を作成し、磁気テープ(Es)を得た。
ネオペンチルグリコール3モル及び1.4−ブタンジオ
ール1モルとTDI5.9モルを反応させウレタンブロ
ック(U + s )を得た。またアジピン酸と1.8
−ヘキサンジオールとを反応して得られる当量500の
ポリエステルジオール1モルと1.8−ヘキサンジオー
ル1.5モルとMDI3モルとを反応してポリウレタン
ブロック(U*a)を得た。重量比でU +a/ U
ts = 1 / 2となるように配合し、これにネオ
ペンチルグリコールを加えて反応して数平均分子量25
、GOGで分子量末端にOH基を持つウレタン樹脂(
U−3)を得た。実施例1と同様にして磁性塗料(D3
)を作成し、磁気テープ(Es)を得た。
比較例1
実施例におけるウレタン樹脂(U−1)と組成が同じに
なるように以下の組成で一括して反応を行った。
なるように以下の組成で一括して反応を行った。
当量500のポリプロピレングリコール 1モル当量1
,000のポリカプロラクトン 1 モルネオペンチ
ルグリコール 6 モルMDI
7.7モル数平均分子量22.300
で分子末端にOH基を有するウレタン樹脂(U−4)を
得た。実施例1と同様にして磁性塗料(D4)を作成し
、磁気テープ(Ej)を得た。試験例 実施例1〜3および比較例1で得られたテープについて
、表面の光沢度、磁気特性(角型比)、耐加水分解性を
評価した。
,000のポリカプロラクトン 1 モルネオペンチ
ルグリコール 6 モルMDI
7.7モル数平均分子量22.300
で分子末端にOH基を有するウレタン樹脂(U−4)を
得た。実施例1と同様にして磁性塗料(D4)を作成し
、磁気テープ(Ej)を得た。試験例 実施例1〜3および比較例1で得られたテープについて
、表面の光沢度、磁気特性(角型比)、耐加水分解性を
評価した。
光沢度:光沢針を用い60゜
6「の正反射率を測
定した。
角型比:振動試料型磁力計を用い測定した。
耐加水分解性:フィルムを80℃×95%RHで7日間
放置後の破断強度保持率。
放置後の破断強度保持率。
[発明の効果]
本発明の磁気記録材料用バインダーおよび磁気記録材料
は、従来のバインダーに比べて、次のような効果を奏す
る。
は、従来のバインダーに比べて、次のような効果を奏す
る。
(1)耐加水分解性が優れている。
(2)磁性粉に対する分散性が優れている。
(3)支持体フィルムに対する密着性に優れている。
以上の効果を奏するところから本発明のバインダーおよ
び材料は、例えばオーディオテープ、ビデオテープ、コ
ンピューターテープ、データーレコーダーテープ、ビデ
オシート、メタルテープ、メタルディスク、磁気カード
用の磁気記録材料用バインダーおよび磁気記録材料とし
て有用である。
び材料は、例えばオーディオテープ、ビデオテープ、コ
ンピューターテープ、データーレコーダーテープ、ビデ
オシート、メタルテープ、メタルディスク、磁気カード
用の磁気記録材料用バインダーおよび磁気記録材料とし
て有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ポリエーテル系ポリウレタンブロック(U_1)と
ポリエステル系ポリウレタンブロック(U_2)を含有
するウレタン樹脂(U)からなることを特徴とする磁気
記録材料用バインダー。 2、ポリエーテル系ポリウレタンブロックが高分子ポリ
エーテルジオール(A_1)と低分子活性水素含を化合
物(a)とからなる活性水素含有化合物(A)と有機ポ
リイソシアネート(B)とからのブロックである請求項
1記載のバインダー。 3、ポリエステル系ポリウレタンブロックが高分子ポリ
エステルジオール(A_2)と低分子活性水素含有化合
物(a)とからなる活性水素含有化合物(A’)と有機
ポリイソシアネート(B)とからのブロックである請求
項1または2記載のバインダー。 4、請求項1〜3のいずれか記載のバインダーと磁性体
を含有させてなることを特徴とする磁気記録材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34473989A JPH03201211A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | バインダーおよび磁気記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34473989A JPH03201211A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | バインダーおよび磁気記録材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03201211A true JPH03201211A (ja) | 1991-09-03 |
Family
ID=18371602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34473989A Pending JPH03201211A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | バインダーおよび磁気記録材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03201211A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5578376A (en) * | 1994-04-07 | 1996-11-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium having a magnetic layer comprising a specified ferromagnetic metal powder and a specified polyurethane binder |
CN111941292A (zh) * | 2020-08-17 | 2020-11-17 | 中山德立洁具有限公司 | 一种研磨用磨轮及其制备工艺 |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP34473989A patent/JPH03201211A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5578376A (en) * | 1994-04-07 | 1996-11-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium having a magnetic layer comprising a specified ferromagnetic metal powder and a specified polyurethane binder |
CN111941292A (zh) * | 2020-08-17 | 2020-11-17 | 中山德立洁具有限公司 | 一种研磨用磨轮及其制备工艺 |
CN111941292B (zh) * | 2020-08-17 | 2022-03-01 | 中山德立洁具有限公司 | 一种制备研磨用磨轮的工艺 |
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