JP5133359B2 - 蒸着源 - Google Patents
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Description
それらのうち、同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置は、高真空雰囲気で薄膜を形成できることから、近年注目されている技術である。
上述したベースプレート119には、その表裏を貫通する小孔が設けられ、トリガ配線121及びトリガ配線碍子122は、この小孔を気密に挿通されてベースプレート119の裏面側に引き出されている。
アーク放電により、蒸着材料111が蒸発すると、正電荷を有する荷電微粒子が、蒸着材料の側面144からアノード電極123に向けて大量に放出される。
このため、基板104表面には、質量が小さい荷電微粒子151のみが到達できるので、その結果、基板104表面に、結晶性の優れた薄膜を形成できる。
トリガ碍子114cは、リング状に形成され、カソード電極112の表面に配置されている。
本発明は、前記トリガ電極は前記開口と前記ベースプレートとの間に位置し、前記トリガ放電と前記アーク放電は、前記アノード電極内の前記開口と前記ベースプレートの間で発生する蒸着源である。
本発明は、前記ベースプレートには、カソード電極用貫通孔が形成され、前記カソード電極は前記カソード電極用貫通孔に挿通され、前記トリガ配線用貫通孔は、前記カソード用貫通孔と前記アノード電極の内部側面との間に形成された蒸着源である。
本発明は、前記トリガ配線用貫通孔は前記アノード電極内周面から離間した位置に形成された蒸着源である。
本発明は、前記絶縁碍管は交換可能に構成された蒸着源である。
また、本発明の蒸着装置によれば、本発明の蒸着源を備えているので、蒸着源のメンテナンスに要するコストや手間を軽減することができる。
真空槽2の内部底面には貫通孔が設けられ、この貫通孔を気密に蓋するように、取付フランジ50が配置されている。取付フランジ50には、鉛直に配置された支柱51の下端が固定されており、その上端には、蒸着源5のアノード電極23が固定されている。
上述したアノード電極23の内部には、その外径がアノード電極23の内径に等しく、円板状に形成された金属製のベースプレート19が取り付けられており、カソード電極12は、このベースプレート19と絶縁された状態で、ベースプレート19の表面側に配置されている。
トリガ電源31は、その出力端子がそれぞれ電流入力端子631、632及びコネクタ621、622を介して、トリガ配線21とカソード電極12に接続されている。トリガ配線21はトリガ電極13と電気的に接続され、カソード電極12は蒸着材料11と電気的に接続されており、トリガ電源31を起動すると、トリガ電極13に、蒸着材料11に対して正のパルス状電圧が印加される。ここでは、トリガ電極13に、蒸着材料11に対して+3.4kVのパルス状の電圧が印加される。
Claims (5)
- 開口を有する筒状のアノード電極と、
端部が前記アノード電極の内部壁面に固定された状態で、前記アノード電極内に配置された板状のベースプレートと、
カソード電極と、
前記カソード電極に接続された状態で前記アノード電極内に配置された蒸着材料と、
前記蒸着材料近傍に配置されたトリガ電極と、
前記トリガ電極に接続されたトリガ配線とを有し、
前記カソード電極と前記アノード電極との間に電圧を印加した状態で、前記トリガ電極に電圧を印加すると、該トリガ電極と前記蒸着材料との間にトリガ放電が発生し、前記アノード電極と前記蒸着材料との間にアーク放電が誘起され、前記蒸着材料の構成物質が蒸発して、前記開口から放出されるように構成された蒸着源であって、
前記ベースプレートの前記アノード電極で取り囲まれた部分には、トリガ配線用貫通孔が形成され、
前記トリガ配線は、絶縁碍管に挿通され、
前記絶縁碍管は、前記ベースプレートと前記アノード電極には非接触で、前記トリガ配線用貫通孔に挿通された蒸着源。 - 前記トリガ電極は前記開口と前記ベースプレートとの間に位置し、
前記トリガ放電と前記アーク放電は、前記アノード電極内の前記開口と前記ベースプレートの間で発生する請求項1記載の蒸着源。 - 前記ベースプレートには、カソード電極用貫通孔が形成され、
前記カソード電極は前記カソード電極用貫通孔に挿通され、
前記トリガ配線用貫通孔は、前記カソード用貫通孔と前記アノード電極の内部側面との間に形成された請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の蒸着源。 - 前記トリガ配線用貫通孔は前記アノード電極内周面から離間した位置に形成された請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の蒸着源。
- 前記絶縁碍管は交換可能に構成された請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の蒸着源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010020262A JP5133359B2 (ja) | 2010-02-01 | 2010-02-01 | 蒸着源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010020262A JP5133359B2 (ja) | 2010-02-01 | 2010-02-01 | 蒸着源 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001017769A Division JP4535625B2 (ja) | 2001-01-26 | 2001-01-26 | 蒸着源及び蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010095801A JP2010095801A (ja) | 2010-04-30 |
JP5133359B2 true JP5133359B2 (ja) | 2013-01-30 |
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ID=42257682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2010020262A Expired - Fee Related JP5133359B2 (ja) | 2010-02-01 | 2010-02-01 | 蒸着源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5133359B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106801216B (zh) * | 2017-01-20 | 2019-04-05 | 大连理工大学 | 一种电弧离子镀沉积高质量精密涂层的设备和方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11246964A (ja) * | 1997-12-19 | 1999-09-14 | Ulvac Corp | 蒸着源及び蒸着装置 |
JP4149565B2 (ja) * | 1998-06-12 | 2008-09-10 | 株式会社アルバック | 高純度薄膜形成用同軸型真空アーク蒸着源 |
JP4049891B2 (ja) * | 1998-06-18 | 2008-02-20 | 株式会社アルバック | トランスを用いてトリガ放電を発生させる蒸着装置 |
JP4204695B2 (ja) * | 1999-04-16 | 2009-01-07 | 株式会社アルバック | 蒸着源、蒸着装置 |
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2010
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010095801A (ja) | 2010-04-30 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100217 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100217 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111031 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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