JPH11511443A - 4−シアノ−2,5−ジフルオロアニリンの製造方法 - Google Patents
4−シアノ−2,5−ジフルオロアニリンの製造方法Info
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- JPH11511443A JPH11511443A JP9509799A JP50979997A JPH11511443A JP H11511443 A JPH11511443 A JP H11511443A JP 9509799 A JP9509799 A JP 9509799A JP 50979997 A JP50979997 A JP 50979997A JP H11511443 A JPH11511443 A JP H11511443A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/30—Preparation of carboxylic acid nitriles by reactions not involving the formation of cyano groups
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Abstract
(57)【要約】
除草剤または液晶の製造に対する中間体生成物である4−シアノ−2,5−ジフルオロアニリンの製造方法が開示される。
Description
【発明の詳細な説明】
4−シアノ−2,5−ジフルオロアニリンの製造方法
本発明は除草剤または液晶の製造における中間体である4−シアノ−2,5−
ジフルオロアニリンの製造方法に関する。
4−シアノ−2,5−ジフルオロアニリンの公知の2段階製造方法は2,5−
ジフルオロアニリンから出発する(ヨーロッパ特許出願公開第0,224,00
1号参照)。第一段階においてこのものを臭素化して4−ブロモ−2,5−ジフ
ルオロアニリンを生成させる。第二段階において、臭素をシアノにより置換する
。反応に対して少なくとも等モル量のシアン化銅に加え、処理のために約5倍モ
ル量の10%シアン化ナトリウム溶液を必要とする。重大な欠点として、シアン
化銅のコスト及び廃液の処理には含まれるが、単にシアノ錯体として結合する銅
だけではなく、殊に大量のジクロロメタンを必要とする長期間の抽出処理、及び
大量の極めて有毒なシアン化ナトリウム溶液の取り扱いのために問題となる。
2,4,5−トリフルオロベンゾニトリルを随時希釈剤の存在下にて昇温下で
過剰のアンモニアと反応させる場合に4−シアノ−2,5−ジフルオロアニリン
が高収率及び高純度に得られることが見いだされた。
驚くべきことに、大過剰のアンモニアでさえもジ−またはトリアミンを生成さ
せない。更に、交換が2−位置ではなく、4−位置で選択的に起こることは極め
て驚くべきことである。本発明による条件下での2,4−ジフルオロベンゾニト
リルを用いる同様の反応により2つの可能なアミンが約1:1の比で生成される
。
出発物質として必要とされる2,4,5−トリフルオロベンゾニトリ
ルは市販され、そして例えばフッ素化、アミノ化及び続いての脱水により塩化2
,4−ジクロロ−5−フルオロベンゾイルから製造し得る。
本発明による反応を行うために適する希釈剤は水、ある種の有機溶媒及びその
いずれかの混合物である。例として挙げ得るものには次のものがある:脂肪族、
脂環式または芳香族の炭化水素例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカ
リン;ハロゲン化された炭化水素例えばクロロベンゼンまたはジクロロベンゼン
;エーテル例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルt−ブチ
ルエーテル、メチルt−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2
−メチルテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、1,2−ジエトキシエタンまたはアニソール。原理的に、
希釈剤の使用が好ましい。好適な溶媒はジオキサン、テトラヒドロフラン、トル
エン及び水である。
反応は50〜150℃、好ましくは80〜130℃の温度で行う。
反応は一般に昇圧下で行う。少なくとも反応温度で反応混合物の自然発生圧力
に対応する圧力で行うことが好ましい。2〜50バールのゲージ圧が殊に好まし
い。
一般に、本発明による反応は2,4,5−トリフルオロベンゾニトリル1モル
当たり1.5〜50モル、好ましくは2〜20モルのアンモニア及び必要に応じ
て0.1〜3リットル、好ましくは0.3〜2リットルの希釈剤を用いて行う。
本発明による方法の反応工程の好適な具体例において、ニトリルを希釈剤と共
に封鎖した反応容器中に導入し、そして反応温度に加熱する。
次に液体アンモニアを内部温度を一定に保持し得る割合で容器圧力に対抗してポ
ンプ導入する。
本発明による方法の処理工程の好適な具体例において、反応が完了した後に系
を冷却し、容器の圧力を解放し、そして過剰のアンモニア及び希釈剤を必要に応
じて減圧下で除去する。4−シアノ−2,5−ジフルオロアニリンを単離するた
めに、残渣を水と共に撹拌し、結晶を分別し、水でスラリー化し、再び分別し、
そして最後に乾燥する。
本発明の工程により製造し得る4−シアノ−2,5−ジフルオロアニリンは例
えば除草剤または液晶の製造における中間体として使用し得る(例えばヨーロッ
パ特許出願公開第648,772号;ドイツ国特許出願公開第3,835,16
8号;特願平02 243,676号参照)。
実施例1
テトラヒドロフラン2000ml中の2,4,5−トリフルオロベンゾニトリ
ル515gをオートクレーブ中に導入し、そして100℃に加熱した。次に液体
アンモニアを温度が100〜105℃の範囲内に止まるような割合でポンプ導入
した。次に混合物をこの温度で8時間撹拌し、次に冷却した。圧力は最大22バ
ールゲージに達した。アンモニアを排出した後、溶媒をロータリーエバポレータ
ーを用いて除去した。残渣を水500ml中で撹拌し、そして吸引フィルター上
に置いた。吸引濾過後、残渣を再び水200ml中にスラリー化し、そして吸引
濾過した。40℃の真空中での乾燥により99〜100℃の融点を有する4−シ
アノ−2,5−ジフルオロアニリン482g(理論値の95.4%)が得られた
。
実施例2
アンモニア4500mlをアンカー型スターラーを備えた40リットル入りス
テンレスースチール製オートクレーブ中でメチルt−ブチルエーテル10リット
ル中の2,3,5−トリフルオロベンゾニトリル3000gの溶液に約20℃で
加えた。反応混合物の自然発生圧力に加え、10バールの窒素を注入し、そして
混合物を100℃で16時間反応させた。未反応のアンモニアを除去し、そして
溶媒を水で抽出した後、溶媒を40〜60℃(200〜300ミリバール)で留
去した。得られた残渣は純粋な生成物2839gであり、理論値の96.5%に
対応した。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L
U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF
,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,
SN,TD,TG),AU,BB,BG,BR,BY,
CA,CN,CZ,HU,JP,KR,KZ,LK,M
X,NO,NZ,PL,RO,RU,SK,TR,UA
,US
(72)発明者 ガレンカンプ,ベルント
ドイツ連邦共和国デー−42113ブツペルタ
ール・パウル−エールリヒ−シユトラーセ
13
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.2,4,5−トリフルオロベンゾニトリルを随時希釈剤の存在下にて昇温下 で過剰のアンモニアと反応させることを特徴とする、4−シアノ−2,5−ジフ ルオロアニリンの製造方法。 2.反応を50〜150℃の温度で行うことを特徴とする、請求の範囲第1項記 載の4−シアノ−2,5−ジフルオロアニリンの製造方法。 3.反応を昇圧下で行うことを特徴とする、請求の範囲第1項記載の4−シアノ −2,5−ジフルオロアニリンの製造方法。 4.反応に2,4,5−トリフルオロベンゾニトリル1モル当たり1.5〜50 モルのアンモニア及び必要に応じて0.1〜3リットルの希釈剤を用いることを 特徴とする、請求の範囲第1項記載の4−シアノ−2,5−ジフルオロアニリン の製造方法。 5.ニトリルを希釈剤と共に封鎖した反応容器中に導入し、反応温度に加熱し、 液体アンモニアを内部圧力を保持する割合で容器圧力に対抗してポンプ導入し、 次に反応が完了した後に系を冷却し、過剰のアンモニア及び希釈剤を、必要に応 じて減圧下で、除去し、残渣を水と共に撹拌し、結晶を分別し、水で洗浄するか または水中でスラリー化して再び分別し、そして最後に乾燥することを特徴とす る、請求の範囲第1項記載の4−シアノ−2,5−ジフルオロアニリンの製造方 法。
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