JPH11282142A - 感光材料処理装置の処理部密閉構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理部の空気の流れを遮断して、炭酸ガスに
よる処理液の劣化を低下させ、また、処理液の補充量を
減らすことを課題とする。 【解決手段】 現像槽１４に貯留された現像液の液面に
は、箱状の遮蔽蓋７６が配設されており、その底壁７６
Ａが処理液と空気との接触をできるだけ小さくして、炭
酸ガスによる処理液の劣化と、水分の蒸発を抑えてい
る。また、遮蔽蓋７６の周壁７６Ｂの上部とＰＳ版プロ
セッサーの上部を覆うカバー７８が密着しており、現像
液上部の空気の流れ（挿入口２２から排出口へ至る空気
の流れ）を遮断している。これにより、現像部１８の密
閉度が高まり、炭酸ガスによる現像液の劣化が低下し、
また、現像液の補充量が低減する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光材料を処理す
る感光材料処理装置の処理部密閉構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】感光材料、例えば感光性平版印刷版（以
下「ＰＳ版」という）は感光性平版印刷版処理装置（以
下「ＰＳ版プロセッサー」という）によって現像処理さ
れる。このＰＳ版プロセッサーでは、画像が記録された
ＰＳ版を現像槽内を搬送しながらこの現像槽に貯留して
いる現像液に浸漬すると共に、現像液中のブラシローラ
等の擦り手段によってＰＳ版の非画像部分の感光層を除
去するようになっている。このようにして現像処理の終
了したＰＳ版は、水洗部で水洗水によって水洗された後
（水洗処理）、不感脂化処理部でガム液が塗布され（不
感脂化処理）て版面保護等の処理が行われる。

【０００３】ところで、現像槽に貯留された現像液の液
面には、空気中の炭酸ガスと現像液との接触をできるだ
け少なくするため、板状の浮蓋が浮かべられている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、板状の浮蓋を
浮かべるだけでは、ＰＳ版プロセッサーの挿入口から排
出口へ至る空気の流れを遮断することができない。この
ため、浮蓋の上方を空気が流れて新しい炭酸ガスが浮蓋
によって覆われていない現像液の表面に触れ、炭酸ガス
による現像液の劣化を促進する。また、現像液中の水分
が蒸発して現像液の補充量が増加する。

【０００５】さらに、従来のＰＳ版プロセッサーでは、
ブラシローラ等を駆動させるギア等の駆動部が現像槽内
の現像液面上方に設けられているので、現像液上方の空
気の流れを止めるための遮断物を設けることがむずかし
かったので、現像液の空気中の炭酸ガスによる劣化をよ
り少なくすることができなかった。

【０００６】本発明は上記事実を考慮し、処理部の空気
の流れを遮断して、炭酸ガスによる処理液の劣化を低下
させ、また、処理液中の水分の蒸発を少なくして、処理
液の補充量を減らすことを課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明で
は、処理槽に貯留された処理液に感光材料を浸漬させ、
搬送手段で処理液中を搬送しながら感光材料を処理す
る。この処理槽には、遮蔽蓋が設けられており、処理液
と空気との接触をできるだけ少なくして、炭酸ガスによ
る処理液の劣化と、水分の蒸発を抑えている。

【０００８】また、遮蔽蓋の上部と処理槽を覆うカバー
は接触しており、処理液上部の空気の流れ（感光材料の
挿入口から排出口へ至る空気の流れ）を遮断している。
これにより、処理槽の密閉度が高まり、炭酸ガスによる
処理液の劣化が低下し、また、水分の蒸発も押さえられ
て処理液の補充量が低減する。

【０００９】請求項２に記載の発明では、カバーの裏面
に遮蔽蓋の上部と係合する係合部が形成されている。こ
の係合部によって、カバーと遮蔽蓋の密着度が高まり、
処理液上部の空気の流れが確実に遮断される。

【００１０】請求項３に記載の発明では、処理槽と一体
に形成された側板で、搬送手段の搬送系と、搬送系を駆
動させる駆動系が仕切られている。そして、駆動系の上
部を側板に続く蓋部で覆い駆動系を密閉している。この
ため、従来のように、感光材料を搬送する搬送系の上方
に駆動系を設けないので、搬送系の上方に遮蔽蓋を容易
に設置することができ、空気の流れを遮断できる。ま
た、駆動系から搬送系側への空気の流れを遮断できる。
これにより、空気中の炭酸ガスによる処理液の劣化を少
なくすることができる。

【００１１】請求項４に記載の発明では、遮蔽蓋の感光
材料の搬送方向上流側の底壁角部に、感光材料の搬送方
向と交わる方向に感光材料搬送用のローラが設けられて
いる。この構成により、感光材料はローラに案内され、
底壁角部に当って傷付くことがない。

【００１２】請求項５に記載の発明では、遮蔽蓋が中空
の箱体で構成され、軽量化が図られている。

【００１３】

【発明の実施の形態】図１には、本形態に適用した感光
性平版印刷版処理装置（以下「ＰＳ版プロセッサー１
０」と言う）が示されている。ＰＳ版プロセッサー１０
は、図示しない焼付装置によって画像が焼付けられた感
光性平版印刷版（以下「ＰＳ版１２」と言う）を現像処
理する。 （ＰＳ版プロセッサーの概要）ＰＳ版プロセッサー１０
は、ＰＳ版１２を現像処理するための現像部１８と、Ｐ
Ｓ版１２に付着した現像液を水洗して水洗処理する水洗
部２４と、水洗後のＰＳ版１２にガム液を塗布して不感
脂化処理するフィニッシャー部２６と、ＰＳ版１２を乾
燥する乾燥部１６とを備えている。なお、現像部１８は
現像槽１４を、水洗部２４は水洗槽２８を、フィニッシ
ャー部２６はガム液槽３０を備えている。

【００１４】また、現像部１８側の外板パネル２０に
は、ＰＳ版１２が挿入されるスリット状の挿入口２２が
設けられている。挿入口２２の内側には、一対の搬送ロ
ーラ３２が配設されており、挿入口２２から挿入された
ＰＳ版１２が、この搬送ローラ３２によって挟持搬送さ
れ、水平方向に対して所定の角度で現像槽１４へ向けて
送り出されるようになっている。

【００１５】現像槽１４は、上方が開口され底部中央部
が下方に向けて突出された略逆山形状とされており、こ
の現像槽１４内には、ＰＳ版１２の搬送方向に沿って上
流側から順に、一対の搬送ローラ３４、ブラシローラ３
６、３８及び一対の絞りローラ４０が配設されている。
これらの搬送ローラ３４、ブラシローラ３６、３８及び
絞りローラ４０は、図４に示す側板４２と外板パネル２
０との間に配設された駆動機構によって、回転するよう
になっている。

【００１６】また、図３に示すように、ブラシローラ３
６を間に置いてバックアップローラ４４、４６が対向配
置され、さらに、ブラシローラ３８と対向してバックア
ップローラ４８が配置されている。これらのバックアッ
プローラ４４、４６、４８には、駆動力は伝達されず回
転自在となっている。

【００１７】なお、現像部１８では、底壁に設けられた
継手管５０を介して、現像槽１４内の現像液が吸引され
て、側壁に形成された吐出口を通じて現像槽１４内に吐
出され、現像液の循環及び攪拌が行われる。

【００１８】一方、図１に示すように、現像部１８の下
流側の水洗部２４には、水洗槽２８の上方にそれぞれ一
対の搬送ローラ５４、５６が配設されている。これらの
搬送ローラ５４、５６は、側板に回転可能に支持されて
おり、駆動手段の駆動力が伝達され、現像部１８から送
り込まれたＰＳ版１２の搬送路を形成している。

【００１９】また、搬送ローラ５４と搬送ローラ５６の
間には、スプレーパイプ５８が対向配置されており、噴
出口が搬送路に向けられている。スプレーパイプ５８か
らは、図示しない水洗水タンクからポンプによって汲み
上げられた水洗水が噴出され、ＰＳ版１２の表面及び裏
面が水洗水によって洗浄される。なお、洗浄後の水洗水
は水洗槽２８へ流れる。

【００２０】一方、水洗部２４の下流側の不感脂化処理
部であるフィニッシャー部２６のガム液槽３０の上方に
は、一対の絞りローラ６０が設けられている。そして、
搬送ローラ５６によって送り出されるＰＳ版１２が、こ
の絞りローラ６０へ送られる。

【００２１】また、絞りローラ６０の上流側には、上下
方向にスプレーパイプ６２が対向配置され、噴出口が搬
送路に向けられている。このスプレーパイプ６２から
は、ガム液槽３０からポンプによって吸い込まれたガム
液が噴出され、ＰＳ版１２の表面及び裏面に塗布され
る。

【００２２】その後、絞りローラ６０によってガム液が
均一に塗布されたＰＳ版１２は、シャッター６４で開閉
される通路口６６を通じて、乾燥部１６へ案内される。
この乾燥部１６では、ガイドローラ６８、それぞれ一対
の串ローラ７０、７２によって搬送され、乾燥されたＰ
Ｓ版１２が、排出口７４からＰＳ版プロセッサー１０の
外へ排出される。

【００２３】次に、現像部１８、水洗部２４、フィニッ
シャー部２６、及び乾燥部１６における特徴的な構造を
説明する。 （現像部の密閉構造）図２〜図４に示すように、現像槽
１４の槽壁と一体に４ヵ所に設けられた支持部１５に支
えられて、箱状の遮蔽蓋７６が配設されている。遮蔽蓋
７６の底壁７６Ａは、搬送ローラ３４、ブラシローラ３
６、バックアップローラ４８の上部外周面と接触しない
ように、円弧状に連続して湾曲し、ローラ等と干渉しな
いようになっている。

【００２４】また、底壁７６Ａの幅寸法は、図４に示す
ように、現像槽１４を構成する側板４２の内寸法と略同
一とされており、底壁７６Ａと側板４２の隙間から液面
が露出しないようになっている。さらに、遮蔽蓋７６の
周壁７６Ｂは、ＰＳ版プロセッサー１０の上部を覆うカ
バー７８まで至っている。

【００２５】カバー７８には、矩形状の溝８０が形成さ
れており、遮蔽蓋７６を現像槽１４にセットしてカバー
７８を被せたとき、溝８０と周壁７６Ｂの上部が係合し
て、現像槽１４の上部を完全に密閉する。また、溝８０
に代えて凸部を形成して周壁７６Ｂの上部と係合するよ
うにしてもよい。

【００２６】一方、遮蔽蓋７６の底壁７６Ａの上流側の
角部には、ＰＳ版１２の搬送方向と平行にテーパーが形
成されており、このテーパーに沿ってブラッケト８１が
挿入口２２側へ張り出している。このブラケット８１に
は、串ローラ８３が架け渡されている。

【００２７】上記の構成では、現像液上部の空気の流れ
（挿入口２２から排出口７４へ至る空気の流れ）が、遮
蔽蓋７６の周壁７６Ｂとカバー７８によって完全に遮断
される。このため、現像部１８の密閉度が高まり、新た
な炭酸ガスが流入しないので、炭酸ガスによる現像液の
劣化が低下し、また、現像液中の水分の蒸発が少なくな
り、現像液の補充量が減少する。さらに、ＰＳ版１２
は、串ローラ８３に案内されるので、底壁７６Ａの上流
側角部に当って傷付くことがない。

【００２８】ここで、遮蔽蓋７６は図２に示されるよう
に中空の箱体とされているので、現像部１８の空間の多
くを占めて空気の流れを遮断する大型の箱体となってい
るにもかかわらず、軽量となっており、現像部１８への
着脱の作業性もよい。

【００２９】また、現像液の液面が遮蔽蓋７６の底壁７
６Ａより常に上方になるように現像液中に補充液を補充
するようにしている。これによって底壁７６Ａの下側に
空間ができて空気が入り込むことがない。

【００３０】また、図１に示すように、一対の搬送ロー
ラ３２、一対の絞りローラ４０及び６０に接し、かつ一
方の側板４２から他方の側板４２にかけてゴムブレード
９０が設けられ、通路口６６にはシャッター６４が設け
られているので、現像部１８の密閉度がさらに高まり炭
酸ガスによる現像液の劣化及び現像液中の水分の蒸発が
さらにおさえられ、現像液の補充量をさらに少なくする
ことができるとともに水洗部２４、フィッシャー部２６
の密閉度も高まる。したがって 水洗槽２８内の水洗水
及びガム液槽３０内のガム液中の水分の蒸発もおさえら
れ、それぞれの補充量が減少する。

【００３１】さらに、現像部１８に遮蔽蓋７６を設ける
ことにより、カバー７８の裏面に水分が結露する部分が
少なくなるので、結露した水滴が搬送されるＰＳ版１２
上に落下することによるＰＳ版面の処理ムラ、結露した
水滴が側板４２の上部等に付着することによるカビの発
生、カバー７８を開いたときに生じる水滴の滴りによる
衣服の濡れ等を防止することができる。

【００３２】なお、挿入口２２にも現像部１８に空気が
流入するのを防ぐゴムブレード２１を設けてもよい。

【００３３】また、上記の構成では、箱状の中空な遮蔽
蓋としたが、これに限らず、中空でない中身の詰まった
遮蔽蓋であってもよい。

【００３４】また、上記実施例では遮蔽蓋７６は、現像
槽１４の槽壁と一体に設けられた４か所の支持部１５に
支えられ、周壁７６Ｂの上部はカバー７８で押さえられ
る構造としたが、遮蔽蓋７６を現像槽１４中の現像液に
浮かぶようにし、その現像液面が一定の位置になるよう
にオーバーフロー管の先端を位置させ、現像液面が下が
らないように補充液を補充するようにしてもよい。この
とき、遮蔽蓋７６の同壁７６Ｂの上部は常にカバー７８
の裏面に接触することになる。

【００３５】また、オーバーフロー管を設けないで、遮
蔽蓋７６の周壁７６Ｂの上部にジャバラ方式又は釣りざ
お方式の伸縮自在な部材を設けて、現像液面が変動して
もカバー７８と遮蔽蓋７６の間が常に密閉状態になる構
造にしてもよい。 （駆動部の密閉構造）図４に示すように、一対の搬送ロ
ーラ３４（一例として）を駆動させる駆動ギア７１、８
２、７３、８４、７５が、側板４２と外板パネル２０と
の間に収納されている。現像槽１４にネジ止めされて現
像槽１４と一体にされた側板４２には、水平に延出する
Ｌ字状の蓋部４２Ａが一体成形されており、この蓋部４
２Ａが側板４２と外板パネル２０との間の空間を密閉し
ている。このため、従来のように、駆動ギアの設置部の
上部開口を通じて空気が現像槽内に流入して現像液と接
触することがなく、現像槽１４の密閉度が向上する。

【００３６】なお、側板４２は現像槽１４と一体成形さ
れてもよく、溶接により一体にされてもよい。 （ローラの支持部機構その１）通常、搬送ローラを現像
槽から着脱するには、回転軸についている軸受けとギア
を一緒に外す必要がある。このため、搬送ローラの着脱
作業が容易でなく、また、現像槽の側板に軸受けとギア
を挿入する溝を形成する必要があり、この溝を通して現
像槽内に空気が流入してしまい、現像槽内の空気の流れ
を遮断する構造とすることができない。

【００３７】これに対処するため、図５及び図６に示す
支持部機構では、左側の側板９８には、取付孔１００が
穿設され、この取付孔１００に筒状の軸受け１０２が挿
入固定されている。軸受け１０２には、ストッパー１０
２Ａが半径方向へ張り出しており、側板９８に当って、
軸受け１０２の挿入量を決定している。

【００３８】また、軸受け１０２には、大径の軸孔１０
４と小径の軸孔１０６が同軸上に形成されている。軸孔
１０４には、搬送ローラ１０８の回転軸１１０が回転可
能に軸支されている。この回転軸１１０の端部からは、
カップリング用の連結シャフト１１２が突設されてい
る。

【００３９】この連結シャフト１１２の先端部は、図７
に示すように、軸芯に沿って半割りにカットされてい
る。そして、軸孔１０６に回転可能に軸支され、同じく
先端部が軸芯に沿って半割りされた連結シャフト１１４
とカップリングできるようになっている。

【００４０】この連結シャフト１１４は、一端が軸受け
１１６に軸支されたシャフト１１８の他端から突設され
ている。シャフト１１８には、駆動ギア１２０が固定さ
れており、伝達ギア１２２を介して駆動力が伝達される
ようになっている。

【００４１】一方、右側の側板９８に穿設された取付孔
１２４には、軸受け１２６が挿入固定されている。軸受
け１２６の軸孔１２８には、搬送ローラ１０８の回転軸
１１０が、回転可能に軸支されており、Ｃ形状のスペー
サー１３０が、軸受け１２６と搬送ローラ１０８のロー
ラ部との間に嵌め込まれている。

【００４２】このような構成において、搬送ローラ１０
８をセットするときは、図５に示すように、先ず、軸受
け１２６の軸孔１２８へ回転軸１１０の右端部を深く差
し込み、次に、図６に示すように、回転軸１１０を左側
へ引き出すようにして、連結シャフト１１２を軸受け１
０２の軸孔１０４へ突っ込む。これにより、連結シャフ
ト１１２が連結シャフト１１４とカップリングされ、駆
動ギア１２０から駆動力が連結シャフト１１４、１１２
を介して、回転軸１１０に伝達される。

【００４３】また、連結シャフト１１２と連結シャフト
１１４とをカップリングさせた後は、スペーサー１３０
を回転軸１１０に嵌め込み、搬送ローラ１０８の軸方向
へのガタ付きを抑え、カップリング部分が外れないよう
にする。なお、搬送ローラ１０８を取り外すときは、上
述した手順と逆の手順を踏めばよい。

【００４４】このように、軸孔へ軸受けを嵌め込み、こ
の軸受けに対して搬送ローラを着脱可能とすることで、
現像槽を隙間なく、完全に密閉することができる。ま
た、搬送ローラ１１０の着脱作業が短時間で済む。 （カップリングの適用例）また、上述したカップリング
構造を利用することで、ギアとシャフトをねじ等で固定
する必要がなくなり、ねじが緩むことによる駆動伝達系
のトラブルを無くすことができる。

【００４５】以下、図８及び図９に基づいて説明する。
側板１３４に取付けられた軸受け１３８には、搬送ロー
ラ１３２の回転軸１４０が回転可能に軸支されている。
回転軸１４０には、駆動ギア１４２が固定されており、
側板１３４と外板パネル１３６との間に配置された伝達
ギア１４４と噛み合っている。

【００４６】この伝達ギア１４４の芯部には、ボス１４
６が一体成形されている。ボス１４６の先端部は、軸芯
に沿って半割りにカットされている。また、ボス１４６
は、側板１３４と外板パネル１３６との間に掛け渡され
たシャフト１５２へ回転自在に挿通されている。

【００４７】さらに、シャフト１５２には、芯部にボス
１５０が一体成形されたハスバギア１４８が挿通されて
いる。ボス１５０の先端部は、軸芯に沿って半割りにカ
ットされ、ボス１４６とカップリングされている。これ
によって、ウォームギア１５４により駆動力を伝達され
たハスバギア１４８が伝達ギア１４４と一体となって回
転し、駆動ギア１４２を回転駆動させる。

【００４８】このように、シャフト１５２回りに伝達ギ
ア１４４及びハスバギア１４８と一体成形されそれぞれ
半割りにカットされたボス１４６とボス１５０をカップ
リングさせて回転させる構造とすることで、伝達ギア１
４４とボス１４６、ハスバギア１４８とボス１５０をネ
ジ止めする必要がなくネジがゆるむ等のトラブルをなく
すことができる。

【００４９】また、カップリングの形状としては、図１
０に示すボス１５６、１５８のようにスクリュー形とし
てもよく、図１１に示すように、ボス１６２の外周面に
周方向に沿って所定の間隔で凹部１６２Ａを形成し、ボ
ス１６０から凹部１６２Ａと係合する４本のフィンガー
１６０Ａを突設させる構成でもよい。これによって、ボ
ス１６２とボス１６０とのカップリング作業が迅速に行
える。 （ローラの支持部機構その２）処理液を取り扱うＰＳ版
プロセッサー１０の特性として、図１２に示すように、
駆動系のギアが回転することによって、処理液につかっ
ている下方のギア１６６によってくみ上げられた処理液
が駆動ギア１６８まで上がってくることがある。

【００５０】このため、駆動ギア１６８の両側にフラン
ジ１７０を設けて、返し溝１７４を形成し、処理液がシ
ャフト１７６を伝わって回転軸１７２とこれを軸に回転
するシャフト１７６の間に流れ込まないように、また、
処理液がシャフト１７６、ギア１６５、１６７を伝わっ
て軸受１６９と回転軸１７１の間に流れ込まないように
液切りを行なっている。

【００５１】このように、液切りを行うことで、回転軸
１７２とシャフト１７６の間や軸受１６９と回転軸１７
１の間に処理液のカス等が入り込んで回転軸１７２、シ
ャフト１７６、軸受１６９、回転軸１７１が磨耗するこ
とがない。 （現像槽の搬送ガイド）図１３及び図１４に示すよう
に、挿入口２２に近い現像槽１４の傾斜した底壁には、
所定の間隔でガイドリブ１７８が立設されている。この
ガイドリブ１７８の上面は、搬送ローラ３２と搬送ロー
ラ３４で形成される搬送路上にあり、現像層１４の底壁
の傾斜と同方向に傾斜している。また、現像槽１４の搬
入面１４Ｃから立ち上がるガイドリブ１７８の高さＬ
は、一例として５ｍｍとされている。

【００５２】このような構成としたのは、従来のよう
に、現像槽１４の底壁にＰＳ版１２を接触させて、挿入
口２２から挿入されたＰＳ版１２を搬送ローラ３４へ案
内する場合、毛細管現象により、現像槽１４の底壁とＰ
Ｓ版１２との接触面を伝わって現像液が上昇して現像槽
１４の外に持ち出される恐れがあったからである。

【００５３】そして、上記構成を採用することで、ガイ
ドリブ１７８によって搬送されるＰＳ版１２と現像槽１
４の底壁との間に毛細管現象が生じない十分な隙間が生
じる。このため、液漏れのないガイド構造とすることが
できる。なお、本例では、ガイドリブ１７８の高さＬを
５ｍｍとしているが、この値は、現像液の性状等によっ
て決定されるものである（ガイドリブの間隔も現像液の
性状等に依存する）。 （ブラシローラのバックアップ構造）図１に示すよう
に、ＰＳ版プロセッサー１０では、ブラシローラ３６、
３８でＰＳ版１２の表面及び裏面を擦って現像を促進
し、非画像部分の感光層を除去するようになっている
が、そのときのＰＳ版１２の受けとして、バックアップ
ローラ４４、４６、４８を配置している。

【００５４】しかし、バックアップローラを取付けると
コストがアップする。これに替えて、通版性のよいガイ
ド板をＰＳ版１２の受けとすることも考えられるが、Ｐ
Ｓ版１２の感光層にブラシローラの毛先部を押し付けた
状態でブラシローラを回転させ、非画像部分の感光層を
除去する必要があるので、ブラシローラの毛先部がガイ
ド板へ押しつけられて、ＰＳ版プロセッサー１０が停止
している時に、ブラシローラの毛先部に癖がついて曲が
ったままになり、擦り機能が低下する恐れがある。

【００５５】そこで、改良例として、図１５及び図１６
に示すように、ブラシローラ１８２の下方に位置するガ
イド板１８０を切り開いて、ブラシローラ１８２がガイ
ド板１８０に触れない構造とすることが考えられる。

【００５６】この構成では、図１７に示すように、ＰＳ
版１２の先端部が搬送方向と反対側に向かって下方に傾
斜したガイド片１８０Ａに当り、上方に案内され、その
後、図１８に示すように、ブラシローラ１８２で非画像
部分の感光層が擦り取られながらガイド板１８０に沿っ
て移動する。

【００５７】このように、ＰＳ版プロセッサー１０が停
止しているときには、ブラシローラ１８２の毛先部がガ
イド板１８０に当らない構造とすることで、毛先部に癖
が付かない。このため、安定した擦り機能を発揮するこ
とができる。また、ガイド板１８０を開口することで、
現像液中のカスがガイド板１８０上に溜まることがな
く、ＰＳ版の版面汚れを防止することができる。

【００５８】なお、図１９に示すように、ブラシローラ
１８２の毛先部が当たるガイド板１８０の部位を切欠
き、エッジ部を下方へ折り曲げて開口部１８０Ｃとし、
この開口部１８０Ｃの間に串ローラ１８４を配置するよ
うにしてもよい。この串ローラ１８４で、ＰＳ版１２の
先端部を円滑にガイドすることができる。

【００５９】また、図２０に示すように、開口部でな
く、ブラシローラ１８２の毛先部が当らないように、湾
曲部１８０Ｂを凹設してもよい。この構成では、ガイド
板１８０を打ち出すだけで良いので加工が容易である。 （串ローラの支持構造）上述したように、現像槽１４に
は、ブラシローラのバックアップ用として串ローラが配
設されることがある。この串ローラは、自走する必要が
ないので、側板に穿設された軸孔へステイの両端が差し
込まれた状態で支持されている。

【００６０】しかしながら、串ローラを洗浄し再装着す
る場合、串ローラの差し込み作業が面倒である。

【００６１】そこで、図２１に示すように、上部に支持
部１８６が凹設された受け板１８４を、現像槽１４と一
体成形して、串ローラ１８８のステイ１８８Ａを上方か
ら落とし込むようにして支持することが考えられる。こ
の構成により、従来のように、ステイを軸孔に差し込む
必要がないので、串ローラの着脱が容易となる。

【００６２】なお、図２２に示すように、受け板１８４
の成形材料を削減するため、現像槽１４の内壁にＵ字状
の受け部１９０を一体成形して、串ローラ１８８のステ
イ１８８Ａを上方から落とし込むようにしてもよい。 （串ローラの製造方法）従来の串ローラは、ＰＶＣ（ポ
リ塩化ビニル）樹脂で成形された円筒管を、ゴムローラ
の中心部を貫通した円孔へ圧入し、この円筒管にステイ
を挿通して、製造されていた。そして、円筒管がスペー
サとして機能し、ゴムローラの間隔を一定に保つように
なっていた。

【００６３】しかし、ゴムローラの円孔に円筒管を圧入
する作業は容易でなく、結構な手間を要している。

【００６４】そこで、図２３に示すように、円板状のロ
ーラ１９２と円筒状のスペーサ１９４を一体に二重成形
することで、組付け工数を削減することができる。な
お、ローラ１９２は、ゴム又はエラストマー（具体的に
は、商品名でサントプレーン）で、スペーサ１９４はＰ
Ｐ（ポリプロピレン）樹脂で成形されている。

【００６５】このため、ローラ１９２と一体成形された
スペーサ１９４へステイ１９６を挿通させるだけで、串
ローラが完成する。 （絞りローラの構造）図１及び図２４に示すように、現
像処理が終了したＰＳ版１２は、絞りローラ４０によっ
て現像液を絞り取られながら現像槽１４から引き出さ
れ、水洗部２４へ送られる。

【００６６】ここで、図２６（Ａ）に示すように、絞り
ローラ４５が均一の硬さのローラであると、挟持搬送さ
れるＰＳ版１２の端部に隣接する位置に隙間４３が生じ
て現像液が充分絞り取られずに絞りローラ４５に残り、
絞りローラ４５を通過したＰＳ版１２の端部に付着して
しまい、絞り不良を生じることがある。

【００６７】そこで、図２５に示すように、ＰＳ版１２
の両端部が接触する絞りローラ４０の両端部４０Ｂを軟
質のゴムで形成し、中央部４０Ｃを硬質のゴムで形成し
た。これにより、図２６（Ｂ）に示すように、絞りロー
ラ４０の中央部４０Ｃの硬質のゴム部分により、ＰＳ版
１２を確実に挟持搬送する能力を維持しながら、ＰＳ版
１２の幅方向端部の軟質のゴム部４０ＢがＰＳ版１２の
端部形状になじんで隙間を生ずることがないので、ＰＳ
版１２に付着している現像液を絞りローラ４０によって
確実に絞り取ることができ、ＰＳ版１２の両端部に現像
液が残ってしまうことがない。

【００６８】なお、上記構造を水洗部２４に配置される
それぞれの一対の絞りローラ５４、５６及びフィニシャ
ー部２６に配置される一対の絞りローラ６０等の他の絞
りローラに適用できることは無論である。 （軸受け脱落防止構造）通常、ローラの回転軸から軸受
けが脱落しないように、Ｅリングが回転軸に取付けられ
るようになっている。しかし、回転軸に取付溝を加工す
る必要があり、また、Ｅリングを装着する治具も必要と
なる。

【００６９】そこで、本例では、図２７に示すように、
Ｅリングに替えて弾性を有するＯリング２０４を回転軸
２０６に装着して、軸受け２０８から段付部２０６Ｂを
有する回転軸２０６が抜け落ちないようにしている。こ
のＯリング２０４は、治具を必要とせず、軸端から弾性
に抗して指で押し込むだけでよいので、加工と組付け工
数を削減できる。

【００７０】また、図２８に示すように、回転軸２０６
に環状溝２０６Ａを形成して、弾性を有するＯリング２
０４を装着するようにしてもよい。さらに、ローラ部側
に弾性を有するＯリング２１０を装着してもよい。いず
れのＯリングも液切り効果とともにローラ２００の位置
決め効果がある。つまり、ＰＳ版１２に供給された処理
液がローラ２００によって絞り取られるときに、この絞
り取られた処理液が回転軸２０６を伝わって軸受け２０
８の中に入り込んで磨耗が生ずるのをＯリング２１０で
防ぐことができる。また、環状溝２０６Ａに装着された
Ｏリング２０４とＯリング２１０とによって軸受け２０
８に対するローラ２００の位置決めをすることができ
る。

【００７１】また、現像部、水洗部、フィニッャー部等
のＯリングを装着する部分ごとに異なる色のＯリングを
使うことにより、Ｏリングをはめ込んだローラをどの処
理部に使うのかを素早く判断することができ、ローラを
間違えることなく決められた処理部へ装着することがで
きる。 （シャッター開閉構造）図１に示すように、乾燥部１６
とフィニッシャー部２６をつなぐ通路口６６は、シャッ
ター６４で開閉されるようになっている。これは、ＰＳ
版１２が通過するときだけシャッター６４を開くこと
で、現像部１８、水洗部２４、フィニッシャー部２６の
処理部内部と外部との空気の流れを遮断して炭酸ガスに
よる現像液の劣化、現像液、水洗水、ガム液中の水分の
蒸発を防止する共に、乾燥部１６の温かい空気が通路口
６６を通じてフィニッシャー部２６へ流れ込んで、絞り
ローラ６０にフィニッシャー液の成分が析出するのを防
止するためである。

【００７２】そこで、図２９に示すように、通路口６６
の周縁はパッキン２１２が貼着され、長板状のシャッタ
ー６４で通路口６６を閉じることにより、空気の流通を
遮断するように工夫されている。シャッター６４の基部
６４Ａからは、長手方向にシャフト２１４が突設されて
いる。

【００７３】このシャフト２１４の端部は軸受け２１６
を介して、乾燥部１６の側板に支持されている。また、
一方のシャフト２１４には、伝達ギア２１８が固定され
ている。この伝達ギア２１８は、モータＭの回転軸に取
付けられた駆動ギア２２０と噛み合っている。

【００７４】これによって、モータＭの回転方向を制御
することにより、シャッター６４をシャフト２１４回り
にスイングさせ、通路口６６を開閉させることができ
る。

【００７５】また、図３０に示すように、ギア機構に替
えて、ソレノイド２２２を用いてシャッター６４をスイ
ングさせてもよい。すなわち、シャフト２１４にアーム
２２４の中央部を固定し、アーム２２４の一端部を、ソ
レノド２２２のプランジャー２２２Ａに連結されたスプ
リング２２８で下方に付勢し、また、アーム２２４の他
端部を、ブラケット２３０に連結されたスプリング２２
６で下方に付勢して平衡状態を保つ構成とする。

【００７６】これにより、プランジャー２２２Ａを押し
出すと、アーム２２４が時計回りに回転して、シャッタ
ー６４をスイングさせ、通路口６６を開放する。

【００７７】また、図３１及び図３２には、リンク機構
を利用したシャッターの開閉構造が示されている。

【００７８】本例では、シャッター２３２を上下に昇降
させて、通路口６６を開閉するため、シャッター２３２
の上部両端をスプリング２３４で吊下している。また、
シャッター２３２の下方の両角部には、昇降ピン２３６
が突設されている。

【００７９】この昇降ピン２３６は、二本のリンク材２
３８の端部に形成された長孔２４０へスライド可能に挿
通されている。また、昇降ピン２３６の頭部には、皿板
２４２が取付けられており、昇降ピン２３６が長孔２４
０から抜け落ちないようになっている。

【００８０】一方、二本のリンク材２３８の他端部同士
は、連結ピン２４４で回動可能に連結されている。この
連結ピン２４４は、通路口６６の下方に配置されたソレ
ノド２４６のプランジャー２４６Ａに連結されている。

【００８１】また、二本のリンク材２３８のそれぞれの
略中央部には、長孔２３７が形成されている。長孔２３
７には、ブラケット２３９の立面から突設された軸ピン
２４１が挿通され、この軸ピン２４１を支点として、リ
ンク材２３８が回転するようになっている。なお、軸ピ
ン２４１の頭部には、皿板２４３が取付けられており、
軸ピン２４１が長孔２３７から抜け落ちないようになっ
ている。

【００８２】上記構成では、図３１に示すように、プラ
ンジャー２４６Ａを上方に押し上げ連結ピン２４４を上
げると、二本のリンク材２３８が軸ピン２４１を支点と
し回転してへノ字状となり、長孔２４０の孔壁が昇降ピ
ン２３６を押し下げ、スプリング２３４の付勢力に抗し
て、シャッター２３２を下降させる。これによって、通
路口６６が開放され、ＰＳ版１２が通過可能となる。

【００８３】また、図３２に示すように、プランジャー
２４６Ａを引き込んで連結ピン２４４を下げると、二本
のリンク材２３８が軸ピン２４１を支点とし回転しＶ字
状となり、長孔２４０の孔壁が昇降ピン２３６を押し上
げ、スプリング２３４の付勢力を利用してシャッター２
３２を上昇させる。これによって、通路口６６が閉止さ
れ、処理部の空気が乾燥部へ流出することがなく、乾燥
部の乾燥風がフィニッシャー部に入らない。 （ローラの軸受け構造）図１に示す乾燥部１６に配設さ
れる搬送ローラ７０には、図３３に示すような花形のロ
ーラを使用し、ＰＳ版１２への接触面積をできるだけ少
なくして、乾燥能力向上とＰＳ版１２へのローラの付着
を防止している。また従来は、上下の搬送ローラ７０の
間に所定の隙間を形成するため、それぞれの軸受け間に
スペーサーを入れていたが、本例では、部品点数を削減
するため、スペーサーがない構造としている。

【００８４】すなわち、側板２４８に溝幅の異なる取付
溝２５０、２５２を形成し、この取付溝２５０、２５２
に、ステイ２５４の端部を軸支する軸受け２５６、２５
８を嵌合させる構成である。

【００８５】軸受け２５６の幅寸法は、取付溝２５２よ
り大きく、取付溝２５０に嵌合する大きさとされ、ま
た、軸受け２５８の幅寸法は、取付溝２５０を通り抜
け、取付溝２５２に嵌合する大きさとされている。

【００８６】これによって、図３４に示すように、軸受
け２５６が段部２５０Ａに載り、軸受け２５８が溝底２
５２Ａに載って、上下の搬送ローラ７０の間に所定の隙
間を形成する。

【００８７】なお、一対の搬送ローラ７０間の間隔は、
取付溝の形状と軸受けの大きさを変えることにより調整
することができるが、図３５に示すように、長方形の軸
受け２６０を用いて、一方を縦に他方を横にし、それに
対応する取付溝２６２、２６４を側板２４８に形成すれ
ば、一種類の軸受けで搬送ローラ７０の間に所定の隙間
を形成することができる。これによって、部品点数がさ
らに削減でき、また、組立工数も削減できる。

【００８８】

【発明の効果】本発明は上記構成としたので、処理部の
密閉度が高まり、空気の流れを遮断することができるの
で、炭酸ガスによる処理液の劣化を少なくすることがで
きる。また、処理液の水分の蒸発が抑えられるので、処
理液の補充量を減らすことができる。さらに、遮蔽蓋と
搬送される感光材料との接触を避けることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの概略構成図
である。

【図２】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの現像槽、遮
蔽蓋、及びカバーを示す分解斜視図である。

【図３】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの現像槽の側
断面図である。

【図４】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの現像槽の正
断面図である。

【図５】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのローラの他
の軸受け部を示す断面図である。

【図６】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのローラの他
の軸受け部を示す断面図である。

【図７】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのギア部に用
いられたカップリング構造を示す斜視図である。

【図８】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのギア部に用
いられた他のカップリング構造を示す斜視図である。

【図９】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのギア部に用
いられた他のカップリング構造を示す要部断面図であ
る。

【図１０】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのギア部に
用いられた別のカップリング構造を示す斜視図である。

【図１１】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのギア部に
用いられた他のカップリング構造を示す斜視図である。

【図１２】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのギア部の
液切り構造を示す側面図である。

【図１３】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの現像槽の
リブを示す斜視図である。

【図１４】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの現像槽の
リブとＰＳ版との関係を示す断面図である。

【図１５】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのブラシロ
ーラのバックアップ構造を示す斜視図である。

【図１６】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのブラシロ
ーラのバックアップ構造を示す側面図である。

【図１７】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのブラシロ
ーラのバックアップ構造を示す側面図である。

【図１８】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのブラシロ
ーラのバックアップ構造を示す側面図である。

【図１９】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのブラシロ
ーラの他のバックアップ構造を示す側面図である。

【図２０】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのブラシロ
ーラの別のバックアップ構造を示す側面図である。

【図２１】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの串ローラ
の支持構造を示す斜視図である。

【図２２】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの串ローラ
の他の支持構造を示す斜視図である。

【図２３】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの串ローラ
の構造を示す分解斜視図である。

【図２４】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの絞りロー
ラの構造を示す斜視図である。

【図２５】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの絞りロー
ラを示す正面図である。

【図２６】（Ａ）は従来の絞りローラの絞り状態を示す
正面図、（Ｂ）は本形態に係る絞りローラの絞り状態を
示す正面図である。

【図２７】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの軸受け脱
落防止構造を示す要部正面図である。

【図２８】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの他の軸受
け脱落防止構造を示す要部正面図である。

【図２９】本形態に係るＰＳ版プロセッサーのシャッタ
ー開閉機構を示す分解斜視図である。

【図３０】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの他のシャ
ッター開閉機構を示す分解斜視図である。

【図３１】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの別のシャ
ッター開閉機構を示す正面図である。

【図３２】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの別のシャ
ッター開閉機構を示す正面図である。

【図３３】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの花形ロー
ラの軸受け構造を示す分解斜視図である。

【図３４】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの花形ロー
ラの軸受け構造を示す断面図であである。

【図３５】本形態に係るＰＳ版プロセッサーの花形ロー
ラの他の軸受け構造を示す分解斜視図である。

【符号の説明】

２０ 外板パネル ３４ 搬送ローラ ４２ 側板 ４２Ａ 蓋部 ７６ 遮蔽蓋 ７８ カバー ８０ 溝（係合部） ８２ 駆動ギア ８３ 串ローラ（ローラ） ８４ 駆動ギア ８８ 取付溝 ９４ 軸受け ９６ 軸受け

フロントページの続き (72)発明者 滝上 知之 神奈川県南足柄市竹松1250番地 富士機器 工業株式会社内 (72)発明者 武尾 豊 神奈川県南足柄市竹松1250番地 富士機器 工業株式会社内 (72)発明者 吉田 進 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 (72)発明者 神崎 寿夫 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 感光材料を処理する処理液が貯留された
   処理槽と、前記処理槽に配設され前記感光材料を搬送す
   る搬送手段と、前記処理槽に配設される遮蔽蓋と、前記
   処理槽を覆い前記遮蔽蓋の上部に接触するカバーと、を
   有することを特徴とする感光材料処理装置の処理部密閉
   構造。
2. 【請求項２】 前記カバーの裏面に前記遮蔽蓋の上部と
   係合する係合部が形成されたことを特徴とする請求項１
   に記載の感光材料処理装置の処理部密閉構造。
3. 【請求項３】 前記処理槽と一体に形成された側板で、
   前記搬送手段を前記感光材料を搬送する搬送系とこの搬
   送系を駆動させる駆動系とに仕切り、前記駆動系の上部
   を前記側板に続く蓋部で覆い前記駆動系を密閉したこと
   を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の感光材料処
   理装置の処理部密閉構造。
4. 【請求項４】 前記遮蔽蓋の前記感光材料の搬送方向上
   流側の底壁角部に前記感光材料の搬送方向と交わる方向
   に前記感光材料搬送用のローラを設けたことを特徴とす
   る請求項１〜請求項３の何れかに記載の感光材料処理装
   置の処理部密閉構造。
5. 【請求項５】 前記遮蔽蓋を中空の箱体としたことを特
   徴とする請求項１〜請求項４の何れかに記載の感光材料
   処理装置の処理部密閉構造。