JPH11350115A - 同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置 - Google Patents

同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置

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JPH11350115A
JPH11350115A JP16448398A JP16448398A JPH11350115A JP H11350115 A JPH11350115 A JP H11350115A JP 16448398 A JP16448398 A JP 16448398A JP 16448398 A JP16448398 A JP 16448398A JP H11350115 A JPH11350115 A JP H11350115A
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JP
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vapor deposition
deposition material
trigger
discharge
electrode
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JP16448398A
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Yoshiaki Agawa
阿川  義昭
Yoshihiro Yamamoto
佳宏 山本
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Ulvac Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】カソード電極側の蒸着材料が消耗することによ
ってトリガ放電が発生しなくなった場合に再度トリガ放
電を発生させることが可能な同軸型真空アーク蒸着源を
用いた蒸着装置を提供する。 【解決手段】本発明は、アノード電極4と蒸着材料9と
の間に電圧を印加した状態で、トリガ電極7と蒸着材料
9との間にトリガ放電を発生させ、アノード電極4と蒸
着材料9との間にアーク放電を誘起させて蒸着材料9を
蒸発させ、成膜対象物の表面に薄膜を形成するための蒸
着装置である。蒸着材料9を直線駆動機構25のシャフ
ト26に連結し、トリガ電極7に対して相対的に移動可
能に構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は蒸着装置に関し、特
に、同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、金属や誘電体材料等の薄膜は、半
導体装置や液晶表示装置に不可欠なものとなっており、
スパッタリング法、蒸着法、CVD法等の種々の薄膜形
成方法が開発されている。それらの形成方法のうち、膜
厚制御性に優れ、高品質の薄膜を形成できることから、
近年では同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置が注
目されている。
【0003】図2は、従来の同軸型真空アーク蒸着源を
用いた蒸着装置の概略構成を示すものである。図2に示
すように、従来の蒸着装置110は、真空槽101底面
に同軸型真空アーク蒸着源103が配置されるととも
に、天井側には基板ホルダ105が配置されている。
【0004】図3(a)は、同軸型真空アーク蒸着源1
03の模式的な断面を示すものであり、図3(b)は、
同軸型真空アーク蒸着源103における蒸着の原理を示
す説明図である。
【0005】図3(a)に示すように、同軸型真空アー
ク蒸着源103は、円筒形形状のアノード電極130を
有しており、アノード電極130内には、カソード部1
40が配置されている。カソード部140は、絶縁管1
41と、トリガ電極142と、蒸着材料143と、取付
台145とを有している。
【0006】絶縁管141は円筒形状に形成され、この
絶縁管141の内部に円柱形状の取付台145と蒸着材
料143が挿入されている。絶縁管141内部におい
て、取付台145は奥側に配置される一方、蒸着材料1
43は先端付近に配置され、蒸着材料143の下端部
は、取付台145の上端部に密着固定され、上端部は絶
縁管141先端から突き出されている。
【0007】絶縁管141の先端には、リング状のトリ
ガ電極142が装着されており、これにより蒸着材料1
43の側面とトリガ電極142の表面とは、非接触の状
態で近接配置されるようになっている。
【0008】図2に示すように、真空槽101の外部に
は、トリガ電源120とアーク電源147とが配置され
ている。各電源120、147の負電位側の端子は、そ
れぞれ取付台145に共通に接続されている。他方、ト
リガ電源120の正電位側の端子はトリガ電極142に
接続されており、アーク電源147の正電位側の端子は
アノード電極130に接続されている。
【0009】この蒸着装置110を用いて薄膜を形成す
る場合には、基板108を基板ホルダ105に保持さ
せ、真空槽101内部を真空排気しながら基板108を
加熱する。
【0010】基板108が所定温度まで昇温した後、ア
ーク電源147を起動し、アノード電極130に正電圧
を印加し、蒸着材料143に、取付台145を介して負
電圧を印加する。
【0011】これにより、図3(b)に示すように、ト
リガ電極142と蒸着材料143の間にトリガ放電が発
生してトリガ電流i1が流れる。そして、これよって蒸
着材料143の側面が部分的に蒸発し、蒸着材料143
の蒸気が放出され、アノード電極130の内側の圧力が
上昇する。その結果、アノード電極130と蒸着材料1
43との間の絶縁耐圧が低下し、蒸着材料143の側面
と、アノード電極130との間でアーク放電が発生す
る。
【0012】このアーク放電によって、アノード電極1
30の内周面から蒸着材料143の側面に向けてアーク
電流i2が流れると、アーク電流i2は大電流であるた
め、蒸着材料143の側面が溶融し、トリガ放電のとき
よりも大量の蒸気が放出される。
【0013】ここで、蒸着材料143と取付台145と
は円柱形状に形成されているため、アーク電流i2は、
カソード部140の内部を直線的に流れる。アーク電流
2が流れることによって磁界が形成されると、その磁
界は、正電荷に対してアーク電流i2の向きとは反対方
向、すなわち、真空槽1内に向ける方向の力(ローレン
ツ力)Fを及ぼす。
【0014】ここで、蒸着材料143からなる蒸気中に
は、正に帯電した微小粒子151が含まれているため、
蒸着材料143の側面からさまざまの方向に飛び出した
微小粒子151は、上述した力Fの影響を受け、アノー
ド電極130の開口部149から真空槽101内に向け
て放出される。
【0015】蒸着材料143の延長線上には基板108
が位置しており、真空槽101内に放出された微小粒子
151は基板108の方向に飛行し、基板108に到達
すると、その表面において薄膜が成長する。
【0016】他方、アーク電流i2が流れると、微小粒
子151の他に、蒸着材料143の構成物質から成る巨
大粒子152も同時に放出されるが、その巨大粒子15
2は、無電荷であるか、電荷を有していても、電荷量に
比べて質量が大きいので、力Fによる曲げ量が少なく、
その結果、巨大粒子152はアノード電極130の内周
面に付着し、真空槽101内には放出されない。
【0017】このように、アーク電流i2が流れている
間に、微小粒子151が薄膜を成長させることになる
が、アーク電流i2は大電流であるため、アーク電源1
47の消耗が大きく、アーク電源147の出力電圧がア
ーク放電を維持できなくなる程度まで低下すると、自動
的にアーク放電は停止する。
【0018】したがって、1回のトリガ放電によって放
出される微小粒子151の量は、アーク電源147の電
源能力によって決まるので、必要なだけトリガ放電を繰
り返し発生させることで、基板108上において所望の
膜厚の薄膜を形成することができる。
【0019】上記のような蒸着装置110は、トリガ放
電の回数によって膜厚を精密に制御することができ、し
かも、巨大粒子152は基板108に到達せず、緻密で
良質の薄膜を形成できることから、Ta、NiFe、C
u、Co、FeMn等の、高性能磁気薄膜を製造する場
合に盛んに用いられている。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の技術においては、次のような問題があった。
すなわち、従来の同軸型真空アーク蒸着源110にあっ
ては、図3(b)に示すように、上述のトリガー放電
は、蒸着材料143のトリガ電極142と対向する部
分、すなわち、蒸着材料143の付け根の部分143a
においてパルス放電として発生するが、このパルス放電
を長時間にわたって繰り返し行うと、上述した蒸着材料
143のトリガ電極と対向する付け根の部分143aが
微小粒子151及び巨大粒子152の飛散によって必然
的に消耗する。その結果、蒸着材料151の付け根の部
分143が削り取られて最終的にパルス放電が発生しな
くなるという問題がある。
【0021】本発明は、このような従来の技術の課題を
解決するためになされたもので、カソード電極側の蒸着
材料が消耗することによってトリガ放電が発生しなくな
った場合に再度トリガ放電を発生させることが可能な同
軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置を提供すること
を目的とするものである。
【0022】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
になされた請求項1記載の発明は、アノード電極と蒸着
材料との間に電圧を印加した状態で、トリガ電極と前記
蒸着材料との間にトリガ放電を発生させ、前記アノード
電極と前記蒸着材料との間にアーク放電を誘起させて前
記蒸着材料を蒸発させ、成膜対象物の表面に薄膜を形成
するための蒸着装置であって、前記蒸着材料が、前記ト
リガ電極に対して相対的に移動可能に構成されているこ
とを特徴とする。
【0023】請求項1記載の発明にあっては、放電の繰
り返しによって蒸着材料のトリガ電極に対向する部分が
削れてカソード電極とトリガ電極との間で放電が発生し
なくなった場合において、トリガ電極に対して蒸着材料
を相対的に移動させることによって、トリガ電極に対し
て蒸着材料の新しい面を対向させることができ、これに
よりアーク放電を再び発生させることが可能になる。そ
の結果、本発明によれば、長時間にわたって安定してア
ーク放電を発生させることができるので、処理対象物の
表面に厚い膜を形成することが可能になる。
【0024】この場合、請求項2記載の発明のように、
請求項1記載の発明において、前記蒸着材料が真空処理
槽内に配設されるとともに、当該蒸着材料を移動させる
ための駆動機構が当該真空処理槽の外部に配設されてい
ることも効果的である。
【0025】請求項2記載の発明によれば、真空処理槽
内の状態を変化させることなくトリガ電極に対して蒸着
材料を相対的に移動させることが可能になる。
【0026】また、請求項3記載の発明のように、請求
項1又は2のいずれか1項記載の発明において、前記真
空処理槽内の真空状態を保持しつつ前記蒸着材料を移動
させるように構成されていることも効果的である。
【0027】請求項3記載の発明によれば、カソード電
極とトリガ電極との間で放電が発生しなくなった時点に
おいて、直ちにトリガ電極に対して蒸着材料を相対的に
移動させて再びトリガ放電を誘起させることができるた
め、効率良く蒸着を行うことができる。
【0028】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る蒸着装置の好
ましい実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。図
1は、本実施の形態の蒸着装置の要部を示す概略構成図
である。図1に示すように、本実施の形態の蒸着装置1
は、真空処理槽2の底部に取り付けられた絶縁フランジ
3上に円筒形状のアノード電極4が固定されている。そ
して、アノード電極4の内側には円筒形状のトリガ電極
支持台5が配設され、その上端部に、トリガ電極固定台
6を介して円筒形状のトリガ電極7が取り付けられてい
る。なお、アノード電極4の長手方向の延長線上には、
処理対象物である基板(図示せず)が配設されている。
【0029】トリガ電極7の内側には、例えば酸化アル
ミニウム(Al23)からなる絶縁管8を介して円柱形
状の蒸着材料9が昇降自在に取り付けられている。この
場合、蒸着材料9は、その先端部が絶縁管8からアノー
ド電極4側に突出するように配設されている。
【0030】蒸着材料9の下端部には、円柱棒状のカソ
ード取付台10が例えば銅からなる導電性のコネクタ1
1によって固定され、これにより蒸着材料9とカソード
取付台10とが電気的に接続されるようになっている。
そして、カソード取付台10はアノード電極4と平行に
配設され、その蒸着材料9に接続されない側の下端部分
が、絶縁フランジ3及び絶縁フランジ3と同心円上に固
定されたベースフランジ12を貫通して真空処理槽2の
外部へ突出するようになっている。
【0031】図1に示すように、真空処理槽2の底部と
絶縁フランジ3との間、及び絶縁フランジ3とベースフ
ランジ12との間にそれぞれガスケット13、14が設
けられるとともに、絶縁フランジ3及びベースフランジ
12とカソード取付台10との間にOリング15が設け
られ、これにより真空処理槽2内の気密状態が保持され
るようになっている。
【0032】一方、トリガ電極7にはトリガ配線16が
接続され、このトリガ配線16は、ベースフランジ12
に取り付けられた電流導入端子17にコネクタ18を介
して接続されている。この電流導入端子17は、トリガ
ケーブル19を介して図示しないトリガ電源に接続され
ている。
【0033】また、カソード取付台10の真空処理槽2
外部側の側面には、図示しないアーク電源に接続された
カソードケーブル20が接続されている。なお、アノー
ド電極4は真空処理槽2の外部においてアースケーブル
21に接続され、これによりアノード電極4は接地され
るようになっている。
【0034】ベースフランジ12の下面には、ボルト2
2によってブラケット23が取り付けられ、このブラケ
ット23の下部に取付フランジ24を介して直線駆動機
構(駆動機構)25が固定されている。この直線駆動機
構25は、図示しないノブを回転させることによって無
回転状態で長手方向に移動するシャフト26を有し、さ
らにこのシャフト26は所定の精度で位置決めできるよ
うに構成されている。
【0035】図1に示すように、本実施の形態において
は、直線駆動機構25のシャフト26がカソード取付台
10と同軸上で平行に移動するように配設される。そし
て、カソード取付台10の下端部が、絶縁材料からなる
絶縁カップリング27によって直線駆動機構25のシャ
フト26の先端部に固定され、これにより直線駆動機構
25の駆動によってカソード取付台10及び蒸着材料9
が上下動できるように構成されている。
【0036】本実施の形態においては、従来技術の場合
と同様に、蒸着の際に、トリガ電極7に数kV程度の所
定の電圧が印加される。これにより蒸着材料9とトリガ
電極7との間で放電が発生し、この火花放電によってア
ノード電極4と蒸着材料9との間で大きな放電が発生す
ることによって、蒸着材料9から蒸着物が飛来する。
【0037】そして、このような放電を繰り返すことに
より、蒸着材料9の絶縁管8との界面部分9aが削れ、
その結果、蒸着材料9とトリガ電極7との間で放電が発
生しなくなる。
【0038】そこで、直線駆動機構25の図示しないノ
ブを回転させることによって、直線駆動機構25のシャ
フト26を上昇させ、カソード取付台10及び蒸着材料
9を所定の距離だけ上昇させる。その結果、トリガ電極
7に対して蒸着材料9の新しい面が対向するようにな
り、これにより上述したトリガ放電を再び発生させるこ
とが可能になる。
【0039】このような構成を有する本実施の形態によ
れば、長時間にわたって安定してトリガ(パルス)放電
を発生させることができ、成膜対象物の表面に厚い膜を
成膜することが可能になる。
【0040】特に本実施の形態の場合は、直線駆動機構
25が真空処理槽2の外部に配設されていることから、
真空処理槽2内の状態を変化させることなくトリガ電極
9に対して蒸着材料を相対的に移動させることができ
る。
【0041】また、本実施の形態によれば、蒸着材料9
とトリガ電極7との間で放電が発生しなくなった時点に
おいて、直ちにトリガ電極7に対して蒸着材料9を相対
的に移動させて再びトリガ放電を誘起させることができ
るため、効率良く蒸着を行うことができる。
【0042】なお、本発明は上述の実施の形態に限られ
ることなく、種々の変更を行うことができる。例えば、
上述の実施の形態においては、蒸着材料9を移動させる
ように構成したが、本発明はこれに限られず、トリガ電
極7を移動させるように構成することも可能である。た
だし、上記実施の形態のように、蒸着材料9を移動させ
る方が構成が簡単になる。
【0043】また、蒸着材料9を移動させる手段は上述
した直線駆動機構25には限られず、種々のものを用い
ることが可能である。
【0044】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、カソ
ード電極側の蒸着材料が消耗することによってトリガ放
電が発生しなくなった場合に再度トリガ放電を発生させ
ることができる。その結果、本発明によれば、長時間に
わたって安定してアーク放電を発生させることができる
ので、処理対象物の表面に良質の厚い膜を形成すること
が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の蒸着装置の要部を示す概
略構成図
【図2】従来の同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装
置の概略構成図
【図3】(a):同軸型真空アーク蒸着源の模式的な断
面図 (b):同軸型真空アーク蒸着源における蒸着の原理を
示す説明図
【符号の説明】 1…蒸着装置 2…真空処理槽 4…アノード電極 7
…トリガ電極 9…蒸着材料 10…カソード取付台
25…直線駆動機構 26…シャフト
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年5月10日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】アノード電極と蒸着材料との間に電圧を印
    加した状態で、トリガ電極と前記蒸着材料との間にトリ
    ガ放電を発生させ、前記アノード電極と前記蒸着材料と
    の間にアーク放電を誘起させて前記蒸着材料を蒸発さ
    せ、成膜対象物の表面に薄膜を形成するための蒸着装置
    であって、 前記蒸着材料が、前記トリガ電極に対して相対的に移動
    可能に構成されていることを特徴とする蒸着装置。
  2. 【請求項2】前記蒸着材料が真空処理槽内に配設される
    とともに、当該蒸着材料を移動させるための駆動機構が
    当該真空処理槽の外部に配設されていることを特徴とす
    る請求項1記載の蒸着装置。
  3. 【請求項3】前記真空処理槽内の真空状態を保持しつつ
    前記蒸着材料を移動させるように構成されていることを
    特徴とする請求項1又は2のいずれか1項記載の蒸着装
    置。
JP16448398A 1998-06-12 1998-06-12 同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置 Pending JPH11350115A (ja)

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