JPH1152399A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法Info
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- JPH1152399A JPH1152399A JP22197897A JP22197897A JPH1152399A JP H1152399 A JPH1152399 A JP H1152399A JP 22197897 A JP22197897 A JP 22197897A JP 22197897 A JP22197897 A JP 22197897A JP H1152399 A JPH1152399 A JP H1152399A
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Abstract
一性を実現することができる液晶表示装置の製造方法を
提供する。 【解決手段】 セル50の排気ポートに排気コネクタ5
を接続し、注入ポートに注入コネクタ6を接続した状態
で、排気コネクタ5を介してセル50内を吸引排気す
る。次に、注入コネクタ6を介して液晶をセル50内に
加圧注入する。次に、コネクタ5,6をセルに接続した
ままセル50を取り巻く気圧を大気圧より高くし、この
高圧状態を維持してセル50を構成する2枚の基板の平
坦度を向上させる。次に、セル50を取り巻く気圧を高
圧状態に維持したままコネクタ5,6をセル50から外
し、注入ポートと排気ポートに封止液を供給する。次
に、セルを取り巻く気圧を大気圧まで戻す。
Description
造する方法に関する。
いる液晶表示装置の製造方法について説明する。セルに
は、排気ポートと注入ポートが形成されている。これら
排気ポートと注入ポートにそれぞれ排気コネクタと注入
コネクタを接続した状態で、真空吸引手段を駆動させる
ことにより排気コネクタを介してセル内を真空吸引し、
セル内が所定の真空度に達した時に、液晶供給手段から
注入コネクタを介して液晶をセル内に加圧注入する。
傍で液晶が大気圧より高い圧力になっており、セルを構
成する2枚の基板間のギャップが正常状態より膨らんで
いる。これに対して、セルの排気ポート近傍では、真空
吸引された影響で液晶の圧力が大気圧より低く、2枚の
基板間のギャップがほぼスペーサビーズの径に対応する
幅となっている。
タと注入コネクタとを排気ポートと注入ポートに接続し
たまま、排気コネクタでの真空度を下げながら真空吸引
し、注入コネクタでの液晶圧力をゼロにした状態を所定
時間継続する。これにより、セル内での液晶圧力を均一
にし、ひいては注入ポート近傍でのギャップの膨らみを
解消し、セルを構成する2枚の基板の平坦度を上げる。
この後で、排気コネクタと注入コネクタをセルから外
し、速やかに封止液をポートに供給して、ポートを塞
ぐ。
る2枚の基板はもともとミクロン単位で見れば平坦では
なく、例えば中央が膨らんでいたり、うねりがある。こ
のような基板の歪みは、上記公報の方法では解消され
ず、最終製品である液晶表示装置のギャップの不均一を
もたらす。このギャップの不均一、すなわち液晶厚さの
不均一さは、非常に高い表示性能の達成を阻害する要因
になる。
液晶表示装置の製造方法は、(イ)注入コネクタをセル
のポートに接続した状態で、注入コネクタを介して液晶
をセル内に加圧注入する工程と、(ロ)上記液晶注入工
程が完了した後で、注入コネクタをセルに接続したま
ま、セルを取り巻く気圧を大気圧より高くし、この高圧
状態を維持してセルを構成する2枚の基板の平坦度を向
上させる工程と、(ハ)上記基板平坦度向上工程の後
で、セルを取り巻く気圧を高圧状態に維持したまま注入
コネクタをセルから外して封止液を上記ポートに供給す
る工程と、(ニ)上記封止液供給工程の後に、セルを取
り巻く気圧を大気圧まで戻す工程とを備えたことを特徴
とする。
造方法は、(イ)セルの排気ポートに排気コネクタを接
続し、セルの注入ポートに注入コネクタを接続した状態
で、排気コネクタを介してセル内を真空吸引する排気工
程と、(ロ)セル内の真空度が所定レベルに達した後
に、排気コネクタを介しての真空吸引を継続したまま、
注入コネクタを介して液晶をセル内に加圧注入する工程
と、(ハ)上記液晶注入工程が完了した後で、排気コネ
クタおよび注入コネクタをセルに接続したまま排気コネ
クタを介しての吸引を継続し、セルを取り巻く気圧を大
気圧より高くし、この高圧状態を維持してセルを構成す
る2枚の基板の平坦度を向上させる工程と、(ニ)上記
基板平坦度向上工程の後で、セルを取り巻く気圧を高圧
状態に維持したまま排気コネクタと注入コネクタをセル
から外し、注入ポートと排気ポートに封止液を供給する
工程と、(ホ)上記封止液供給工程の後に、セルを取り
巻く気圧を大気圧まで戻す工程とを備えたことを特徴と
する。
表示装置の製造方法において、上記排気コネクタと注入
コネクタと封止液を供給する器具がハウジング内に配置
されており、このハウジング内でセルに対する排気と液
晶注入と封止液供給を行い、上記液晶注入工程の完了後
に、ハウジングに接続された加圧空気供給手段により、
ハウジング内の気圧を上げることを特徴とする。請求項
4の発明は、請求項2または3に記載の液晶表示装置の
製造方法において、上記液晶注入工程から基板平坦度向
上工程へ移行する時点で、注入コネクタでの液晶圧力を
下げるとともに、排気コネクタでの真空度を下げ、しか
も、上記基板平坦度向上工程において、排気コネクタを
介しての真空吸引を継続しながら、その真空度を徐々に
低下させることを特徴とする。請求項5の発明は、請求
項1〜4のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法に
おいて、上記封止液供給工程でのセルを取り巻く気圧
を、基板平坦度向上工程での気圧より高くしたことを特
徴とする。
3(A)を参照しながらセル50について説明してお
く。このセル50は、透明材料例えばガラスからなる2
枚の四角形の基板51,52を備えている。大型の液晶
表示装置の場合には、図に示すように、第1基板51は
第2基板52より大きい。第2基板52の周縁と第1基
板51の周縁近傍の互いに対峙する平坦面を接着剤53
で張り付けることにより、両者の間に数ミクロンの厚さ
のギャップ54が形成されている。そして、接着剤53
が介在されていない箇所が、排気ポート55と、注入ポ
ート56となっている。
いない自然状態では、基板51,52は、図3(A)に
誇張して示されているように、ミクロン単位の歪みを有
している。通常では、中央部が膨らんでいることが多
い。そのため、ギャップ54も不均一になっている。
構成を説明する。図1に示すように、装置はハウジング
1を有している。ハウジング1内には、固定台2が設置
されており、この固定台2の上面には、互いに対峙する
移動台3,4が移動可能に設置されている。移動台3に
は、2つの排気コネクタ5が上下位置調節可能に設けら
れており、移動台4には1つの注入コネクタ6が上下位
置調節可能に設けられている。また、固定台2には、セ
ル50を所定位置にセットする支持機構(図示しない)
も設けられている。
手段)と、液晶供給装置10(液晶供給手段)が収容さ
れている。この液晶供給装置10は、上記注入コネクタ
6に供給管11を介して接続されている。供給管11に
は開閉弁12が設けられている。ハウジング1外には真
空吸引ポンプ20(真空吸引手段)が配置されており、
この真空吸引ポンプ20は排気管21を介して上記排気
コネクタ5に接続されている。排気管21には、リリー
フ弁22が設けられるとともに、このリリーフ弁22と
排気コネクタ5との間に、開閉弁23,液晶トラップ,
真空度検出センサ等(図示しない)が設けられている。
第2ポート1bが形成されている。第1ポート1aに
は、常閉の開閉弁31を介してコンプレッサ30(加圧
空気供給手段)が接続されている。また、第2ポート1
bは、常開の開閉弁35を介して大気に連なっている。
のみ示す封止液供給器具40が収容されている。この封
止液供給器具40は、1枚のセル50に対応して3つ装
備されている。封止液供給器具40は、円筒形状のボデ
イ(図示しない)と、このボデイの先端に設けられたチ
ップ41(第1部材)と、このチップ41の基端近傍に
取り付けられたプレート42(第2部材)とを備えてい
る。チップ41は、ボデイの軸方向に延びて細長く形成
されている。チップ41の先端縁41aは鋭角をなし、
ボデイの軸方向と直交する直線(図4において紙面と直
交する直線)に沿って延びている。
向に延び、基端部を除く部位は、上記チップ41の平坦
面41bから離れて対峙している。プレート42は、チ
ップ41と同じ幅を有し、その先端縁42aはチップ4
1の先端縁41aと平行をなしている。これら先端縁4
1a,42aの幅は上記セル50のポート55,56の
幅より広い。
42との間に形成されるギャップ43(封止液のための
通路)は、先端に向かって狭くなっている。このギャッ
プ43は、チップ41の平坦面41bに形成された長手
方向に延びる溝(図示しない),円筒形状のボデイ,こ
のボデイに接続されたチューブを介して、封止液タンク
(図示しない)に接続されている。この封止液供給器具
40は図示しないロボットアーム等の移動機構によって
移動されるようになっている。
り、この制御ユニット45により上述した種々の構成要
素をシーケンス制御するようになっている。以下、この
制御を、主に図5のタイムチャートと図3を参照しなが
ら詳述する。ハウジング1の扉を開いて、セル50を支
持機構にセットした後、扉を閉じてハウジング1内を気
密状態にする。制御ユニット45は、電源オンに応答し
て、真空ポンプ20を駆動し、コンプレッサ30を駆動
する。また、加圧液晶供給装置10を駆動させて内部の
液晶を加圧する。次に、移動台3,4を移動させ、セッ
ト状態にあるセル50の排気ポート55に排気コネクタ
5を接続し、注入ポート56に注入コネクタ6を接続す
る。
ル50内の空気を、排気コネクタ5,排気管21を介し
て吸引排気し、セル50内の真空度を高める。この真空
吸引により、図3(B)に示すように、セル50の基板
51,52が、互いに近づくように引き付けられてギャ
ップ54内に収容された多数のスペーサビーズに当た
り、平坦になる。
rr)に達した時、開閉弁12を開き、これにより、加
圧液晶供給装置10からの加圧液晶LCを、供給管1
1,注入コネクタ6を経てセル50内へと注入する。こ
の液晶注入工程において、上記真空吸引を継続して実行
し、ヒータ7でセル50を加熱して液晶LCの粘度を低
下させる。これにより、円滑に液晶LCを注入すること
ができる。
し、2つの排気ポート55に達したことにより、液晶注
入工程が完了する。この完了時点で、ヒータ7による加
熱を終了し、上記加圧液晶供給装置10を制御して注入
コネクタ6の液晶圧力を所定レベルまで下げ、リリーフ
弁22を制御して、真空度を1Torrから所定レベル
例えばー750mmHgまで下げる。また、開閉弁31
を開いてコンプレッサ30のタンクからの圧縮空気をハ
ウジング1内に供給し、ハウジング1内を大気圧より高
い所定の気圧(例えば大気圧の1.5倍〜2倍程度)に
する。なお、ハウジング1内または開閉弁31の下流側
には図示しない圧力センサが設けられており、上記所定
気圧に達した時に開閉弁31を閉じる。
示すように、排気ポート55の近傍の液晶LCの圧力は
真空吸引の影響で大気圧より低く、この排気ポート55
近傍の2枚の基板51,52はスペーサビーズの規制を
受けてほぼ平坦になっている。他方、注入ポート56の
近傍では液晶LCの圧力が大気圧より高いので、基板5
1,52が膨らんでいる。この状態において、上述した
ように、ハウジング1内を高圧にしたことにより、セル
50を取り巻く気圧が基板51,52を押すことにな
り、その結果、基板51,52は徐々に互いに近づき、
本来もっている歪み(図3(A)参照)をも矯正され、
最終的に図3(D)に示すように高精度で平坦になり、
ひいては、スペーサビーズの径によって決定される均一
なギャップ54を得ることができる。
より基板51,52の平坦度を向上させる工程におい
て、注入ポート56から余分な液晶が漏れ出てくるが、
この注入ポート56には注入コネクタ6が接続されてい
るので、この液晶は開き状態の開閉便12を経て液晶供
給装置10へと戻される。なお、注入コネクタ6での液
晶圧力は、液晶注入完了時点で低下しているので、上記
液晶の漏出をより円滑に行うことができる。本実施形態
では液晶圧力をハウジング1内気圧より低くし大気圧よ
り若干高くしているが、大気圧まで下げてもよい。
工程において、液晶LCの圧力の均一化の経過に合わせ
てリリーフ弁22を制御して排気コネクタ5での真空度
を徐々に低下させる。これにより、排気ポート55から
セル50内へ空気が入り込むのを防止することができる
とともに、排気ポート55からの液晶LCの漏出を抑え
ることができる。
工程を、所定時間継続させた後で、バルブ12,23を
閉じ、排気コネクタ5,注入コネクタ6をセル50から
外す。またこれらコネクタ5,6を外す直前に開閉弁3
1を開いてハウジング1内の気圧をさらに上昇させ、所
望レベルに達した時に開閉弁31を閉じる。これによ
り、基板51,52が元の歪んだ形状に戻ろうとするの
をより一層確実に抑制でき、元の形状に戻る際にポート
55,56から空気を吸い込むのを確実に防止すること
ができる。
供給器具40を排気ポート55,注入ポート56に近づ
け、これらポート55,56に封止液SQを供給する。
封止液SQは、ギャップ43の先端部に毛細管現象によ
り入り込んでここで保持されており、チップ41の先端
縁41aとプレート42の先端縁42aを、セル50に
接触させることにより、ギャップ43の先端部に満たさ
れていた封止液SQが、毛細管現象によりポート55,
56に適量に供給され、ここを塞ぐ。
後、開閉弁35を開くことにより、ハウジング1を大気
圧に戻す。封止液SQは毛細管現象によりポート55,
56内に入り込む。なお、基板51,52が元に戻ろう
とすることによっても封止液SQのポート55,56へ
の侵入が促進される。この状態で、紫外線照射により封
止液SQを硬化させることにより、ポート55,56の
封止作業が終了する。
々の態様が可能である。例えば、セルは、排気と注入の
両方を兼用したポートを1つだけ形成してもよい。この
場合、例えばハウジング内を真空吸引してポートからセ
ル内の空気を排気し、セル内が所定の真空度に達した後
にこのポートに注入コネクタを接続し、液晶供給装置か
ら注入コネクタを介して加圧液晶を注入し、この液晶注
入工程が完了した後に、注入コネクタを接続したままハ
ウジングを大気圧より高くする。この後の工程は上述し
た実施形態と同様であるので省略する。また、ハウジン
グには、複数のセルを収容して、同時に処理してもよ
い。
の発明によれば、液晶注入完了後に、セルを取り巻く気
圧を高くすることにより、加圧液晶による2枚の基板の
歪みのみならず、これら基板が元来有している歪みをも
解消して高精度の平坦度を得ることができ、ひいては、
均一なギャップを得ることができ、非常に良好な表示性
能を得ることができる。また、コネクタを外したポート
に封止液を供給する過程でも、セルを取り巻く気圧を高
く維持しているので、基板が歪みのある形状に戻るのを
防止できるとともにポートから空気が入り込むのを防止
することができる。また、請求項1の発明では、基板平
坦度向上工程において、注入コネクタをセルに接続した
状態を維持するので、セル内から漏れ出た余分な液晶は
注入コネクタを介して回収することができる。また、請
求項2の発明では、基板平坦度向上工程において、注入
コネクタと排気コネクタをセルに接続した状態を維持す
るので、セル内から漏れ出た余分な液晶は注入コネクタ
を介して回収することができるとともに、排気コネクタ
を介しての吸引の継続により排気ポートからの空気のセ
ル内への侵入を防止できる。請求項3の発明によれば、
ハウジング内で排気,液晶注入,封止液供給を行い、ハ
ウジングに加圧空気を供給することにより、セルの基板
の平坦度を向上させるので、これら作業を円滑に行うこ
とができる。請求項4の発明によれば、基板平坦度向上
工程において、注入コネクタでの液晶圧力を下げるの
で、基板を短時間で平坦にすることができ、また液晶圧
力の均一化の経過にしたがって排気コネクタでの真空度
を徐々に下げるので排気ポートからの空気の侵入を防止
できるとともに、この排気ポートからの液晶漏れを抑制
することができる。請求項5の発明によれば、上記封止
液供給工程でのセルを取り巻く気圧を、基板平坦度向上
工程での気圧より高くしたことにより、コネクタを外し
ても基板の自然歪み形状への戻りを抑制でき、ポートか
らの空気の侵入を防止することができる。
る。
での、セルの基板および基板間のギャップの状態を示す
断面図であり、この図において、基板の歪み量,ギャッ
プの寸法は誇張して示されている。
ある。
Claims (5)
- 【請求項1】(イ)注入コネクタをセルのポートに接続
した状態で、注入コネクタを介して液晶をセル内に加圧
注入する工程と、(ロ)上記液晶注入工程が完了した後
で、注入コネクタをセルに接続したまま、セルを取り巻
く気圧を大気圧より高くし、この高圧状態を維持してセ
ルを構成する2枚の基板の平坦度を向上させる工程と、
(ハ)上記基板平坦度向上工程の後で、セルを取り巻く
気圧を高圧状態に維持したまま注入コネクタをセルから
外して封止液を上記ポートに供給する工程と、(ニ)上
記封止液供給工程の後に、セルを取り巻く気圧を大気圧
まで戻す工程とを備えたことを特徴とする液晶表示装置
の製造方法。 - 【請求項2】(イ)セルの排気ポートに排気コネクタを
接続し、セルの注入ポートに注入コネクタを接続した状
態で、排気コネクタを介してセル内を真空吸引する排気
工程と、(ロ)セル内の真空度が所定レベルに達した後
に、排気コネクタを介しての真空吸引を継続したまま、
注入コネクタを介して液晶をセル内に加圧注入する工程
と、(ハ)上記液晶注入工程が完了した後で、排気コネ
クタおよび注入コネクタをセルに接続したまま排気コネ
クタを介しての吸引を継続し、セルを取り巻く気圧を大
気圧より高くし、この高圧状態を維持してセルを構成す
る2枚の基板の平坦度を向上させる工程と、(ニ)上記
基板平坦度向上工程の後で、セルを取り巻く気圧を高圧
状態に維持したまま排気コネクタと注入コネクタをセル
から外し、注入ポートと排気ポートに封止液を供給する
工程と、(ホ)上記封止液供給工程の後に、セルを取り
巻く気圧を大気圧まで戻す工程とを備えたことを特徴と
する液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項3】 上記排気コネクタと注入コネクタと封止
液を供給する器具がハウジング内に配置されており、こ
のハウジング内でセルに対する排気と液晶注入と封止液
供給を行い、上記液晶注入工程の完了後に、ハウジング
に接続された加圧空気供給手段により、ハウジング内の
気圧を上げることを特徴とする請求項2に記載の液晶表
示装置の製造方法。 - 【請求項4】 上記液晶注入工程から基板平坦度向上工
程へ移行する時点で、注入コネクタでの液晶圧力を下げ
るとともに、排気コネクタでの真空度を下げ、しかも、
上記基板平坦度向上工程において、排気コネクタを介し
ての真空吸引を継続しながら、その真空度を徐々に低下
させることを特徴とする請求項2または3に記載の液晶
表示装置の製造方法。 - 【請求項5】 上記封止液供給工程でのセルを取り巻く
気圧を、基板平坦度向上工程での気圧より高くしたこと
を特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の液晶表示
装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22197897A JP4021011B2 (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22197897A JP4021011B2 (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1152399A true JPH1152399A (ja) | 1999-02-26 |
JP4021011B2 JP4021011B2 (ja) | 2007-12-12 |
Family
ID=16775163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22197897A Expired - Lifetime JP4021011B2 (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 液晶表示装置の製造方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4021011B2 (ja) |
-
1997
- 1997-08-04 JP JP22197897A patent/JP4021011B2/ja not_active Expired - Lifetime
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