JP2003107487A - 液晶表示装置の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶表示装置の製造方法及び製造装置に関
し、基板の貼り合わせ時に基板を適切に保持することが
できるようにすることを目的とする。 【解決手段】 第１及び第２の基板の間に挿入された液
晶と、周辺シールとを有する液晶表示装置の製造方法に
おいて、第１の基板のシールで規定される領域内に液晶
を滴下し、第１の基板１２と第２の基板１４とを真空の
チャンバ２４内で加圧して貼り合わせ、第１の基板と第
２の基板とを加圧したままでチャンバ２４を大気に開放
し、第１の基板と第２の基板との加圧を解除した後で、
周辺シール１８に光を照射するステップを含む。
し、基板の貼り合わせ時に基板を適切に保持することが
できるようにすることを目的とする。 【解決手段】 第１及び第２の基板の間に挿入された液
晶と、周辺シールとを有する液晶表示装置の製造方法に
おいて、第１の基板のシールで規定される領域内に液晶
を滴下し、第１の基板１２と第２の基板１４とを真空の
チャンバ２４内で加圧して貼り合わせ、第１の基板と第
２の基板とを加圧したままでチャンバ２４を大気に開放
し、第１の基板と第２の基板との加圧を解除した後で、
周辺シール１８に光を照射するステップを含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置の製造
方法及び製造装置に関する。
方法及び製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、第１及び第２の基板
と、これらの基板の間に挿入された液晶とからなる。例
えば、第１及び第２の基板の一方はＴＦＴを形成したＴ
ＦＴ基板であり、他方の基板とカラーフィルタを形成し
たカラーフィルタ基板である。第１の基板には光硬化性
シール剤からなる周辺シールが形成され、周辺シールは
第１及び第２の基板を貼り合わせた後で紫外線を照射す
ることにより硬化する。液晶は周辺シールによって取り
囲まれた領域に挿入される。
と、これらの基板の間に挿入された液晶とからなる。例
えば、第１及び第２の基板の一方はＴＦＴを形成したＴ
ＦＴ基板であり、他方の基板とカラーフィルタを形成し
たカラーフィルタ基板である。第１の基板には光硬化性
シール剤からなる周辺シールが形成され、周辺シールは
第１及び第２の基板を貼り合わせた後で紫外線を照射す
ることにより硬化する。液晶は周辺シールによって取り
囲まれた領域に挿入される。
【０００３】従来の液晶表示装置の製造方法において
は、周辺シールに注入孔が設けられ、第１及び第２の基
板を貼り合わせた後、液晶は真空チャンバ内で周辺シー
ルに設けた注入孔から注入される。その後、周辺シール
の注入孔は塞がされ、第１及び第２の基板からなる液晶
パネルは真空チャンバの外部へ取り出され、周辺シール
は適切なセルギャップを形成するように加圧される。周
辺シールは紫外線の照射により硬化する。
は、周辺シールに注入孔が設けられ、第１及び第２の基
板を貼り合わせた後、液晶は真空チャンバ内で周辺シー
ルに設けた注入孔から注入される。その後、周辺シール
の注入孔は塞がされ、第１及び第２の基板からなる液晶
パネルは真空チャンバの外部へ取り出され、周辺シール
は適切なセルギャップを形成するように加圧される。周
辺シールは紫外線の照射により硬化する。
【０００４】特開平８−１９００９９号公報及び特開２
０００−６６１６３号公報は、滴下注入法と呼ばれる液
晶表示装置の製造方法を開示している。滴下注入法で
は、第１の基板に周辺シールを形成し且つ液晶を滴下す
る。それから、第１の基板と第２の基板とを真空のチャ
ンバ内で加圧して貼り合わせる。それから、第１の基板
と第２の基板との加圧を解除し、第１の基板と第２の基
板を大気に開放する。周辺シールは紫外線の照射により
硬化される。滴下注入法によれば、製造工程が短縮さ
れ、液晶表示装置の製造コストを低減することができ
る。
０００−６６１６３号公報は、滴下注入法と呼ばれる液
晶表示装置の製造方法を開示している。滴下注入法で
は、第１の基板に周辺シールを形成し且つ液晶を滴下す
る。それから、第１の基板と第２の基板とを真空のチャ
ンバ内で加圧して貼り合わせる。それから、第１の基板
と第２の基板との加圧を解除し、第１の基板と第２の基
板を大気に開放する。周辺シールは紫外線の照射により
硬化される。滴下注入法によれば、製造工程が短縮さ
れ、液晶表示装置の製造コストを低減することができ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】滴下注入法において
は、第１の基板と第２の基板とは真空のチャンバ内で加
圧され貼り合わせられる。このために、第１の基板と第
２の基板とはそれぞれの支持部材により真空のチャンバ
内で支持される。これらの支持部材は上定盤及び下定盤
と呼ばれ、液晶が滴下された第１の基板は下定盤に固定
され、第２の基板は上定盤に固定される。上定盤は可動
であり、上定盤を下定盤に向かって移動させることによ
り、第１の基板と第２の基板とを真空のチャンバ内で加
圧して貼り合わせることができる。
は、第１の基板と第２の基板とは真空のチャンバ内で加
圧され貼り合わせられる。このために、第１の基板と第
２の基板とはそれぞれの支持部材により真空のチャンバ
内で支持される。これらの支持部材は上定盤及び下定盤
と呼ばれ、液晶が滴下された第１の基板は下定盤に固定
され、第２の基板は上定盤に固定される。上定盤は可動
であり、上定盤を下定盤に向かって移動させることによ
り、第１の基板と第２の基板とを真空のチャンバ内で加
圧して貼り合わせることができる。
【０００６】第１の基板と第２の基板とをそれぞれ静電
チャックにより上定盤及び下定盤に固定する。静電チャ
ックは半導体製造工程で基板保持手段として一般的に使
用されている。しかし、静電チャックは液晶表示装置の
基板として使用されるガラス基板を吸着するには吸着力
が十分でない場合がある。例えば、ガラス基板の表面が
静電チャックの表面とぴったりと接触していないと、静
電チャックはガラス基板を十分に保持できないことがあ
る。そこで、静電チャックによる吸着と真空による吸着
とを併用して、ガラス基板を上定盤及び下定盤に十分に
保持させる試みが行われている。
チャックにより上定盤及び下定盤に固定する。静電チャ
ックは半導体製造工程で基板保持手段として一般的に使
用されている。しかし、静電チャックは液晶表示装置の
基板として使用されるガラス基板を吸着するには吸着力
が十分でない場合がある。例えば、ガラス基板の表面が
静電チャックの表面とぴったりと接触していないと、静
電チャックはガラス基板を十分に保持できないことがあ
る。そこで、静電チャックによる吸着と真空による吸着
とを併用して、ガラス基板を上定盤及び下定盤に十分に
保持させる試みが行われている。
【０００７】静電吸着保持と真空吸着保持とを併用する
場合、第１の基板と第２の基板とを真空中で加圧して貼
り合わせた後、真空チャンバ内で上定盤を下定盤から離
れるように動かして加圧を解除し、それから真空のチャ
ンバを大気に開放する。しかし、この場合、基板にかか
っていた圧力を真空中で解除すると、周辺シールは圧縮
された状態から圧縮力が解除されて引き延ばされた状態
になり、周辺シールの形状が不均一になり、液晶のリー
クやギャップ不良が起きるという問題点があった。
場合、第１の基板と第２の基板とを真空中で加圧して貼
り合わせた後、真空チャンバ内で上定盤を下定盤から離
れるように動かして加圧を解除し、それから真空のチャ
ンバを大気に開放する。しかし、この場合、基板にかか
っていた圧力を真空中で解除すると、周辺シールは圧縮
された状態から圧縮力が解除されて引き延ばされた状態
になり、周辺シールの形状が不均一になり、液晶のリー
クやギャップ不良が起きるという問題点があった。
【０００８】本発明の目的は、基板の貼り合わせ時に基
板を適切に保持することができるようにした液晶表示装
置の製造方法及び製造装置を提供することである。
板を適切に保持することができるようにした液晶表示装
置の製造方法及び製造装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示装
置の製造方法は、第１及び第２の基板と、該第１及び第
２の基板の間に挿入された液晶と、該液晶を取り囲むよ
うに該第１及び第２の基板の間に設けられたシールとを
有する液晶表示装置の製造方法において、第１の基板に
光硬化性シールを形成し、該第１の基板のシールで規定
される領域内に液晶を滴下し、該第１の基板と第２の基
板とを真空のチャンバ内で加圧して貼り合わせ、該第１
の基板と第２の基板とを加圧したままで該チャンバを大
気に開放し、該第１の基板と第２の基板との加圧を解除
した後で、該シールに光を照射して該シールを硬化させ
る、以上のステップを含むことを特徴とするものであ
る。
置の製造方法は、第１及び第２の基板と、該第１及び第
２の基板の間に挿入された液晶と、該液晶を取り囲むよ
うに該第１及び第２の基板の間に設けられたシールとを
有する液晶表示装置の製造方法において、第１の基板に
光硬化性シールを形成し、該第１の基板のシールで規定
される領域内に液晶を滴下し、該第１の基板と第２の基
板とを真空のチャンバ内で加圧して貼り合わせ、該第１
の基板と第２の基板とを加圧したままで該チャンバを大
気に開放し、該第１の基板と第２の基板との加圧を解除
した後で、該シールに光を照射して該シールを硬化させ
る、以上のステップを含むことを特徴とするものであ
る。
【００１０】また、本発明による液晶表示装置の製造装
置は、真空及び大気圧を導入可能なチャンバと、光硬化
性シールが形成され、該シールで規定される領域内に液
晶が滴下された第１の基板を支持するための第１の支持
部材と、第２の基板を支持するための第２の支持部材
と、該第１及び第２の支持部材のうちの可動である一方
の基板に設けられ、対応する一方の基板を該一方の支持
部材に固定させるための静電チャックおよび該静電チャ
ックに設けられた真空吸着通路と、該真空吸着通路に真
空を供給する真空吸着ラインと、該真空吸着通路と該チ
ャンバの内部とを流体流通可能に接続する真空吸着ライ
ンと、を備えたことを特徴とするものである。
置は、真空及び大気圧を導入可能なチャンバと、光硬化
性シールが形成され、該シールで規定される領域内に液
晶が滴下された第１の基板を支持するための第１の支持
部材と、第２の基板を支持するための第２の支持部材
と、該第１及び第２の支持部材のうちの可動である一方
の基板に設けられ、対応する一方の基板を該一方の支持
部材に固定させるための静電チャックおよび該静電チャ
ックに設けられた真空吸着通路と、該真空吸着通路に真
空を供給する真空吸着ラインと、該真空吸着通路と該チ
ャンバの内部とを流体流通可能に接続する真空吸着ライ
ンと、を備えたことを特徴とするものである。
【００１１】上記構成によれば、第１の基板と第２の基
板とを真空のチャンバ内で加圧して貼り合わせた後、第
１の基板と第２の基板とを加圧したままでチャンバを大
気に開放するようにしたので、基板にかかっていた圧力
を大気圧中で解除することができ、周辺シールの形状が
不均一にならなくなった。
板とを真空のチャンバ内で加圧して貼り合わせた後、第
１の基板と第２の基板とを加圧したままでチャンバを大
気に開放するようにしたので、基板にかかっていた圧力
を大気圧中で解除することができ、周辺シールの形状が
不均一にならなくなった。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施例について図面
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【００１３】図１は一実施例の液晶表示装置の一方の基
板を示す斜視図、図２は図１の基板を含む液晶表示装置
の略断面図である。
板を示す斜視図、図２は図１の基板を含む液晶表示装置
の略断面図である。
【００１４】図２において、液晶表示装置１０は、第１
及び第２の基板１２，１４と、第１及び第２の基板１
２，１４の間に挿入された液晶１６と、液晶１６を取り
囲むように第１及び第２の基板１２，１４の間に設けら
れたシール（周辺シール）１８とを有する。液晶表示装
置１０は、アクティブマトリックス型液晶表示装置であ
り、一方の基板はＴＦＴを形成したＴＦＴ基板であり、
他方の基板はカラーフィルタを形成したカラーフィルタ
基板である。液晶表示装置１０は、滴下注入法によって
製造されたものである。
及び第２の基板１２，１４と、第１及び第２の基板１
２，１４の間に挿入された液晶１６と、液晶１６を取り
囲むように第１及び第２の基板１２，１４の間に設けら
れたシール（周辺シール）１８とを有する。液晶表示装
置１０は、アクティブマトリックス型液晶表示装置であ
り、一方の基板はＴＦＴを形成したＴＦＴ基板であり、
他方の基板はカラーフィルタを形成したカラーフィルタ
基板である。液晶表示装置１０は、滴下注入法によって
製造されたものである。
【００１５】図１において、液晶１６はディスペンサ２
０から液滴状に第２の基板１４上に滴下される。ディス
ペンサ２０は図２の矢印で示されるように移動しながら
液晶１６を周辺シール１８で取り囲まれた領域に滴下す
る。周辺シール１８を形成するシール剤はＵＶ硬化性接
着性樹脂またはＵＶと熱の併用によって硬化する接着性
樹脂からなる。そのようなシール剤が第２の基板１４に
塗布され、後で硬化される。第１の基板１２にはスペー
サに接着剤をコーティングした接着性スペーサが塗布さ
れる。スペースの代わりに支柱を設けてスペース散布工
程を省くこともできる。
０から液滴状に第２の基板１４上に滴下される。ディス
ペンサ２０は図２の矢印で示されるように移動しながら
液晶１６を周辺シール１８で取り囲まれた領域に滴下す
る。周辺シール１８を形成するシール剤はＵＶ硬化性接
着性樹脂またはＵＶと熱の併用によって硬化する接着性
樹脂からなる。そのようなシール剤が第２の基板１４に
塗布され、後で硬化される。第１の基板１２にはスペー
サに接着剤をコーティングした接着性スペーサが塗布さ
れる。スペースの代わりに支柱を設けてスペース散布工
程を省くこともできる。
【００１６】図３は本発明による液晶表示装置の製造方
法及び製造装置を示す断面図である。図４は図３の上ハ
ウジングを下ハウジングに向かって移動させた状態にお
ける図３の製造装置を示す断面図、図５は図４の上定盤
を下定盤に向かって移動させた状態における図４の製造
装置を示す断面図である。
法及び製造装置を示す断面図である。図４は図３の上ハ
ウジングを下ハウジングに向かって移動させた状態にお
ける図３の製造装置を示す断面図、図５は図４の上定盤
を下定盤に向かって移動させた状態における図４の製造
装置を示す断面図である。
【００１７】図３から図５において、液晶表示装置の製
造装置２２は、チャンバ２４を含む。チャンバ２４は可
動の上ハウジング２６と固定の下ハウジング２８とから
なる。パッキン３０が上ハウジング２６と下ハウジング
２８との間に配置され、チャンバ２４の内部３２が密封
された空間になる。
造装置２２は、チャンバ２４を含む。チャンバ２４は可
動の上ハウジング２６と固定の下ハウジング２８とから
なる。パッキン３０が上ハウジング２６と下ハウジング
２８との間に配置され、チャンバ２４の内部３２が密封
された空間になる。
【００１８】チャンバ２４は、真空を導入するために真
空ポンプ３４に接続された真空通路３６と、大気圧を導
入するためのパージ通路４０とを有する。弁３８が真空
通路３６に配置され、弁４２がパージ通路４０に配置さ
れる。パージ通路４０は窒素などの不活性ガスをチャン
バ２４に導入するようになっている。
空ポンプ３４に接続された真空通路３６と、大気圧を導
入するためのパージ通路４０とを有する。弁３８が真空
通路３６に配置され、弁４２がパージ通路４０に配置さ
れる。パージ通路４０は窒素などの不活性ガスをチャン
バ２４に導入するようになっている。
【００１９】下定盤４４は下ハウジング２８に設けら
れ、周辺シール１８が形成され、周辺シール１８で規定
される領域内に液晶１６が滴下された第２の基板１４を
支持する。下定盤４４は静電チャック４６を含み、静電
チャック４６は真空吸着通路４８を有する。静電チャッ
ク４６は図示しない公知の電極を有し、その電極に通電
することにより発生する静電力によって静電チャック４
６の上に配置された第２の基板１４を固定させる。真空
吸着通路４８は静電チャック４６の表面に開口し、真空
源から供給された真空力により静電チャック４６の上に
配置された第２の基板１４を固定させる。
れ、周辺シール１８が形成され、周辺シール１８で規定
される領域内に液晶１６が滴下された第２の基板１４を
支持する。下定盤４４は静電チャック４６を含み、静電
チャック４６は真空吸着通路４８を有する。静電チャッ
ク４６は図示しない公知の電極を有し、その電極に通電
することにより発生する静電力によって静電チャック４
６の上に配置された第２の基板１４を固定させる。真空
吸着通路４８は静電チャック４６の表面に開口し、真空
源から供給された真空力により静電チャック４６の上に
配置された第２の基板１４を固定させる。
【００２０】上定盤５０は上ハウジング２６に可動可能
に設けられ、第１の基板１２を支持する。上定盤５０は
静電チャック５２を含み、静電チャック５２は真空吸着
通路５４を有する。静電チャック５２は図示しない公知
の電極を有し、その電極に通電することにより発生する
静電力によって静電チャック５２の下に配置された第１
の基板１２を固定させる。真空吸着通路５４は静電チャ
ック５２の表面に開口し、真空源から供給された真空力
により静電チャック５２の下に配置された第２の基板１
４を固定させる。
に設けられ、第１の基板１２を支持する。上定盤５０は
静電チャック５２を含み、静電チャック５２は真空吸着
通路５４を有する。静電チャック５２は図示しない公知
の電極を有し、その電極に通電することにより発生する
静電力によって静電チャック５２の下に配置された第１
の基板１２を固定させる。真空吸着通路５４は静電チャ
ック５２の表面に開口し、真空源から供給された真空力
により静電チャック５２の下に配置された第２の基板１
４を固定させる。
【００２１】さらに、真空吸着ライン５６が下定盤４４
の静電チャック４６の真空吸着通路４８に接続され、真
空吸着通路４８に真空を供給する。真空吸着ライン５６
は弁５８を有する。真空吸着ライン５６はチャンバ２４
の内部３２を貫通して延びる。真空吸着ライン６０が上
定盤５０の静電チャック５２の真空吸着通路５４に接続
され、真空吸着通路５４に真空を供給する。真空吸着ラ
イン６０は弁６２を有する。真空吸着ライン６０はチャ
ンバ２４の内部３２を貫通して延びる。
の静電チャック４６の真空吸着通路４８に接続され、真
空吸着通路４８に真空を供給する。真空吸着ライン５６
は弁５８を有する。真空吸着ライン５６はチャンバ２４
の内部３２を貫通して延びる。真空吸着ライン６０が上
定盤５０の静電チャック５２の真空吸着通路５４に接続
され、真空吸着通路５４に真空を供給する。真空吸着ラ
イン６０は弁６２を有する。真空吸着ライン６０はチャ
ンバ２４の内部３２を貫通して延びる。
【００２２】さらに、同圧ライン６４が真空吸着ライン
５６の弁５８の下流側において真空吸着ライン５６に接
続され、且つチャンバ２４の内部３２に接続される。同
圧ライン６４は弁６６を有する。同圧ライン６８が真空
吸着ライン６０の弁６２の下流側において真空吸着ライ
ン６０に接続され、且つチャンバ２４の内部３２に接続
される。同圧ライン６８は弁７０を有する。
５６の弁５８の下流側において真空吸着ライン５６に接
続され、且つチャンバ２４の内部３２に接続される。同
圧ライン６４は弁６６を有する。同圧ライン６８が真空
吸着ライン６０の弁６２の下流側において真空吸着ライ
ン６０に接続され、且つチャンバ２４の内部３２に接続
される。同圧ライン６８は弁７０を有する。
【００２３】図３においては、可動の上ハウジング２６
は下ハウジング２８から離れており、チャンバ２４は開
放されている。この状態で、第１及び第２の基板１２，
１４が上定盤５０の静電チャック５２及び下定盤４４の
静電チャック４６にそれぞれ取り付けられる。このと
き、真空吸着ライン５６，６０の弁５８，６２はともに
開かれ、同圧ライン６４，６８の弁６６，７０は閉じら
れている。
は下ハウジング２８から離れており、チャンバ２４は開
放されている。この状態で、第１及び第２の基板１２，
１４が上定盤５０の静電チャック５２及び下定盤４４の
静電チャック４６にそれぞれ取り付けられる。このと
き、真空吸着ライン５６，６０の弁５８，６２はともに
開かれ、同圧ライン６４，６８の弁６６，７０は閉じら
れている。
【００２４】静電チャック４６，５２の真空吸着通路４
８，５４に真空が導入され、第１及び第２の基板１２，
１４は真空吸着力によって静電チャック４６，５２にそ
れぞれぴったりと吸着される。同時もしくはその後に、
真空チャック４６，５２の電極には電流が流され、第１
及び第２の基板１２，１４は静電吸着力によって静電チ
ャック４６，５２に吸着される。真空吸着力がない場合
には、第１及び第２の基板１２，１４の表面が平坦でな
いと静電吸着力の作用が弱められるが、真空吸着をした
上で静電吸着力をするので、第１及び第２の基板１２，
１４は静電チャック４６，５２に確実に保持される。
８，５４に真空が導入され、第１及び第２の基板１２，
１４は真空吸着力によって静電チャック４６，５２にそ
れぞれぴったりと吸着される。同時もしくはその後に、
真空チャック４６，５２の電極には電流が流され、第１
及び第２の基板１２，１４は静電吸着力によって静電チ
ャック４６，５２に吸着される。真空吸着力がない場合
には、第１及び第２の基板１２，１４の表面が平坦でな
いと静電吸着力の作用が弱められるが、真空吸着をした
上で静電吸着力をするので、第１及び第２の基板１２，
１４は静電チャック４６，５２に確実に保持される。
【００２５】図４においては、可動の上ハウジング２６
は下ハウジング２８に押しつけられており、チャンバ２
４は閉鎖される。第１及び第２の基板１２，１４が静電
チャック４６，５２に静電吸着された後、あるいは図４
の状態になったときに、真空吸着ライン５６，６０の弁
５８，６２はともに閉じられ、同圧ライン６４，６８の
弁６６，７０は開かれる。これによって、チャンバ２４
の内部３２の圧力又は真空が真空吸着ライン５６，６０
を通って外部へ逃げることはなく、且つ静電チャック４
６，５２の真空吸着通路４８，５４とチャンバ２４の内
部３２とが流体流通可能に接続され、これらの部分は同
圧になる。第１及び第２の基板１２，１４が静電チャッ
ク４６，５２に静電吸着された後は、静電チャック４
６，５２の真空吸着通路４８，５４の圧力は低下しても
第１及び第２の基板１２，１４は静電吸着力によって静
電チャック４６，５２に確実に保持される。
は下ハウジング２８に押しつけられており、チャンバ２
４は閉鎖される。第１及び第２の基板１２，１４が静電
チャック４６，５２に静電吸着された後、あるいは図４
の状態になったときに、真空吸着ライン５６，６０の弁
５８，６２はともに閉じられ、同圧ライン６４，６８の
弁６６，７０は開かれる。これによって、チャンバ２４
の内部３２の圧力又は真空が真空吸着ライン５６，６０
を通って外部へ逃げることはなく、且つ静電チャック４
６，５２の真空吸着通路４８，５４とチャンバ２４の内
部３２とが流体流通可能に接続され、これらの部分は同
圧になる。第１及び第２の基板１２，１４が静電チャッ
ク４６，５２に静電吸着された後は、静電チャック４
６，５２の真空吸着通路４８，５４の圧力は低下しても
第１及び第２の基板１２，１４は静電吸着力によって静
電チャック４６，５２に確実に保持される。
【００２６】ここで、真空通路３６の弁３８が開放さ
れ、チャンバ２４の内部３２に真空が導入される。例え
ば、チャンバ２４の内部３２は１Pa程度まで排気され
る。この真空は、第１及び第２の基板１２，１４の表面
に作用するとともに、同圧ライン６４，６８を通って静
電チャック４６，５２の真空吸着通路４８，５４にも導
入される。従って、第１及び第２の基板１２，１４の上
側及び下側に同じ真空圧力が作用した状態で、第１及び
第２の基板１２，１４は静電吸着力によって静電チャッ
ク４６，５２に保持される。もしも同圧ライン６４，６
８がない場合には、真空通路３６からチャンバ２４の内
部３２に導入された真空が第１及び第２の基板１２，１
４の表面に強く作用して、静電吸着力に打ち勝つと、第
１及び第２の基板１２，１４が静電チャック４６，５２
から外れる現象が見られた。
れ、チャンバ２４の内部３２に真空が導入される。例え
ば、チャンバ２４の内部３２は１Pa程度まで排気され
る。この真空は、第１及び第２の基板１２，１４の表面
に作用するとともに、同圧ライン６４，６８を通って静
電チャック４６，５２の真空吸着通路４８，５４にも導
入される。従って、第１及び第２の基板１２，１４の上
側及び下側に同じ真空圧力が作用した状態で、第１及び
第２の基板１２，１４は静電吸着力によって静電チャッ
ク４６，５２に保持される。もしも同圧ライン６４，６
８がない場合には、真空通路３６からチャンバ２４の内
部３２に導入された真空が第１及び第２の基板１２，１
４の表面に強く作用して、静電吸着力に打ち勝つと、第
１及び第２の基板１２，１４が静電チャック４６，５２
から外れる現象が見られた。
【００２７】次に、図５において、上定盤５０が上ハウ
ジング２６に対して移動され、下定盤４４に向かって移
動される。第１の基板１２は第２の基板１４に向かって
押しつけられ、第１の基板１２の表面が第２の基板１４
の周辺シール１８に接触し、第１の基板１２のスペーサ
が第２の基板１４の表面に対して接触する。最初に粗貼
り合わせを行った後、上定盤５０を下定盤４４に向かっ
て１０〜５００kg程度の圧力で加圧しながら、微貼り合
わせを行う。
ジング２６に対して移動され、下定盤４４に向かって移
動される。第１の基板１２は第２の基板１４に向かって
押しつけられ、第１の基板１２の表面が第２の基板１４
の周辺シール１８に接触し、第１の基板１２のスペーサ
が第２の基板１４の表面に対して接触する。最初に粗貼
り合わせを行った後、上定盤５０を下定盤４４に向かっ
て１０〜５００kg程度の圧力で加圧しながら、微貼り合
わせを行う。
【００２８】周辺シール１８が圧縮され、第１の基板１
２と第２の基板１４との間のセルギャップが適切になる
と、上定盤５０の下定盤４４に向かっての運動は停止さ
れる。このようにして、第１の基板１２と第２の基板１
４とは真空中で貼り合わせられ、その間に液晶１６の中
に空気が入らないように液滴状の液晶１６は第２の基板
１４の表面に沿って拡がっていく。
２と第２の基板１４との間のセルギャップが適切になる
と、上定盤５０の下定盤４４に向かっての運動は停止さ
れる。このようにして、第１の基板１２と第２の基板１
４とは真空中で貼り合わせられ、その間に液晶１６の中
に空気が入らないように液滴状の液晶１６は第２の基板
１４の表面に沿って拡がっていく。
【００２９】第１の基板１２と第２の基板１４との貼り
合わせが完了したら、静電チャック５２への通電を停止
し、第１の基板１２と第２の基板１４の加圧が維持され
た状態で、パージ通路４０の弁４２が開放される。窒素
などの不活性ガスがパージ通路４０を通ってチャンバ２
４に導入され、チャンバ２４は大気に開放される。この
とき、同圧ライン６８の弁７０は開かれ、同圧ライン６
４の弁６６は閉じられる。ただし、同圧ライン６４，６
８の弁６６，７０はともに開かれている状態にすること
もできる。
合わせが完了したら、静電チャック５２への通電を停止
し、第１の基板１２と第２の基板１４の加圧が維持され
た状態で、パージ通路４０の弁４２が開放される。窒素
などの不活性ガスがパージ通路４０を通ってチャンバ２
４に導入され、チャンバ２４は大気に開放される。この
とき、同圧ライン６８の弁７０は開かれ、同圧ライン６
４の弁６６は閉じられる。ただし、同圧ライン６４，６
８の弁６６，７０はともに開かれている状態にすること
もできる。
【００３０】不活性ガスは、第１及び第２の基板１２，
１４の表面に作用するとともに、同圧ライン６８を通っ
て静電チャック５２の真空吸着通路５４にも導入され
る。静電チャック５２の真空吸着通路５４には真空が作
用する。また、静電チャック４６への通電が停止され
る。
１４の表面に作用するとともに、同圧ライン６８を通っ
て静電チャック５２の真空吸着通路５４にも導入され
る。静電チャック５２の真空吸着通路５４には真空が作
用する。また、静電チャック４６への通電が停止され
る。
【００３１】そこで、上定盤５０が下定盤４４から離れ
るように移動される。第１の基板１２の上側及び下側に
同圧ライン６４，６８を介して同じ体圧力が作用してい
るので、上定盤５０とともに上昇する静電チャック５２
は第１の基板１２からスムーズに離れることができる。
もしも第１の基板１２の上側に真空が作用していると、
第１の基板１２が静電チャック５２にひきずられ、貼り
合わせ不良になる可能性がある。そして、上定盤５０が
上昇する間、同圧ライン６４の弁６６は閉じられている
ので、第２の基板１４の下側に真空が作用し、第２の基
板１４（すなわち液晶パネル）は下定盤４４の静電チャ
ック４６に保持される。
るように移動される。第１の基板１２の上側及び下側に
同圧ライン６４，６８を介して同じ体圧力が作用してい
るので、上定盤５０とともに上昇する静電チャック５２
は第１の基板１２からスムーズに離れることができる。
もしも第１の基板１２の上側に真空が作用していると、
第１の基板１２が静電チャック５２にひきずられ、貼り
合わせ不良になる可能性がある。そして、上定盤５０が
上昇する間、同圧ライン６４の弁６６は閉じられている
ので、第２の基板１４の下側に真空が作用し、第２の基
板１４（すなわち液晶パネル）は下定盤４４の静電チャ
ック４６に保持される。
【００３２】上定盤５０の移動が完了したら、同圧ライ
ン６４の弁６６は開かれる。そして、上ハウジング２６
が下ハウジング２８から離れるように移動され、チャン
バ２４が開放される。その後で、周辺シール１８に紫外
線を照射して、周辺シール１８を硬化させる。
ン６４の弁６６は開かれる。そして、上ハウジング２６
が下ハウジング２８から離れるように移動され、チャン
バ２４が開放される。その後で、周辺シール１８に紫外
線を照射して、周辺シール１８を硬化させる。
【００３３】なお、上記したように、第１の基板１２と
第２の基板１４との貼り合わせが完了した後で、チャン
バ２４が真空状態にあるときに、第１の基板１２と第２
の基板１４の加圧を解除すると、周辺シール１８の形状
が不均一になり、液晶のリークやギャップ不良が起きる
という問題点がある。図６はこの場合の周辺シール１８
の例を示す図である。周辺シール１８の端部Ａ，Ｂは正
常であるが、周辺シール１８の中間部分Ｃは周辺シール
１８は圧縮された状態圧縮力が解除されて引き延ばされ
たから上に引き延ばされた状態になり、局部的に細くな
った部分が見られる。本発明では、第１の基板１２と第
２の基板１４の加圧を維持したままで、大気圧に戻し、
大気圧の状態で加圧を解除しているので、周辺シール１
８の形状が極端に悪くなるのを防止することができる。
第２の基板１４との貼り合わせが完了した後で、チャン
バ２４が真空状態にあるときに、第１の基板１２と第２
の基板１４の加圧を解除すると、周辺シール１８の形状
が不均一になり、液晶のリークやギャップ不良が起きる
という問題点がある。図６はこの場合の周辺シール１８
の例を示す図である。周辺シール１８の端部Ａ，Ｂは正
常であるが、周辺シール１８の中間部分Ｃは周辺シール
１８は圧縮された状態圧縮力が解除されて引き延ばされ
たから上に引き延ばされた状態になり、局部的に細くな
った部分が見られる。本発明では、第１の基板１２と第
２の基板１４の加圧を維持したままで、大気圧に戻し、
大気圧の状態で加圧を解除しているので、周辺シール１
８の形状が極端に悪くなるのを防止することができる。
【００３４】図７は他の例の静電チャックの例を示す図
である。静電チャック５２の表面の周辺部には対応する
第１の基板１２の端をまたぐように溝７２が設けられ
る。図７においては、溝７２は四角形の静電チャック５
２の辺に垂直に、静電チャック５２の辺に平行な方向に
列をなして形成されている。こうすれば、真空排気時に
静電チャック５２と第１の基板１２との間にある空気溜
まりをなくすことができる。また、パージ（大気開放）
時に静電チャック５２と第１の基板１２との間に不活性
ガスが入るため、静電チャック５２からの第１の基板１
２の剥離を助けることができる。
である。静電チャック５２の表面の周辺部には対応する
第１の基板１２の端をまたぐように溝７２が設けられ
る。図７においては、溝７２は四角形の静電チャック５
２の辺に垂直に、静電チャック５２の辺に平行な方向に
列をなして形成されている。こうすれば、真空排気時に
静電チャック５２と第１の基板１２との間にある空気溜
まりをなくすことができる。また、パージ（大気開放）
時に静電チャック５２と第１の基板１２との間に不活性
ガスが入るため、静電チャック５２からの第１の基板１
２の剥離を助けることができる。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
液晶表示装置を滴下注入法によって確実に且つ安価に製
造することができる。
液晶表示装置を滴下注入法によって確実に且つ安価に製
造することができる。
【図１】一実施例の液晶表示装置の一方の基板を示す斜
視図である。
視図である。
【図２】図１の基板を含む液晶表示装置の略断面図であ
る。
る。
【図３】本発明による液晶表示装置の製造方法及び製造
装置を示す断面図である。
装置を示す断面図である。
【図４】図３の上ハウジングを下ハウジングに向かって
移動させた状態における図３の製造装置を示す断面図で
ある。
移動させた状態における図３の製造装置を示す断面図で
ある。
【図５】図４の上定盤を下定盤に向かって移動させた状
態における図４の製造装置を示す断面図である。
態における図４の製造装置を示す断面図である。
【図６】形状が不均一になった周辺シールの例を示す図
である。
である。
【図７】他の例の静電チャックの例を示す図である。
１０…液晶表示装置
１２，１４…基板
１６…液晶
１８…周辺シール
２２…製造装置
２４…チャンバ
３６…真空通路
３８…パージ通路
４４…下定盤
４６…静電チャック
４８…真空吸着通路
５０…上定盤
５２…静電チャック
５４…真空吸着通路
５６…真空吸着ライン
６０…真空吸着ライン
６４…同圧ライン
６８…同圧ライン
７２…溝
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１４年１１月２９日（２００２．１１．
２９）
２９）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示装
置の製造方法は、第１及び第２の基板と、該第１及び第
２の基板の間に挿入された液晶と、該液晶を取り囲むよ
うに該第１及び第２の基板の間に設けられたシールとを
有する液晶表示装置の製造方法において、第１の基板に
シールを配置し、該第１の基板のシールで規定される領
域内に液晶を滴下し、該第１の基板と第２の基板とを真
空のチャンバ内で加圧して貼り合わせ、該第１の基板と
第２の基板とを加圧したままで該チャンバを大気に開放
し、該第１の基板と第２の基板との加圧を解除した後
で、該シールを硬化させる、以上のステップを含むこと
を特徴とするものである。
置の製造方法は、第１及び第２の基板と、該第１及び第
２の基板の間に挿入された液晶と、該液晶を取り囲むよ
うに該第１及び第２の基板の間に設けられたシールとを
有する液晶表示装置の製造方法において、第１の基板に
シールを配置し、該第１の基板のシールで規定される領
域内に液晶を滴下し、該第１の基板と第２の基板とを真
空のチャンバ内で加圧して貼り合わせ、該第１の基板と
第２の基板とを加圧したままで該チャンバを大気に開放
し、該第１の基板と第２の基板との加圧を解除した後
で、該シールを硬化させる、以上のステップを含むこと
を特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】また、本発明による液晶表示装置の製造装
置は、真空及び大気圧を導入可能なチャンバと、該チャ
ンバ内において、シールが配置され、該シールで規定さ
れる領域内に液晶が滴下された第１の基板を支持するた
めの第１の支持部材と、該チャンバ内において、第２の
基板を支持するための第２の支持部材と、少なくとも一
方の支持部材に設けられ、対応する一方の基板を該一方
の支持部材に固定させるための静電チャックおよび該静
電チャックに設けられた真空吸着通路と、該真空吸着通
路に真空を供給する真空吸着ラインと、該真空吸着通路
と該チャンバの内部とを流通可能に接続する流通ライン
と、を備えたことを特徴とするものである。また、本発
明による液晶表示装置の製造方法は、真空及び大気圧を
導入可能なチャンバと、チャンバ内で基板を支持するた
めの一対の支持部材と、前記一対の支持部材の少なくと
も一方の支持部材に設けられた静電チャックと、前記静
電チャックに設けられた真空吸着通路と、前記真空吸着
通路に真空を供給する真空供給ラインと、前記真空吸着
通路と前記チャンバの内部とを接続する流通ラインとを
備えた装置を用いた液晶表示装置の製造方法であって、
前記静電チャックの前記真空吸着通路に真空を導入し、
前記基板を真空吸着するステップと、前記チャンバを閉
鎖するステップと、前記静電チャックにより前記基板を
静電吸着するステップと、前記真空吸着ラインを閉じる
ステップと、前記流通ラインを開くステップと、を備え
ることを特徴とする。
置は、真空及び大気圧を導入可能なチャンバと、該チャ
ンバ内において、シールが配置され、該シールで規定さ
れる領域内に液晶が滴下された第１の基板を支持するた
めの第１の支持部材と、該チャンバ内において、第２の
基板を支持するための第２の支持部材と、少なくとも一
方の支持部材に設けられ、対応する一方の基板を該一方
の支持部材に固定させるための静電チャックおよび該静
電チャックに設けられた真空吸着通路と、該真空吸着通
路に真空を供給する真空吸着ラインと、該真空吸着通路
と該チャンバの内部とを流通可能に接続する流通ライン
と、を備えたことを特徴とするものである。また、本発
明による液晶表示装置の製造方法は、真空及び大気圧を
導入可能なチャンバと、チャンバ内で基板を支持するた
めの一対の支持部材と、前記一対の支持部材の少なくと
も一方の支持部材に設けられた静電チャックと、前記静
電チャックに設けられた真空吸着通路と、前記真空吸着
通路に真空を供給する真空供給ラインと、前記真空吸着
通路と前記チャンバの内部とを接続する流通ラインとを
備えた装置を用いた液晶表示装置の製造方法であって、
前記静電チャックの前記真空吸着通路に真空を導入し、
前記基板を真空吸着するステップと、前記チャンバを閉
鎖するステップと、前記静電チャックにより前記基板を
静電吸着するステップと、前記真空吸着ラインを閉じる
ステップと、前記流通ラインを開くステップと、を備え
ることを特徴とする。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 杉村 宏幸
神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番
１号 富士通株式会社内
(72)発明者 中山 徳道
神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番
１号 富士通株式会社内
Ｆターム(参考） 2H089 NA22 NA44 NA49 QA12 TA09
Claims (5)
- 【請求項１】 第１及び第２の基板と、該第１及び第２
の基板の間に挿入された液晶と、該液晶を取り囲むよう
に該第１及び第２の基板の間に設けられたシールとを有
する液晶表示装置の製造方法において、 第１の基板に光硬化性シールを形成し、 該第１の基板のシールで規定される領域内に液晶を滴下
し、 該第１の基板と第２の基板とを真空のチャンバ内で加圧
して貼り合わせ、 該第１の基板と第２の基板とを加圧したままで該チャン
バを大気に開放し、 該第１の基板と第２の基板との加圧を解除した後で、該
シールに光を照射して該シールを硬化させる、 以上のステップを含むことを特徴とする液晶表示装置の
製造方法。 - 【請求項２】 該第１及び第２の基板の少なくとも一方
を静電チャックによる吸着および該静電チャックに設け
られた真空吸着通路に供給された真空による吸着によっ
て支持部材に固定させることを特徴とする請求項１に記
載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項３】 該真空吸着通路と該チャンバの内部空間
とを流体流通可能に接続することを特徴とする請求項２
に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項４】 第１及び第２の基板と、該第１及び第２
の基板の間に挿入された液晶と、該液晶を取り囲むよう
に該第１及び第２の基板の間に設けられたシールとを有
する液晶表示装置の製造方法において、 真空及び大気圧を導入可能なチャンバと、 該チャンバ内において、光硬化性シールが形成され、該
シールで規定される領域内に液晶が滴下された第１の基
板を支持するための第１の支持部材と、 該チャンバ内において、第２の基板を支持するための第
２の支持部材と、 該第１及び第２の支持部材のうちの可動である一方の基
板に設けられ、対応する一方の基板を該一方の支持部材
に固定させるための静電チャックおよび該静電チャック
に設けられた真空吸着通路と、 該真空吸着通路に真空を供給する真空吸着ラインと、 該真空吸着通路と該チャンバの内部とを流体流通可能に
接続する真空吸着ラインと、 を備えたことを特徴とする液晶表示装置の製造装置。 - 【請求項５】 該静電チャックの表面の周辺部には対応
する基板の端をまたぐように溝が設けられることを特徴
とする請求項４に記載の液晶表示装置の製造装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001305612A JP3953767B2 (ja) | 2001-10-01 | 2001-10-01 | 液晶表示装置の製造方法及び製造装置 |
| US10/253,098 US6798488B2 (en) | 2001-10-01 | 2002-09-24 | Method and apparatus for fabricating liquid crystal display device using an electrostatic chuck |
| TW091122194A TWI291068B (en) | 2001-10-01 | 2002-09-26 | Method and apparatus for fabricating liquid crystal display device |
| KR1020020059261A KR100844243B1 (ko) | 2001-10-01 | 2002-09-30 | 액정 표시 장치의 제조 방법 및 제조 장치 |
| CNB021457271A CN1189782C (zh) | 2001-10-01 | 2002-10-08 | 用于制造液晶显示器件的方法和装置 |
| US10/943,341 US7202933B2 (en) | 2001-10-01 | 2004-09-17 | Method and apparatus for fabricating liquid crystal display device |
| KR1020070106938A KR100829325B1 (ko) | 2001-10-01 | 2007-10-24 | 액정 표시 장치의 제조 방법 및 제조 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001305612A JP3953767B2 (ja) | 2001-10-01 | 2001-10-01 | 液晶表示装置の製造方法及び製造装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006282746A Division JP4413214B2 (ja) | 2006-10-17 | 2006-10-17 | 液晶表示装置の製造方法及び製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003107487A true JP2003107487A (ja) | 2003-04-09 |
| JP3953767B2 JP3953767B2 (ja) | 2007-08-08 |
Family
ID=19125374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001305612A Expired - Fee Related JP3953767B2 (ja) | 2001-10-01 | 2001-10-01 | 液晶表示装置の製造方法及び製造装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6798488B2 (ja) |
| JP (1) | JP3953767B2 (ja) |
| KR (2) | KR100844243B1 (ja) |
| CN (1) | CN1189782C (ja) |
| TW (1) | TWI291068B (ja) |
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| JP2019075477A (ja) * | 2017-10-17 | 2019-05-16 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル機構 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR101292211B1 (ko) * | 2006-08-08 | 2013-08-01 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 기판합착장치와 기판합착방법 |
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| US8982531B2 (en) * | 2011-10-19 | 2015-03-17 | Sri International | Additional force augmented electroadhesion |
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| JP6910227B2 (ja) * | 2017-07-14 | 2021-07-28 | 株式会社ディスコ | 静電チャック |
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| KR102155583B1 (ko) * | 2018-06-25 | 2020-09-14 | (주) 엔피홀딩스 | 라미네이팅 장치의 배면 전극형 정전척과, 이의 제조 방법 및 라미네이팅 장치 |
| KR102155584B1 (ko) * | 2018-06-25 | 2020-09-14 | (주) 엔피홀딩스 | 라미네이팅 장치의 난반사 방지형 정전척 및 라미네이팅 장치 |
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-
2001
- 2001-10-01 JP JP2001305612A patent/JP3953767B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-09-24 US US10/253,098 patent/US6798488B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-26 TW TW091122194A patent/TWI291068B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-09-30 KR KR1020020059261A patent/KR100844243B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-10-08 CN CNB021457271A patent/CN1189782C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-09-17 US US10/943,341 patent/US7202933B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-10-24 KR KR1020070106938A patent/KR100829325B1/ko not_active IP Right Cessation
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| JP2019075477A (ja) * | 2017-10-17 | 2019-05-16 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル機構 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US7202933B2 (en) | 2007-04-10 |
| US20050030469A1 (en) | 2005-02-10 |
| KR20030028417A (ko) | 2003-04-08 |
| US20030063251A1 (en) | 2003-04-03 |
| CN1189782C (zh) | 2005-02-16 |
| KR20070107650A (ko) | 2007-11-07 |
| KR100844243B1 (ko) | 2008-07-07 |
| TWI291068B (en) | 2007-12-11 |
| JP3953767B2 (ja) | 2007-08-08 |
| US6798488B2 (en) | 2004-09-28 |
| KR100829325B1 (ko) | 2008-05-13 |
| CN1410818A (zh) | 2003-04-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040922 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050712 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050713 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050808 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060810 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060822 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061017 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061226 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070223 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070424 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070425 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3953767 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120511 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120511 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130511 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140511 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |