JP2003057665A - 液晶基板の組立装置 - Google Patents

液晶基板の組立装置

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JP2003057665A JP2001250184A JP2001250184A JP2003057665A JP 2003057665 A JP2003057665 A JP 2003057665A JP 2001250184 A JP2001250184 A JP 2001250184A JP 2001250184 A JP2001250184 A JP 2001250184A JP 2003057665 A JP2003057665 A JP 2003057665A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 仮貼り合わせの行われた基板の表面全体に略
均一な圧力を掛けること 【解決手段】 液晶を滴下した貼り合わせ対象物たる一
方の基板33を保持するテーブル9と、前記一方の基板
33に対向させて貼り合わせ対象物たる他方の基板34
を保持する加圧板16とを備えたチャンバ15に、減圧
された当該チャンバ15内を大気圧に戻す為にガスを導
入する配管21を設けると共に、チャンバ15のガス導
入用の開口部の近傍で且つ当該チャンバ15内に、配管
21から導入されたガスによる各基板表面に掛かる圧力
が略均一になるよう調整する調整手段37を設けるこ
と。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、減圧状態で液晶表
示パネルの構成部材たる一対の基板を貼り合わせる液晶
基板の組立装置に係り、特に、その一対の基板を減圧状
態のチャンバ内で仮貼り合わせし、その後チャンバ内を
大気開放することで本貼り合わせを行う液晶基板の組立
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示パネルの製造には、透明電極や
薄膜トランジスタアレイ等が設けられた二枚のガラス基
板を、基板の周縁部に口字状に設けた接着剤(以下、
「シール剤」ともいう)で例えば2μm程度の極めて接
近した間隔をもって貼り合わせ(以下、その貼り合わせ
後の基板を「セル」という)、その各基板と接着剤で形
成される空間に液晶を封止するという工程がある。
【0003】従来、そのような基板を貼り合わせて液晶
を封止する装置としては、注入口を設けないようにシー
ル剤をクローズしたパターン(口字形)に描画した一方
の基板上に液晶を滴下しておく。そして、真空チャンバ
内にて他方の基板を一方の基板の上方に配置し、真空状
態でその他方の基板と一方の基板との間隔を狭めて加圧
して上下の基板を貼り合わせる、という特開2000−
284295号公報に開示された基板貼り合わせ装置が
ある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例に開示された技術にあっては、真空状態で基板を貼
り合わせるものである為、基板が大型化すると真空中に
おける機械的な加圧力では基板間隔が所定量になるまで
の加圧力を与えることは難しい。そこで、チャンバ内を
大気圧に戻す時に各基板の表面に掛かる力を利用し、そ
の力で加圧して各基板を所定の間隔にする方法が提案さ
れている。しかしながら、そのような大気圧に戻して加
圧する装置では、これまでは単にチャンバ内を大気圧に
戻すことだけしか考慮されていなかった為、基板表面の
位置によって加わる圧力にバラツキが生じる、という不
都合があった。即ち、基板表面全体に、略均一な圧力が
加わっていなかったので、適正且つ高精度な基板間距離
の液晶表示パネルを得ることができなかった。
【0005】本発明は、かかる従来例の有する不都合を
改善し、減圧されたチャンバ内を大気圧に戻して本貼り
合わせを行う際に、仮貼り合わせの行われた基板の表面
全体に略均一な圧力を掛けることができる液晶基板の組
立装置を提供することを、その目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為、
本発明では、貼り合わせ対象物たる二枚の基板を機械的
に仮貼り合わせするチャンバに、減圧された当該チャン
バ内を大気圧に戻す為にガスを導入する配管を設けると
共に、チャンバのガス導入用の開口部の近傍で且つ当該
チャンバ内に、配管から導入されたガスによる各基板表
面に掛かる圧力が略均一になるよう調整する調整手段を
設けている。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明に係る基板貼り合わせ装置
の一実施形態について図1からに図3基づいて説明す
る。
【0008】[基板貼り合わせ装置の構成]この基板貼
り合わせ装置は、図1に示すように大きく分類すれば、
貼り合わせ対象物たる二つの基板33,34(以下、後
述するテーブル9に載置保持する基板33を「下基板3
3」と、後述する加圧板16に保持する基板34を「上
基板34」という。)の位置決めを行うXYθステージ
部S1と、各基板33,34の貼り合わせ動作を行う基
板貼り合わせ部S2と、後述する各基板33,34の一
次加圧を行うZ軸移動ステージ部S3とから構成されて
おり、その各部S1,S2,S3が架台1上に順次配置
されている。ここで、XYθステージ部S1は架台1上
に載置保持され、基板貼り合わせ部S2は架台1上に立
設された例えば四つの支柱を備えた第一フレーム2に支
持され、Z軸移動ステージ部S3は架台1上に立設され
た例えば四つの支柱を備えた第二フレーム3に支持され
る。以下、これら各部S1,S2,S3について詳述す
る。
【0009】[XYθステージ部]XYθステージ部S
1は、架台1上に配設されたXステージ4aと、このX
ステージ4a上に配設されたYステージ4bと、このY
ステージ4b上に配設されたθステージ4cとを有す
る。本実施形態のXステージ4aは、駆動モータ5によ
ってYステージ4bとθステージ4cを左右方向(図1
中のX軸方向)に移動できるよう構成される。また、Y
ステージ4bは、駆動モータ6によってθステージ4c
を前後方向(図1中のY軸方向)に移動できるよう構成
される。更に又、θステージ4cは、回転ベアリング7
を介し駆動モータ8によってYステージ4bに対して図
1に示すθ方向に回転するよう構成される。
【0010】ここで、θステージ4c上には、下基板3
3を載置保持するテーブル9が支持柱10を介して固定
されている。また、Yステージ4bには、回転ベアリン
グ13と真空シール14を介して支持柱10の下部側を
被包するアーム11が配設されており、これにより支持
柱10の回転に伴ってアーム11がつられて回転しない
ようになっている。更に又、そのアーム11と基板貼り
合わせ部S2の後述する減圧チャンバ15との間には、
アーム11上に一端を固定し且つ減圧チャンバ15の下
部に他端を固定すると共に支持柱10に覆設する蛇腹状
の弾性体から成る真空ベローズ12が配設されており、
これにより貼り合わせ時における減圧チャンバ15内の
減圧状態を保持している。
【0011】尚、本実施形態にあっては支持柱10をテ
ーブル9の略中央に一本配設しているが、必ずしもこれ
に限定するものではなく、例えばθステージ4cによる
テーブル9の所定量(後述する位置合わせマークの位置
ずれ量)を補正するだけの回転が可能であればその支持
柱10を複数本設けてもよい。
【0012】[基板貼り合わせ部]基板貼り合わせ部S
2は、図1に示すように、減圧下にて二枚の基板33,
34の貼り合わせを行う減圧チャンバ15と、この減圧
チャンバ15内に配設されたテーブル9と、同じく減圧
チャンバ15内でテーブル9の上方に対向して配設され
た加圧板16とを有する。この場合、テーブル9には後
述する接着剤や液晶39が設けられた下基板33が載置
保持され、加圧板16にはその下基板33に貼り合わせ
る上基板34が保持される。
【0013】上記減圧チャンバ15の側部には、各基板
33,34を出入する為の第一開口部15aが設けられ
ており、更にこの第一開口部15aを閉塞するゲートバ
ルブ17が備えられている。ここで、このゲートバルブ
17は、シリンダ17Aによって上下方向(図1中のZ
軸方向)に移動自在に構成される。
【0014】更に、減圧チャンバ15の下部には減圧チ
ャンバ15内を減圧排気する為の第一及び第二の排気管
20a,20bが配設されており、これら各排気管20
a,20bは、図示しない切換バルブを介して真空ポン
プに接続される。このように、本実施形態にあっては、
減圧排気する時にこの切換バルブを操作制御すること
で、減圧チャンバ15内のガスの排気速度を制御してい
る。ここで、第一排気管20aは、第二排気管20bに
比べて細いものが用いられ、例えば各々断面略円形の排
気管の場合、第一排気管20aの径を1とすると、太い
方の第二排気管20bは約10〜100倍程度の径のも
のが用いられる。この場合、第一排気管20aの径は、
この第一排気管20aから後述するが如く減圧チャンバ
15内を減圧排気する際に、ガスの流れによって基板3
3,34の暴れ、下基板33上の液晶の飛散や減圧によ
る水分の凍結が発生しない速度となるように設定する。
例えばその径の設定の際には、種々の径の配管にて予め
実験し、その実験結果に基づいて定めた径の第一排気管
20aを配設する。
【0015】また、減圧チャンバ15内のテーブル9側
には、下基板33を図示しない移載機から受け取る,若
しくはセルを取り出す為に使用される複数の昇降ピン3
5が立設される。この昇降ピン35は、その一端(図1
中の下端)にシリンダ36が配設されており、このシリ
ンダ36によってテーブル9に形成した貫通孔の中を上
下方向に移動できるよう構成されている。
【0016】更に又、減圧チャンバ15の上部にはその
減圧チャンバ15内の減圧状態を徐々に大気圧に戻す為
の配管21と、減圧チャンバ15内にガス(空気)を導
入する若しくは遮断する為に配管21の途中に備えた弁
22とが配設される。
【0017】ここで、配管21には図示しない圧力源
(例えばポンプ)とレギュレータとが接続されている。
また、その配管21における減圧チャンバ15内への開
口部の近傍であってその減圧チャンバ15内には、導入
ガスを減圧チャンバ15内で拡散させる為の調整板37
が設けられる。例えば本実施形態にあっては、配管21
における減圧チャンバ15内への開口部が減圧チャンバ
15の一つの角部に設けられているので、調整板37
は、その角部の近傍に配設されている。かかる調整板3
7は、その開口部近傍から加圧板16の上面(上基板3
4の保持面とは反対側の面)の略中央付近まで延設され
ており、これによりその略中央付近に導入ガスが当たる
ようになっている。このように、調整板37を、加圧板
16の上面中央付近に配管21からの導入ガスが当たる
ように成形し且つ配設することによって、導入ガスが加
圧板16の上面中央付近からその加圧板16の周縁に向
けて拡散される。そして、その拡散された導入ガスが、
後述するが如くテーブル9上に載置されている一次加圧
後の各基板33,34の表面に均一に当たるようにな
る。即ち、導入ガスは、加圧板16の上面中央付近から
一次加圧後の各基板33,34の表面に向けて回り込ん
でいく。
【0018】ここで、後述する加圧板16の各吸引吸着
孔53からパージガスを同時に排出することで、加圧板
16の上面からの配管21を経た導入ガスの回り込み
が、少なくとも各基板33,34の表面には略均一のガ
ス圧が掛かるようになる。尚、かかる場合のパージガス
としては窒素ガス又は空気を用いてよい。
【0019】尚、本実施形態にあっては配管21からガ
スを導入する為の開口部を減圧チャンバ15の一つの角
部に設けているが、必ずしもこれに限定するものではな
く、例えば各角部に設けてもよい。かかる場合は、その
各角部に夫々上記調整板37を設ければよい。また、そ
の開口部を対称の位置(対向する角部の上方でも対向す
る辺の上方でもよい)に設ける場合は、夫々の開口部に
対応した位置に上記調整板37を設ければよい。更に
又、開口部を加圧板16の中央部付近の上方に設ける場
合は、その加圧板16の上面全体を覆うように且つその
上面に対して間隔を設けて調整板を設ければよい。かか
る場合の調整板は、減圧チャンバ15内の圧力分布が均
一になるようにガスを分散させることができるものであ
ればよく、例えば網目状の板,又は打ち抜きの複数の孔
を設けた板を用いる。尚、そのように加圧板16の中央
部付近に対応させて開口部を設けた場合は、加圧板16
の上面自体を調整板として用いてもよい。
【0020】また、減圧チャンバ15の側面(前述した
ゲートバルブ17が備えられた側とは反対側)にはその
減圧チャンバ15に形成された略円形の第二開口部15
bを閉塞する板状体から成る大気開放弁23と、この大
気開放弁23を第二開口部15bから離間させるシリン
ダ24とが配設される。このように、大気開放弁23を
設け、この大気開放弁23を第二開口部15bから離間
させることによって、減圧チャンバ15内を急速に大気
圧に戻すことができる。ここで、前述した配管21に断
面略円形のものを用いた場合は、その配管21の径を1
とすると、第二開口部15bの口径は5以上にすること
が望ましい。
【0021】更に、減圧チャンバ15の上部には加圧板
16に形成された図示しないマーク認識用孔を通して上
下の各基板33,34の位置合わせマークを観測する為
の窓25が複数設けられる。ここで、その位置合わせマ
ークの観測には図1に示す認識用カメラ26が用いら
れ、この認識用カメラ26によって各基板33,34の
位置合わせマークのずれを測定する。
【0022】続いて、テーブル9には、静電気又は吸引
吸着によって下基板33を吸着する為の図示しない静電
吸着用電極と図2に示す複数の吸引吸着孔50とが設け
られている。また、このテーブル9には、図2に示すが
如く、各吸引吸着孔50に連通する例えば断面略矩形の
吸引室51と、この吸引室51に連通すると共に吸引吸
着孔50の反対面に形成された排気口52とが設けられ
ている。
【0023】その静電吸着用電極は、本実施形態にあっ
ては略矩形の平板電極であり、テーブル9の上面の両端
側に形成された二つの略矩形の凹部に各々嵌着される。
また、その静電吸着用電極は、その表面(テーブル9の
上面側)が誘電体で覆われており、この誘電体の主面が
テーブル9の上面と面一になるよう設けられる。このよ
うにテーブル9に配設された静電吸着用電極は、夫々正
負の直流電源に適宜なスイッチを介して接続されてい
る。これが為、各静電吸着用電極に正或いは負の電圧が
印加されると、上記誘電体の主面に負或いは正の電荷が
誘起される。そして、その電荷によって下基板33に形
成されている透明電極膜との間に発生するクーロン力で
下基板33がテーブル9に静電吸着される。ここで、各
静電吸着用電極に印加する電圧は、同極でもよいし、夫
々異なる双極でもよい。
【0024】尚、減圧チャンバ15内が大気の場合は、
前述した吸引吸着孔50による吸引吸着を行った方がよ
い。その理由は、静電吸着を行う場合、下基板33とテ
ーブル9の間に空気層があると、静電気による放電現象
が発生して下基板33やテーブル9を損傷してしまう。
これが為、例えば下基板33をテーブル9に最初に密着
保持するときは周囲が大気下にあるので、先ず吸引吸着
を行い、減圧室内を減圧していって放電現象が発生しな
い程度まで減圧されてから静電吸着を行うことが望まし
い。
【0025】次に、各吸引吸着孔50は、前述したが如
く吸引室51と排気口52に連通しており、その排気口
52が、図1に示す配管18を介して減圧チャンバ15
の外部に配設した図示しない吸着バルブに接続され、こ
の吸着バルブを経由して図示しない真空ポンプに接続さ
れている。この場合、その配管18の途中には吸引吸着
解除用のバルブを介して大気開放する為のバイパス配管
が設けられており、その吸引吸着解除用バルブを大気開
放することによって吸着状態を強制的に解除している。
更に、図示していないが、その配管18には吸引吸着孔
50からガスをパージできるように、ガスパージ用のバ
ルブも接続されている。そして、このガスパージ用バル
ブにはガスパージ用の配管を介してレギュレータが接続
されており、減圧チャンバ15内にパージするガスの圧
力が調整できるようになっている。このように本実施形
態にあっては、各吸引吸着孔50を、減圧チャンバ15
内を大気圧に戻す時のガスのパージ孔としても利用でき
るように構成してある。
【0026】以上の如く構成されたテーブル9は、前述
したが如く支持柱10を介してθステージ4c上に固定
される。
【0027】また、加圧板16には、テーブル9と同様
に上基板34を吸着する為の図示しない静電吸着用電極
と図2に示す複数の吸引吸着孔53とが設けられてい
る。ここで、後述するが如く加圧板16にて上基板34
を吸引吸着している状態で減圧チャンバ15内を減圧し
ていくと、その吸着力が小さくなり上基板34が落下す
る虞がある。これが為、減圧チャンバ15内には、加圧
板16の僅か下の位置で上基板34を受け止める図示し
ない基板保持爪が設けられている。この基板保持爪は、
例えば上基板34の対角位置たる二つの角部に対応して
配設されており、減圧チャンバ15の上部から下方に向
けて延設したシャフトで釣り下げ保持される。
【0028】具体的には、図示しないが、減圧チャンバ
15の上部に形成された貫通孔にシャフトが挿通されて
おり、このシャフトがその軸中心で回転し且つ上下移動
できるように構成されている。この場合、減圧チャンバ
15内が真空漏れを起こさないようにシャフトに真空シ
ールが覆設されている。上記回転はシャフトの端部に接
続された図示しない回転アクチェータによって、上下移
動は同様にシャフトの端部に接続された図示しない昇降
アクチェータによって行われる。このようにシャフトを
回転又は上下移動させることによって、各基板33,3
4の貼り合わせを行ない、下基板33上に滴下された液
晶剤を各基板33,34の主面の広がり方向に拡張させ
る際に邪魔にならぬように基板保持爪を退避させること
ができる。
【0029】更にこの加圧板16には、図2に示すが如
く、各吸引吸着孔53に連通する例えば断面略矩形の吸
引室54と、この吸引室54に連通すると共に吸引吸着
孔53の反対面に形成された排気口55とが設けられて
いる。
【0030】この排気口55は、図1に示す配管19を
介して減圧チャンバ15の外部に配設した図示しない吸
着バルブに接続され、この吸着バルブを経由して図示し
ない真空ポンプに接続されている。この場合、その配管
19の途中にはテーブル9と同様に吸引吸着解除用のバ
ルブを介して大気開放する為のバイパス配管が設けられ
ており、その吸引吸着解除用バルブを大気開放すること
によって吸着状態を強制的に解除している。更に、図示
していないが、各吸引吸着孔53を、テーブル9と同様
に減圧チャンバ15内を大気圧に戻す時のガスのパージ
孔としても利用できるように、その配管19にはガスパ
ージ用のバルブと、このガスパージ用バルブにガスパー
ジ用の配管を介して接続されたガス圧力調整用のレギュ
レータとが設けられている。
【0031】以上の如く構成された加圧板16は、複数
の支持柱27を介してZ軸移動ステージ部S3の後述す
る移動ベース29に吊り下げ固定されている。
【0032】ここで、減圧チャンバ15と移動ベース2
9との間には、減圧チャンバ15上に一端を固定し且つ
移動ベース29の下部に他端を固定すると共に支持柱2
7に覆設する蛇腹状の弾性体から成る真空ベローズ28
が配設されており、これにより貼り合わせ時における減
圧チャンバ15内の減圧状態を保持している。
【0033】[Z軸移動ステージ部]Z軸移動ステージ
部S3は、加圧板16を吊り下げ保持する移動ベース2
9と、その両端に配設されたリニアガイド30と、この
リニアガイド30と係合し且つフレーム3に設けられた
上下方向(図1に示すZ軸方向)のレール3aと、その
Z軸方向の出力軸を備えた電動モータ32と、一端が移
動ベース29側に係合し且つ他端が電動モータ32の出
力軸側に係合するボールネジ31とを有する。このよう
にZ軸移動ステージ部S3を構成することによって、駆
動させた電動モータ32で移動ベース29をレールに沿
って上下方向に移動させ、加圧板16を上下移動させる
ことができる。
【0034】[基板貼り合わせ装置の動作]次に、本実
施形態の基板貼り合わせ装置の動作を説明する。ここで
は貼り合わせ対象物たる基板として液晶パネル用の基板
を用いた場合について例示する。
【0035】予め、貼り合わせる二枚の基板の何れか一
方には、その各基板を貼り合わせた際に液晶を決められ
た枠内に閉じ込め封入する為、枠状に接着剤を一筆書き
で塗布しておき、その枠内に液晶を所定量滴下してお
く。この液晶が滴下された基板を下基板33とする。か
かる場合、この下基板33の膜面には光硬化樹脂も打点
塗布しておく。
【0036】先ず、減圧チャンバ15の外部に配設され
た図示しない移載機のハンドを用いて、膜面を下方に向
けた上基板34の周縁部を下側から吸引吸着する。そし
て、減圧チャンバ15の第一開口部15aに備えたゲー
トバルブ17を開け、その第一開口部15aから移載機
のハンドを減圧チャンバ15内に挿入し、電動モータ3
2を駆動して下降させた加圧板16を上基板34に押し
付ける。しかる後、ハンドの吸引吸着を解除し、真空ポ
ンプを作動させて吸引吸着孔53で上基板34を加圧板
16に吸引吸着する。この上基板34の吸着が終了する
と、ハンドを減圧チャンバ15外に退避させる。
【0037】続いて、各昇降ピン35の先端がテーブル
9の上面から突出するようにシリンダ36を作動させ各
昇降ピン35を上昇させておく。そして、液晶を滴下し
た面を上にした下基板33の周縁部を移載機のハンドで
下側から吸引吸着し、そのハンドを減圧チャンバ15内
に挿入して下基板33を各昇降ピン35上に移載する。
この下基板33の移載が終了すると、ハンドを減圧チャ
ンバ15外に退避させてゲートバルブ17を閉じる。し
かる後、各昇降ピン35を下降させて下基板33をテー
ブル9上に載置し、真空ポンプを作動させて吸引吸着孔
50で下基板33をテーブル9に吸引吸着する。
【0038】以上の如きテーブル9と加圧板16への各
基板33,34の吸着が終了すると、第一排気管20a
側のバルブを開放して減圧チャンバ15内のガスを徐々
に排気する。具体的には、本実施形態にあっては装置の
初期状態にて第一及び第二の排気管20a,20bが切
換バルブによって双方共閉じられた状態に設定されてお
り、各基板33,34の吸着が終了すると、第一排気管
20a側を開放し且つ第二排気管20b側を閉じた状態
になるよう切換バルブを切り換えて減圧チャンバ15内
のガスを徐々に排気する。この場合、前述したが如き径
に設定した第一排気管20aを用いて低速排気している
ので、ガスの流れによる基板33,34の暴れ、下基板
33上の液晶の飛散や減圧による水分の凍結が発生を防
止することができる。
【0039】続いて、第一排気管20aによる排気によ
って減圧チャンバ15内が所定の圧になったときに、具
体的には図示しない圧力計にて測定した減圧チャンバ1
5内の気圧が排気速度を上げても基板暴れ,液晶飛散や
水分凍結が発生しない圧力になったとき(例えば、吸引
吸着力で吸着している上基板34が加圧板16から離れ
ない程度の圧まで減圧したとき)に、第一排気管20a
のバルブを閉じる。
【0040】そして、第二排気管20bのバルブを開放
し、各基板33,34を貼り合わせる為の圧力(本実施
形態にあっては約5×10−3Torr)まで減圧チャンバ
15内を急速に減圧する。ここで、その圧力下では上基
板34の吸引吸着力よりも減圧チャンバ15内の気圧の
方が低くなっているので、その上基板34が加圧板16
から離れてしまう。しかしながら、加圧板16の下面側
には前述した基板保持爪が具備されており、前述した回
転アクチェータや昇降アクチェータによって基板保持爪
を動かして上基板34が保持されているので、その上基
板34は加圧板16から離間しない。
【0041】上述したが如く減圧チャンバ15内の減圧
が終了すると、減圧下でも各基板33,34をテーブル
9と加圧板16に各々吸着できるように、そのテーブル
9及び加圧板16の静電吸着電極に電圧を印加して各基
板33,34を静電吸着する。しかる後、電動モータ3
2を駆動して移動ベース29を下降させ、上基板34を
下基板33に接近させる。そして、認識用カメラ26を
用いて各基板33,34に設けた位置合わせマークを観
測して基板33,34間の位置ずれを測定し、この測定
値に基づきXステージ4a,Yステージ4b並びにθス
テージ4cの動作制御を行ってテーブル9を水平移動さ
せ、下基板33と上基板34の位置合わせを行う。
【0042】その位置合わせが終了すると、移動ベース
29を更に下降させて上基板34で接着剤を押し潰し、
その接着剤で形成された枠内に液晶を封止した状態にす
る。このようにして一次加圧(又は「予備加圧」ともい
う)が終了する。尚、その一次加圧の最中に、下基板3
3と上基板34の位置合せを複数回行うことで、接着剤
の潰れ状態の違い等による基板33,34間の位置ズレ
を補正することができる。
【0043】その一次加圧の後、予め基板の膜面に打点
塗布された光硬化樹脂に、本装置に設けられた図示しな
い光照射機構から光を照射して光硬化樹脂を硬化させ、
各基板33,34の位置ズレが生じないようにする。し
かる後、加圧板16の静電吸着電極の印加電圧を切断
し、電動モータ32を駆動して加圧板16を上昇させ
る。
【0044】ここで、基板の大きさが小さい場合は、前
述した一次加圧の如き機械的な加圧機構で所望の加圧力
を加えることができるので、その加圧機構のみで所望の
基板間距離を得ることができる。しかしながら、大きな
基板の場合、その加圧機構では加圧力が不足する。例え
ば、前述した一次加圧後の大きな基板33,34間の間
隔は約15μm程度であり、まだ所望の間隔になってい
ない。これが為、接着剤の潰れ量が少なく、その接着剤
における各基板33,34との接触面積が小さい(接触
部長さが短い)ので接着状態が不完全である。更には、
接着剤の枠内の液晶が広がらず、その液晶間に大きな真
空空間部ができている。
【0045】このような大きな基板33,34に所望の
加圧力を印加する為には、装置自体を大きくして大きな
加圧力を印加できるようにしてもよい。しかしながら、
これでは装置が大型化してしまうので、装置全体を再構
築しなければならず費用がかかってしまう。
【0046】ここで、減圧チャンバ15内の圧力を減圧
状態から大気圧へと変化させると、基板33,34間の
空間部分(前述した真空空間部)は減圧状態である為、
各基板33,34には略均一にその外部から大きな圧力
が加わる。例えば各基板33,34の大きさが1200
mm×1000mmの場合は、その基板33,34間の
空間部分が減圧状態のときに大気圧を加えると121.
6kNの力を掛けることができる。これが為、本実施形
態にあっては以下の如く二次加圧を行い、既存の装置の
大きさのままで適正な基板間隔である5μm以下好まし
くは4μm以下の間隔にする。
【0047】前述したが如く一次加圧終了後に減圧チャ
ンバ15内を減圧状態から大気圧へと圧力を変化させる
と、各基板33,34には略均一に圧力を加えることが
できる。しかしながら、急激に大気圧に戻した場合は、
前述したが如く接着剤がまだ十分に潰れていない為、減
圧チャンバ15内に導入したガスがその接着剤を破って
真空空間部に入り込み、不良品の液晶基板ができてしま
う。これが為、本実施形態にあっては、一次加圧終了後
に細い配管21の弁22を開放し、その配管21に接続
した圧力源から加圧されたガスを調整板37を介して減
圧チャンバ15内の加圧板16の上面中央部付近に吐出
すると共に、加圧板16に設けた吸引吸着孔53からも
ガスを基板の表面に吹き付けることで、減圧チャンバ1
5内のガスの圧力分布を略均一に保ちながらその減圧チ
ャンバ15内を徐々に大気圧に戻す。その際、テーブル
9側の吸引吸着孔50からも同時にガスを吐出させるよ
うにしてもよい。このように減圧チャンバ15内を徐々
に大気圧に戻していくと、セル(各基板33,34)に
は徐々に且つ略均一に圧力が加わり、接着剤が徐々に潰
れていく。また、真空空間部の内圧と減圧チャンバ15
内の圧力との差が徐々に大きくなるので、導入されたガ
スが接着剤を破って真空空間部内に入り込むことはな
い。そしてこれにより、接着剤と各基板33,34との
接触面積も徐々に拡大する。
【0048】かかる状態の基板33,34間の間隔は約
10μm程度になっている。ここで、前述したが如く減
圧チャンバ15内にガスを導入すると、接着剤は、潰れ
ることで流動が起こり、チクソトロピー性によって粘度
が低下する。本実施形態にあってはこの接着剤の粘度が
低下した状態で、急速に減圧チャンバ15内を大気圧に
戻す為の大気開放弁23を開放して更に各基板33,3
4に加圧力を加える。具体的には、減圧チャンバ15内
に設けた圧力計が所定圧を超えたことを検出したときに
弁22を閉じ、且つシリンダ24を作動させて大気開放
弁23を開放することによって、各基板33,34に加
圧力が加わり貼り合わせが終了する。例えばその所定圧
としては、導入されたガスが接着剤を破って真空空間部
40内に入り込むことがなくなったときの圧力を予め実
験等で検出しておき、その圧力を設定しておけばよい。
【0049】このように急速に減圧チャンバ15内を大
気圧に戻すことによって接着剤の接触面積が各基板3
3,34に対して広がり、シール性が向上するので、基
板33,34間にガスが接着剤を破って入り込むことが
なくなる。また、接着剤はその粘度が低下している為に
速やかに潰れ、且つ液晶も加圧されて潰れて広がるの
で、各基板33,34の貼り合わせ時間が短くなる。
【0050】以上示したが如く貼り合わせが終了し、更
には減圧チャンバ15内の圧力が大気圧になると、ゲー
トバルブ17を開ける。それと同時に、各パージガスを
供給している各配管のバルブを閉めてガスの供給を停止
する。そして、テーブル9の静電吸着電極の印加電圧を
遮断し、且つ吸引吸着孔50における吸引を解除(前述
したが如く吸引吸着孔50からガスを吐出している場合
はその解除動作は行わない)した後、各昇降ピン35を
上昇させてセルをテーブル9上から押し上げる。しかる
後、移載機のハンドを第一開口部15aからセルの下部
(セルとテーブル9の間)に挿入し、そのハンド上にセ
ルを移載して減圧チャンバ15外に搬出する。以上の如
き手順を経て基板の貼り合わせが終了する。
【0051】尚、本実施形態にあっては太さの異なる第
一及び第二の排気管20a,20bを切換バルブによっ
て切り換えて排気経路を変更し、これにより排気速度を
制御しているが、必ずしもその方法に限定するものでは
なく、例えば本実施形態の如く二つの排気管20a,2
0bを設けずに一つの排気管のみで構成してこの排気管
に真空ポンプを接続し、この真空ポンプを制御して排気
速度を制御してもよい。この場合、排気管は、太い方の
管径(即ち本実施形態の第二排気管20bの管径)にす
ることが望ましい。
【0052】以上示したが如き調整板37を設けた装置
を構成し、その装置にて上述したが如き手順で液晶基板
の組み立てを行うことによって、仮貼り合わせの行われ
た基板の表面全体に略均一な圧力を掛けることができ、
高精度の液晶パネルを形成することが可能となる。
【0053】
【発明の効果】本発明に係る液晶基板の組立装置によれ
ば、機械的な加圧(予備加圧)で貼り合わせた各基板
を、チャンバ内を大気圧に戻す際の圧力で本加圧すると
きに、調整手段で導かれたガスによって基板表面に略均
一な加圧力を加えることができるので、貼ら合わせムラ
のない、適性且つ高精度な基板間距離の液晶表示パネル
を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る液晶基板の組立装置の一実施形態
の構成を示す概略断面図である。
【図2】本実施形態に係る液晶基板の組立装置のチャン
バ内に配設されたテーブルと加圧板を示す断面図であ
る。
【図3】本実施形態に係る調整板の一例を示す斜視図で
ある。
【符号の説明】
9 テーブル 15 チャンバ 16 加圧板 18,19 配管 20a 第一排気管 20b 第二排気管 21 配管 22 弁 33,34 基板 37 調整板 50,53 吸引吸着孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今泉 潔 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社竜ケ崎工場 内 (72)発明者 八幡 聡 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社竜ケ崎工場 内 (72)発明者 平井 明 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社竜ケ崎工場 内 Fターム(参考) 2H088 FA01 FA09 FA30 2H089 NA22 NA48 NA49 NA51 NA60 QA12 QA14

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内部を減圧する機構を備えたチャンバ
    と、該チャンバ内に配設し且つ液晶を滴下した貼り合わ
    せ対象物たる一方の基板を保持するテーブルと、前記チ
    ャンバ内に配設し且つ前記一方の基板に対向させて貼り
    合わせ対象物たる他方の基板を保持する加圧板とを備
    え、前記各基板を、該各基板の間隔を狭めて当該各基板
    の内の何れか一方に設けた接着剤により貼り合わせる液
    晶基板の組立装置であって、 前記チャンバに、減圧された当該チャンバ内を大気圧に
    戻す為にガスを導入する配管を設けると共に、前記チャ
    ンバのガス導入用の開口部の近傍で且つ当該チャンバ内
    に、前記導入されたガスによる前記各基板表面に掛かる
    圧力が略均一になるよう調整する調整手段を設けたこと
    を特徴とする液晶基板の組立装置。
  2. 【請求項2】 前記調整手段は、前記加圧板における前
    記他方の基板の保持面と反対の面の略中央部に前記導入
    されたガスを導く調整板であることを特徴とする請求項
    1記載の液晶基板の組立装置。
  3. 【請求項3】 前記ガス導入用の開口部を、前記加圧板
    における前記他方の基板の保持面と反対の面の略中央部
    に対向させて設け、前記調整手段を、網目状の板又は前
    記加圧板の反対の面で構成したことを特徴とする請求項
    1記載の液晶基板の組立装置。
  4. 【請求項4】 前記加圧板に、前記他方の基板を保持す
    ると共に、前記チャンバ内を大気圧に戻す際に基板表面
    にガスを排出するよう構成した吸引吸着孔を設けたこと
    を特徴とする請求項1,2又は3記載の液晶基板の組立
    装置。
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