JPH11314314A - プラスチック積層体 - Google Patents

プラスチック積層体

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JPH11314314A
JPH11314314A JP450898A JP450898A JPH11314314A JP H11314314 A JPH11314314 A JP H11314314A JP 450898 A JP450898 A JP 450898A JP 450898 A JP450898 A JP 450898A JP H11314314 A JPH11314314 A JP H11314314A
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plastic laminate
gas barrier
conductive film
plastic
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昭彦 坂井
Seiichiro Hayakawa
誠一郎 早川
Chiharu Okawara
千春 大川原
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

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  • Laminated Bodies (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ガラス基板を使用したものより軽量であり、
且つ、光学物性、機械的強度等に優れた、液晶表示装
置、タッチパネル及び太陽電池変換素子等の基板に好適
に使用できるプラスチック積層体を提供する。 【解決手段】 光硬化性樹脂層と導電膜の間にガスバリ
ア膜と硬化被膜を介在させてしてなることを特徴とする
プラスチック積層体。または、光硬化性樹脂層の両側に
硬化被膜を積層し、一方の該硬化被膜の片側にガスバリ
ア膜を、他方の該硬化被膜に導電膜を積層してなること
を特徴とするプラスチック積層体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置、タ
ッチパネル及び太陽電池変換素子等の基板に好適に使用
されるプラスチック積層体に関する。
【0002】
【従来の技術】エレクトロニクス技術の急速な進歩に伴
い、特に液晶表示装置、タッチパネル、太陽電池変換素
子等、光エレクトロニクス分野は拡大している。一般的
に、光エレクトロニク素子は、素子を、透明導電層を有
するガラス基板上に形成することにより各種用途に供さ
れている。しかしながら、ガラスは重量が大きく、可搬
型装置に組み込んだ場合は、ガラスの大きな比重のため
機器の重量が大きくなるという問題があった。そのた
め、軽量化が強く望まれており、ガラス基板に代わるプ
ラスチックシートとして、強度、透明性、耐熱性等に比
較的優れたポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポ
リカーボネート等のシート基板が採用されつつある。
【0003】しかしながら、現状のこれらシート基板
は、厚さが0.1mmm程度であるので、従来のガラス
基板に比べて剛性に欠ける。剛性を付与するため、フィ
ルムの膜厚化が考えられるが、溶媒キャスト法では、発
泡、平面性の低下、残留溶媒の問題のため現実的には厚
さ0.2mm程度の製造が限界である。また、液晶素子
への応用のためにはシート基板の複屈折率が通常20n
m以下、好ましくは10nm以下であることが必要であ
るが、プラスチック成形の際、分子配向を受けやすく低
複屈折の成形体を製造するのは困難である。そこで、特
開平7ー36023号公報などには、複屈折率の小さい
シートを2層積層した光学プラスチックシートが提案さ
れているが、かかるシートでは熱可塑性樹脂であるため
に、剛性が小さく、また、耐薬品性についても大きく劣
るといった欠点がある。また、特開平6ー116406
号公報には、光学用シートとして基材シートの表面層に
硬化性樹脂をコートしたものが提案されているが、かか
るシートも基板洗浄時にシート側面から溶剤により膨
潤、溶解されるため結果として、耐薬品性に劣り、ま
た、基板の剛性も十分なものではないという問題があ
る。
【0004】更に、光エレクトロニクス素子分野では、
特に高度の光学特性、ガスバリア性、電気伝導性、機械
強度等が要求されるため、実際には、各機能を有する複
数層ないしは膜からなる積層構造の基板が用いられ、例
えば、特開平2−5308号公報には、プラスチック成
形体上の両面に硬化被膜を設け、片面に導電膜を設け、
他方片面には金属酸化物被膜を設けた積層体が提案され
ている。しかしながら、この積層体では、基材シートだ
けの問題以外にも、各層の性質の相違や密着性の問題等
により、加熱時のクラックが発生し易い等の問題があ
る。
【0005】一方、ガラス代替基板として有用なプラス
チックシート基板であるが、利用価値を高めるには、軽
量であることのみならず、可撓性を合わせ持つことが必
要である。即ち、ある曲率で基板を撓ませた(屈曲させ
た)際に、導電膜にクラックが入ったりせず、電気伝導
性を保つことが必要である。しかしながら、従来のプラ
スチックシート基板では、その耐屈曲性が不十分である
という問題がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑み、液晶素子装置、タッチパネル、太陽電池等の基板
として十分な耐屈曲性を持つプラスチック積層体を提供
することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】ー 本発明者等は、上記
課題を解決するために鋭意検討を行った結果、光硬化樹
脂を基板しートを含む特定構造のプラスチック積層体の
諸物性が顕著に優れていること注目し、本発明に到達し
た。即ち、本発明のうち、第一発明は、光硬化性樹脂層
と導電膜の間にガスバリア膜と硬化被膜を介在させてし
てなることを特徴とするプラスチック積層体であり、第
二発明は、光硬化性樹脂層の両側に硬化被膜を積層し、
一方の該硬化被膜の片側にガスバリア膜を、他方の該硬
化被膜に導電膜を積層してなることを特徴とするプラス
チック積層体に存する。
【0008】
【発明の実施の形態】以下本発明のプラスチック積層体
について更に詳細に説明する。 (光硬化性樹脂層)光硬化性樹脂層は、本発明のプラス
チック積層体の基材層を構成する。該基材層となる光硬
化性樹脂シートを形成する光硬化性樹脂とは、紫外線等
の照射によって硬化する樹脂である。具体的には、ラジ
カル反応性不飽和化合物を有するアクリレート化合物よ
りなる樹脂組成物、このアクリレート化合物とチオール
基を有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物、エポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステ
ルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等のオリゴ
マーを多官能アクリレートモノマーに溶融せしめた樹脂
組成物等が挙げられるがこれらに限定されるものではな
い。
【0009】このうち、式(1)で示される含イオウビ
ス(メタ)アクリレート及び式(2)で示される脂環骨
格ビス(メタ)アクリレートより選ばれる少なくとも1
種のビス(メタ)アクリレートよりなる組成物が耐薬品
性、剛性等の面で好ましい。なお「(メタ)アクリレー
ト」は、アクリレートないしメタクリレートを総称する
ものである。
【0010】
【化6】
【0011】[式(1)中、R1 及びR2 は、互に異っ
ていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。R3 は炭
素鎖中に酸素原子及び/又は硫黄原子を有していてもよ
い炭素数1〜6の炭化水素基、好ましくは炭素数2〜4
のアルキレン基を示す。R4 は炭素鎖中に酸素原子及び
/又は硫黄原子を有していてもよい炭素数1〜6の炭化
水素基、好ましくは炭素数1〜3のアルキレン基を示
す。Xはハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は
炭素数1〜6のアルコキシ基を示し、aは0〜4の整数
を示す。但しaが2以上の整数の場合には、複数のXは
互に異っていてもよい。] 式(1)で示される化合物のいくつかを例示すれば、次
の通りである。p−ビス(β−メタクリロイルオキシエ
チルチオメチル)ベンゼン、p−ビス(β−アクリロイ
ルオキシエチルチオメチル)ベンゼン、m−ビス(β−
メタクリロイルオキシエチルチオメチル)ベンゼン、m
−ビス(β−アクリロイルオキシエチルチオメチル)ベ
ンゼン、p−ビス(β−メタクリロイルオキシエチルオ
キシエチルチオメチル)ベンゼン、p−ビス(β−メタ
クリロイルオキシエチルチオエチルチオメチル)ベンゼ
ン、p−ビス(β−メタクリロイルオキシエチルチオメ
チル)テトラブロムベンゼン、m−ビス(β−メタクリ
ロイルオキシエチルチオメチル)テトラクロロベンゼ
ン。これらの化合物は、例えば、特開昭62−1953
57号公報に開示されている方法で合成することができ
る。
【0012】
【化7】
【0013】[式(2)中、R5 及びR6 は、互に異っ
ていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。bは1又
は2を示し、cは0又は1を示す。] 式(2)で示される化合物のいくつかを例示すれば、次
の通りである。ビス(オキシメチル)トリシクロ〔5.
2.1.02,6 〕デカン=ジアクリレート、ビス(オ
キシメチル)トリシクロ〔5.2.1.02,6 〕デカ
ン=ジメタクリレート、ビス(オキシメチル)トリシク
ロ〔5.2.1.02,6 〕デカン=アクリレートメタ
クリレート、ビス(オキシメチル)ペンタシクロ〔6.
5.1.13,6 .02,7 .09,13〕ペンタデカン=
ジアクリレート、ビス(オキシメチル)ペンタシクロ
〔6.5.1.1.3,6 .02,7 .09,13〕ペンタ
デカン=ジメタクリレート、ビス(オキシメチル)ペン
タシクロ〔6.5.1.1. 3,6.02,7 .09,13
ペンタデカン=アクリレートメタクリレート。これらの
化合物は、例えば、特開昭62−225508号公報に
開示されている方法で合成することができる。
【0014】以上の式(1)及び式(2)で示される
(メタ)アクリレートは、単独もしくは2種以上を併用
して用いることができる。式(1)の化合物を単独で用
いる場合、本発明により得られる低複屈折板の屈折率
は、ナトリウムのD線(589.3mm)において室温
で1.54〜1.65となり、高屈折率を有する。また
式(2)の化合物を単独で用いる場合は比較的低い屈折
率1.47〜1.51となる。したがって式(1)及び
式(2)で示される化合物を2種以上併用することによ
り、1.47〜1.65の間で所望の屈折率を有する低
複屈折板を得ることができる。
【0015】光硬化性樹脂は、上記ビス(メタ)アクリ
レートを、単独で重合させて使用することができるが、
下記の式(3)、(4)及び(5)で示される分子内に
2個以上のチオール基を有するメルカプト化合物より選
ばれる少なくとも1種のメルカプト化合物をビス(メ
タ)アクリレート80〜99.1重量部に対して、0.
1〜20重量部、より好ましくは1〜15重量部、更に
好ましくは5〜10重量部配合することにより複屈折の
低減、適度の靱性を付与することができる。メルカプト
化合物が20重量部を超えると耐熱性が低くなるのであ
まり好ましくない。
【0016】
【化8】
【0017】[式(3)中、複数のR7 は互に異ってい
てもよく、それぞれメチレン基又はエチレン基を示す。
8 は炭素鎖中に酸素原子及び/又は硫黄原子を含んで
いてもよい炭素数2〜15、好ましくは2〜6の炭化水
素残基を示す。dは2〜6の整数を示す。] 即ち、式(3)で示される化合物は、チオグリコール酸
又はチオプロピオン酸とポリオールとのジエステル〜ヘ
キサエステルである。そのいくつかを例示すると、ペン
タエリスリトールテトラキス(β−チオプロピオネー
ト)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグリコレ
ート)、トリメチロールプロパントリス(β−チオプロ
ピオネート)、トリメチロールプロパントリス(チオグ
リコレート)、ジエチレングリコールビス(β−チオプ
ロピオネート)、ジエチレングリコールビス(チオグリ
コレート)、トリエチレングリコールビス(β−チオプ
ロピオネート)、トリエチレングリコールビス(チオグ
リコレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(β
−チオプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキ
サキス(チオグリコレート)などが挙げられる。
【0018】
【化9】
【0019】[式(4)中、Yは互に異っていてもよ
く、HS−(CH2 e −(CO)(OCH2 −C
2 f −(CH2 g −を示す。但しeは1〜4の整
数、fは1〜4の整数、gは0〜2の整数をそれぞれ示
す。] 即ち、式(4)の化合物はω−SH基含有トリイソシア
ヌレートである。そのいくつかを例示すると、トリス
〔2−(β−チオプロピオニルオキシ)エチル〕イソシ
アヌレート、トリス(2−チオグリコニルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、トリス〔2−(β−チオプロピ
オニルオキシエトキシ)エチル〕イソシアヌレート、ト
リス(2−チオグリコニルオキシエトキシエチル)イソ
シアヌレート、トリス〔3−(β−チオプロピオニルオ
キシ)プロピル〕イソシアヌレート、トリス(3−チオ
グリコニルオキシプロピル)イソシアヌレートなどが挙
げられる。
【0020】
【化10】
【0021】[式(5)中、R9 及びR10は、互に異っ
ていてもよく、炭素数1〜3の炭化水素基を示す。m及
びnはそれぞれ0又は1を示す。pは1又は2を示
す。] すなわち、式(5)の化合物はα,ω−SH基含有化合
物である。そのいくつかを例示すると、ベンゼンジメル
カプタン、キシリレンジメルカプタン、4,4′−ジメ
ルカプトジフェニルスルフィドなどが挙げられる。
【0022】また、以上の光硬化性樹脂の重合の際に用
いる他の単量体としては、例えば、メチル(メタ)アク
リレート、フェニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、メタクリロイルオキ
シメチルテトラシクロドデカン、メタクリロイルオキシ
メチルテトラシクロドデセン、エチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレート、2,2−ビス[4−(β−メタクリ
ロイルオキシエトキシ)フェニル]プロパン、2,2′
−ビス[4−(β−メタクリロイルオキシエトキシ)シ
クロヘキシル]プロパン、1,4−ビス(メタクリロイ
ルオキシメチル)シクロヘキサン、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレー
ト化合物、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼ
ン、α−メチルスチレン等の核及び(又は)側鎖置換及
び非置換スチレンなどが挙げられる。これらの他の単量
体の中でもメタクリロイルオキシメチルシクロドデカ
ン、2,2−ビス[4−(β−メタクリロイルオキシエ
トキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(β
−メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキシル]プ
ロパン、1,4−ビス(メタクリロイルオキシメチル)
シクロヘキサン、及びこれらの混合物が特に好ましい。
更に、これらには少量の酸化防止剤、紫外線吸収剤、染
顔料、充填剤等を含んでいてもよい。
【0023】以上のようなビス(メタ)アクリレート又
はビス(メタ)アクリレートとメルカプト化合物との混
合物は、紫外線等の活性エネルギー線によりラジカルを
発生する光重合開始剤を添加する公知のラジカル重合に
より硬化させる。その際に用いる光重合開始剤として
は、例えばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ジエトキシアセ
トフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキシド等が挙げられる。好ましい光開
始剤としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド、ベンゾフェノンである。こ
れら光重合開始剤は2種以上を併用してもよい。
【0024】光重合開始剤の添加量は、モノマー100
重量部に対し0.01〜1重量部、好ましくは0.02
〜0.3重量部である。光重合開始剤の添加量が多すぎ
ると、重合が急激に進行し複屈折の増大をもたらすだけ
でなく色相も悪化する。また少なすぎると組成物を充分
に硬化させることができなくなる。照射する活性エネル
ギー線の量は、光重合開始剤がラジカルを発生する範囲
であれば任意であるが、極端に少ない場合は重合が不完
全なため硬化物の耐熱性、機械特性が十分に発現され
ず、逆に極端に過剰な場合には硬化物の黄変等の光によ
る劣化を生じるので、モノマーの組成及び光重合開始剤
の種類、量に合わせて200〜400nmの紫外線を好
ましくは0.1〜200Jの範囲で照射する。使用する
ランプの具体例としては、メタルハライドランプ、高圧
水銀灯ランプ等を挙げることができる。
【0025】硬化を速やかに完了させる目的で、熱重合
を併用してもよい。即ち、光照射と同時に組成物並びに
型全体を通常30〜300℃の範囲で加熱する。この場
合は重合をよりよく完結するためにラジカル重合開始剤
を添加してもよいが、過剰な使用は複屈折の増大と色相
の悪化をもたらす。熱重合開始剤の具体例としてはベン
ゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボ
ネート、t−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキサノエ
ート)等が挙げられ、使用量はモノマー100重量部に
対して1重量部以下が好ましい。
【0026】更に、光照射によるラジカル重合を行った
後、硬化物を加熱することにより重合反応の完結及び重
合時に発生する内部歪を低減することも可能である。加
熱温度は、硬化物の組成やガラス転移温度に合わせて適
宜選択されるが、過剰な加熱は硬化物の色相悪化をもた
らすため、ガラス転移温度付近かそれ以下の温度が好ま
しい。
【0027】光硬化性樹脂シートの成形方法は、少なく
とも一面が活性エネルギー線を透過可能な2枚の相対す
る平板(以下「成形型」という。)を用いスペーサー等
によりキャビティを形成させ周辺部をシールしてなる注
入型に光硬化性樹脂を注入し、活性エネルギー線を照射
して光硬化性樹脂を硬化させる。成形型の材質は、硬化
後のシートの表面から、好ましくは研磨ガラスを用い、
光硬化性樹脂を硬化させるに充分な活性エネルギー線の
透過性を持ち、熱等により容易にその形状を変形させな
いものであればよい。また、研磨ガラスと同等な表面性
を得られるアクリル板等のプラスチック等が挙げられ
る。
【0028】また、必要により成形型上に剥離剤等の塗
布、又は剥離層を設け硬化後の光硬化性樹脂シートを成
形型より除去し易くする処理を行うこともできる。用い
る剥離剤、剥離層、その塗布方法などについては特に限
定すされるものではないが、光硬化樹脂を硬化させるに
充分な活性エネルギー線の透過性を持つ物質であり、更
に、光硬化性樹脂を硬化させるための活性エネルギー線
や、硬化時に発生する熱等により容易にその形成状態を
変形しない物質であり、ガラス表面並の平面性が得られ
る物質であればよい。
【0029】活性エネルギー線は光硬化性樹脂を硬化さ
せるものであり、例えば、紫外線等が挙げられる。活性
エネルギー線の照射量は用いる光硬化性樹脂を硬化させ
る量であればよい。キャビティを形成させるスペーサー
等については、特に限定しないが、所望のシート厚さが
得られるものであればよい。例えば、シリコンゴム等の
ゴム製、金属製の板もしくは棒状、テフロン等の樹脂製
の板もしくは棒状が挙げられる。 (ガスバリア膜)本発明における膜としては、無機酸化
物膜、あるいは、エチレンービニルアルコール共重合体
(例えば、エバール商品名エバール、ソアノール)、塩
化ビニリデン等のガスバリアー性樹脂層が挙げられる
が、好ましくは無機酸化物膜である。無機酸化物とは、
金属、非金属、亜金属の酸化物であり、具体例として
は、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸
化インジウム、酸化カルシウム、酸化カドミウム、酸化
銀、酸化金、酸化クロム、酸化珪素、酸化コバルト、酸
化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化鉄、酸化
銅、酸化ニッケル、酸化白金、酸化パラジウム、酸化ビ
スマス、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化モリブ
デン、酸化バナジウム、酸化バリウム等が挙げられる
が、酸化珪素が特に好ましい。なお、無機酸化物には、
微量の金属、非金属、亜金属単体やそれらの水酸化物、
また、可撓性を向上させるために適宜炭素又はフッ素が
含まれていてもよい。ガスバリア層を形成する方法とし
ては、樹脂等をコートする方法、無機酸化物よりなる蒸
着膜を形成する方法が挙げられる。蒸着膜を形成する方
法としては、真空蒸着法、真空スパッタ法、イオンプレ
ーティング法、CVD法等、従来公知の方法が使用でき
る。
【0030】以上のガスバリア膜の厚さは特に制限はな
く、ガスバリア膜の構成成分の種類によっても異なる
が、酸素ガスバリア性及び水蒸気バリア性、更には経済
性を考慮すると、膜の厚さは5〜50nmが好ましい。
更に高度な酸素ガスバリア性や水蒸気バリア性を得るた
めには膜の厚さを厚くすればよいが、膜の厚さが5nm
未満では膜が島状になって膜が形成されない箇所が生ず
る可能性があり均一な膜が得られない傾向があるので余
り好ましくない。 (硬化被膜)本発明における硬化被膜としては、有機化
合物系硬化被膜であれば、特に限定されることなく用い
られるが、ハードコート剤、アンカーコート剤(プライ
マーコート剤)等より形成されるものである。その具体
例としては、ハードコート剤としては、ポリウレタンア
クリレート、エポキシアクリレートなどのアクリレート
あるいは多官能アクリレート、光重合開始剤、及び有機
溶剤を主成分とするものを使用することができる。ま
た、アンカーコート剤としては、イソシアネート系、ポ
リウレタン系、ポリエステル系、ポリエチレンイミン
系、ポリブタジエン系、アルキルチタネート系等の公知
のアンカーコート剤がが挙げられる。これらの樹脂は、
単独での使用あるいは2種以上の併用が可能であり、更
に、各種硬化剤、架橋剤などを用いて三次元架橋するこ
とも可能である。
【0031】硬化被膜として特に好ましいものを更に具
体的に例示するに、表面硬度、耐熱性、耐薬品性、透明
性などの諸特性を考慮した場合では、有機高分子として
シリコーン系樹脂を用いることが好ましく、特にアクリ
ロイル基やメタクリロイル基を有するシランカップリン
グ剤を含有する活性エネルギー線硬化性組成物が好適で
ある。アクリロイル基やメタクリロイル基を有するシラ
ンカップリング剤を含む活性エネルギー線硬化性組成物
を用いると、特に、金属酸化物等からなるガスバリア膜
と硬化被膜との密着性がよくなり、かつ、ガスバリア性
が特に向上する。その理由は詳らかでないが、密着性の
向上は、シランカップリング剤が金属酸化物薄膜と化学
結合し、かつシランカップリング剤のアクリロイル基や
メタクリロイル基が共存する他の被膜形成々分と反応し
て硬化被膜を金属酸化物薄膜に強固に結合させることに
よるものと考えられる。また、ガスバリア性の向上も、
金属酸化物薄膜を構成している金属酸化物粒子間の間隙
を、シランカップリング剤ないしはそのアクリロイル基
やメタクリロイル基と反応した被膜形成成分が充填する
ことによるものと考えられる。
【0032】シランカップリング剤は、アクリロイル基
及びメタクリロイル基の少くとも一方を有するものであ
ればよいが、反応速度の大きいアクリロイル基を有する
ものの方が好ましい。例えば、反応性基としてイソシア
ネート基やメルカプト基のみを有し、アクリロイル基や
メタクリロイル基を有しないシランカップリング剤を使
用したのでは、密着性は改良されない。これはシランカ
ップリング剤と金属酸化物薄膜との結合は形成されて
も、このシランカップリング剤が共存する他の被膜形成
々分と反応して被膜中に取込まれ難いことによるものと
思われる。
【0033】アクリロイル基やメタクリロイル基を有す
るシランカップリング剤としては、例えばγ−アクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルト
リエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジ
メトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジエ
トキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエ
トキシシラン、γ−アクリロキシプロピル−トリス(β
−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シランなどが挙
げられる。
【0034】これらのシランカップリング剤は、活性エ
ネルギー線硬化性組成物中で、通常0.1〜60重量
%、好ましくは0.2〜45重量%を占める。シランカ
ップリング剤が少な過ぎると硬化被膜と金属酸化物薄膜
との密着性が十分に発現され難い。これは組成物中の金
属酸化物薄膜と反応する官能基の量が十分でないためと
考えられる。逆にシランカップリング剤が過剰に存在す
ると、硬化被膜の耐アルカリ性が低下するようになるこ
とがある。これは金属酸化物薄膜と反応しないシランカ
ップリング剤が、硬化被膜中に多量に残存し、これがア
ルカリと反応するためと考えられる。
【0035】活性エネルギー線硬化性組成物は、シラン
カップリング剤を含む以外は、活性エネルギー線の照射
により重合して硬化被膜を形成する常用のモノマーやオ
リゴマー、ポリマー等から成っている。例えばエポキシ
(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレー
ト、ポリエステル(メタ)アクリレート等のモノマーや
オリゴマーが用いられる。これらのいくつかを例示する
と、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサメタクリレート、イソアミルアクリレ
ート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メ
トキシジエチレングリコールアクリレート、N−ビニル
ピロリドンなど、1個以上の炭素−炭素二重結合を有す
る単官能および多官能のアクリルモノマー、メタクリル
モノマー、ビニルモノマー類が挙げられる。 また、活
性エネルギー線硬化性組成物には、公知の添加剤、例え
ば、紫外線吸収剤、熱重合禁止剤などが配合されていて
もよい。
【0036】活性エネルギー線硬化性組成物で硬化被膜
を形成するには、活性エネルギー線硬化性組成物をグラ
ビアコート法、リバースコート法、ダイコート法などの
各種塗布方法で塗布し、活性エネルギー線を照射して硬
化させればよい。このとき、塗布してから硬化させる前
に予備加熱を行っても良い。活性エネルギー線硬化性組
成物が溶剤で希釈されている場合は、この予備加熱の工
程において溶剤を除去しなければならない。
【0037】上記組成物は、通常揮発性溶媒により希釈
して液状組成物として塗布されることが好ましい。溶媒
として塗布されるものは、特に限定されないが、使用に
あたって被塗布物の表面性状を損なわぬことが要求され
る。さらには、組成物の安定性、基材に対するぬれ性、
揮発性などをも考慮して、溶媒は決められるべきであ
る。また、溶媒は1種のみならず2種以上の混合物とし
て用いることも可能である。溶媒としては、アルコー
ル、エステル、エーテル、ケトン、ハロゲン化炭化水
素、トルエンやキシレンなどの芳香族炭化水素、および
非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。
【0038】なお、硬化被膜には、表面硬度の向上、屈
折率の調節、機械的強度の向上、熱的特性の向上、硬化
被膜上に設けられる金属酸化物膜、透明導電膜の耐久性
向上などを目的に、無機微粒子が添加される。かかる無
機微粒子としては、被膜状態で透明性を損なわないもの
であればとくに限定されない。作業性向上、透明性付与
の点から特に好ましい例としては、コロイド状に分散し
たゾルが挙げられる。さらに具体的な例としては、シリ
カゾル、酸化アンチモンゾル、チタニアゾル、アルミナ
ゾル、ジルコニアゾル、酸化タングステンゾルなどが挙
げられる。無機微粒子の添加量は、とくに限定されない
が、効果をより顕著にするためには、透明被膜中に1重
量%以上、80重量%以下含有されていることが好まし
い。1重量%未満では明らかな添加の効果が認められに
くく、また、80重量%を越えると透明樹脂との接着性
不良や被膜自体のクラックが発生し、耐衝撃性が低下す
るなどの問題を生じる場合がある。無機微粒子の粒子径
は、特に限定されないが、好ましくは1〜300mμ、
更にら好ましくは5〜100mμのものが使用される。
平均粒子径が300mμを越えるものを使用した場合
は、生成する被膜の透明性が悪く、濁りが大きくなる傾
向がある。また、微粒子状無機物の分散性を改良するた
めに、各種の微粒子表面処理を行ってもよいし、各種の
界面活性剤やアミンなどを添加しても何ら問題はない。
【0039】硬化被膜形成時に使用されるコーティング
組成物には、硬化促進や低温硬化などを可能とする目的
で各種の硬化剤を併用してもよい。硬化剤としては、各
種エポキシ樹脂硬化剤あるいは各種有機ケイ素樹脂硬化
剤などが使用される。これらの硬化剤の具体例として
は、各種の有機酸およびそれらの酸無水物、窒素含有有
機化合物、各種金属錯化合物、金属アルコキシド、アル
カリ金属の有機カルボン酸塩や炭酸塩などの各種塩や過
酸化物、アゾビスイソブチロニトリルなどのラジカル重
合開始剤などが挙げられる。これらの硬化剤は2種以上
混合して使用することも可能である。これらの硬化剤の
中でも、コーティング組成物の安定性、コーティング後
の被膜の着色の有無などの点から、とくにアルミニウム
キレート化合物が有用である。
【0040】ここでいうアルミニウムキレート化合物と
しては、例えば、一般式AIXn Y 3-n で示されるアル
ミニウムキレート化合物である。ただし、式中のXはO
L(Lは低級アルキル基を示す)、Yは一般式M1 CO
CH2 COM2 (M1,M2はいずれも低級アルキル基)
で示される化合物に由来する配位子および一般式M 3
OCH2 COOM4 (M3 ,M4 はいずれも低級アルキ
ル基)で示される化合物に由来する配位子から選ばれる
少なくとも一つであり、nは0,1または2である。一
般式AlXn3-n で示されるアルミニウムキレート化
合物としては、各種化合物を挙げることができるが、組
成物への溶解性、安定性、硬化触媒としての効果などの
観点からとくに好ましいのは、アルミニウムアセチルア
セトネート、アルミニウムビスエチルアセトアセテート
モノアセチルアセトネート、アルミニウム−ジ−n−ブ
トキシド−モノエチルアセトアセテート、アルミニウム
−ジ−iso−プロポキシド−モノメチルアセトアセテ
ートなどである。これらは2種以上を混合して使用する
ことも可能である。
【0041】硬化被膜形成時に使用されるコーティング
組成物には、塗布時におけるフローを向上させかつ透明
被膜の平滑性を向上させて被膜表面の摩擦係数を低下さ
せる目的で各種の界面活性剤を添加することも可能であ
る。界面活性剤としては、とくにジメチルポリシロキサ
ンとアルキレンオキシドとのブロックまたはグラフト共
重合体、およびフッ素系界面活性剤などが有効である。
【0042】硬化被膜形成時に使用されるコーティング
組成物中には、被膜性能や透明性などを大幅に低下させ
ない範囲で、無機微粒子以外の無機酸化物なども添加す
ることができる。これらの添加物の併用によって、基材
との密着性、耐薬品性、表面硬度、耐久性などの諸特性
を向上させることができる。添加可能な無機材料として
は、例えば以下の一般式(C)で表される金属アルコキ
シド、キレート化合物および/またはその加水分解物が
挙げられる。
【0043】M(OR)m (C) ここで、Mは、ケイ素、チタン、ジルコン、アンチモ
ン、タンタル、ゲルマニウム、アルミニウムなどであ
る。Rはアルキル基、アシル基、アルコキシアルキル基
である。mは金属Mの電荷数と同じ値である。硬化被膜
は、前記コーティング組成物を硬化させることによって
得られるが、硬化は加熱処理によって行なわれる。加熱
温度は、コーティング組成物の組成や透明架橋樹脂の耐
熱性を考慮して適宜選択されるが、好ましくは50〜2
50℃である。透明樹脂上への被膜の塗布方法として
は、刷毛塗り、浸漬塗り、ロール塗り、スプレー塗装、
スピン塗装、流し塗りなどの通常行なわれる塗布方法が
容易に使用可能である。コーティング組成物の塗布にあ
たっては、清浄化、密着性および耐水性等の向上を目的
として各種の前処理を施すことも有効な手段である。と
くに好ましく用いられる前処理としては、活性化ガス処
理、薬品処理、紫外線処理などが挙げられる。これらの
前処理は、連続的または段階的に併用して実施すること
も十分可能である。
【0044】以上の硬化被膜の膜厚は、とくに限定され
るものではないが、接着強度の保持や硬度などの点か
ら、通常0.1〜50μm、好ましくは0.3〜10μ
mである。また、被膜の塗布にあたって、作業性、被膜
厚さ調節などの目的で、コーティング組成物は各種溶剤
により希釈して用いられる。希釈溶剤としては、例え
ば、水、アルコール、エステル、エーテル、ハロゲン化
炭化水素、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ドなどが目的に応じて種々使用可能であり、必要に応じ
て混合溶媒を使用することも可能である。微粒子状無機
酸化物の分散性などの点から、水、アルコール、ジメチ
ルホルムアミド、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ベンジルアルコー
ル、フェネチルアルコール、フェニルセロソルブなどの
極性溶媒が好ましく用いられる。 (導電膜)本発明のプラスチック積層体では、光硬化性
樹脂層の上に導電膜を積層したものは、液晶表示装置基
板として好ましく使用される。この導電膜を形成する導
電物質としては、酸化インジウム、酸化スズ、金、銀、
銅、ニッケル等が挙げられ、これらは単独又は2種以上
を混合して使用することができる。このうち、通常、酸
化インジウム99〜90%と酸化スズ1〜10%との混
合物よりなるインジウムスズオキサイド(以下「IT
O」という)が透明性と導電性のバランスの面から特に
好ましい。透明導電膜を形成する方法は、従来から公知
の真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法、化学蒸着法等を用いて行うことができる。このう
ち、スパッタリング法が密着性の点から好ましい。以上
の透明導電膜の厚さは、通常500〜2000Åの範囲
が透明性及び導電性のバランスの面から好ましい。
【0045】また、 また、耐屈曲性能の高いプラスチ
ック積層体として、液晶表示装置、タッチパネル等の光
エレクトロニクス分野の基板に好適に使用されるには、
導電膜の硬度が2GP以上、又は/或いは、スティフネ
スが1.5μN/nm以上、又は/或いは、モジュラス
(ヤング率)が15GP以上であるプラスチック積層体
であれば、一般に、積層体を撓ませても、導電膜にクラ
ックが入らず、電気抵抗値も劣化しない。そして、好ま
しくは、硬度が3GP以上、又は/或いはスティフネス
が1.5μN/nm以上、又は/或いは、モジュラス
(ヤング率)が20GP以上である。
【0046】一般に、成膜された膜は、基材(下地)と
膜との熱膨張係数の差により内部応力が生じ、それが大
きいと膜にクラックが入りやすいと云われている。膜の
内部応力測定は、各種方法が知られているが、次の種々
の理由で該プラスチック積層体においては適用できな
い。 (イ)成膜後の基板のたわみ量計測は、プラスチック基
板の場合、熱等の影響分があるため不確かである。 (ロ)薄膜X線回折の結晶ピークの格子定数及び面間隔
から求める方法は、膜が非晶質の場合は測定できない。 (ハ)ラマン散乱による測定では、基材がプラスチック
であるため測定が難しい。
【0047】また、膜の内部応力は、成膜後等の静止時
におけるクラック発生と関係づけられてはいるものの、
プラスチック積層体を撓ませた場合でのクラック発生に
は他の因子が含まれる。その一つが、プラスチック積層
体を撓ませた時の基材シートに対する膜の追従性の良し
悪しである。基材シートに対する膜の追従性が悪いとク
ラックが入りやすい。それを物性として評価として、硬
度及び弾性が考えられ、撓みによる膜のクラック発生の
有無の影響因子として直接的に特徴づけることができ
る。
【0048】導電膜の硬度等の物性を特定値以上にする
ためには、導電膜の性質を制御してもよいが、積層体に
おける層構成及び導電膜以外の層の性質も大きな影響を
与える。なお、基板がプラスチックであるため成膜温度
の上限は低く、また、他の成膜条件を如何に変化させて
も導電膜の物理的性質を変化させるには限りがある。一
方、硬化被膜は、処方や硬化条件を変えるなど幅広い範
囲で物理的性質を変化させることが比較的容易である。 (積層体の層構成)積層体の層構成、第一発明は、光硬
化性樹脂層と導電膜の間にガスバリア膜と硬化被膜を介
在させてしてなるプラスチック積層体であり、かかる構
成は図1、図2で示される。このような光硬化性樹脂層
と導電膜の間にガスバリア膜と硬化被膜を介在させる構
成を採用することにより、ガスバリア性が向上するとと
もに、導電膜の密着性が良好となる。
【0049】また、第二発明は、光硬化性樹脂層の両側
に硬化被膜を積層し、一方の該硬化被膜の片側にガスバ
リア膜を、他方の該硬化被膜に導電膜を積層してなるプ
ラスチック積層体であり、かかる構成は図3で示され
る。このような光硬化性樹脂層の両側に硬化被膜を積層
し、一方の該硬化被膜の片側にガスバリア膜を、他方の
該硬化被膜に導電膜を積層させることでも、ガスバリア
性が向上するとともに、導電膜の密着性が良好となる。
また、硬化被膜が光硬化性樹脂層の両面に存在させるこ
とにより積層体のカール性を制御しやすくなり、シート
のハンドリングの面においても特に望ましい。 (積層体の性質)本発明のプラスチック積層体は、55
0nmの光の波長での光線透過率が80%以上であるこ
とが好ましい。光線透過率が80%未満だと、カラー表
示等の場合、画面が暗くなるため使用でき難く、モノク
ロ表示素子等の用途にしか使用できない傾向にある。ま
た、プラスチック積層体の複屈折率としては、20nm
以下、特に10nm以下であることが好ましい。20n
mよりも大きいと表示パネルとした場合、表示画面の色
ムラが生じる傾向がある。
【0050】一方、プラスチック積層体の厚さは、0.
10〜2.00mmが好ましい。透明導電性シートは曲
げ弾性率は大きいが、0.10mm未満ではシートが自
重によりたわみ易く、従来のガラス製基板を使用した液
晶表示装置の製造プロセスが使用できない傾向があり、
2.00mmを超えると従来の1.5〜0.7mmのガ
ラス基板と同じ重量となり、軽量化の目的からはずれて
しまう。
【0051】本発明のプラスチック積層体の応用例とし
ては、例えば、液晶表示装置用基板として使用する場
合、通常、プラスチック積層体によって液晶を挟んだ構
成をとる。更に、プラスチック積層体の導電膜上に、必
要に応じて絶縁膜、更に、その上に配向膜が設けられた
基板により液晶層を挾持した製造をとる。液晶層を挾持
した基板の外側には偏向板が設けられる。また、エレク
トロルミネッセンス表示素子においては、通常、本発明
のプラスチック積層体上に、発光体層、絶縁層及び背面
電極を順次形成し、更に全体をガスバリア層で被覆した
構造のものが例示される。この場合、発光体層には硫化
亜鉛、硫化カドミウム、セレン化亜鉛等が、絶縁層には
酸化イットリウム、酸化タリウム、窒化シリコン等が、
背面電極にはアルミニウム等が用いられる。
【0052】
【実施例】以下、本発明の内容および効果を実施例によ
り更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を越えな
い限り以下の例に限定されるものではない。また、実施
例及び比較例で得られたプラスチック積層体は、以下の
方法により評価した。 <膜の厚さ>実施例及び比較例により得られた積層体の
ガスバリア膜と導電膜については、積層体の断面を透過
型電子顕微鏡(日立製作所製、H−600型)で観察
し、薄膜の厚さを測定した。 <導電膜の表面抵抗値>三菱化学(株)製の4端子法抵
抗測定器(ロレスターMP)を用いて、表面抵抗値を測
定した。 <導電膜の耐屈曲性試験>5x10cm大きさのプラス
チック積層体を、導電膜を内側にして長辺に沿ってφ2
5mmのステンレス管にプラスチック積層体を巻き付け
た後、導電膜を外側にして巻き付け、その後、光学顕微
鏡で導電膜のクラック発生の有無を調べ、表面抵抗値を
上記方法で測定した。 <導電膜のインデント試験>Hysitron社製Pi
coIndenterを用い、圧子押し込み深さが膜厚
の約10分の1程度になる荷重(μN)で、一回のイン
デント(圧子押し込み)を10秒間で行い、1サンプル
につき5回測定し平均値を求めた。各回の測定は、圧痕
の影響が生じないように測定箇所の距離を十分とった。
また、サンプルは試料台に十分固定した。 <耐熱性>ビガット軟化試験において、測定条件が、圧
子断面積1.0mm、荷重5Kg、昇温速度50℃/h
r、120℃以下で圧子が0.4mm以上進入したもの
を×、0.2〜0.4mm進入したものを△、0.1m
m以下で進入がほとんどなかったものを○とした。 <複屈折率>複屈折測定装置(オーク製作所製、ADR
100)を使用し、632.8nmの波長で面内の複屈
折率を測定した。 <光線透過率>(株)日立製作所の分光光度計を使用
し、波長550nmでの透過率を測定した。 <ITO膜表面の粗さ(Ra)>表面粗さ測定器
((株)東京精密製、サーフコーム575A)を用い、
ダイヤモンド針(1μmR、90゜円錐)、測定長さ
0.5mm、カットオフ値0.16mm、測定速度0.
06mm/sec及び直線補正の条件で測定した。 実施例1 ビスオキシメチルトリシクロ[5.2.1.02,6]デ
カンジメタクリレート100重量部、光開始剤として
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ
ィンオキシド(BASF社製「ルシリンTPO」)0.
05重量部、ベンゾフェノン0.05重量部を均一に混
合撹拌した後、脱泡して組成物を得た。この組成物をス
ペーサーとして厚さ0.4mmのシリコン板を用いた光
学研磨ガラスの型に注入し、ガラス面上にある出力80
W/cmのメタルハライドランプにてガラス型面に40
J/cm2のエネルギーになるように照射後、ガラス型
を離型し、厚さ約0.4mmの光硬化性樹脂シートを得
た。
【0053】得られた硬化樹脂シート(A)層の上に下
記成分a,b,c,dをそれぞれ62、38、5、0.
3%の割合で混合し、プロピレングリコールモノメチル
エエーテルで希釈し、スピンコートで塗布し、出力80
W/cmのメタルハライドランプにて5J/cm2のエ
ネルギーになるように照射して、硬化被膜(C)を積層
した。更に、硬化被膜(C)の上にアルバック社製RF
スパッタリング機によりアルゴンガス全圧6.7E-1
a、ターゲット材SIOで厚さ10nmの珪素酸化物薄
膜(B)を成形させ、続いて同機で酸素分圧1E-2
a、全圧6.7E -1Pa、ターゲット材ITO(酸化イ
ンジウムに対する酸化錫比95:5)で厚さ120nm
のITO膜を形成させ、プラスチック積層体を得た。該
積層体の評価結果を表−1に示す。また、該積層体の耐
熱性、複屈折率、光線透過率、ITO膜表面の粗さも測
定したがいずれも良好であった。 成分a;シシクロペンタニルジアクリレート、日本化薬
(株)製カヤラッドR684 ジシクロペンタニルジアクリレート、日本化薬(株)製
カヤラッドR684 成分b;トリメチロールプロパントリアクリレート及び
エポキシアクリレート等混合物、日本化薬(株)製カヤ
ラッドR130 成分c;1−ヒドロキシシクロエキシルフェニルケトン
とビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4
−トリメチルペンチルホスフィンオキシドの混合物、日
本チバガイギー(株)製イルガキュア1800 成分d;ポリエーテル変性シリコン、共栄社化学(株)
製グラノール450 実施例2 積層の順を、光硬化性樹脂シート、珪素酸化物薄膜、硬
化被膜、ITO膜の順に変えた他は、実施例1と同様に
してプラスチック積層体を得た。該積層体の評価結果を
表−1に示す。また、該積層体の耐熱性、複屈折率、光
線透過率、ITO膜表面の粗さも測定したがいずれも良
好であった。 実施例3 珪素酸化物薄膜及びITO膜をアルバック社製DCスパ
ッタリング機で成膜した他は、実施例1と同様にしてプ
ラスチック積層体を得た。該積層体の評価結果を表−1
に示す。また、該積層体の耐熱性、複屈折率、光線透過
率、ITO膜表面の粗さも測定したがいずれも良好であ
った。
【0054】
【表1】
【0055】
【発明の効果】本発明のプラスチック積層体は、耐薬品
性及び剛性が優れており、従来のガラス基板プロセスを
利用することが可能であり、基板の耐薬品性が優れてい
るので透明導電膜の剥離、ひび割れを生じることがな
く、またガラス基板を使用したものより軽量で、耐衝撃
性にも優れているという特別に有利な効果を奏し、産業
上の利用価値は極めて大である。
【0056】本発明のプラスチック積層体は液晶表示装
置用基板として好ましく使用され、TN(Twisted Nema
tic 型)、STN(Super Twisted Nematic 型、強誘電
液晶)FLC(Ferroelectric Liquid Cristal)型など
の単純マトリックス型、MIM(Metal-Insulator-Meta
l )型、TFT(Thin-Film Transistor)型などのアク
ティブマトリックス型などの液晶表示装置に適用可能で
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明のプラスチック積層体の一態様
を示す。
【図2】図2は、本発明のプラスチック積層体の一態様
を示す。
【図3】図3は、本発明のプラスチック積層体の一態様
を示す。
【符号の説明】
A:光硬化性樹脂 B:ガスバリア膜 C:硬化被膜 I:導電膜

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光硬化性樹脂層と導電膜の間にガスバリ
    ア膜と硬化被膜を介在させてしてなることを特徴とする
    プラスチック積層体。
  2. 【請求項2】 光硬化性樹脂層の上にガスバリア膜、硬
    化被膜の順序で積層してなることを特徴とする請求項1
    のプラスチック積層体。
  3. 【請求項3】 光硬化性樹脂層の上に硬化被膜、ガスバ
    リア膜の順序で積層してなることを特徴とする請求項1
    のプラスチック積層体。
  4. 【請求項4】 光硬化性樹脂層の両側に硬化被膜を積層
    し、一方の該硬化被膜の片側にガスバリア膜を、他方の
    該硬化被膜に導電膜を積層してなることを特徴とするプ
    ラスチック積層体。
  5. 【請求項5】 導電膜の硬度が2GP以上であることを
    特徴とする請求項1〜4のいずれかのプラスチック積層
    体。
  6. 【請求項6】 導電膜のスティフネスが1.5μN/n
    m以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか
    のプラスチック積層体。
  7. 【請求項7】 導電膜のモジュラスが15GP以上であ
    ることを特徴とする請求項1〜6のいずれかのプラスチ
    ック積層体。
  8. 【請求項8】 光硬化樹脂層が下式(1)及び(2)よ
    り選ばれた少なくとも1種のビス(メタ)アクリレート
    を含んでなる組成物を活性エネルギー線により硬化させ
    て成形したシートからなることを特徴とする請求項1〜
    7のいずれかのプラスチック積層体。 【化1】 [式(1)中、R1 及びR2 は、互に異っていてもよ
    く、水素原子又はメチル基を示す。R3 及びR4 は、互
    に異っていてもよく、炭素鎖中に酸素原子及び/又は硫
    黄原子を有していてもよい炭素数1〜6の炭化水素基を
    示す。Xはハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基及
    び炭素数1〜6のアルコキシ基から選ばれた置換基を示
    し、aは0〜4の整数を示す。但しaが2以上の整数の
    場合には、複数のXは互に異っていてもよい。] 【化2】 [式(2)中、R5 及びR6 は、互に異っていてもよ
    く、水素原子又はメチル基を示す。bは1又は2を示
    し、cは0又は1を示す。]
  9. 【請求項9】 光硬化性樹脂シートが式(1)及び
    (2)より選ばれた少なくとも1種のビス(メタ)アク
    リレート80〜99.9重量部と下式(3)、(4)及
    び(5)より選ばれた少なくとも1種のメルカプト化合
    物0.1〜20重量部とを含んでなる組成物を活性エネ
    ルギー線により硬化させて成形したシートであることを
    特徴とする請求項8のプラスチック積層体。 【化3】 [式(3)中、複数のR7 は互に異っていてもよく、そ
    れぞれメチレン基又はエチレン基を示す。R8 は炭素鎖
    中に酸素原子及び/又は硫黄原子を含んでいてもよい炭
    素数2〜15の炭化水素残基を示す。dは2〜6の整数
    を示す。] 【化4】 [式(4)中、Yは互に異っていてもよく、HS−(C
    2 e −(CO)(OCH2 −CH2 f −(C
    2 g −を示す。但しeは1〜4の整数、fは1〜4
    の整数、gは0〜2の整数をそれぞれ示す。] 【化5】 [式(5)中、R9 及びR10は、互に異っていてもよ
    く、炭素数1〜3の炭化水素基を示す。m及びnはそれ
    ぞれ0又は1を示す。pは1又は2を示す。]
  10. 【請求項10】 ガスバリア膜が無機酸化物からなるこ
    とを特徴とする請求項1〜9のいずれかのプラスチック
    積層体。
  11. 【請求項11】 ガスバリア膜が酸化珪素からなること
    を特徴とする請求項1〜10のいずれかのプラスチック
    積層体。
  12. 【請求項12】 導電膜がインジウムスズオキサイドか
    らなることを特徴とする請求項1〜11のいずれかのプ
    ラスチック積層体。
  13. 【請求項13】 請求項1〜12のいずれかのプラスチ
    ック積層体からなる液晶表示装置用基板。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001215302A (ja) * 2000-01-31 2001-08-10 Nitto Denko Corp 光学用樹脂基板
JP2005060496A (ja) * 2003-08-11 2005-03-10 Mitsubishi Rayon Co Ltd アクリル系樹脂板の製造方法、タッチパネル用透明電極板およびタッチパネル
JP2007266382A (ja) * 2006-03-29 2007-10-11 Toppan Printing Co Ltd 太陽電池モジュール用のバックシート及び該バックシートを用いた太陽電池モジュール。
WO2008026322A1 (fr) * 2006-08-31 2008-03-06 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Substrat à électrode transparente pour une cellule solaire
JP2008085323A (ja) * 2006-08-31 2008-04-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 太陽電池用透明電極基板
JP2008177549A (ja) * 2006-12-22 2008-07-31 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 太陽電池用透明電極基板
JP2010036577A (ja) * 2008-07-10 2010-02-18 Dow Corning Toray Co Ltd ガスバリアー性硬化オルガノポリシロキサン樹脂フィルム及びその製造方法
JP2010258144A (ja) * 2009-04-23 2010-11-11 Konica Minolta Holdings Inc 太陽電池ユニットおよびその製造方法
US20150247241A1 (en) * 2012-10-19 2015-09-03 Konica Minolta, Inc. Method for producing gas barrier film, gas barrier film, and electronic device

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001215302A (ja) * 2000-01-31 2001-08-10 Nitto Denko Corp 光学用樹脂基板
JP4562227B2 (ja) * 2000-01-31 2010-10-13 日東電工株式会社 光学用樹脂基板の製造方法
JP2005060496A (ja) * 2003-08-11 2005-03-10 Mitsubishi Rayon Co Ltd アクリル系樹脂板の製造方法、タッチパネル用透明電極板およびタッチパネル
JP4526794B2 (ja) * 2003-08-11 2010-08-18 三菱レイヨン株式会社 アクリル系樹脂板の製造方法、タッチパネル用透明電極板およびタッチパネル
JP2007266382A (ja) * 2006-03-29 2007-10-11 Toppan Printing Co Ltd 太陽電池モジュール用のバックシート及び該バックシートを用いた太陽電池モジュール。
WO2008026322A1 (fr) * 2006-08-31 2008-03-06 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Substrat à électrode transparente pour une cellule solaire
JP2008085323A (ja) * 2006-08-31 2008-04-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 太陽電池用透明電極基板
JP2008177549A (ja) * 2006-12-22 2008-07-31 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 太陽電池用透明電極基板
JP2010036577A (ja) * 2008-07-10 2010-02-18 Dow Corning Toray Co Ltd ガスバリアー性硬化オルガノポリシロキサン樹脂フィルム及びその製造方法
JP2010258144A (ja) * 2009-04-23 2010-11-11 Konica Minolta Holdings Inc 太陽電池ユニットおよびその製造方法
US20150247241A1 (en) * 2012-10-19 2015-09-03 Konica Minolta, Inc. Method for producing gas barrier film, gas barrier film, and electronic device

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