JPH1135156A - 粉体供給装置及び方法 - Google Patents

粉体供給装置及び方法

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JPH1135156A
JPH1135156A JP18834197A JP18834197A JPH1135156A JP H1135156 A JPH1135156 A JP H1135156A JP 18834197 A JP18834197 A JP 18834197A JP 18834197 A JP18834197 A JP 18834197A JP H1135156 A JPH1135156 A JP H1135156A
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Mitsuru Tamura
満 田村
Koji Fukada
幸士 深田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 作業効率を向上させることができ、供給先又
は供給源に悪影響を与えることを防止できる粉体供給装
置及び方法を提供する。 【解決手段】 圧力調整手段V2,V3により供給源1,
2,3内の第1の空間1b,3a,6aを所定の圧力と
した後、均圧用配管9に設けた第2の弁V5を開いて第
1の空間と第2の空間6bとを連通させることにより、
第1の空間と第2の空間との圧力が等しくなるようにし
ている。このため、その後に第1の弁V4を開き、次い
で第2の弁V5を閉じるときに、供給用配管6を通して
供給源内にガスが流入することがなく、不定量の粉体が
供給源から一気に排出されることもなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、粉体供給装置及び
方法、例えばポリオレフィンの製造に用いられる触媒な
どの粉体を供給する粉体供給装置及び方法に関する。
【0002】
【従来の技術】粉体供給装置として、例えば特開平5−
221531号公報に開示されるものがある。この装置
は、供給源として、触媒を収容する容器及び触媒を容器
から排出させるテーブルフィーダ等の排出機構を備えて
いる。容器には、容器を加圧するガスを送るための配管
が接続され、この配管には容器内に送るガスの流入を調
整するための弁が設けられている。また、テーブルフィ
ーダからは弁(以下、第1の弁という)をもった供給用
配管が延びており、この供給用配管は、触媒をガスで加
速して輸送するガス輸送配管を介してポリオレフィン重
合を行う反応容器に接続されている。このような構成の
装置においては、触媒は、第1の弁を開きテーブルフィ
ーダを作動することでガス輸送配管に供給される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の粉体供給装置は、触媒をガス輸送配管に供給す
る場合に、容器内の空間の圧力と供給用配管に設けた第
1の弁の下流側の圧力との間に差があると、ガス及び触
媒に対するテーブルフィーダ上下における密閉性が不十
分であることに起因して、以下に述べる問題が生じる。
【0004】すなわち、容器内の空間の圧力が第1の弁
の下流側の圧力より大きい場合には、第1の弁を開いて
テーブルフィーダを作動させるときに、圧力差によって
不定量の触媒が容器内から一気に排出され、供給先であ
る反応容器において急激な重合反応を生じさせる場合が
ある。
【0005】一方、容器内の空間の圧力が第1の弁の下
流側の圧力より小さい場合には、第1の弁を開いてテー
ブルフィーダを作動させるときに、圧力差によってガス
輸送配管中のガスが容器内に侵入し容器内の触媒と反応
して容器内に塊化物を生成させる場合がある。この場
合、塊化物を取り除く作業を行うか又は供給源である排
出機構等の解体掃除を行わなければならない。
【0006】そこで、供給用配管の第1の弁を開く前
に、容器に接続された配管の弁を適宜操作して容器内の
空間の圧力を供給用配管の弁の下流側の圧力と等しくな
るように調整することも考えられるが、この場合、供給
用配管の第1の弁の下流側の空間の圧力を監視しつつ容
器内の空間の圧力を精密に制御しなければならないため
作業効率が悪い。
【0007】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、作業効率を向上させることができ、供給先又
は供給源に悪影響を与えることを防止できる粉体供給装
置及び方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、粉体を供給する供給源と、供給源に接続
され粉体を供給先に送る供給用配管と、供給用配管に設
けられる第1の弁と、供給源内の第1の空間を供給用配
管の第1の弁の下流側の第2の空間と連通させる均圧用
配管と、均圧用配管に設けられる第2の弁と、第1の空
間内の圧力を調整するための圧力調整手段とを備えるこ
とを特徴とする。
【0009】この発明によれば、粉体の供給開始に先立
って圧力調整手段により供給源内の第1の空間を第2の
空間に対して陽圧とした後、第2の弁を開いて第1の空
間と第2の空間とを連通させると、第1の空間と第2の
空間との圧力が等しくなる。このため、その後に第1の
弁を開き、次いで第2の弁を閉じるときに、供給用配管
を通して供給源内にガスが流入することがなく、不定量
の粉体が供給源から一気に排出されることもない。
【0010】また、本発明は、上記構成の粉体供給装置
を用いて前記粉体を前記供給先に送る粉体供給方法にお
いて、第1の弁を閉じた状態で、圧力調整手段により供
給源内の第1の空間を第2の空間に対して陽圧とし、第
2の弁を開くことで第1の空間と第2の空間とを連通さ
せた後、第1の弁を開き、第2の弁を閉じて粉体を供給
源から供給先に供給することを特徴とする。
【0011】この場合、粉体を供給先に供給する際に、
供給用配管を通して供給源内にガスが流入することがな
く、不定量の粉体が供給源から一気に排出されることも
ない。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明の好適な
実施形態について詳細に説明する。
【0013】図1は、ポリオレフィン重合反応装置に適
用される粉体供給装置を概略的に示す断面図である。図
1に示すように、粉体供給装置10は、底面に排出口1
aをもった容器1を備えており、この容器1内の空間に
は粉体としての触媒が収容されるようになっている。ま
た、この容器1には、触媒を容器1から排出させる排出
機構2が設けられ、排出機構2としては、例えばテーブ
ルフィーダが用いられる。テーブルフィーダは、容器1
の底面を貫通する回転軸2aと、容器1内で回転軸2a
に取り付けられた円板状の回転部材2bと、回転軸2a
を回転させる駆動機構2cと、駆動機構2cを作動させ
るモータ部2dとで構成され、回転部材2bには、その
表面の外周側に一定容積の開口部2eが形成され、回転
部材2bの回転により開口部2eが容器底面の排出口1
aと対向するときに一定量の触媒が容器1から排出され
る。
【0014】また、容器1の上部には、触媒をストック
するホッパ3が設けられ、このホッパ3には、弁V1
設けた配管4を通して補給源(図示せず)から触媒が適
宜補給される。また、ホッパ3の上部からは途中で分岐
する分岐配管5が延びており、この分岐配管5における
分岐された一方の配管5aは大気に放出されており、他
方の配管5bは、窒素等の不活性ガス源(図示せず)に
接続されている。これらの配管5a,5bにはそれぞれ
弁V2,V3が設けられ、各弁V2,V3の開閉によりホッ
パ3内の空間3aの圧力が適宜調整される。
【0015】また、容器1には、その底面の排出口1a
から下方に延びる供給用配管6が接続され、この供給用
配管6は、さらにオレフィン重合を行う反応容器(図示
せず)に必要なモノマーガス等の一部を輸送するガス輸
送配管7に接続されている。また、供給用配管6の途中
には弁(第1の弁)V4が設けられ、この弁V4を開いて
触媒が供給用配管6からガス輸送配管7に供給される。
また、粉体供給装置10には、ホッパ3及び容器1から
それぞれ延び途中で合流して供給用配管6の弁V4の上
流側に接続される均圧用配管8が設けられ、この均圧用
配管8によりホッパ3、容器1及び供給用配管6内のそ
れぞれの空間3a,1b,6a同士間の圧力が等しくさ
れ、圧力差に起因する触媒のフラッシングが防止され
る。なお、空間3a及び1bにより第1の空間が構成さ
れている。
【0016】更に、粉体供給装置10には、ホッパ3か
ら延び供給用配管6に設けた弁V4の下流側に接続され
る均圧用配管9が設けられている。この均圧用配管9
は、ホッパ3内の空間3aと供給用配管6の弁V4の下
流側の空間(第2の空間)6bとを連通させ、ホッパ3
内の空間3aの圧力と、供給用配管6の空間6bの圧力
とを等しくするためのものである。また、均圧用配管9
には、弁(第2の弁)V5が設けられている。
【0017】次に、前述した構成の粉体供給装置10を
用いた粉体供給方法について図2を参照して説明する。
図2は、粉体供給装置10の起動時における一連の操作
手順を示すフローチャートである。
【0018】粉体供給装置10は、その停止時において
は弁V1,V2,V3,V4,V5が閉じられ、モータ部2
dが停止された状態にある(ステップ100)。この状
態で弁V3を開くことによりホッパ3内の空間3aに窒
素ガスを導入し、ホッパ3の空間3aを供給用配管6の
第2の空間6bに対して陽圧にする(ステップ10
1)。その結果、窒素ガスは、均圧用配管8の内部を通
って容器1内の空間1b及び供給用配管6に設けた弁V
4の上流側の空間6aに流れ込み、空間3a,1b,6
a同士間の圧力が等しくなる。
【0019】次に、弁V3を閉じ(ステップ102)、
均圧用配管9に設けた弁V5を開き、ホッパ3内の空間
3aと供給用配管6のうち弁V4の下流側の空間6bと
を連通させる。このとき、ホッパ3内の空間3aは、供
給用配管6の空間6bに対して陽圧となっているため、
ガス輸送配管7から均圧用配管9内にガスが流入するこ
となくホッパ3内の空間3aの窒素ガスが均圧用配管9
を通ってホッパ3内の空間3aから供給用配管6の空間
6bに流れ込む。その結果、ホッパ3内の空間3aの圧
力と供給用配管6の空間6bの圧力とが等しくなる(ス
テップ103)。なお、弁V3は、このステップ103
の後に閉めてもよい。
【0020】そして、弁V4を開き(ステップ10
4)、その直後或いは同時に弁V5を閉じモータ部2d
を作動させると(ステップ105)、容器1内の回転部
材2bが回転軸2aと共に回転し、回転部材2bの開口
部2eが容器1の底面の排出口1aと対向されるとき
に、一定量の触媒が供給用配管6を通ってガス輸送配管
7に供給され、以後一定量の触媒が間欠的または連続的
にガス輸送配管7に供給される。
【0021】このような粉体供給方法では、ホッパ3内
の空間3aと供給用配管6の空間6bとを均圧用配管9
に設けた弁V5により予め等しくするようにしているの
で、弁V4を開いてモータ部2dを作動させるときに、
空間6aの圧力が容器1内の空間1bの圧力より低い場
合のように回転部材2bと容器1の底面との間のわずか
な隙間を通って不定量の触媒が容器1から排出されるこ
とがない。このため、不定量の触媒が一時的に反応容器
に入り急激な重合反応が発現するといった事態を回避す
ることができる。
【0022】また、同様な理由から、弁V4を開いてモ
ータ部2dを作動させるときに、空間6aの圧力が容器
1内の空間1bの圧力より高い場合のように回転部材2
bと容器1の底面との間のわずかな隙間を通るガス輸送
配管7からのガスの侵入が防止される。このため、容器
1内に侵入したガスが容器1内で触媒と反応して塊化物
が生成されテーブルフィーダなどが使用不可能になるこ
とがない。
【0023】また、ガス輸送配管7からのガスが均圧用
配管8を通って侵入し、容器1、ホッパ3内で散開され
ることもないので、容器1及びホッパ3内の触媒が塊化
することもない。更に、空間3a,1b,6aと、空間
6bとを等圧にするのに、弁V5を開くだけなので、空
間6bの圧力に基づいて弁V2,V3を精密に調整する場
合に比べ簡単に作業することができる。従って、粉体供
給装置10の起動時における作業効率を向上させること
ができる。
【0024】なお、本発明は、前述した実施形態に限定
されない。例えば、本発明では、供給先として、ポリオ
レフィン重合反応装置に限定されず、微粉砕装置、連続
供給装置、冷却加熱を伴う化学装置、製薬装置などの厳
密な定量性が要求される如何なる装置であっても適用可
能である。
【0025】また、本発明は、触媒に限らずフラッシン
グ性をもった如何なる粉体についても適用可能である。
【0026】更に、本発明では、供給源の排出機構2と
して、テーブルフィーダに限らずスクリューフィーダな
どであってもよい。
【0027】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、供
給源内の第1の空間と供給用配管の弁の下流側の第2の
空間とを均圧用配管に設けた第2の弁により予め等しく
するようにしているので、その後第1の弁を開いて装置
を起動するときに、粉体が供給源から一気に排出される
ことなく常時一定量の粉体が確実に排出される。この結
果、供給先に悪影響を与えることを防止することができ
る。
【0028】また、第1の弁を開くときに、供給源内の
第1の空間にガスが侵入することがないため、供給源内
の粉体と反応して塊化物が生成されず、装置の起動時に
塊化物を除去する作業が不要となる。更に、第1の空間
と第2の空間とを等圧にするのに、第2の弁を開くだけ
なので、第1の弁を開く前に、第2の空間の圧力に基づ
き第1の空間の圧力を予め精密に調整する場合に比べ簡
単に作業することができる。従って、装置の起動時にお
ける作業効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の粉体供給装置の好適な実施形態を概略
的に示す断面図である。
【図2】図1の粉体供給装置の起動時における粉体供給
方法の操作手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
1…容器(供給源)、2…排出機構(供給源)、3…ホ
ッパ(供給源)、1b,3a,6a…空間(第1の空
間)、6b…空間(第2の空間)、9…均圧用配管、V
2,V3…弁(圧力調整手段)、V4…弁(第1の弁)、
5…弁(第2の弁)。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粉体を供給する供給源と、 前記供給源に接続され前記粉体を供給先に送る供給用配
    管と、 前記供給用配管に設けられる第1の弁と、 前記供給源内の第1の空間を前記供給用配管の前記第1
    の弁の下流側の第2の空間と連通させる均圧用配管と、 前記均圧用配管に設けられる第2の弁と、 前記第1の空間内の圧力を調整するための圧力調整手段
    と、を備えることを特徴とする粉体供給装置。
  2. 【請求項2】 前記供給先は重合反応容器であり、前記
    粉体は重合反応のための触媒であることを特徴とする請
    求項1に記載の粉体供給装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の粉体供給装置を用いて前
    記粉体を前記供給先に送る粉体供給方法において、 前記第1の弁を閉じた状態で、前記圧力調整手段により
    前記供給源内の前記第1の空間を前記第2の空間に対し
    て陽圧とし、 前記第2の弁を開くことで前記第1の空間と前記第2の
    空間とを連通させた後、 前記第1の弁を開き、 前記第2の弁を閉じて前記粉体を前記供給源から前記供
    給先に供給する、ことを特徴とする粉体供給方法。
  4. 【請求項4】 前記供給先は重合反応容器であり、前記
    粉体は重合反応のための触媒であることを特徴とする請
    求項3記載の粉体供給方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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