JPH11307623A - 被処理体の収納装置及び搬出入ステージ - Google Patents

被処理体の収納装置及び搬出入ステージ

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JPH11307623A
JPH11307623A JP10122862A JP12286298A JPH11307623A JP H11307623 A JPH11307623 A JP H11307623A JP 10122862 A JP10122862 A JP 10122862A JP 12286298 A JP12286298 A JP 12286298A JP H11307623 A JPH11307623 A JP H11307623A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 内部雰囲気を不活性ガスに満たすと共に供給
時にパーティクルを巻き上げることがない被処理体の収
納装置を提供する。 【解決手段】 気密に開閉される開閉ドア４６を有する
搬送可能な箱状の容器本体４０と、前記容器本体の内面
に設けられて、被処理体Ｗを多段に支持するための支持
部材５２と、不活性ガスを導入するために前記容器本体
に設けられたガス導入ポート６６と、内部雰囲気を排気
するために前記容器本体に設けられたガス排気ポート６
８と、前記ガス導入ポートに接続されて前記容器本体内
部に延びるガス導入ノズル５４と、前記ガス導入ノズル
の先端に設けられて導入されるガスの拡散力を抑制する
拡散力抑制部材５６とを備えるように構成する。これよ
り、ガス導入ノズルから供給する不活性ガスの拡散力を
拡散力抑制部材により抑制し、内部雰囲気を不活性ガス
に満たすと共に供給時にパーティクルを巻き上げること
を防止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等を
処理装置間に搬送する時に、制御された空間にウエハを
収容した状態で搬送することができる被処理体の収納装
置及び搬出入ステージに関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体集積回路等を製造するためには、
半導体ウエハに成膜、拡散、露光、エッチング等の各種
の処理を繰り返し施すため、一般的には、ウエハは実行
すべき処理に応じて異なった装置間を人間或いは自動搬
送機構により移送され、そして、所望の処理が施され
る。このような状況下において、ウエハは前段の処理が
終わった後に、直ちに次の処理のための処理装置へ搬送
されて、直ちに次の処理が行なわれるとは限らず、次の
処理が開始されるまでの間、長期間、クリーンルーム内
で待機状態となる場合もある。周知のように半導体ウエ
ハには非常に微細な加工が施されるので、歩留り向上の
上からパーティクルの付着を非常に嫌い、また電気的特
性の向上の上からもウエハ表面に自然酸化膜等の余分な
膜が付着することも避けなければならない。
【０００３】設計ルールがそれ程厳しくない場合には、
上述したようにクリーンルーム内でウエハを待機させて
もそれ程問題は生じなかったが、最近のように高微細化
が進んでサブミクロンのような加工オーダが求められる
と、清浄空気の雰囲気に維持されたクリーンルーム内と
はいえ、パーティクル対策上、或いは自然酸化膜の対策
上、好ましくない場合も生じてきた。そこで、数１０枚
程度のウエハを収容できる大きさで、外部の雰囲気とは
遮断された搬送可能な容器を作り、この中に例えば２５
枚程度のウエハを多段に載置して密閉状態とし、外部雰
囲気と隔離した状態で処理装置間にウエハを搬送するこ
とも行なわれるようになった。この容器は、例えばカセ
ットボックスと称され、ある１つの処理が終了すると、
処理済みの２５枚のウエハをこのカセットボックス内に
収容して密閉し、例えば作業員がこれを次の処理装置ま
で運ぶことになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種のカ
セットボックスにあっては、ボックス内の雰囲気を単に
外部のクリーンルームの雰囲気と隔離しただけなので、
収容したウエハ表面に僅かではあるが自然酸化膜が付着
することは避けられなかった。そこで、更に一歩進め
て、ボックス内に不活性ガス供給ノズルと排気ノズルを
設けてボックス内をＮ2 ガス等の不活性ガス雰囲気で満
たし、パーティクルの付着のみならず、自然酸化膜の発
生も極力抑制することも考えられる。
【０００５】しかしながら、この場合には不活性ガスを
用いてカセットボックスの内部をＮ2 ガスで満たす時に
不活性ガス供給ノズルからＮ2 ガスを噴射供給しつつ排
気ノズルから内部雰囲気を排気してガス置換を行なうの
であるが、この時、ガスの吹き出しによってボックス内
のパーティクルが巻き上がることは避けられない。その
ため、自然酸化膜の抑制はできても、パーティクルの付
着を十分に抑制することができない。そこで、このよう
な点を回避するために、特開平２−１８４３３３号公報
や特開平８−６４５８２号公報等で開示したように、ロ
ードロック室内へ不活性ガスを供給する際にガス流を緩
和するように作用するフィルタを設けることも考えられ
るが、上述したようなロードロック室は比較的余分なス
ペースが存在するのに対して、カセットボックス内は余
裕スペースが非常に少なく、更には、ロードロック室と
は異なって持ち運ぶことを前提としているために、ボッ
クスの内部雰囲気の給排気手段について上記公報に開示
された技術をそのまま用いることはできない。
【０００６】本発明は、以上のような問題点に着目し、
これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明
の目的は、内部雰囲気を不活性ガスに満たすと共に供給
時にパーティクルを巻き上げることがない被処理体の収
納装置及び搬出入ステージを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、請求項１に規定する発明は、気密に開閉される開
閉ドアを有する搬送可能な箱状の容器本体と、前記容器
本体の内面に設けられて、被処理体を多段に支持するた
めの支持部材と、不活性ガスを導入するために前記容器
本体に設けられたガス導入ポートと、内部雰囲気を排気
するために前記容器本体に設けられたガス排気ポート
と、前記ガス導入ポートに接続されて前記容器本体内部
に延びるガス導入ノズルと、前記ガス導入ノズルの先端
に設けられて導入されるガスの拡散力を抑制する拡散力
抑制部材とを備えるようにしたものである。
【０００８】これにより、容器本体内に不活性ガスを供
給する時には、ガス導入ノズルに設けた拡散力抑制部材
によって不活性ガスの拡散力は抑制されることになり、
パーティクルの巻き上げを極力抑制することが可能とな
る。このような拡散力抑制部材としては、セラミック或
いは金属ファイバを焼結してなる多孔質焼結体を用いる
ことができる。また、前記ガス導入ノズルには、複数の
ガス噴出孔が設けられ、これらのガス噴出孔を覆うよう
にして前記拡散力抑制部材を設けるようにしてもよい。
更に、前記拡散力抑制部材は、前記ガス導入ノズルに接
続されて前記被処理体の平面方向に広がって一側面が開
放された薄いガス拡散容器と、このガス拡散容器の開放
部に設けられてセラミック或いは金属ファイバを焼結し
てなる多孔質焼結体とにより構成してもよい。
【０００９】また、前記ガス排出ポートに接続されて前
記容器本体に延びるガス排気ノズルと、前記ガス排気ノ
ズルの先端に設けられて、排気されるガスの収束力を抑
制する収束力抑制部材とを備備えるようにしてもよい。
このようにすれば、内部雰囲気の排気時にも気流の乱れ
が発生することを抑制でき、パーティクルの付着を一層
抑制することが可能となる。この収束力抑制部材は、前
記拡散力抑制部材と同じものを用いればよい。更に、前
記ガス導入ポートと前記ガス排気ポートには、押圧力に
より開放される押圧力開閉弁を設けるようにしてもよ
い。これによれば、この収納装置を後述する搬出入ステ
ージ上に載置するだけで、自動的にポート間が接続され
てガス給排気系を連結することができる。
【００１０】請求項７に規定する発明は、上記いずれか
に示した被処理体の収納装置を載置して処理装置内との
間で前記被処理体を搬出入させる搬出入ステージにおい
て、前記収納装置を載置する載置台と、この載置台に設
けられて、前記収納装置のガス導入ポートに着脱可能に
接続されて不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段
と、前記載置台に設けられて、前記収納装置のガス排気
ポートに着脱可能に接続されて容器本体内の雰囲気を排
気するガス排気手段とを備えるように構成する。これに
より、収納装置を搬出入ステージに載置するだけで、収
納装置内の雰囲気を不活性ガスで置換することが可能と
なる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る被処理体の
収納装置及び搬出入ステージの一実施例について添付図
面を参照して説明する。図１は本発明に係る収納装置を
示す分解斜視図、図２は図１に示す収納装置の横断面
図、図３は図１に示す収納装置の容器本体を示す部分破
断側面図、図４は図３に示す容器本体の部分拡大断面
図、図５は本発明の収納装置を搬出入ステージに載置し
た状態を示す図、図６は搬出入ステージを示す概略斜視
図、図７は収納装置のガスポートが接合される直前を示
す部分拡大断面図、図８は収納装置のガスポートが接合
された状態を示す部分拡大断面図である。
【００１２】まず、本発明の収納装置と搬出入ステージ
の関係について説明すると、図５及び図６に示すよう
に、この収納装置２は半導体ウエハ等の被処理体を多段
に収納して外部雰囲気から隔離するものであり、作業員
が単独で或いは自動搬送機構で持ち運びができるような
大きさに設定されている。この収納装置２は、半導体ウ
エハに対して所定の処理を施す処理装置４の入口側に設
けられた搬出入ステージ６に載置され、これよりウエハ
は処理装置４内に取り込まれることになる。この処理装
置４は、実際にウエハに対して熱処理等を施す処理室
と、この前段に接合される真空引き可能になされた搬送
室、例えばロードロック室等を組み合わせてなるが、図
５においてはロードロック室４Ａが示されており、内部
にウエハを搬出入するために屈伸、旋回及び昇降可能に
なされた多関節の搬送アーム８が設けられている。この
ロードロック室４Ａの搬出入ステージ６側の側壁には、
気密に開閉可能になされたゲートドア１０を設けてお
り、また、ロードロック室４Ａ内へは不活性ガスとして
例えばＮ2 ガスをパージできるようになっている。
【００１３】一方、上記搬出入ステージ６は、ロードロ
ック室４Ａよりも前記ゲートドア１０の前方に延びる載
置台１２を有しており、この載置台１２上に前記収納装
置２を直接載置する。この載置台１２には、収納装置２
内にＮ2 ガス等の不活性ガスを供給する不活性ガス供給
手段１４と、収納装置２内の雰囲気を圧力調整しつつ排
気するガス排気手段１６が設けられている。具体的に
は、上記不活性ガス供給手段１４は、Ｎ2 ガスを貯留す
るＮ2 ガス源１８に接続されたガス供給通路２０を有し
ており、このガス供給通路２０には開閉弁２２及び流量
制御器２４が介設されている。そして、このガス供給通
路２０の他端は、載置台１２の上方に所定の高さだけ突
出させた導入用接合ノズル２６に接合されている。この
導入用接合ノズル２６の先端には、図７に示すように押
圧することによって弾発力によって相手の収納装置側の
ノズルと接合される自動ジョイント２８が設けられる。
【００１４】また、ガス排気手段１６は、途中に圧力調
整弁３０や排気ポンプ３２等を介設したガス排気通路３
４を有している。このガス排気通路３４の基端は、上述
した導入用接合ノズル２６と同様に上記載置台１２の上
方に所定の高さだけ突出させた排気用接合ノズル３６に
接合されており、この先端には押圧することによって弾
発力によって相手の収納装置側のノズルと接合される自
動ジョイント３８（図７参照）が設けられる。
【００１５】次に、図１乃至図４を参照して収納装置２
について説明する。図示するように、この収納装置２
は、全体が略直方体状になされた容器本体４０を有して
おり、この一側は開放されて搬出入口４２となってい
る。この搬出入口４２の周囲は外側へ突出されたフラン
ジ部４４として構成されており、このフランジ部４４に
略矩形状の開閉ドア４６を着脱自在に嵌装し得るように
なっている。この開閉ドア４６の周囲全体には、例えば
ポリウレタン等よりなるシール部材４８が設けられてお
り、開閉ドア４６を嵌装した時に容器本体４０内を気密
状態にできるようになっている。上記開閉ドア４６の内
面側の中央には、その高さ方向に沿って例えば弾性フッ
素系樹脂よりなる弾性押さえ部材５０が設けられてお
り、ウエハを収容した時に動かないようにこれを水平方
向へ押さえ付けるようになっている。
【００１６】上記容器本体４０は、内部を視認できるよ
うに例えば透明なポリカーボネート樹脂でできており、
ウエハ搬出入方向と直交するその内側面には、半導体ウ
エハＷを支持する一対の支持部材５２が設けられてい
る。具体的には、この支持部材５２は、例えばパーティ
クルが発生し難いフッ素系樹脂よりなり、円弧状の支持
溝５２Ａを所定のピッチで多段に形成することにより構
成されている。そして、この支持溝５２Ａに半導体ウエ
ハＷの周縁部の一部を支持させてこれを保持するように
なっている。収容できるウエハＷの枚数は、任意に設定
できるが、一般的には、１３〜２５枚程度である。
【００１７】そして、容器本体４０の奥には、本発明の
特徴とするガス導入ノズル５４と拡散力抑制部材５６及
びガス排気ノズル５８と収束力抑制部材６０とが設けら
れる。尚、ガス排気ノズル５８と収束力抑制部材６０は
設けなくて、後述するガス排気ポートのみを設けてもよ
い。具体的には、容器本体４０の底部４０Ａには、下方
に開放された２つの凹部６２、６４が設けられ、この凹
部６２、６４内に上記底部４０Ａを貫通してそれぞれガ
ス導入ポート６６とガス排気ポート６８を設けている。
そして、ガス導入ポート６６には、容器本体４０の一方
の隅に起立して延びるガス導入ノズル５４を連結し、ま
た、ガス排気ポート６８には、容器本体４０の他方の隅
に起立して延びるガス排気ノズル５８を連結している。
そして、各ノズル５４、５８には、その長さ方向に散在
させてそれぞれ多数のガス噴射孔５４Ａとガス吸入口５
８Ａが設けられている。
【００１８】そして、このガス導入ノズル５４の全体
に、上記ガス噴射孔５４Ａを覆うようにして細長い円筒
体状の上記拡散力抑制部材５６を設けている。この拡散
力抑制部材５６は、例えばアルミナ等の粉体を焼結して
なる多孔質のセラミック焼結体やステンレス、ニッケル
等の金属のファイバを焼結してなる多孔質の金属焼結体
よりなり、ガス噴射孔５４Ａから放出されるガスの拡散
力を弱めて抑制するようになっている。また、上記ガス
排気ノズル５８の全体にも、上記ガス吸入孔５８Ａを覆
うようにして細長い円筒体状の上記収束力抑制部材６０
を設けている。この収束力抑制部材６０は、上記拡散力
抑制部材５６と全く同じ材料及び構造になされており、
ここに収束するガスの収束力を緩和乃至抑制して乱流が
発生することを防止するようになっている。
【００１９】また、ガス導入ポート６６には、図４に示
すように容器本体４０内に向けてガスが流れる時にオー
プンする逆止弁７２と、所定の押圧力が付与された時に
開放される押圧力開閉弁７４が設けられている。また、
ガス排気ポート６８には、容器本体４０から外に向けて
ガスが流れる時にオープンする逆止弁７６と、所定の押
圧力が付与された時に開放される押圧力開閉弁７８が設
けられている。これらの押圧力開閉弁７４、７８として
は、例えばカプラタイプの開閉弁を用いることができ
る。図示例では、例えば１２インチ（３０ｃｍ）サイズ
のウエハＷを用いており、このウエハＷには、方向を示
すためのノッチ８０（図２参照）が形成されている。そ
して、容器本体４０の縦、横はそれぞれ３５０ｍｍ程
度、高さは１３枚のウエハを収容する場合には２００ｍ
ｍ程度、２５枚のウエハを収容する場合には４００ｍｍ
程度にそれぞれ設定される。また、容器本体４０の側壁
には、一対の把手８２を取り付けてこの持ち運びを行な
い易くしている。また、図示されないが、開閉ドア４６
には、ロック機構を設け、これを手動で或いは自動機構
で解除することにより、開閉ドア４６を離脱し得るよう
になっている。
【００２０】次に、以上のように構成された収納装置及
び搬出入ステージの動作について説明する。まず、前工
程で所定の処理が行われた例えば２５枚のウエハＷは、
上記した収納装置２内へ図２に示すように密閉状態で収
容されており、内部には、前工程を行なった処理装置な
どにおいて活性ガスである例えばＮ2 ガスが略１気圧程
度で充填されている。さて、このような状態の収納装置
２は、作業員により或いは自動搬送機構により搬送され
て、図５に示すように開閉ドア４６を処理装置４側に向
けた状態で搬出入ステージ６の載置台１２上の所定の位
置に載置する。この時、図７及び図８に拡大して示すよ
うに、載置台１２上の導入用接合ノズル２６と排気用接
合ノズル３６は、容器本体４０の底部４０Ａに設けたガ
ス導入ポート６６とガス排気ポート６８とが嵌合して自
動ジョイント２８、３８によりそれぞれ連結される。こ
の連結によって、ポート６６、６８側の押圧力開閉弁７
４、７８がそれぞれ開状態となって、Ｎ2 ガスの供給と
容器本体４０内の排気が可能な状態となる。
【００２１】このような状態において、図示しない自動
機構によって、収納装置２の開閉ドア４６はロックが外
されて、これを取り外すことによって容器本体４０内が
開放され、これと同時にロードロック室４Ａのゲートド
ア１０が開かれる。そして、内部の搬送アーム８を旋回
乃至屈伸させることによって、容器本体４０に多段に支
持されている半導体ウエハＷを保持し、これを順次ロー
ドロック室４Ａ内側へ取り込む。そして、図示しない処
理室にてこの半導体ウエハＷに対して所定の処理を行な
ったならば、前記と逆の搬送操作を行なって、処理済み
のウエハを容器本体４０内へ再度戻すことになり、そし
て、全てのウエハを戻したならば、開閉ドア４６を閉じ
ることによって、容器本体４０内を再度密閉状態とす
る。
【００２２】この状態では、容器本体４０内は、クリー
ンルーム内の清浄エアーで満たされているが、ウエハ表
面に自然酸化膜が発生してしまうので、内部雰囲気を不
活性なＮ2 ガスで置換する。このため、図５に示すよう
な不活性ガス供給手段１４のＮ2 ガス源１８から、流量
制御器２４により流量制御されたＮ2 ガスを流し、これ
をガス導入ポート６６を介してガス導入ノズル５４から
容器本体４０内へ少しずつ供給する。このＮ2 ガスの供
給動作と同時に、ガス排気手段１６の排気ポンプ１６も
駆動して、容器本体４０内の雰囲気をＮ2 ガスの供給に
見合った速度で排気し、これにより容器本体４０内の雰
囲気をＮ2 ガスで置換してウエハ表面に自然酸化膜が発
生することを防止する。
【００２３】Ｎ2 ガスの導入に際しては、ガス導入ノズ
ル５４からいきなり供給Ｎ2 ガスの圧力を開放すると、
その時の拡散力によってガス流が乱れて容器本体４０内
に鎮静化していたパーティクルが巻き上がり、これがウ
エハＷの表面に付着すると言う問題が発生するが、本実
施例にあっては、ガス導入ノズル５４に多数のガス噴射
孔５４Ａを設け、これを覆うようにして多孔質の焼結体
よりなる拡散力抑制部材５６を設けているので、導入さ
れたＮ2 ガスは急激に拡散することなく拡散力抑制部材
５６によりその拡散力が抑制されて徐々に容器本体４０
内へ流入して行くことになる。従って、容器４０内のパ
ーティクルが巻き上がってウエハに付着するなどの不都
合が発生することを未然に防止することができる。
【００２４】また、ガス排気ノズル５８には、これに吸
入される容器内雰囲気に乱流が発生してパーティクルの
巻き上げが発生する恐れがあるが、この場合にもガス排
気ノズル５８には上述した拡散力抑制部材５６と全く同
じ材料及び構造の多孔質の焼結体よりなる収束力抑制部
材６０が設けてあるので、ここに吸入される雰囲気ガス
は急に収束されるのではなく、収束力抑制部材６０の作
用により徐々に収束されてガス吸入孔５８Ａよりガス排
気ノズル５８内に取り込まれ、排気される。従って、こ
の場合にも吸い込みガスに乱流が生ずることはないの
で、パーティクルが巻き上がってこれがウエハに付着す
る等の問題を生ずることもない。
【００２５】また、拡散力抑制部材５６や収束力抑制部
材６０は、図２に示すように容器本体４０の奥の隅の空
きスペースに配置するようにしているので、この抑制部
材５６、６０を設けるために、容器本体４０自体の容積
を大きくする必要はほとんど生じない。このように、ガ
ス導入側とガス排気側に共に抑制部材５６、６０を設け
ることにより、パーティクルの巻き上げを大幅に抑制す
ることができる。また、ガス導入ポート６６と不活性ガ
ス供給手段１４との結合及びガス排気ポート６８とガス
排気手段１６との結合は、収納装置２を搬出入ステージ
６の載置台１２の所定の位置に載置するだけで、自動的
に行なうことができる。また、両者の分離は、単に収納
装置２を載置台１２から持ち上げるたげでよい。ここで
は不活性ガスとしてＮ2 ガスを用いたが、他にＡｒガ
ス、Ｈｅガス等を用いてもよい。
【００２６】また、ここでは拡散力抑制部材５６として
筒体状、或いは円柱状の多孔質焼結体を用いた場合を例
にとって説明したが、これに代えて、例えば図９及び図
１０に示すような円板状の拡散力抑制部材８６を用いる
ようにしてもよい。この拡散力抑制部材８６は、例えば
容器本体４０の天井面へ設けるものであり、ウエハＷと
略同じ面積を有する薄いガス拡散容器８８を有してお
り、この一側面、例えば下面を開放して、ここに前述し
た拡散力抑制部材５６と同様な材料よりなる多孔質の焼
結体９０を形成している。上記ガス拡散容器８８は例え
ばステンレスよりなり、その側部にガス導入ノズル５４
を設けてＮ2 ガスを導入するようになっている。
【００２７】この場合にも、ガス拡散容器８８内へ導入
されたＮ2 ガスは、多孔質焼結体９０によりその拡散力
が抑制されつつ容器本体４０内へ供給されることになる
ので、前述した実施例と同様に、パーティクルの巻き上
げを防止することができる。また、この円板状の拡散力
抑制部材８６は、収束力抑制部材としても同様にして適
用できるのは勿論である。ここで種々の拡散力抑制部材
を設けた場合と、抑制部材を設けなかった場合のパーテ
ィクルに対する評価を実際に行なったので説明する。
【００２８】図１１は評価装置を示す概略構成図であ
り、図１１（Ａ）、図１１（Ｂ）は拡散力抑制部材を設
けなかった場合、図１１（Ｃ）は拡散力抑制部材を設け
た場合である。図中、９２は真空容器であり、この内部
のサセプタ９４上にウエハＷを載置している。ＲＧはレ
ギュレータ、Ｆはフィルタ、Ｖはバルブ、ＮＶはニード
ルバルブ、ＭＦＣは流量制御弁をそれぞれ示す。図１１
（Ａ）に示すラインＡの場合は、真空容器９２内が１０
ＴｏｒｒになるまでニードルバルブＮＶを介してＮ2 ガ
スを供給し、その後は、バルブＶを開いて一気にＮ2 ガ
スを一気圧になるまで流している。図１１（Ｂ）に示す
ラインＢの場合は、流量制御弁ＭＦＣを制御して時間と
共にＮ2 ガス流量が直線的に増加するように流してい
る。図１１（Ｃ）に示すラインＣの場合は、本発明に対
応するものであり、バルブＶを開いて一気にＮ2 ガスを
流し、拡散力を拡散力抑制部材９８により抑制してい
る。
【００２９】この拡散力抑制部材としては、金属ファイ
バを焼結してなる抑制部材と、図９及び図１０に示した
ような円板状の抑制部材と、セラミック粉体を焼結して
なる抑制部材の３種類を用いた。真空容器中にＮ2 ガス
パージを行なって、その時、ウエハ表面に付着したパー
ティクルをサイズ毎に測定した。その評価結果を図１２
に示す。尚、図１２中の右上に、本発明の評価結果の拡
大図を示す。図１２から明らかなように抑制部材を用い
ないラインＡ、ラインＢの場合には、全てのパーティク
ルのサイズにおいて多量のパーティクルが巻き上がって
ウエハ表面に多量に付着しているが、ラインＣの場合に
は非常のパーティクル数が少なく、特に、セラミック焼
結体の抑制部材が最もパーティクルが少なく、良好な結
果を示していることが判明した。尚、ここでは真空容器
内へＮ2 ガスをパージするという厳しい条件下で評価を
行なったが、略１気圧の収納装置内の雰囲気をＮ2 ガス
で置換する場合には、真空容器内へガスをパージする場
合と異なって拡散力が小さいので更にパーティクル数は
減少することになる。
【００３０】尚、上記実施例では１２インチサイズのウ
エハを例にとって説明したが、６インチ、８インチのウ
エハにも適用できる。また、被処理体としては半導体ウ
エハに限定されず、ガラス基板、ＬＣＤ基板等にも適用
できる。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の被処理体
の収納装置及び搬出入ステージによれば、次のように優
れた作用効果を発揮することができる。ガス導入ポート
に例えば多孔質焼結体よりなる拡散力抑制部材を設け
て、容器本体に導入する不活性ガスの拡散力を抑制する
ようにしたので、乱流の発生を抑制してパーティクルの
巻き上げの発生を防止することができる。従って、製品
歩留りを向上させることができる。また、ガス排気ノズ
ルにも、拡散力抑制部材と同様な構造の収束力抑制部材
を設けてノズルに吸い込まれるガスの収束力を抑制した
ので、乱流の発生を抑制することができ、パーティクル
の巻き上げを更に抑制することができる。更に、ガス導
入ポート及びガス排気ポートに押圧力開閉弁を設け、こ
れを不活性ガス供給手段とガス排気手段を設けた搬出入
ステージに載置することにより、各ポートを簡単に上記
各手段に連結させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る収納装置を示す分解斜視図であ
る。
【図２】図１に示す収納装置の横断面図である。
【図３】図１に示す収納装置の容器本体を示す部分破断
側面図である。
【図４】図３に示す容器本体の部分拡大断面図である。
【図５】本発明の収納装置を搬出入ステージに載置した
状態を示す図である。
【図６】搬出入ステージを示す概略斜視図である。
【図７】収納装置のガスポートが接合される直前を示す
部分拡大断面図である。
【図８】収納装置のガスポートが接合された状態を示す
部分拡大断面図である。
【図９】拡散力抑制部材の変形例を示す斜視図である。
【図１０】図８に示す抑制部材の断面図である。
【図１１】評価装置を示す概略構成図である。
【図１２】本発明の評価結果を説明するグラフである。
【符号の説明】
２ 収納装置 ４ 処理装置 ６ 搬出入ステージ １２ 載置台 １４ 不活性ガス供給手段 １６ ガス排気手段 １８ Ｎ2 ガス源 ２８、３８ 自動ジョイント ４０ 容器本体 ４２ 搬出入口 ４６ 開閉ドア ５２ 支持部材 ５２Ａ 支持溝 ５４ ガス導入ノズル ５６ 拡散力抑制部材 ５８ ガス排気ノズル ６０ 収束力抑制部材 ６６ ガス導入ポート ６８ ガス排気ポート ７８ 押圧力開閉弁 ８８ ガス拡散容器 ９０ 多孔質焼結体 Ｗ 半導体ウエハ（被処理体）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/02 Ｂ６５Ｄ 85/38 Ｒ 21/3065 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｂ

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 気密に開閉される開閉ドアを有する搬送
    可能な箱状の容器本体と、前記容器本体の内面に設けら
    れて、被処理体を多段に支持するための支持部材と、不
    活性ガスを導入するために前記容器本体に設けられたガ
    ス導入ポートと、内部雰囲気を排気するために前記容器
    本体に設けられたガス排気ポートと、前記ガス導入ポー
    トに接続されて前記容器本体内部に延びるガス導入ノズ
    ルと、前記ガス導入ノズルの先端に設けられて導入され
    るガスの拡散力を抑制する拡散力抑制部材とを備えたこ
    とを特徴とする被処理体の収納装置。
  2. 【請求項２】 前記拡散力抑制部材は、セラミック或い
    は金属ファイバを焼結してなる多孔質焼結体よりなるこ
    とを特徴とする請求項１記載の被処理体の収納装置。
  3. 【請求項３】 前記ガス導入ノズルには、複数のガス噴
    出孔が設けられ、これらのガス噴出孔を覆うようにして
    前記拡散力抑制部材が設けられることを特徴とする請求
    項１または２記載の被処理体の収納装置。
  4. 【請求項４】 前記拡散力抑制部材は、前記ガス導入ノ
    ズルに接続されて前記被処理体の平面方向に広がって一
    側面が開放された薄いガス拡散容器と、このガス拡散容
    器の開放部に設けられてセラミック或いは金属ファイバ
    を焼結してなる多孔質焼結体よりなることを特徴とする
    請求項１記載の被処理体の収納装置。
  5. 【請求項５】 前記ガス排出ポートに接続されて前記容
    器本体に延びるガス排気ノズルと、前記ガス排気ノズル
    の先端に設けられて、排気されるガスの収束力を抑制す
    る収束力抑制部材とを備えたことを特徴とする請求項１
    乃至４のいずれかに記載の被処理体の収納装置。
  6. 【請求項６】 前記ガス導入ポートと前記ガス排気ポー
    トには、押圧力により開放される押圧力開閉弁が設けら
    れることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載
    の被処理体の収納装置。
  7. 【請求項７】 請求項１乃至６のいずれかに規定する被
    処理体の収納装置を載置して処理装置内との間で前記被
    処理体を搬出入させる搬出入ステージにおいて、前記収
    納装置を載置する載置台と、この載置台に設けられて、
    前記収納装置のガス導入ポートに着脱可能に接続されて
    不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、前記載置
    台に設けられて、前記収納装置のガス排気ポートに着脱
    可能に接続されて容器本体内の雰囲気を排気するガス排
    気手段とを備えたことを特徴とする収納装置の搬出入ス
    テージ。
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