JPH11174476A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法Info
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- JPH11174476A JPH11174476A JP35418997A JP35418997A JPH11174476A JP H11174476 A JPH11174476 A JP H11174476A JP 35418997 A JP35418997 A JP 35418997A JP 35418997 A JP35418997 A JP 35418997A JP H11174476 A JPH11174476 A JP H11174476A
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- pressure
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶表示装置の製造方法において、液晶注入
効率を高める。 【解決手段】 加圧液晶をセルに注入する工程におい
て、セルを取り巻く気圧を大気圧より高くしたり、大気
圧に戻したりを、複数回繰り返す。
効率を高める。 【解決手段】 加圧液晶をセルに注入する工程におい
て、セルを取り巻く気圧を大気圧より高くしたり、大気
圧に戻したりを、複数回繰り返す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置を製
造する方法に関する。
造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】特開平８−２６２４６２号に開示されて
いる液晶表示装置の製造方法では、セルの注入ポートに
注入コネクタを接続した状態で液晶供給手段からの加圧
液晶を注入コネクタを介してセル内に注入する。
いる液晶表示装置の製造方法では、セルの注入ポートに
注入コネクタを接続した状態で液晶供給手段からの加圧
液晶を注入コネクタを介してセル内に注入する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記方法で
は、液晶をセル内に充填するのに長い時間を要するとい
う欠点があった。
は、液晶をセル内に充填するのに長い時間を要するとい
う欠点があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、液晶
表示装置の製造方法において、注入コネクタをセルのポ
ートに接続した状態で、液晶供給手段からの加圧液晶を
注入コネクタを介してセル内に注入し、この加圧液晶の
注入工程の途中で、セルを取り巻く気圧を上昇させて大
気圧より高くすることを特徴とする。請求項２の発明
は、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法におい
て、上記液晶注入工程において、セルを取り巻く気圧を
大気圧より高くする工程と、大気圧にする工程を交互に
複数回繰り返すことを特徴とする。請求項３の発明は、
請求項１または２に記載の液晶表示装置の製造方法にお
いて、上記液晶注入工程において、上記液晶供給手段に
よる液晶加圧状態を維持しながら、セルを取り巻く気圧
を大気圧より高くすることを特徴とする。
表示装置の製造方法において、注入コネクタをセルのポ
ートに接続した状態で、液晶供給手段からの加圧液晶を
注入コネクタを介してセル内に注入し、この加圧液晶の
注入工程の途中で、セルを取り巻く気圧を上昇させて大
気圧より高くすることを特徴とする。請求項２の発明
は、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法におい
て、上記液晶注入工程において、セルを取り巻く気圧を
大気圧より高くする工程と、大気圧にする工程を交互に
複数回繰り返すことを特徴とする。請求項３の発明は、
請求項１または２に記載の液晶表示装置の製造方法にお
いて、上記液晶注入工程において、上記液晶供給手段に
よる液晶加圧状態を維持しながら、セルを取り巻く気圧
を大気圧より高くすることを特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明を説明する前に、図２，図
４（Ａ）を参照しながらセル５０について説明してお
く。このセル５０は、透明材料例えばガラスからなる２
枚の四角形の基板５１，５２を備えている。大型の液晶
表示装置の場合には、図に示すように、第１基板５１は
第２基板５２より大きい。第２基板５２の周縁と第１基
板５１の周縁近傍の互いに対峙する平坦面を接着剤５３
で張り付けることにより、両者の間に数ミクロンの厚さ
のギャップ５４が形成されている。そして、接着剤５３
が介在されていない箇所が、排気ポート５５と、注入ポ
ート５６となっている。
４（Ａ）を参照しながらセル５０について説明してお
く。このセル５０は、透明材料例えばガラスからなる２
枚の四角形の基板５１，５２を備えている。大型の液晶
表示装置の場合には、図に示すように、第１基板５１は
第２基板５２より大きい。第２基板５２の周縁と第１基
板５１の周縁近傍の互いに対峙する平坦面を接着剤５３
で張り付けることにより、両者の間に数ミクロンの厚さ
のギャップ５４が形成されている。そして、接着剤５３
が介在されていない箇所が、排気ポート５５と、注入ポ
ート５６となっている。
【０００６】次に、本発明方法を実行するための装置の
構成を説明する。図１に示すように、装置はハウジング
１を有している。ハウジング１内には、固定台２が設置
されており、この固定台２の上面には、互いに対峙する
移動台３，４が移動可能に設置されている。移動台３に
は、２つの排気コネクタ５が上下位置調節可能に設けら
れており、移動台４には１つの注入コネクタ６が上下位
置調節可能に設けられている。また、固定台２には、セ
ル５０を所定位置にセットする支持機構（図示しない）
も設けられている。
構成を説明する。図１に示すように、装置はハウジング
１を有している。ハウジング１内には、固定台２が設置
されており、この固定台２の上面には、互いに対峙する
移動台３，４が移動可能に設置されている。移動台３に
は、２つの排気コネクタ５が上下位置調節可能に設けら
れており、移動台４には１つの注入コネクタ６が上下位
置調節可能に設けられている。また、固定台２には、セ
ル５０を所定位置にセットする支持機構（図示しない）
も設けられている。
【０００７】上記ハウジング１内には、ヒータ７（加熱
手段）が収容されている。ハウジング１外には、液晶供
給装置１０（液晶供給手段）と真空吸引ポンプ２０（真
空吸引手段）が配置されている。この液晶供給装置１０
は、例えば液晶を蓄えたベローズと、このベローズの外
側にエア圧を付与して液晶を所定圧に加圧する手段とを
備えている。このベローズは、上記注入コネクタ６に供
給管１１を介して接続されている。供給管１１には開閉
弁１２が設けられている。この真空吸引ポンプ２０は排
気管２１を介して上記排気コネクタ５に接続されてい
る。排気管２１には、リリーフ弁２２が設けられるとと
もに、このリリーフ弁２２と排気コネクタ５との間に、
開閉弁２３，液晶トラップ，真空度検出センサ等（図示
しない）が設けられている。
手段）が収容されている。ハウジング１外には、液晶供
給装置１０（液晶供給手段）と真空吸引ポンプ２０（真
空吸引手段）が配置されている。この液晶供給装置１０
は、例えば液晶を蓄えたベローズと、このベローズの外
側にエア圧を付与して液晶を所定圧に加圧する手段とを
備えている。このベローズは、上記注入コネクタ６に供
給管１１を介して接続されている。供給管１１には開閉
弁１２が設けられている。この真空吸引ポンプ２０は排
気管２１を介して上記排気コネクタ５に接続されてい
る。排気管２１には、リリーフ弁２２が設けられるとと
もに、このリリーフ弁２２と排気コネクタ５との間に、
開閉弁２３，液晶トラップ，真空度検出センサ等（図示
しない）が設けられている。
【０００８】上記ハウジング１には、第１ポート１ａと
第２ポート１ｂが形成されている。第１ポート１ａに
は、常閉の開閉弁３１を介してコンプレッサ３０（加圧
空気供給手段）が接続されている。また、第２ポート１
ｂは、常開の開閉弁３５を介して大気に連なっている。
第２ポート１ｂが形成されている。第１ポート１ａに
は、常閉の開閉弁３１を介してコンプレッサ３０（加圧
空気供給手段）が接続されている。また、第２ポート１
ｂは、常開の開閉弁３５を介して大気に連なっている。
【０００９】本願装置は、制御ユニット４５を有してお
り、この制御ユニット４５により上述した種々の構成要
素をシーケンス制御するようになっている。以下、この
制御を、主に図３のタイムチャートと図４を参照しなが
ら詳述する。ハウジング１の扉を開いて、セル５０を支
持機構にセットした後、扉を閉じてハウジング１内を気
密状態にする。制御ユニット４５は、電源オンに応答し
て、真空ポンプ２０を駆動し、コンプレッサ３０を駆動
する。次に、移動台３，４を移動させ、セット状態にあ
るセル５０の排気ポート５５に排気コネクタ５を接続
し、注入ポート５６に注入コネクタ６を接続する。
り、この制御ユニット４５により上述した種々の構成要
素をシーケンス制御するようになっている。以下、この
制御を、主に図３のタイムチャートと図４を参照しなが
ら詳述する。ハウジング１の扉を開いて、セル５０を支
持機構にセットした後、扉を閉じてハウジング１内を気
密状態にする。制御ユニット４５は、電源オンに応答し
て、真空ポンプ２０を駆動し、コンプレッサ３０を駆動
する。次に、移動台３，４を移動させ、セット状態にあ
るセル５０の排気ポート５５に排気コネクタ５を接続
し、注入ポート５６に注入コネクタ６を接続する。
【００１０】次に、開閉弁２３を開き、これにより、セ
ル５０内の空気を、排気コネクタ５，排気管２１を介し
て吸引排気し、セル５０内の真空度を高める。この真空
吸引により、セル５０の基板５１，５２が、互いに近づ
くように引き付けられる。その結果、基板５１，５２が
自然状態で歪んでいても、ギャップ５４内に収容された
多数のスペーサビーズに当たり、図４（Ａ）に示すよう
に、平坦になる。
ル５０内の空気を、排気コネクタ５，排気管２１を介し
て吸引排気し、セル５０内の真空度を高める。この真空
吸引により、セル５０の基板５１，５２が、互いに近づ
くように引き付けられる。その結果、基板５１，５２が
自然状態で歪んでいても、ギャップ５４内に収容された
多数のスペーサビーズに当たり、図４（Ａ）に示すよう
に、平坦になる。
【００１１】セル５０内が所定の真空度（例えば１Ｔｏ
ｒｒ）に達した時、開閉弁１２を開き、これにより、加
圧液晶供給装置１０からの所定圧に加圧された液晶ＬＣ
（図４にのみ示す）を、供給管１１，注入コネクタ６を
経てセル５０内へと注入する。この液晶注入工程におい
て、上記真空吸引を継続して実行し、ヒータ７でセル５
０を加熱して液晶ＬＣの粘度を低下させる。なお、この
加圧液晶ＬＣの注入開始時点では、開閉弁３１が閉じ、
開閉弁３５が開いているため、ハウジング１内は大気圧
となっている。
ｒｒ）に達した時、開閉弁１２を開き、これにより、加
圧液晶供給装置１０からの所定圧に加圧された液晶ＬＣ
（図４にのみ示す）を、供給管１１，注入コネクタ６を
経てセル５０内へと注入する。この液晶注入工程におい
て、上記真空吸引を継続して実行し、ヒータ７でセル５
０を加熱して液晶ＬＣの粘度を低下させる。なお、この
加圧液晶ＬＣの注入開始時点では、開閉弁３１が閉じ、
開閉弁３５が開いているため、ハウジング１内は大気圧
となっている。
【００１２】加圧液晶ＬＣの注入開始から所定時間経過
した時には、図４（Ｂ）に示すように、液晶の先端縁Ｆ
Ｌが、注入ポート５６と排気ポート５５との間に位置し
ている。また、基板５１，５２は、この液晶ＬＣの圧力
により、注入ポート５６の近傍で膨らんでいる。この加
圧液晶の注入途中の状態で、開閉弁３５を閉じ開閉弁３
１を開いて、コンプレッサ３０のタンクからの圧縮空気
をハウジング１内に供給し、ハウジング１内を大気圧よ
り高い所定の気圧（例えば大気圧の１.５倍〜２倍程
度）にする。なお、ハウジング１内または開閉弁３１の
下流側には図示しない圧力センサが設けられており、上
記所定気圧に達した時に開閉弁３１を閉じる。このよう
に、ハウジング１内の高圧状態を所定時間維持すること
により、セル５０を取り巻く気圧が基板５１，５２を押
すことになり、その結果、基板５１，５２は徐々に近づ
き、図４（Ｃ）に示すように元の平坦な状態になる。こ
のように基板５１，５２が平坦になる過程で、液晶ＬＣ
がギャップ５４内を広がり、その先端縁ＦＬが排気ポー
ト５５に向かって進む。
した時には、図４（Ｂ）に示すように、液晶の先端縁Ｆ
Ｌが、注入ポート５６と排気ポート５５との間に位置し
ている。また、基板５１，５２は、この液晶ＬＣの圧力
により、注入ポート５６の近傍で膨らんでいる。この加
圧液晶の注入途中の状態で、開閉弁３５を閉じ開閉弁３
１を開いて、コンプレッサ３０のタンクからの圧縮空気
をハウジング１内に供給し、ハウジング１内を大気圧よ
り高い所定の気圧（例えば大気圧の１.５倍〜２倍程
度）にする。なお、ハウジング１内または開閉弁３１の
下流側には図示しない圧力センサが設けられており、上
記所定気圧に達した時に開閉弁３１を閉じる。このよう
に、ハウジング１内の高圧状態を所定時間維持すること
により、セル５０を取り巻く気圧が基板５１，５２を押
すことになり、その結果、基板５１，５２は徐々に近づ
き、図４（Ｃ）に示すように元の平坦な状態になる。こ
のように基板５１，５２が平坦になる過程で、液晶ＬＣ
がギャップ５４内を広がり、その先端縁ＦＬが排気ポー
ト５５に向かって進む。
【００１３】上記の高気圧工程では、液晶供給手段１０
による液晶加圧状態はそのまま維持されている。注入ポ
ート５６では、液晶供給手段１０からの液晶圧力と、基
板５１，５２で押されたギャップ５４内の液晶の圧力が
ほぼ等しくなるのが最も好ましいが、許容される範囲で
異なっていてもよい。前者の圧力が後者の圧力より低い
場合には、液晶は注入ポート５６から液晶供給手段１０
へ若干量戻されるが、液晶ＬＣの先端縁ＦＬは排気ポー
ト５５に向かって進む。前者の圧力が後者の圧力より高
い場合には、液晶供給手段１０からの加圧液晶ＬＣがセ
ル５０内に少量ずつ供給され、液晶ＬＣの先端縁ＦＬは
排気ポート５５に向かってより一層前進する。ただし、
この場合には、基板５１，５２が平坦に戻るまでの時間
が長くなる。
による液晶加圧状態はそのまま維持されている。注入ポ
ート５６では、液晶供給手段１０からの液晶圧力と、基
板５１，５２で押されたギャップ５４内の液晶の圧力が
ほぼ等しくなるのが最も好ましいが、許容される範囲で
異なっていてもよい。前者の圧力が後者の圧力より低い
場合には、液晶は注入ポート５６から液晶供給手段１０
へ若干量戻されるが、液晶ＬＣの先端縁ＦＬは排気ポー
ト５５に向かって進む。前者の圧力が後者の圧力より高
い場合には、液晶供給手段１０からの加圧液晶ＬＣがセ
ル５０内に少量ずつ供給され、液晶ＬＣの先端縁ＦＬは
排気ポート５５に向かってより一層前進する。ただし、
この場合には、基板５１，５２が平坦に戻るまでの時間
が長くなる。
【００１４】次に、開閉弁３１を閉じ開閉弁３５を開く
ことにより、ハウジング１を大気圧に戻し、この状態を
所定時間継続する。これにより、図４（Ｄ）に示すよう
に、加圧液晶ＬＣの供給により、液晶ＬＣの先端縁ＦＬ
が排気ポート５５に向かって進み、基板５１，５２は、
この液晶ＬＣの圧力によって再び注入ポート５６の近傍
で膨らむ。次に、再びハウジング１内の気圧を上記所定
気圧に上昇させて所定時間維持することにより、基板５
１，５２が平坦になるとともに、液晶ＬＣの先端縁ＦＬ
が進む。
ことにより、ハウジング１を大気圧に戻し、この状態を
所定時間継続する。これにより、図４（Ｄ）に示すよう
に、加圧液晶ＬＣの供給により、液晶ＬＣの先端縁ＦＬ
が排気ポート５５に向かって進み、基板５１，５２は、
この液晶ＬＣの圧力によって再び注入ポート５６の近傍
で膨らむ。次に、再びハウジング１内の気圧を上記所定
気圧に上昇させて所定時間維持することにより、基板５
１，５２が平坦になるとともに、液晶ＬＣの先端縁ＦＬ
が進む。
【００１５】そして、加圧液晶の供給を続けながら上述
したハウジング１の気圧の上昇，大気圧戻しを複数回
（例えば２，３回〜数十回程度）繰り返すことにより、
液晶ＬＣの先端縁ＦＬが排気ポート５５に達し、液晶が
ギャップ５４に満たされる。すなわち、液晶注入工程が
終了する。
したハウジング１の気圧の上昇，大気圧戻しを複数回
（例えば２，３回〜数十回程度）繰り返すことにより、
液晶ＬＣの先端縁ＦＬが排気ポート５５に達し、液晶が
ギャップ５４に満たされる。すなわち、液晶注入工程が
終了する。
【００１６】上記のように、セル５０が膨らんだり平坦
になったりを繰り返すことにより、ポンプに似た作用を
果たし、液晶ＬＣの注入効率を高め、液晶注入工程に要
する時間を短縮することができる。
になったりを繰り返すことにより、ポンプに似た作用を
果たし、液晶ＬＣの注入効率を高め、液晶注入工程に要
する時間を短縮することができる。
【００１７】液晶ＬＣの注入工程の終了時点で、ヒータ
７による加熱を終了し、均圧工程に移行する。すなわ
ち、上記加圧液晶供給装置１０を制御して注入コネクタ
６の液晶圧力を低いレベルまで下げる。また、リリーフ
弁２２を制御して、真空度を１Ｔｏｒｒから所定レベル
例えばー７５０ｍｍＨｇまで下げ、それから徐々に大気
圧まで戻す。さらに、開閉弁３５を閉じ開閉弁３１を開
いてコンプレッサ３０のタンクからの圧縮空気をハウジ
ング１内に供給し、前述と同様にしてハウジング１内の
気圧を高める。
７による加熱を終了し、均圧工程に移行する。すなわ
ち、上記加圧液晶供給装置１０を制御して注入コネクタ
６の液晶圧力を低いレベルまで下げる。また、リリーフ
弁２２を制御して、真空度を１Ｔｏｒｒから所定レベル
例えばー７５０ｍｍＨｇまで下げ、それから徐々に大気
圧まで戻す。さらに、開閉弁３５を閉じ開閉弁３１を開
いてコンプレッサ３０のタンクからの圧縮空気をハウジ
ング１内に供給し、前述と同様にしてハウジング１内の
気圧を高める。
【００１８】上記液晶注入完了時点では、排気ポート５
５の近傍の液晶ＬＣの圧力は真空吸引の影響で大気圧よ
り低く、注入ポート５６の近傍では液晶ＬＣの圧力が大
気圧より高いが、上記均圧工程で、この圧力不均衡がほ
ぼ解消される。また、ハウジング１内を高圧にしたこと
により、セル５０を取り巻く気圧が基板５１，５２を押
すことになり、液晶ＬＣの圧力で膨らんでいても平坦に
なり、さらに基板５１，５２の本来もっている歪みが矯
正され、最終的に高精度で平坦になる。その結果、スペ
ーサビーズの径によって決定される均一なギャップ５４
を得ることができる。
５の近傍の液晶ＬＣの圧力は真空吸引の影響で大気圧よ
り低く、注入ポート５６の近傍では液晶ＬＣの圧力が大
気圧より高いが、上記均圧工程で、この圧力不均衡がほ
ぼ解消される。また、ハウジング１内を高圧にしたこと
により、セル５０を取り巻く気圧が基板５１，５２を押
すことになり、液晶ＬＣの圧力で膨らんでいても平坦に
なり、さらに基板５１，５２の本来もっている歪みが矯
正され、最終的に高精度で平坦になる。その結果、スペ
ーサビーズの径によって決定される均一なギャップ５４
を得ることができる。
【００１９】上記均圧工程終了時点で、バルブ１２，２
３を閉じ、排気コネクタ５，注入コネクタ６をセル５０
から外す。またこれらコネクタ５，６を外す直前に開閉
弁３１を開いてハウジング１内の気圧をさらに上昇さ
せ、所望レベルに達した時に開閉弁３１を閉じる。これ
により、基板５１，５２が元の歪んだ形状に戻ろうとす
るのをより一層確実に抑制でき、元の形状に戻る際にポ
ート５５，５６から空気を吸い込むのを確実に防止する
ことができる。コネクタ５，６を外したら、ハウジング
１に収容された封止液供給装置（図示しない）により、
即座に封止液を排気ポート５５，注入ポート５６に供給
する。封止液をポート５５，５６に供給した後、開閉弁
の３１を閉じ開閉弁３５を開くことにより、ハウジング
１を大気圧に戻す。この状態で、紫外線照射により封止
液を硬化させることにより、ポート５５，５６の封止を
行う。
３を閉じ、排気コネクタ５，注入コネクタ６をセル５０
から外す。またこれらコネクタ５，６を外す直前に開閉
弁３１を開いてハウジング１内の気圧をさらに上昇さ
せ、所望レベルに達した時に開閉弁３１を閉じる。これ
により、基板５１，５２が元の歪んだ形状に戻ろうとす
るのをより一層確実に抑制でき、元の形状に戻る際にポ
ート５５，５６から空気を吸い込むのを確実に防止する
ことができる。コネクタ５，６を外したら、ハウジング
１に収容された封止液供給装置（図示しない）により、
即座に封止液を排気ポート５５，注入ポート５６に供給
する。封止液をポート５５，５６に供給した後、開閉弁
の３１を閉じ開閉弁３５を開くことにより、ハウジング
１を大気圧に戻す。この状態で、紫外線照射により封止
液を硬化させることにより、ポート５５，５６の封止を
行う。
【００２０】本発明は、上記実施形態に制約されず、種
々の態様が可能である。例えば、上記液晶注入工程にお
いて、ハウジング内を高気圧に維持する工程は、基板５
１，５２が完全に平坦に戻るまで続けなくてもよい。ま
た、ハウジングには、複数のセルを収容して、同時に処
理してもよい。セルは、排気，注入兼用のポートを有
し、このポートに接続されるコネクタが排気，注入兼用
であってもよい。
々の態様が可能である。例えば、上記液晶注入工程にお
いて、ハウジング内を高気圧に維持する工程は、基板５
１，５２が完全に平坦に戻るまで続けなくてもよい。ま
た、ハウジングには、複数のセルを収容して、同時に処
理してもよい。セルは、排気，注入兼用のポートを有
し、このポートに接続されるコネクタが排気，注入兼用
であってもよい。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明で
は、加圧液晶の注入の途中でセルを取り巻く気圧を大気
圧より高くしたので、基板が膨らみ状態から平坦状態に
向かう際に液晶がセル内に広げられ、これにより、液晶
注入効率を高くすることができ、ひいては液晶注入時間
を短縮することができる。請求項２の発明では、気圧を
高くする工程と大気圧にする工程を複数回繰り返すこと
により、セルにあたかもポンプのような役割を担わせる
ことができ、より一層液晶注入効率を高めることができ
る。請求項３の発明では、液晶供給手段からの液晶加圧
状態を維持しながら、セルを取り巻く気圧を高くするの
で、より一層効率的に液晶注入を行うことができる。
は、加圧液晶の注入の途中でセルを取り巻く気圧を大気
圧より高くしたので、基板が膨らみ状態から平坦状態に
向かう際に液晶がセル内に広げられ、これにより、液晶
注入効率を高くすることができ、ひいては液晶注入時間
を短縮することができる。請求項２の発明では、気圧を
高くする工程と大気圧にする工程を複数回繰り返すこと
により、セルにあたかもポンプのような役割を担わせる
ことができ、より一層液晶注入効率を高めることができ
る。請求項３の発明では、液晶供給手段からの液晶加圧
状態を維持しながら、セルを取り巻く気圧を高くするの
で、より一層効率的に液晶注入を行うことができる。
【図１】本発明方法を実行する装置を示す概略図であ
る。
る。
【図２】液晶を充填されるべきセルの正面図である。
【図３】本発明方法の一実施形態のタイムチャートであ
る。
る。
【図４】（Ａ）〜（Ｅ）は、加圧液晶注入工程での、セ
ルの基板および基板間のギャップの状態を示す断面図で
あり、この図において、基板の歪み量，ギャップの寸法
は誇張して示されている。
ルの基板および基板間のギャップの状態を示す断面図で
あり、この図において、基板の歪み量，ギャップの寸法
は誇張して示されている。
１ ハウジング ６ 注入コネクタ １０ 加圧液晶供給装置（液晶供給手段） ２０ 真空ポンプ（真空吸引手段） ３０ コンプレッサ（加圧空気供給手段） ５０ セル ５１，５２ 基板 ５６ 注入ポート ＬＣ 液晶
Claims (3)
- 【請求項１】注入コネクタをセルのポートに接続した状
態で、液晶供給手段からの加圧液晶を注入コネクタを介
してセル内に注入し、この加圧液晶の注入工程の途中
で、セルを取り巻く気圧を上昇させて大気圧より高くす
ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項２】上記液晶注入工程において、セルを取り巻
く気圧を大気圧より高くする工程と、大気圧にする工程
を交互に複数回繰り返すことを特徴とする請求項１に記
載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項３】上記液晶注入工程において、上記液晶供給
手段による液晶加圧状態を維持しながら、セルを取り巻
く気圧を大気圧より高くすることを特徴とする請求項１
または２に記載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35418997A JPH11174476A (ja) | 1997-12-08 | 1997-12-08 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35418997A JPH11174476A (ja) | 1997-12-08 | 1997-12-08 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11174476A true JPH11174476A (ja) | 1999-07-02 |
Family
ID=18435891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35418997A Pending JPH11174476A (ja) | 1997-12-08 | 1997-12-08 | 液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11174476A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002023129A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-01-23 | Sony Corp | 液晶パネルの製造方法 |
-
1997
- 1997-12-08 JP JP35418997A patent/JPH11174476A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002023129A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-01-23 | Sony Corp | 液晶パネルの製造方法 |
| JP4599674B2 (ja) * | 2000-07-11 | 2010-12-15 | ソニー株式会社 | 液晶パネルの製造方法 |
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