DE4307923B4

DE4307923B4 - Plattenmaterial-Bearbeitungsvorrichtung

Info

Publication number: DE4307923B4
Application number: DE4307923A
Authority: DE
Inventors: Chikashi Ohishi; Hiroyuki Sasayama; Hisao Kanzaki
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1992-03-13
Filing date: 1993-03-12
Publication date: 2008-07-31
Anticipated expiration: 2013-03-13
Also published as: US5349413A; DE4307923A1

Abstract

Behandlungsvorrichtung für platten- oder blattartiges Material (12), bei dem dann, wenn das plattenartige Material (12) zwischen einem Rollenpaar (52) angeordnet ist und durch dieses befördert wird, überschüssige Behandlungslösung von dem plattenartigen Material (12) ausgequetscht wird und das plattenartige Material (12) behandelt wird,
wobei eine Lösungszufuhrvorrichtung (56) an einer stromaufwärtigen Seite des Rollenpaars (52) vorgesehen ist, um die Behandlungslösung heraustropfen zu lassen, und
eine Behandlungslösungs-Begrenzungseinrichtung (60) an einer stromaufwärtigen Seite des Rollenpaars (52) vorgesehen ist, um eine Bewegung der Behandlungslösung zur stromaufwärtigen Seite zu begrenzen, und um die Behandlungslösung durch das Rollenpaar (52) und die Behandlungslösungs-Begrenzungseinrichtung (60) zu sammeln,
dadurch gekennzeichnet, dass weiterhin ein Behandlungslösungssammelteil (62) vorgesehen ist, welches die Behandlungslösung empfängt und ansammelt, die von Enden in Querrichtung des plattenartigen Materials (12) herunterfließt, und in welche nur eine Rolle des Rollenpaares (52) eingetaucht ist, die sich an einer Unterseite des Förderweges des plattenartigen Materials (52) befindet,...

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Bearbeitungsvorrichtung für ein Plattenmaterial oder ein plattenartiges oder blattförmiges Material, in welcher Behandlungslösungen einem Plattenmaterial zugeführt werden, während das Plattenmaterial gefördert wird, und in welcher überschüssige Behandlungslösungen von dem Plattenmaterial dadurch abgequetscht werden, daß das Plattenmaterial zwischen Rollen oder Walzenpaaren angeordnet ist und durch diese befördert wird, so daß das Plattenmaterial behandelt wird.
Bei einem automatischen Entwicklungsgerät für lichtempfindliche lithographische Druckplatten (nachstehend als "PS-Plattenprozessor" bezeichnet), welches blattförmige Materialien wie beispielsweise lichtempfindliche lithographische Druckplatten (nachstehend als "PS-Platten" bezeichnet) behandelt, werden im allgemeinen Bearbeitungen wie beispielsweise Entwickeln, Waschen, Gummibearbeitung und dergleichen durchgeführt, während die PS-Platte im wesentlichen horizontal innerhalb der Vorrichtung befördert wird.
Die PS-Platte, auf welcher Bilder durch eine Druckvorrichtung oder dergleichen aufgezeichnet wurden, wird in den PS-Plattenprozessor geschickt. Die PS-Platte wird in eine Entwicklerlösung eingetaucht, während sie in einem Entwicklerbehälter gefördert wird, oder es wird Entwicklerlösung auf die Oberfläche der PS-Platte aufgesprüht, auf welcher die Bilder aufgezeichnet sind, so daß die PS-Platte einer Entwicklungsbearbeitung unterworfen wird.
Nachdem in dem Waschabschnitt eine große Menge an Waschwasser auf die Plattenoberfläche zwischen zwei Paaren von Förderrollen aufgesprüht wurde, wird die überschüssige Waschlösung durch Quetschrollen gequetscht und entfernt. Der gleiche Aufbau ist in dem Endbearbeitungsabschnitt ebenso vorgesehen.
Daher ist es erforderlich, einen Bearbeitungsbehälter mit einem Inhalt von 5 bis 40 Liter für das Waschwasser sowie eine Pumpe mit großem Volumen zur Verfügung zu stellen. Weiterhin sind Sprührohre erforderlich, in denen mehrere Ausstoßöffnungen vorgesehen sind, und die eine große Wassermenge aussprühen, so daß die Vorrichtung relativ groß ausgebildet werden muß.
Darüber hinaus ist es erforderlich, daß das Waschwasser auf verläßliche Weise auf die rückwärtige Oberfläche der PS-Platte gelangt. Hierdurch wird die verbrauchte Wassermenge sogar noch größer. Da es erforderlich ist, zumindest ein Sprührohr oberhalb des Förderweges zu haben und zumindest eines unterhalb des Förderweges (also ein Paar), nimmt die Anzahl erforderlicher Teile zu.
Das Waschwasser wird im Kreislauf geführt und genutzt, und Bestandteile der Entwicklerlösung können sich mit dem Waschwasser mischen. Daher werden Schlamm und Fremdbestandteile erzeugt, und die Ausstoßöffnungen der Sprührohre können blockiert werden. Darüber hinaus setzen sich der Schlamm und Fremdkörper auf dem Boden des Bearbeitungsbehälters ab, so daß der Wartungsaufwand für die Vorrichtung größer wird.
Die Entwickler-Fremdkörper und dergleichen haften darüber hinaus an den voranstehend erwähnten Förderrollen an. Die Förderrollen oberhalb des Förderweges sind in Positionen angeordnet, in welchen sie für einen Arbeiter einfach zugänglich sind, wenn der Deckel des Gehäuses der Vorrichtung entfernt wird. Diese Rollen können daher einfach sauber gewischt werden. Allerdings werden die Rollen, die sich unterhalb des Förderweges befinden, entfernt, um gereinigt oder gewartet zu werden. Dies führt zu zusätzlichen Arbeitsvorgängen, und der Wartungsaufwand nimmt zu.
Die japanische Patentanmeldung JP 63282741 A offenbart ein Verfahren zum Entwickeln lichtempfindlichen Materials zum Drucken, das eine stabile und gleichförmige Entwicklung durch Verwenden kleiner Volumina von Entwicklungslösung erlaubt.
Das US-Patent US 4,464,035 offenbart eine Behandlungseinheit zum Entwickeln lichtempfindlichen Materials, das drei Behandlungszonen für lichtempfindliches Material aufweist.
Die europäische Patentanmeldung EP 0423782 A2 betrifft eine Vorrichtung zum Verarbeiten von vorbeschichteten lithographischen Druckplatten. Die Vorrichtung ist geeignet für ein Verfahren, bei dem eine lichtempfindliche Schicht einer vorbeschichteten lithographischen Druckplatte bildweise unter Verwendung eines Automatisierungsprozessors herausgelöst wird.
Die europäische Patentanmeldung EP 0260615 A2 betrifft eine Vorrichtung zum Verarbeiten von photoempfindlichen Materialien. Die Vorrichtung kann in kompakter Bauweise entweder als Korrekturmittel-Abwaschstation oder als Entwicklungsstation in eine herkömmliche Druckplattenentwicklungsmaschine angebaut werden.
Angesichts der voranstehenden Ausführungen liegt ein Vorteil der vorliegenden Erfindung in der Bereitstellung einer Plattenmaterial-Bearbeitungsvorrichtung, in welcher die Menge verwendeter Bearbeitungslösungen verringert ist, ohne daß die Bearbeitungsleistung negativ beeinflußt wird.
Ein weiterer Vorteil der vorliegenden Erfindung liegt in der Bereitstellung einer Plattenmaterial-Bearbeitungsvorrichtung, in welcher die Anzahl der Teile verringert werden kann, ohne daß die Fähigkeit der Vorrichtung zur Bearbeitung einer rückwärtigen Oberfläche des Blatt- oder Plattenmaterials negativ beeinflußt wird.
Ein weiterer Vorteil der vorliegenden Erfindung liegt in der Bereitstellung einer Plattenmaterial-Bearbeitungsvorrichtung, bei welcher der Wartungsaufwand verringert ist.
Die vorliegende Erfindung stellt eine Plattenmaterial-Bearbeitungsvorrichtung dar, in welcher ein Plattenmaterial zwischen einem Rollenpaar angeordnet ist und durch dieses befördert wird, überschüssige Bearbeitungslösung aus dem Plattenmaterial herausgequetscht wird, und das Plattenmaterial bearbeitet wird, wobei folgende Teile vorgesehen sind: eine Lösungszufuhrvorrichtung, die an einer stromaufwärtigen Seite des Rollenpaares vorgesehen ist und aus welcher die Behandlungslösung heraustropft; und eine Bearbeitungslösungsbewegungs-Begrenzungseinrichtung, die an der stromaufwärtigen Seite des Rollenpaares vorgesehen ist und eine Bewegungsrichtung der Bearbeitungslösung begrenzt, wobei sich die Bearbeitungslösung infolge des Rollenpaares und der Bearbeitungslösungsbewegungs-Begrenzungseinrichtung ansammelt.
Bei der vorliegenden Erfindung mit dem voranstehend beschriebenen Aufbau stellt ein Abschnitt, der durch die Bearbeitunslösungsbewegungs-Begrenzungseinrichtung, das Plattenmaterial, und die Rolle oberhalb des Förderweges ausgebildet wird, einen Aufnahmeabschnitt für die Bearbeitungslösung dar. Durch Heraustropfen einer kleinen Menge der Bearbeitungslösung aus dem Lösungsversorgungsrohr sammelt sich daher die Bearbeitungslösung auf der Oberfläche des Plattenmaterials an. Dies führt dazu, daß die Oberfläche des Plattenmaterials, welches durch das Rollenpaar gefördert wird, durch die Bearbeitungslösung bearbeitet werden kann.
Durch Ausbildung des Aufnahmeabschnitts für die Bearbeitungs- oder Behandlungslösung auf der Oberfläche des Plattenmaterials kann auf diese Weise das Plattenmaterial verläßlich nur durch eine kleine Menge an Behandlungslösung bearbeitet werden, die auf es aufgetropft wird. Die Menge der verwendeten Behandlungslösung kann wesentlich verringert werden, ohne die Behandlungsfähigkeiten zu verschlechtern.
Weiterhin berührt gemäß einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung ein Endabschnitt der Behandlungslösungsbewegungs-Begrenzungseinrichtung die Oberfläche der Rolle des Rollenpaares, welche oberhalb des Förderweges angeordnet ist. Dies führt dazu, daß die Behandlungslösung, die heruntergetropft ist, sich in einem V-förmigen, konkaven Abschnitt ansammelt, der durch die Oberfläche der Rolle und die Bearbeitungslösungsbewegungs-Begrenzungseinrichtung gebildet wird. Eine Membran der Behandlungslösung wird auf der Oberfläche der Rolle zwischen der Oberfläche der Rolle und der Behandlungslösungsbewegungs-Begrenzungseinrichtung gebildet. Die Behandlungslösung wird auf das Plattenmaterial aufgebracht, wenn sich die Rolle dreht.
Eine weitere Zielrichtung der vorliegenden Erfindung betrifft eine Plattenmaterial-Behandlungsvorrichtung, in welcher dann, während ein Plattenmaterial zwischen einem Rollenpaar angeordnet ist und durch dieses befördert wird, überschüssige Behandlungslösung aus dem Plattenmaterial herausgequetscht wird, und das Plattenmaterial behandelt wird. Die Plattenmaterial-Behandlungsvorrichtung umfaßt ein Behandlungslösungssammelteil, welches die Behandlungslösung empfängt und sammelt, die von Endabschnitten in Querrichtung des Plattenmaterials herabfließt, und in welchem nur eine untere Rolle des Rollenpaares, welche sich an einer Unterseite eines Förderweges des Plattenmaterials befindet, eingetaucht ist, und einen Ausflußabschnitt, der in einem zentralen Abschnitt, in einer Querrichtung des Plattenmaterials, einer vertikalen Wand vorgesehen ist, die bei dem Behandlungslösungssammelteil vorgesehen ist, so daß überschüssige Behandlungslösung in dem Behandlungslösungssammelteil aus dem Ausflußabschnitt herausfließt.
Bei der vorliegenden Erfindung mit dem voranstehend geschilderten Aufbau fließt die Behandlungslösung, die sich auf der Oberfläche des Plattenmaterials angesammelt hat, von Endabschnitten in Querrichtung des Blattmaterials herunter und erreicht das Behandlungslösungssammelteil. In diesem Fall fließt die Behandlungslösung in Endabschnitte des Behandlungslösungssammelteils, welche den Endabschnitten des Plattenmaterials in Querrichtung entsprechen.
Die Behandlungslösung, die sich in dem Behandlungslösungssammelteil ansammelt, wird durch die Rolle unterhalb des Förderweges heraufgezogen, wenn sich die Rolle dreht, und behandelt die rückwärtige Oberfläche des Plattenmaterials. Danach wird die Behandlungslösung zu dem Behandlungslösungssammelteil zurückgebracht.
Der Ermüdungsgrad der Behandlungslösung, die von der Oberfläche des Plattenmaterials herunterfließt, ist verhältnismäßig gering, und der Ermüdungsgrad der Behandlungslösung, die dazu verwendet wurde, die rückwärtige Oberfläche des Plattenmaterials zu behandeln, ist hoch.
Der Ausflußabschnitt ist so geformt, daß die Behandlungslösung zuerst an einem Ort ausfließt, welcher dem zentralen Abschnitt entspricht, in der Querrichtung des Plattenmaterials, des Behandlungslösungssammelteils (also in der Position auf dem Flußweg der Behandlungslösung, die am weitesten von der Position entfernt ist, in welcher die Behandlungslösung in das Behandlungslösungssammelteil von der Oberfläche des Plattenmaterials aus hineinfließt). Die Position, in welcher die Behandlungslösung herausfließt, ist vorzugsweise ein zentraler Abschnitt in der Querrichtung des Plattenmaterials der Vertikalwand an der stromaufwärtigen Seite. Die zur Behandlung der rückwärtigen Oberfläche verwendete Behandlungslösung fließt aus dem Behandlungslösungssammelteil vor der Behandlungslösung heraus, die von der Oberfläche des Plattenmaterials herabgeflossen ist. Dies führt dazu, daß der Ermüdungsgrad der Behandlungslösung, die von dem Behandlungslösungssammelteil durch die untere Rolle heraufgezogen wurde, und welche zur Behandlung der rückwärtigen Oberfläche des Plattenmaterials verwendet wurde, niedrig ist. Daher kann die Behandlung durchgeführt werden, ohne die Fähigkeiten der Vorrichtung bezüglich der Behandlung der rückwärtigen Seitenoberfläche des Plattenmaterials zu verschlechtern, und es ist nicht erforderlich, eine Sprühvorrichtung oder dergleichen an der Unterseite des Förderweges vorzusehen.
Weiterhin wird gemäß einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung eine Plattenmaterial-Behandlungsvorrichtung zur Verfügung gestellt, um überschüssige Behandlungslösung von dem Plattenmaterial auszuquetschen und dieses durch die Behandlungslösung zu behandeln, während das Plattenmaterial zwischen einem Rollenpaar angeordnet ist und durch dieses befördert wird, wobei folgende Teile vorgesehen sind: eine Pfanne, in welcher sich die Behandlungslösung ansammelt, und in welche nur eine Rolle des Rollenpaares, welche sich an einer Unterseite eines Förderweges des Plattenmaterials befindet, eingetaucht ist; und ein Reinigungsteil, welches in der Pfanne angeordnet ist und eine Umfangsoberfläche der Rolle berührt, die sich an der Unterseite des Förderweges des Plattenmaterials befindet.
Bei der vorliegenden Erfindung mit dem voranstehend geschilderten Aufbau ist das Reinigungsteil innerhalb der Pfanne angeordnet, so daß es an die Rolle an der Unterseite des Förderweges anstößt. Verschmutzung auf der Umfangsoberfläche der Rolle unterhalb des Förderweges kann daher bei der Drehung der Rolle weggewischt werden. Da Verschmutzungen wie beispielsweise Entwickler-Fremdkörper und dergleichen, die an der unteren Rolle anhaften, regelmäßig entfernt werden, entfallen Arbeitsvorgänge zum Entfernen der unteren Rolle und dergleichen, und daher verringert sich der Wartungsaufwand für die Vorrichtung.
Gemäß einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung wird ein automatischer Entwickler für lichtempfindliche lithographische Druckplatten zur Verfügung gestellt, bei welchem die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten durch Entwicklerlösung in einem Entwicklerbehälter gefördert werden, so daß die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten entwickelt werden, und bei welchem die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten einer Waschbearbeitung durch Waschwasser und einer Desensibilisierung mittels Gummilösung unterworfen und dann getrocknet werden. Der automatische Entwickler umfaßt: ein Gehäuse, welches verhindert, daß zumindest der Entwicklerbehälter der Außenluft ausgesetzt ist, wobei das Gehäuse eine Einsetzöffnung aufweist, durch welche die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten eingeführt werden, und eine Ausstoßöffnung, durch welche die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten ausgestoßen werden; einen ersten Deckel, der an der Einsetzöffnung des Gehäuses vorgesehen ist und normalerweise die Einsetzöffnung verschließt und geöffnet wird, so daß die Druckplatten einführbar sind, wenn die Druckplatten gegen den ersten Deckel drücken; und einen zweiten Deckel, der an der Ausstoßöffnung des Gehäuses vorgesehen ist und normalerweise die Ausstoßöffnung verschließt, und so geöffnet wird, daß die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten ausstoßbar sind, ohne den zweiten Deckel zu berühren, wenn die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten aus dem Gehäuse ausgestoßen werden.
Bei der vorliegenden Erfindung mit dem voranstehend beschriebenen Aufbau wird der erste Deckelkörper geöffnet, wenn das lichtempfindliche lithographische Druckplattenmaterial die Einsetzöffnung erreicht, und die lichtempfindliche lithographische Druckplatte wird glatt in den Innenraum des Gehäuses eingeführt. Beispielsweise kann ein Paar elastischer klingenartiger Teile als der erste Deckelkörper verwendet werden. Die nachstehend als Klingen bezeichneten klingenartigen Teile stehen gewöhnlich miteinander in Berührung, infolge ihrer Elastizität, so daß die Einsetzöffnung geschlossen ist. Wenn die lichtempfindliche lithographische Druckplatte eingeführt wird, so werden die Klingen gegen ihre Elastizität infolge der Druckkraft der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte geöffnet, welche gerade gefördert wird. Daher wird die lichtempfindliche lithographische Druckplatte glatt von der Einsetzöffnung aus eingeführt.
Die lichtempfindliche lithographische Druckplatte wird in dem Entwicklerbehälter in Entwicklerlösung eingetaucht. Nachdem sie eine nachfolgende Waschbearbeitung und eine Desensibilisierungsbearbeitung erfahren hat, erreicht die lichtempfindliche lithographische Druckplatte die Ausstoßöffnung. Der zweite Deckelkörper, der an der Ausstoßöffnung vorgesehen ist, ist gewöhnlich geschlossen, ist jedoch zumindest zu dem Zeitpunkt geöffnet, wenn die lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom Innenraum des Gehäuses aus ausgestoßen wird. Daher wird die lichtempfindliche lithographische Druckplatte aus der Ausstoßöffnung ausgestoßen, ohne daß sie den Deckelkörper berührt. Es gibt daher keine Nachteile wie beispielsweise eine Beschädigung der Bilder, die auf der lichtempfindlichen Oberfläche der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte ausgebildet sind, und die Bildqualität kann aufrechterhalten werden.
Gemäß einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung weist der automatische Entwickler einen Oberflächendeckel auf, welcher die Oberfläche der Entwicklerlösung abdeckt und berührt, die sich in dem Entwicklerbehälter ansammelt, und die Entwicklerlösung gegenüber der Luft isoliert.
Bei der vorliegenden Erfindung mit dem voranstehend geschilderten Aufbau werden sowohl das Gehäuse als auch der Flüssigkeitsoberflächendeckel verwendet. Der Flüssigkeitsoberflächendeckel berührt die Oberfläche der Entwicklerlösung innerhalb des Entwicklerbehälters, um so eine noch vollständigere Isolierung der Entwicklerlösung gegenüber der Luft zu erzielen. Wenn bei konventionellen Vorrichtungen die gesamte Oberfläche klein ist, welche an einem Tag eine Entwicklerbearbeitung erfährt, so werden der Gehalt an verdampfender Feuchtigkeit und an CO₂-Gas innerhalb der Luft beeinflußt, und die Menge ersetzter Entwicklerlösung pro behandelter Einheitsoberfläche muß erhöht werden. Allerdings kann bei der vorliegenden Erfindung, da es keine Probleme in bezug auf die Verdampfung und das CO₂-Gas innerhalb der Luft gibt, eine extrem kleine, konstante Menge der zu ersetzenden Lösung pro Einheitsoberfläche verwendet werden, unabhängig von der gesamten Oberfläche, die an einem Tag behandelt wird. Daher sind teure, komplizierte automatische Nachfüllvorrichtungen nicht erforderlich. Darüber hinaus verringern sich die Herstellungskosten für die erfindungsgemäße Vorrichtung.
Aus denselben Gründen gibt es keine Ausfällungen getrockneter Abschnitte der Behandlungslösung in dem Antriebsmechanismus der Rollen und in den Lösungszufuhrlöchern, und es gibt weniger Verschmutzungen auf den Wänden innerhalb der Bearbeitungsbehälter. Daher wird die Wartung der Vorrichtung erleichtert.
Der Ermüdungsgrad der Behandlungslösung ist gering, und die Menge der Behandlungslösung, die pro Einheitsoberfläche ersetzt werden muß, hängt nicht von der Gesamtoberfläche ab, die an einem Tag behandelt wird. Zusätzlich zu den voranstehend beschriebenen Vorteilen wird bei der vorliegenden Erfindung die Behandlungsstabilität verbessert.
Da die Menge ersetzter Lösung gering ist, und auch die Menge verschwendeter Lösung, sind die Betriebskosten der Vorrichtung niedrig.
Der automatische Prozessor für lichtempfindliche lithographische Druckplatten für die vorliegende Erfindung weist eine bessere Wirkung in der Hinsicht auf, daß die Einsetzöffnung und die Ausstoßöffnung des Gehäuses, welches den Entwicklerbehälter umschließt, verläßlich geschlossen werden können, und daß die lichtempfindliche lithographische Druckplatte durch die Ausstoßöffnung gelangen kann, ohne daß die lichtempfindliche Oberfläche beschädigt wird.
Gemäß einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung wird ein automatischer Entwickler zur Behandlung lichtempfindlicher lithographischer Druckplatten zur Verfügung gestellt, der folgende Teile aufweist: einen Entwicklerabschnitt, der einen der Bearbeitungsabschnitte darstellt, in welchem eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte durch eine Entwicklerlösung behandelt wird, während sie gefördert wird; einen Spülabschnitt zum Spülen einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte durch Zufuhr von Spüllösung zu beiden Oberflächen dieser Druckplatte, während die lichtempfindliche lithographische Druckplatte gefördert wird, wobei die Spüllösung auf eine obere Oberfläche der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte getropft wird, und die von der oberen Oberfläche herabfließende Spüllösung gesammelt wird, um einer unteren Oberfläche der Druckplatte zugeführt zu werden, und dann die Spüllösung ausgestoßen wird; und ein Gehäuse zum Umschließen eines Bearbeitungsbereiches der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte, einschließlich zumindest entweder des Entwicklerabschnitts oder des Spülabschnitts, um zu verhindern, daß zumindest entweder der Entwicklerabschnitt oder der Spülabschnitt der Außenluft ausgesetzt wird, wobei das Gehäuse mit einer Einsetzöffnung versehen ist, durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte in das Gehäuse eingeführt wird, sowie eine Ausstoßöffnung, durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte aus dem Gehäuse ausgestoßen wird.
Bei der vorliegenden Erfindung mit dem voranstehend beschriebenen Aufbau wird Spüllösung der einen Oberfläche (der oberen Oberfläche) der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte zugeführt, so daß die lichtempfindliche lithographische Druckplatte behandelt wird. Daraufhin wird die Spüllösung, die von der einen Oberfläche (oberen Oberfläche) der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte heruntergeflossen ist, gesammelt, und die andere Oberfläche (untere Oberfläche) der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte wird mit der gesammelten Spüllösung behandelt.
Die Spüllösung, die zur Behandlung der anderen Oberfläche (der unteren Oberfläche) der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte verwendet wurde, wird ausgestoßen. Da eine kleine Menge an Spüllösung der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte zugeführt wird (nämlich die Minimalmenge an Spüllösung, die zur Behandlung der einen Oberfläche und der anderen Oberfläche der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte erforderlich ist), ist die Menge ausgestoßener Spüllösung gering.
In dem Behandlungsabschnitt sind zumindest entweder die Entwicklerlösung oder die Spüllösung durch das Gehäuse abgedeckt, wodurch ein Zugang der Außenluft verhindert wird. Die Einsetzöffnung und die Ausstoßöffnung des Gehäuses sind unterteilt und durch Deckel abgeschlossen. Daher kann für jede Behandlungslösung die Menge an Behandlungslösung, die verdampft, klein gehalten werden. Das Anhaften ausgefällter Substanzen an dem Fördersystem (also den Rollen), dem Behandlungslösungs-Zufuhrsystem (also den Lösungszufuhrrohren) und dergleichen sowie eine Verschlechterung der Bilder der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte kann verhindert werden.
Auf diese Weise ist es nicht erforderlich, einen Behälter vorzusehen, der für einen Kreislauf der Spüllösung verwendet wird. Durch die an dem Gehäuse vorgesehenen Deckel wird verhindert, daß die Entwicklerlösung und die Spüllösung der Außenluft ausgesetzt werden. Daher kann die Menge der Behandlungslösung, die verdampft, wesentlich verringert werden. Die Stabilität der Bearbeitung kann verbessert und der Wartungsaufwand verringert werden.
Gemäß einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung ist die Spüllösung eines automatischen Entwicklers für lichtempfindliche lithographische Druckplatten Wasser, und das Wasser, das zum Spülen verwendet wurde, wird von dem Spülabschnitt dem Entwicklerabschnitt zugeführt, als Verdünnungslösung zum Nachfüllen von Lösung des Entwicklungsmittels.
Bei der vorliegenden Erfindung mit dem voranstehend beschriebenen Aufbau wird, nachdem eine Oberfläche der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte mit der Spüllösung in dem Spülabschnitt behandelt wurde, die andere Oberfläche durch die Spüllösung behandelt, welche herunterfließt und sich ansammelt. Diese Spüllösung wird von dem Spülabschnitt als verdünnte Lösung der Ersatzlösung zugeführt, welche als Ersatz für den Entwicklerabschnitt dient. Auf diese Weise kann die verwendete Menge an Spüllösung, die zur Behandlung der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte verwendet wird, verringert werden, und die Menge an verdünnter Lösung für die Ersatz- oder Nachfüll-Lösung kann verringert werden.
Gemäß einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung weist der automatische Entwickler für lichtempfindliche lithographische Druckplatten Unterteilungsplatten auf, welche den Behandlungsabschnitt in einzelne Behandlungsabschnitte oder Blöcke unterteilen, welche mehrere Behandlungsabschnitte aufweisen, wobei sie eine Unterteilung der Blöcke durchführen, ohne einen Durchgang der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte zu stören.
Bei der vorliegenden Erfindung mit dem voranstehend beschriebenen Aufbau kann eine Verdampfung der Behandlungslösungen wesentlich verringert werden, infolge der Tatsache, daß das Gehäuse eine Einsetzöffnung und eine Ausstoßöffnung aufweist, an denen jeweils Deckel vorgesehen sind. Während die lichtempfindliche lithographische Druckplatte gefördert wird, verdampft ein Teil der Behandlungslösung (beispielsweise wenn die Vorrichtung geöffnet wird, wenn die lichtempfindliche lithographische Druckplatte in sie eingeführt oder aus ihr ausgestoßen wird). Selbst wenn keine lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten behandelt werden, tritt eine gewisse Verdampfung der Behandlungslösung auf, da ein großer Bereich der Vorrichtung durch das Gehäuse abgedeckt ist. Bei der momentan geschilderten Zielrichtung ist der Behandlungsabschnitt in Blöcke pro Behandlungsabschnitt unterteilt, oder in Blöcke, die durch mehrere Behandlungsabschnitte gebildet werden. Durch Anordnen von Deckeln zwischen den Blöcken wird jedem Behandlungsabschnitt ein kleiner Raum zur Verfügung gestellt, und die Verdampfung der Behandlungslösungen kann unterdrückt werden. Dies verhindert, daß die jeweiligen, verdampften Lösungen sich miteinander mischen und als Kondensat zu den Behandlungsbehältern zurückkehren. Dies ist besonders wichtig in solchen Fällen, in welchen die Behandlungslösungen organische Lösungsmittel enthalten.
Gemäß einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung wird ein automatischer Entwickler für lichtempfindliche lithographische Druckplatten zur Verfügung gestellt, bei welchem eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte so gefördert wird, daß sie durch zumindest entweder einen Entwicklerabschnitt oder einen Spülabschnitt gelangt, welche Behandlungsabschnitte darstellen zur Behandlung der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte. Der automatische Entwickler umfaßt: ein Gehäuse, welches einen Behandlungsabschnitt der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte umchließt, einschließlich zumindest entweder des Entwicklungsabschnitts oder des Spülabschnitts, und welches verhindert, daß zumindest eine der Behandlungslösungen der Außenluft ausgesetzt wird, wobei das Gehäuse mit einer Einsetzöffnung versehen ist, durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte eingeführt wird, und mit einer Ausstoßöffnung, durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte ausgestoßen wird; Unterteilungsplatten, welche den Behandlungsabschnitt in einen Block für jeden Behandlungsabschnitt unterteilen sowie in Blöcke, die durch mehrere Behandlungsabschnitte gebildet werden, wobei die Unterteilungsplatten zwischen den Blöcken und an der Einsetzöffnung und der Ausstoßöffnung des Gehäuses vorgesehen sind, und die Unterteilungsplatten die Einsetzöffnung und die Ausstoßöffnung abschließen und jeden der Blöcke unterteilen, ohne das Hindurchgehen der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte zu stören; und eine Bewegungseinrichtung, um die Unterteilungsplatten in geschlossene Positionen und offene Positionen zu bewegen.
Bei der wie voranstehend geschildert aufgebauten vorliegenden Erfindung können die Positionierplatten in geschlossene Positionen und offene Positionen bewegt werden. Durch Versetzen der Deckel, die zwischen den Blöcken vorgesehen sind, und zumindest entweder die Einsetzöffnung oder die Ausstoßöffnung der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte in ihre offenen Positionen kann Außenluft in die Vorrichtung hineingebracht werden. Durch Anordnen der Deckel in geeigneten geöffneten Positionen, kann erreicht werden, daß Kondensation verhindert wird und geplante Erhöhungen der Menge der Nachfell-Lösung erreicht werden, welche in bezug auf die Behandlungslösung nachgefüllt werden.
Gemäß einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung wird ein automatischer Entwickler zur Behandlung lichtempfindlicher lithographischer Druckplatten zur Verfügung gestellt, bei welchem eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte gefördert und durch zumindest eine Entwicklerlösung in einem Behandlungsabschnitt behandelt wird, der einen Entwicklerabschnitt und einen Spülabschnitt aufweist, mit folgenden Teilen: einem Gehäuse, welches zumindest den Entwicklerabschnitt umschließt, in welchem die lichtempfindliche lithographische Druckplatte durch die Entwicklerlösung behandelt wird, und welches verhindert, daß die Entwicklerlösung der Außenluft ausgesetzt wird, wobei das Gehäuse mit einer Einsetzöffnung versehen ist, durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte eingeführt wird, und mit einer Ausstoßöffnung, durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte ausgestoßen wird; Unterteilungsplatten, die an der Einsetzöffnung und an der Ausstoßöffnung vorgesehen sind, und die Einsetzöffnung und die Ausstoßöffnung schließen, ohne eine Störung hervorzurufen, wenn die lichtempfindliche lithographische Druckplatte durch die Einsetzöffnung und die Ausstoßöffnung gelangt; einer Spüllösungs-Zufuhreinrichtung, um Spüllösung zuzuführen, die zum Behandeln der lichtempfindlichen Druckplatte in dem Spülabschnitt verwendet wurde, von dem Spülabschnitt zum Entwicklerabschnit als Verdünnungslösung zum Verdünnen von NachfüllLösung, die zur Entwicklerlösung im Entwicklerabschnitt nachgefüllt wird, wobei die Spüllösung Wasser ist.
Gemäß der voranstehend beschriebenen Zielrichtung der vorliegenden Erfindung wird zumindest der Entwicklerabschnitt durch das Gehäuse abgeschlossen, wodurch zumindest verhindert wird, daß die Entwicklerlösung der Außenluft ausgesetzt wird, und der Entwicklerabschnitt wird durch die Deckel geschlossen, die an der Einsetzöffnung und der Ausstoßöffnung der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vorgesehen sind. Daher kann die Ermüdung (CO₂-Ermüdung) der Behandlungslösungen infolge der Tatsache, daß die Behandlungslösungen der Außenluft ausgesetzt werden, wesentlich verringert werden. Da das Ausmaß der Verdampfung der Behandlungslösungen wesentlich verringert werden kann, kann darüber hinaus die Stabilität der Behandlung erhöht und der Wartungsaufwand für die Vorrichtung verringert werden.
Weiterhin wird Wasser in dem Spülabschnitt verwendet, welches die lichtempfindliche lithographische Druckplatte in dem Spülabschnitt behandelt. Eine Spüllösungs-Zufuhreinrichtung ist vorgesehen, um dieses Wasser dem Entwicklerabschnitt als verdünnte Lösung der Nachfüll-Lösung zuzuführen, mit welcher der Entwicklerabschnitt nachgefüllt wird. Daher kann die Vorrichtung, welche die verdünnte Lösung der Nachfüll-Lösung zuführt, kompakter ausgebildet werden.
Weiterhin wird gemäß einer weiteren Zielrichtung der vorliegenden Erfindung eine der Unterteilungsplatten an der Ausstoßöffnung aus einer geschlossenen Position in eine Position zurückgezogen, in welcher die eine Unterteilungsplatte nicht die lichtempfindliche lithographische Druckplatte berührt, wenn sich diese durch die Behandlungsabschnitte bewegt.
Bei der vorliegenden Erfindung mit dem voranstehend beschriebenen Aufbau ist der Deckel, der an der Ausstoßöffnung vorgesehen ist, üblicherweise geschlossen. Wenn die lichtempfindliche lithographische Druckplatte aus dem Innenraum des Gehäuses ausgestoßen wird, so wird der Deckel in seinen geöffneten Zustand versetzt. Daher wird die lichtempfindliche lithographische Druckplatte aus der Ausstoßöffnung ausgestoßen, ohne den Deckel zu berühren. Es gibt daher keine Schwierigkeiten, wie beispielsweise eine Beschädigung der Bilder, die auf der lichtempfindlichen Oberfläche der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vorgesehen sind.
Bei dem automatischen Entwickler für lichtempfindliche lithographische Druckplatten gemäß der vorliegenden Erfindung sind die Blöcke für jeden Behandlungsabschnitt oder die Blöcke, die durch eine Kombination mehrerer Behandlungsabschnitte gebildet werden, von dem Gehäuse und den Deckeln umschlossen, so daß der Eintritt von Außenluft verhindert wird. Der automatische Entwickler weist verbesserte Wirkungen in der Hinsicht auf, daß sich die Stabilität der Behandlung verbessert, daß die Menge der Behandlungslösung, die vorgesehen werden muß, wesentlich verringert ist, daß die Vorrichtung kompakter ausgebildet werden kann, und daß weniger Wartungsaufwand erforderlich ist.
Die Erfindung wird nachstehend anhand zeichnerisch dargestellter Ausführungsbeispiele näher erläutert, aus welchen weitere Vorteile und Merkmale hervorgehen. Es zeigt:
1 eine Perspektivansicht eines PS-Plattenprozessors gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
2 eine schematische Konstruktionsansicht des PS-Plattenprozessors gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
3 eine Perspektivansicht zur Erläuterung des Aufbaus eines Waschabschnitts bei der ersten und einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
4 eine Vorderansicht, gesehen von einer stromaufwärtigen Seite in einer Förderrichtung einer PS-Platte, des Waschabschnitts bei der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
5 eine Schnittansicht entlang der Linie 5-5 von 4 bei der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
6 eine Perspektivansicht einer Pfanne bei der ersten und zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
7 eine Schnittansicht, die 5 entspricht und ein Beispiel einer Abänderung eines Reinigungsteils bei der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;
8 eine schematische Konstruktionszeichnung eines PS-Plattenprozessors gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
9 eine Perspektivansicht eines Gehäuses bei der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
10 eine Schnittansicht, entsprechend 5, der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
11 eine Perspektivansicht eines PS-Plattenprozessors gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
12 eine schematische Konstruktionszeichnung des PS-Plattenprozessors bei der dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; und
13 eine Perspektivansicht mit einer Darstellung einer abgeänderten Ausführungsform einer Pfanne bei der dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
1 und 2 zeigen einen automatischen Entwickler 10 für lichtempfindliche lithographische Druckplatten (nachstehend als "PS-Plattenprozessor 10" bezeichnet), gemäß der vorliegenden Ausführungsform. Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte 12 (nachstehend als "PS-Platte 12" bezeichnet), auf welcher Bilder durch eine nicht dargestellte Druckvorrichtung aufgedruckt wurden, wird einer Entwicklungsbearbeitung durch den PS-Plattenprozessor 10 unterworfen und dann getrocknet.
Wie in 1 gezeigt, sind Behandlungsabschnitte im Inneren des PS-Plattenprozessors 10 durch ein Gehäuse 14 abgedeckt. Ein Einsetztisch 16 ist an dem Gehäuse in der Nähe einer Einsetzöffnung für die PS-Platte 12 angebracht (vgl. 2). Die PS-Platte 12 wird auf den Einsetztisch 16 aufgebracht und wird von der Einsetzöffnung in das Innere des Gehäuses 14 eigeführt.
Wie in 2 gezeigt, sind ein Entwicklerabschnitt 22, ein Waschabschnitt 24 und ein Endbearbeitungsabschnitt 26 in einem Innenabschnitt des Gehäuses 14 vorgesehen. Der Entwicklerabschnitt 22 ist mit einem Entwicklerbehälter 18 zum Entwickeln der PS-Platte 12 sowie mit einem Überlaufbehälter 20 versehen, welcher Entwicklerlösung aufnimmt, die von dem Entwicklerbehälter 18 aus überfließt. In dem Waschabschnitt 24 wird von der PS-Platte 12 anhaftende Entwicklerlösung abgewaschen. In dem Endbearbeitungsabschnitt 26 wird Gummilösung auf die gewaschene PS-Platte 12 aufgebracht, und die PS-Platte 12 wird einer Desensibilisierungsbehandlung unterworfen.
Weiterhin ist ein Waschwasser-Abfallbehälter 28 innerhalb des Waschabschnitts 24 vorgesehen, und ein Gummilösungs-Abfallbehälter 30 ist innerhalb des Endbearbeitungsabschnitts 26 angeordnet.
Wie in 1 gezeigt ist, ist ein Trocknungsabschnitt 31 stromabwärts des Endbearbeitungsabschnitts 26 vorgesehen. In dem Trocknungsabschnitt 31 wird die PS-Platte 12, die aus dem Endbearbeitungsabschnitt 26 herausgeschickt wurde, durch mehrere nicht dargestellte Rollen gefördert, und wird getrocknet, wenn Warmluft auf die Oberflächen der PS-Platte 12 geblasen wird. Die getrocknete PS-Platte 12 wird von dem PS-Plattenprozessor 10 beispielsweise zu einem nicht dargestellten Aufbewahrungsgerät oder dergleichen ausgestoßen, in welchem die PS-Platten 12 aufgerichtet und aufbewahrt werden.
Wie in 2 dargestellt, ist ein Paar Förderrollen 32 an der Einführungsseite der PS-Platte 12 in den Entwicklerbehälter 18 des Entwicklungsabschnitts 22 angeordnet. Die PS-Platte 12, auf welche Bilder gedruckt wurden, wird zwischen das Paar der Förderrollen 32 eingeführt. Das Paar der Förderrollen 32 schickt die PS-Platte 12 in den Entwicklerbehälter 18 nach unten in einem Winkel von 15° in bezug auf die Horizontalrichtung.
Die Oberseite des Entwicklerbehälters 18 ist offen. Der zentrale Abschnitt des unteren Abschnitts des Entwicklerbehälters 18 steht nach unten hin vor und weist eine im wesentlichen rechteckige Form auf. Innerhalb des Entwicklerbehälters 18 ist Entwicklerlösung vorhanden. Mehrere Führungsrollen 34, welche der Form des Bodens des Entwicklerbehälters 18 entsprechen und alle denselben Durchmesser aufweisen, sind innerhalb des Entwicklerbehälters 18 vorgesehen. Die Führungsrollen 34 sind Rollen vom Aufsteckspindeltyp und sind zwischen einem Paar von Seitenplatten des Entwicklerbehälters 18 so gehaltert, daß sie drehbar sind.
Eine Führungsrolle 36, die einen größeren Durchmesser aufweist als die Führungsrolle 34, ist stromabwärts der Förderrollen 32 vorgesehen. Eine Drehbürstenrolle 38 und eine Führungsrolle 40 sind oberhalb der stromabwärtigen Führungsrollen 34 vorgesehen, und werden so durch das Paar der Seitenplatten des Entwicklerbehälters 18 gehaltert, daß sie drehbar sind.
Weiterhin ist in einem zentralen Abschnitt des Entwicklerbehälters 18 ein Paar Quetschrollen 42 angeordnet, welches so arbeitet, daß die Oberflächen der PS-Platte 12 gequetscht werden. Die Führungsrollen 34, 36 und 40 drehen sich frei. Eine Antriebskraft von einer nicht dargestellten Antriebseinrichtung wird auf die Drehbürstenrolle 38 und die Quetschrollen 42 übertragen, so daß die PS-Platte 12 mit konstanter Geschwindigkeit befördert wird.
Das Paar der Quetschrollen 42 und die mehreren, diesen benachbarten Führungsrollen 34 sind in der Nähe des Bodenabschnitts des Entwicklerbehälters 18 so angeordnet, daß sie die PS-Platte 12 mit einem Krümmungsradius von 300 bis 350 mm befördern. Daher wird die PS-Platte 12, die zwischen dem Paar der Förderrollen 32 gehaltert wird und durch diese befördert wird, in den Entwicklerbehälter 18 hinein, nach unten geneigt befördert, während die PS-Platte 12 zwischen den Führungsrollen 36 und den Führungsrollen 34 hindurchgeht. Die PS-Platte 12 wird weiterhin nach unten geneigt durch die mehreren Führungsrollen 34 gefördert, und zwischen die Quetschrollen 42 eingeführt. Die Quetschrollen 42 entfernen Überschußmaterial, welches von der Seite der lichtempfindlichen Schicht (der Oberseite in 2) der PS-Platte 12 in die Entwicklerlösung hineingeflossen ist, von der Oberfläche der Seite der lichtempfindlichen Schicht, so daß das Überschußmaterial von der PS-Platte 12 abgetrennt wird, und nicht zusammen mit der Bewegung der PS-Platte 12 stromabwärts befördert wird.
Die PS-Platte 12, die von den Quetschrollen 42 austritt, wird nach oben geneigt durch die Führungsrollen 34 ausgerichtet, wird durch die Drehbürstenrolle 38 und die Führungsrolle 40 geführt, und wird aus dem Entwicklerbehälter 18 ausgestoßen. Daher wird die PS-Platte 12 glatt und verläßlich befördert, während sie in die Entwicklerlösung eingetaucht ist, ohne daß eine übermäßige Kraft auf die PS-Platte 12 ausgeübt wird.
Die Führungsrolle 34, die am nächsten an den Quetschrollen 42 an der stromabwärtigen Seite der Quetschrollen 42 liegt, ist als Aufsteckspindelrolle ausgebildet, die mehrere elastische Drehteile aufweist, die axial auf dem Außenumfang der Welle der Führungsrolle 34 gehaltert sind. Die Welle ist als Hohlrohr ausgebildet. In dem Hohlrohr ist ein Sprührohr 44 vorgesehen. Auslaßöffnungen sind in dem Sprührohr 44 entlang der Axialrichtung zwischen den elastischen, rotierenden Teilen vorgesehen. Weiterhin sind Sprührohre 46, 48 oberhalb des Förderweges der PS-Platte 12 in der Nähe des Paars der Quetschrollen 42 angeordnet. Mehrere nicht dargestellte Auslaßöffnungen sind in den jeweiligen äußeren Umfangsoberflächen der Hohlrohre der Sprührohre 46, 48 vorgesehen, so daß sie mit den jeweiligen Innenräumen der Sprührohre 46, 48 in Verbindung stehen. Die Axialrichtungen der Sprührohre 46, 48 verlaufen entlang der Querrichtung des Förderweges. Die Sprührohre 46, 48 und das Sprührohr 44 der Führungsrolle 34 stoßen Entwicklerlösung in Richtung auf die Oberfläche und die rückseitige Oberfläche der PS-Platte 12 aus. Die Sprührohre 44, 46, 48 stoßen Entwicklerlösung in Richtung auf die stromaufwärtige Richtung der PS-Platte 12 aus, um so überschüssiges Material von der Oberfläche der PS-Platte 12 in den Anfangsstufen der Entwicklung zu entfernen, und um neue Entwicklerlösung zuzuführen.
Der Überlaufbehälter 20 ist an der stromabwärtigen Seite des Entwicklerbehälters 18 in der Förderrichtung der PS-Platte 12 angeordnet. Oberhalb des Überlaufbehälters 20 wird die PS-Platte 12 durch ein Paar von Entwicklerquetschrollen 51 gefördert. Weiterhin ist die stromabwärtige Seitenwand des Entwicklerbehälters 18 in Richtung nach außen gekrümmt, so daß seine Oberkante oberhalb des Überlaufbehälters 20 liegt. Wenn daher der Entwicklerbehälter 18 vollständig mit Entwicklerlösung gefüllt wurde, und die Entwicklerlösung aus dem Behälter überläuft, fließt die Entwicklerlösung daher in den Überlaufbehälter 20.
Weiterhin ist die Oberfläche der Entwicklerlösung innerhalb des Entwicklerbehälters 18 durch einen schwimmenden Deckel 50 abgedeckt. Der schwimmende Deckel 50 verhindert eine Verschlechterung der Entwicklerlösung, die dann auftritt, wenn die Entwicklerlösung Kohlendioxid aus der Luft absorbiert, und die alkalischen Komponenten innerhalb der Entwicklerlösung neutralisiert werden. Da der schwimmende Deckel 50 aus geschäumtem Nylon gebildet ist, schwimmt er auf der Oberfläche der Entwicklerlösung innerhalb des Entwicklerbehälters 18 und bewegt sich in der Vertikalrichtung entsprechend den Änderungen des Pegels der Flüssigkeitsoberfläche.
Die in der japanischen offengelegten Patentanmeldung Nr. JP 01-180542 A beschriebene Nachfüll-Vorrichtung kann dazu verwendet werden, die Nachfüll-Lösung in den Entwicklerbehälter 18 nachzufüllen, der in 2 dargestellt ist.
In dem PS-Plattenprozessor 10 ist der Waschwasser-Abfallbehälter 28 des Waschabschnitts 24 an der stromabwärtigen Seite des Überlaufbehälters 20 des Entwicklungsabschnitts 22 angeordnet. Wie in 3 bis 5 gezeigt ist, ist ein Paar von Förderrollen 52 oberhalb des Waschwasser-Abfallbehälters 28 angeordnet. Die Förderrollen 52 werden durch nicht dargestellte Seitenplatten drehbar gehaltert, und werden durch eine Bewegungskraft gedreht, die auf sie durch eine nicht dargestellte Antriebseinrichtung übertragen wird. Die Förderrollen 52 bilden den Förderweg der PS-Platte 12, die von dem Entwicklungsabschnitt 22 zugeführt wird.
Waschwasser, welches die Entwicklerlösung von der PS-Platte 12 abgewaschen hat, die von dem Entwicklerbehälter 18 zugeführt wurde, fällt herunter und wird in dem Waschwasser-Abfallbehälter 28 gesammelt. Ein Lösungszufuhrrohr 56 ist stromaufwärts der Förderrollen 52 und höher als diese angeordnet. Drei Auslaßöffnungen 58 (siehe 3) sind in einem zentralen Abschnitt des Lösungszufuhrrohrs 56 vorgesehen. Es sind drei dieser Auslaßöffnungen 58 vorgesehen, damit das Waschwasser selbst dann zugeführt werden kann, wenn eine der Auslaßöffnungen 58 blockiert wird. Vorzugsweise sind die Auslaßöffnungen 58 zentral in der Querrichtung der PS-Platte 12 angeordnet und sind an der stromaufwärtigen Seite der Förderrollen 52 vorgesehen. Diese Position stellt die optimale Position für den Fließweg der Flüssigkeit in einer Pfanne 62 dar. Das Waschwasser tropft von den Auslaßöffnungen 58 auf die Oberfläche der PS-Platte 12 herunter, so daß die Oberfläche der PS-Platte 12 durch das Waschwasser gewaschen wird.
Weiterhin ist eine flexible Klinge 60 stromabwärts des Lösungszufuhrrohrs 56 angeordnet. Die Klinge 60 ist in einer Position angeordnet, an welcher ihr Ende mit dem Bewegungsort der PS-Platte 12 zusammenstößt, die befördert wird, und in Gleitberührung mit der Oberfläche der geförderten PS-Platte 12 gelangt. Dies führt dazu, daß die Klinge 60 so arbeitet, daß sich an ihr das Waschwasser ansammelt, welches von dem Lösungszufuhrrohr 56 heruntergetropft ist, auf den Abschnitt der Oberfläche der PS-Platte 12, der zwischen den Förderrollen 52 und der Klinge 60 liegt.
Weiterhin ist der untere Abschnitt der Förderrolle 52 unterhalb des Förderweges in der Pfanne 62 aufgenommen, in welcher Waschwasser gespeichert ist. Während sich die untere Förderrolle 52 dreht, wird Waschwasser heraufgezogen, so daß die rückwärtige Oberfläche der PS-Platte 12 gewaschen wird, und so das Trocknen der oberen Förderrolle 52 verhindert wird. Wie in 2 gezeigt ist, ist ein Ende eines Rohres 64 mit dem Lösungszufuhrrohr 56 verbunden. Das Rohr 64 ragt durch eine Pumpe 90, und das andere Ende des Rohres 64 ist in einem Waschwasser-Nachfüllbehälter 92 angeordnet. Unverbrauchtes Waschwasser ist innerhalb des Waschwasser-Nachfüllbehälters 92 gespeichert. Durch geeignete Betätigung der Pumpe 90 kann eine geeignete Menge an Waschwasser dazu veranlaßt werden, aus den Ausstoßöffnungen 58 des Lösungszufuhrrohrs 56 herauszutropfen. Bei der vorliegenden Ausführungsform beträgt die Ausstoßkapazität der Pumpe 90 33 cm³/m².
Wie in 3 gezeigt ist, wird ein Aufnahmeabschnitt durch die Klinge 60, die Oberfläche der PS-Platte 12 und die obere Förderrolle 52 gebildet. Eine kleine Menge des Waschwassers, welches aus dem Lösungszufuhrrohr 56 heraustropft, sammelt sich auf der PS-Platte 12 in diesem Aufnahmeabschnitt und verteilt sich entlang der Querrichtung der PS-Platte 12. Dies führt dazu, daß die Oberfläche der PS-Platte 12, welche gefördert wird, nacheinander und wirksam durch eine kleine Menge von Waschwasser gewaschen werden kann.
Da der Endabschnitt der Klinge 60 die Oberfläche der PS-Platte 12 berührt, wird verhindert, daß das Waschwasser, welches sich auf der Oberfläche der PS-Platte 12 ansammelt, zurückfließt.
Das Waschwasser, welches sich auf der Oberfläche der PS-Platte 12 ansammelt, fließt nach unten von beiden Enden in Querrichtung der PS-Platte 12 in die Pfanne 62. Es fließt nämlich das Waschwasser, welches zum Waschen der Oberfläche der PS-Platte 12 verwendet wird, nach unten in beide Endabschnitte in Längsrichtung der Pfanne 62.
Wie in 6 gezeigt, ist ein im wesentlichen rechteckiger Ausnehmungsabschnitt 70 in einem in Längsrichtung zentralen Abschnitt eines vertikalen Wandabschnitts 62A auf der stromaufwärtigen Seite der Pfanne 62 vorgesehen. Daher fließt das Waschwasser, welches in der Pfanne 62 gespeichert ist, von dem Ausnehmungsabschnitt 70 heraus, fließt in den Waschwasser-Abfallbehälter 28, und wird abgelassen.
Hierbei fließt nämlich Waschwasser in die Pfanne in der Nähe von deren beiden Endabschnitten in Längsrichtung, und fließt aus dem in Längsrichtung zentralen Abschnitt heraus. Daher kann verhältnismäßig neues Waschwasser (Waschwasser, welches nur die Oberfläche der PS-Platte 12 behandelt hat) für einen langen Zeitraum angesammelt werden. Infolge des Waschwassers, welches durch die Drehung der unteren Förderrolle 52 heraufgezogen wird, wird nach der Behandlung das Waschwasser, welches die rückseitige Oberfläche der PS-Platte 12 behandelt, zur Pfanne 62 zurückgebracht. Jedoch kann das Waschwasser, welches verhältnismäßig häufig für die Behandlung eingesetzt wird, schnell aus dem Ausnehmungsabschnitt 70 herausfließen.
Wie in 5 gezeigt ist, ist ein Reinigungsteil 72 in einem Bodenabschnitt der Pfanne 62 angeordnet. Das Reinigungsteil 72 wird durch einen Schwamm 76 (aus Polypropylen hergestellt) gebildet, der an einer Edelstahlbasis 74 befestigt ist. Als der Schwamm 76 kann beispielsweise Opuseru LC-300 verwendet werden, welches von der Hayashi Felt Co., Ltd. hergestellt wird. In seinem unbelasteten Zustand weist der Schwamm 76 eine Dicke von 5 mm auf. Die Oberfläche des Schwamms 76, welche die Förderrolle 52 berührt, wird in eine bogenförmige Form gedrückt. Der Schwamm 76 ist so in der Pfanne 62 angeordnet, daß die maximale Druckbeaufschlagung des Schwamms 76 2 mm beträgt.
Der Schwamm 76 arbeitet so, daß er die Oberfläche der Förderrolle 52 unterhalb des Förderweges abwischt, während sich die Förderrolle 52 dreht. Hierbei wischt der Schwamm 76 Fremdkörper des Entwicklers und dergleichen ab, welche an der rückseitigen Oberfläche der PS-Platte 12 während der Waschbehandlung anhaften. Zwar konnte bislang die obere Förderrolle 52 durch Abwischen und dergleichen gereinigt werden, wenn ein nicht dargestellter Deckel des Gehäuses 14 entfernt wurde, jedoch war dies bei der unteren Förderrolle 52 bislang nicht möglich. Bei dem voranstehend beschriebenen Aufbau der vorliegenden Erfindung kann jedoch die untere Förderrolle 52 gereinigt werden, während die Behandlung der PS-Platte 12 ausgeführt wird.
Das Reinigungsteil 72 kann von der Pfanne 62 entfernt und in regelmäßigen Abständen durch ein neues Reinigungsteil 72 ausgetauscht werden.
Wie in 2 gezeigt ist, ist ein Paar von Förderrollen 78 oberhalb des Gummilösungs-Abfallbehälters 30 des Endbearbeitungsabschnitts 26 vorgesehen. Eine Rolle 80 des Aufsteckspindeltyps ist zwischen den Förderrollen 78 und den Förderrollen 52 an der Unterseite des Förderweges vorgesehen. Die PS-Platte 12, die zwischen die Förderrollen 52 eingeführt wird und von diesen wieder ausgestoßen wird, wird durch die Führungsrolle 80 zu den Führungsrollen 78 geführt.
Ein Lösungszufuhrrohr 82 ist oberhalb des Förderweges zwischen der Führungsrolle 80 und den Förderrollen 78 angeordnet. Auf gleiche Weise wie bei dem Lösungszufuhrrohr 56 sind in dem Rohr Ausstoßöffnungen (nicht dargestellt) vorgesehen, die mit dem Inneren des Lösungszufuhrrohrs 82 in Verbindung stehen. Gummilösung wird von dem Lösungszufuhrrohr 82 abgegeben und, wie nachstehend erläutert, wird der Oberfläche der PS-Platte 12 über die Oberfläche der Förderrolle 78 zugeführt.
Das Ende einer flexiblen Klinge 84 steht in Gleitberührung mit einem Abschnitt des Außenumfangs der Förderrolle 78 oberhalb des Förderweges. Wenn Gummilösung von dem Lösungszufuhrrohr 82 in der Nähe der Grenze zwischen der Klinge 84 und der oberen Förderrolle 78 herabtropft, so verteilt sich die Gummilösung, die sich in einem im wesentlichen V-förmigen Abschnitt ansammelt, der durch die Klinge 84 und die Förderrolle 78 gebildet wird, in Richtung zu beiden Endabschnitten in Querrichtung der Förderrolle 78. Die Gummilösung auf der Oberfläche der Förderrolle 78 oberhalb des Förderweges wird auf konstanter Dicke auf der Oberfläche der Förderrolle 78 gehalten, nämlich durch die Drehung der Förderrolle 78 und durch die Klinge 84. Die flüssige Membran der Gummilösung wird kontinuierlich entlang dem Gesamtbereich der Oberfläche der PS-Platte 12 in deren Querrichtung übertragen, wenn die Förderrolle 78 die PS-Platte 12 berührt. Dies führt dazu, daß die Oberfläche der PS-Platte 12 einer Gummilösungs-Aufbringungsbearbeitung mit einer kleinen Menge an Gummilösung unterworfen werden kann.
Die Förderrollen 78 fördern die PS-Platte 12, die dazwischenliegt, und quetschen darüber hinaus die Gummilösung weg, die an der Oberfläche der PS-Platte 12 anhaftet. Die von der Oberfläche der PS-Platte 12 weggequetschte Gummilösung fällt entweder von beiden Seiten der PS-Platte 12 oder von deren hinterem Ende herab und sammelt sich in dem Gummilösungs-Abfallbehälter 30 an.
Weiterhin ist der untere Abschnitt der Förderrolle 78 unterhalb des Förderweges in einer Pfanne 86 angeordnet. Ein Teil der Gummilösung, die von den Förderrollen 78 abgequetscht wurde, fällt in die Pfanne 86 herab und wird dort gespeichert. Ein Teil der unteren Förderrolle 78 ist in die Gummilösung eingetaucht, die in der Pfanne 86 aufbewahrt wird. Die rückseitige Oberfläche der PS-Platte 12 wird mit der Gummilösung bearbeitet, die aus der Pfanne 86 infolge der Drehung der unteren Förderrolle 78 heraufgezogen wird. Daher wird die Gummilösung durch die Drehung der Förderrolle 78 heraufgezogen, so daß die rückwärtige Oberfläche der PS-Platte 12 eine Desensibilisierungsbearbeitung erfährt, und so daß ein Trocknen der oberen Förderrolle 78 verhindert wird, selbst wenn die Abgabe der Gummilösung aus dem die Lösung zuführenden Rohr 82 gestoppt wird, wenn die Platte 12 nicht hindurchgelangt. Daher schlagen sich die Bestandteile der Behandlungslösung nicht auf den Oberflächen der Förderrollen 78 nieder. Darüber hinaus kann die Klinge 84 in Berührung mit der Oberfläche der PS-Platte 12 stehen, wie dies die Klinge 60 tut.
Wie in 2 gezeigt ist, ist ein Ende des Rohrs 88 mit dem Lösungszufuhrrohr 82 verbunden. Das Rohr 88 gelangt durch eine Pumpe 66, und das andere Ende des Rohrs 88 ist innerhalb eines Gummilösungs-Nachfüllbehälters 68 angeordnet. In dem Gummilösungs-Nachfüllbehälter 68 wird frische Gummilösung aufbewahrt. Durch geeignete Betätigung der Pumpe 66 kann eine entsprechende Menge der Gummilösung dazu veranlaßt werden, von den Ausstoßöffnungen des Lösungszufuhrrohrs 82 herunterzutropfen. Bei der vorliegenden Ausführungsform beträgt die Ausstoßkapazität der Pumpe 66 33 cm³/m².
Der Betrieb der vorliegenden Ausführungsform wird nachstehend beschrieben.
Die PS-Platte 12, auf welcher Bilder durch eine nicht dargestellte Druckvorrichtung oder dergleichen aufgezeichnet wurden, wird in den Entwicklerabschnitt 22 des PS-Plattenprozessors 10 von dem Einsetztisch 16 aus eingeführt. Ist die PS-Platte 12 in den PS-Plattenprozessor 10 eingeführt, so wird die PS-Platte 12 durch die Förderrollen 32 in den Entwicklerbehälter 18 befördert.
Die PS-Platte 12 wird durch die Förderrollen 32 in einem Winkel von 15° in bezug auf die Horizontalrichtung zugeführt, und wird in den Entwicklerbehälter 18 durch die Führungsrollen 34 usw. befördert. Während die PS-Platte 12 gefördert wird, wird zu diesem Zeitpunkt auf sie Entwicklerlösung durch die Sprührohre 44, 46 und 48 aufgebracht, so daß die PS-Platte 12 einer Entwicklung unterzogen wird.
Verhältnismäßig neue Entwicklerlösung, die sich in dem Entwicklerbehälter 18 befindet und die von den Sprührohren 44, 46 und 48 aufgegeben wird, fördert die Entwicklung der PS-Platte 12 und entfernt herausgeflossene Fremdkörper aus der Nähe der lichtempfindlichen Schicht, um so die Entwicklung zu fördern. Die von den Sprührohren 44, 48 abgegebene Entwicklerlösung wird den Oberflächen der PS-Platte 12 zugeführt, von welchen Fremdkörper durch die Quetschrollen 42 entfernt werden. Daher wird die Entwicklung der PS-Platte 12 gefördert.
Daraufhin wird die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht der PS-Platte 12 durch die Drehbürstenrolle 38 abgerieben, so daß die Entwicklung gefördert wird, und die nicht mit einem Bild versehenen Abschnitte der lichtempfindlichen Schicht entfernt werden.
Die PS-Platte 12, die der Entwicklungsbearbeitung unterworfen wurde, wird dem Waschabschnitt 24 zugeführt, und zwischen den Förderrollen 52 angeordnet und durch diese gefördert. Zu diesem Zeitpunkt wird die PS-Platte 12 mit Waschwasser gewaschen, welches von dem Lösungszufuhrrohr 56 abgegeben wird. Die Bearbeitung in dem Waschabschnitt 24 wird später beschrieben.
Nachdem die Waschbearbeitung beendet ist, wird die PS-Platte 12 durch die Führungsrolle 80 geführt, in den Endbearbeitungsabschnitt 26 geschickt, zwischen den Förderrollen 78 angeordnet und durch diese gefördert. Die PS-Platte 12 erfährt eine Desensibilisierungsbearbeitung mit der Gummilösung, die von dem Lösungszufuhrrohr 82 abgegeben wird. Die PS-Platte 12, die aus dem Endbearbeitungsabschnitt 26 ausgestoßen wird, erfährt eine Trocknungsbehandlung in dem Trocknerabschnitt 31, und wird von dem PS-Plattenprozessor 10 ausgestoßen. Hiermit ist die Behandlung beendet.
In dem Endbearbeitungsabschnitt 26 berührt die Klinge 84 die Umfangsoberfläche der oberen Förderrolle 78. Die von dem Lösungszufuhrrohr 82 ausgestoßene Gummilösung bleibt zwischen der Klinge 84 und der Förderrolle 78, die oberhalb des Förderweges liegt. Die Gummilösung breitet sich zu beiden Endabschnitten in Querrichtung aus, und es wird eine Flüssigkeitsmembran auf der Oberfläche der Förderrolle 78 gebildet, während sich die Förderrolle 78 dreht. Diese flüssige Membran wird auf die Oberfläche der PS-Platte 12 übertragen. Daher kann die Desensibilisierungsbearbeitung der PS-Platte 12 auf verläßliche Weise ausgeführt werden. Da die rückwärtige Oberfläche der PS-Platte 12 mit der Gummilösung behandelt wird, die in der Pfanne 86 gespeichert ist und durch die Drehung der unteren Förderrolle 78 hochgezogen wird, wird darüber hinaus auch die Desensibilisierungsbearbeitung der rückwärtigen Oberfläche der PS-Platte 12 verläßlich ausgeführt.
Nachstehend wird die Waschbearbeitung in dem Waschabschnitt 24 im einzelnen beschrieben. Der Endabschnitt der Klinge 60 berührt die Oberfläche der PS-Platte 12, die zwischen den Förderrollen 52 angeordnet ist. Dies führt dazu, daß ein Aufnahmeabschnitt zur Aufnahme des Waschwassers, welches von dem Lösungszufuhrrohr 56 abgegeben wird, durch die Klinge 60, die Oberfläche der PS-Platte 12 und die Förderrolle 52 gebildet wird, die oberhalb des Förderweges angeordnet ist.
Selbst wenn nur eine kleine Menge an Waschwasser vorhanden ist, kann daher das Waschwasser dazu gebracht werden, daß es sich auf dem Aufnahmeabschnitt ansammelt. Daher wird die Waschbearbeitung mit einer extrem geringen Waschwassermenge durchgeführt, die von dem Lösungszufuhrrohr 56 abgegeben wird. Bei der vorliegenden Ausführungsform sind drei Ausstoßlöcher 58 in dem Lösungszufuhrrohr 56 vorgesehen, so daß eine kleine Menge (annähernd 33 cm³/m²) von Waschwasser zugeführt wird.
Das Waschwasser, welches in dem Aufnahmeabschnitt verbleibt, breitet sich zu beiden Endabschnitten in Querrichtung der PS-Platte 12 aus. Dies führt dazu, daß eine Flüssigkeitsmembran auf der Oberfläche der PS-Platte 12 gebildet wird, so daß die Oberfläche verläßlich gewaschen werden kann. Darüber hinaus verhindert es die Klinge 60, daß das Waschwasser zurückfließt. Daher fließt das Waschwasser nicht in den Entwicklerabschnitt.
Das Waschwasser, welches beide Endabschnitte in Querrichtung der PS-Platte 12 erreicht, fließt von der Oberfläche der PS-Platte 12 in die Pfanne 62 herunter. Das Waschwasser fließt in die Pfanne 62 von deren beiden Endabschnitten in Längsrichtung.
Der Ausnehmungsabschnitt 70 ist in einem zentralen Abschnitt in Längsrichtung der Pfanne 62 vorgesehen, also in der Position, die am weitesten von dem Ort entfernt ist, an welchem das Waschwasser von der Oberfläche der PS-Platte 12 herabfließt. Das von der Oberfläche der PS-Platte 12 herabfließende Waschwasser läuft aus dem Ausnehmungsabschnitt 70 über.
Der Ausnehmungsabschnitt 70 ist innerhalb der Pfanne 62 auf dem Weg des Flusses der Lösung in der am weitesten entfernten Position von der Position angeordnet, in welcher das Waschwasser in die Pfanne 62 von beiden Kanten der Oberfläche der PS-Platte 12 nach dem Waschen herabfließt. Daher fließt verhältnismäßig frisches Waschwasser nicht aus der Pfanne 62 heraus, sondern eher das Waschwasser, welches sich in ihr angesammelt hat. Daher nimmt der Alterungsgrad des Waschwassers innerhalb der Pfanne 62 nicht zu.
Die innerhalb der Pfanne 62 eingetauchte, untere Förderrolle 52 zieht das Waschwasser innerhalb der Pfanne 62 herauf, während sich die Förderrolle 52 dreht, so daß die rückseitige Oberfläche der PS-Platte 12 gewaschen wird. Da das Waschwasser in der Pfanne 62 verhältnismäßig frisch ist, kann das Waschen der rückwärtigen Oberfläche der PS-Platte 12 wirksam ausgeführt werden. Das Waschwasser, welches zur Behandlung der rückseitigen Oberfläche benutzt wurde und daher einen verhältnismäßig hohen Alterungsgrad aufweist, wird zur Pfanne 62 zurückgeführt, jedoch fließt dieses Waschwasser schnell aus der Ausnehmung 70 heraus. Daher wird die Menge der Lösung innerhalb der Pfanne 62 aufrechterhalten, und in ihr kann sich verhältnismäßig frisches Waschwasser sammeln.
Da das Reinigungsteil 72 an dem Bodenabschnitt der Pfanne 62 vorgesehen ist, wird die Umfangsoberfläche der unteren Förderrolle 52 darüber hinaus durch den Schwamm abgerieben, während sich die untere Förderrolle 52 dreht. Daher können Verschmutzungen wie beispielsweise sich entwickelnde Fremdkörper und dergleichen von der unteren Förderrolle 52 abgestreift werden. Da die Förderrolle 52 an der unteren Seite des Förderweges auf geeignete Weise gereinigt werden kann, während die Behandlung vor sich geht, können solche Arbeitsvorgänge entfallen, die mit dem Entfernen der Förderrolle 52 an der oberen Seite des Förderweges zusammenhängen, um die untere Förderrolle 52 zu reinigen. Da das Reinigungsteil 72 entfernbar ist, kann es darüber hinaus periodisch ersetzt werden.
Da die obere Förderrolle 52 in einer Position angeordnet ist, die durch Arbeiter einfach zugänglich ist, wenn der Deckel des Gehäuses 14 entfernt ist, gibt es keine Probleme bezüglich der Reinigung der oberen Förderrolle 52. Ein Reinigungsteil kann ebenfalls an der Förderrolle 52 oberhalb des Förderweges vorgesehen sein, auf dieselbe Weise wie das Reinigungsteil 72 unterhalb des Förderweges angeordnet ist.
Da bei der vorliegenden Ausführungsform ein Aufnahmeabschnitt für Waschwasser durch die Klinge 60, die Oberfläche der PS-Platte 12 und die untere Förderrolle 52 gebildet wird, sammelt sich wirksam eine kleine Menge an Waschwasser auf der Oberfläche der PS-Platte 12 an, und dort kann eine Flüssigkeitsmembran gebildet werden. Daher kann die Menge des verwendeten Waschwassers wesentlich verringert werden. Die Kapazität des Behälters oder dergleichen, in welchem das Waschwasser aufbewahrt wird, kann daher verringert werden, und die gesamte Vorrichtung kann kompakter ausgebildet werden.
Zur Bearbeitung der rückwärtigen Oberfläche der PS-Platte 12 kann sich verhältnismäßig frisches Waschwasser (also Waschwasser, welches zur Behandlung der Oberfläche der PS-Platte 12 verwendet wurde) innerhalb der Pfanne 62 ansammeln. Daher wird die Fähigkeit zur Behandlung der rückseitigen Oberfläche der PS-Platte 12 nicht verschlechtert. Dies führt dazu, daß es nicht erforderlich ist, ein Sprührohr oder dergleichen für die rückseitige Oberfläche vorzusehen. Daher kann die Anzahl der Teile der Vorrichtung verringert werden und die Herstellung der Vorrichtung wird vereinfacht.
Da das Reinigungsteil 72 innerhalb der Pfanne 62 angeordnet ist, kann darüber hinaus die untere Förderrolle 52 während der Bearbeitung gereinigt werden. Hierdurch wird der Wartungsaufwand für die Vorrichtung verringert.
Bei der vorliegenden Ausführungsform ist der Ausnehmungsabschnitt 70 in der Pfanne 62 des Waschabschnitts 28 vorgesehen, so daß der Kreislauf des Waschwassers verbessert wird. Der gleiche Aufbau kann in der Pfanne 86 des Endbearbeitungsabschnitts 26 vorgesehen werden, so daß dort ein ähnlicher Wirkungsgrad erreicht werden kann.
Weiterhin kann, wie in 7 gezeigt, das Reinigungsteil 72 so angeordnet sein, daß ein Ende einer Basis 94 zu einer im wesentlichen U-förmigen Gestalt gebogen und elastisch ausgebildet ist. Ein dünner Filz 96 ist an diesem Ende angebracht, so daß der Filz 96 gegen die untere Förderrolle 52 infolge der Elastizität des Endes gedrückt wird. Als der Filz 96 kann ein GS-Filz (3 mm dick) verwendet werden, der von Toray Industries, Inc. hergestellt wird.
Nachstehend wird die zweite Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben. Es wird auf die Beschreibung solcher Teile verzichtet, die ebenso ausgebildet sind wie bei der ersten Ausführungsform.
Wie in 8 gezeigt, sind der Entwicklerabschnitt 22, der Waschabschnitt 24 und der Endbearbeitungsabschnitt 26 in einem Innenabschnitt des Gehäuses 14 angeordnet. Der Entwicklerabschnitt 22 umfaßt den Entwicklerbehälter 18, welcher für die Entwicklungsbearbeitung der PS-Platte 12 verwendet wird. In dem Waschabschnitt 24 wird an der PS-Platte 12 anhaftende Entwicklerlösung abgewaschen, so daß die PS-Platte 12 eine Waschbearbeitung erfährt. In dem Endbehandlungsabschnitt 26 wird auf die gewaschene PS-Platte 12 eine Gummilösung aufgebracht, so daß die PS-Platte 12 eine Desensibilisierungsbehandlung erfährt.
Wie in den 8 und 9 gezeigt ist, sind der Entwicklerabschnitt 22, der Waschabschnitt 24 und der Endbearbeitungsabschnitt 26 durch ein kastenartiges Gehäuse 100 abgedeckt, welches getrennt von dem Gehäuse 14 ausgebildet ist. Der PS-Prozessor 10 gemäß der vorliegenden Ausführungsform weist daher einen Doppelaufbau mit dem Gehäuse 100 und dem Gehäuse 14 auf. Eine Einsetzöffnung 102 und eine Ausstoßöffnung 104, die beide schlitzförmig ausgebildet sind, sind in dem Gehäuse 100 vorgesehen. Die Einsetzöffnung 102 entspricht einem Öffnungsabschnitt an einer umgekehrten Seite des Einsetztisches 16. Wie in 1 gezeigt, ist die Ausstoßöffnung 104 so vorgesehen, daß sie dem Eintritt zum Trocknungsabschnitt 31 entspricht, der stromabwärts des Endbearbeitungsabschnitts 26 angeordnet ist. Im wesentlichen sind in dem Gehäuse 100 abgesehen von der Einsetzöffnung 102 und der Ausstoßöffnung 104 keine Öffnungen vorhanden.
Wie in 8 gezeigt, ist das Paar der Förderrollen 32 an der Einschubseite der PS-Platte 12 in den Entwicklerbehälter 18 des Entwicklerabschnitts 22 vorgesehen. Die PS-Platte 12, auf welcher Bilder aufgedruckt wurden, wird zwischen das Paar der Förderrollen 32 von der Einsetzöffnung des Gehäuses 100 aus eingeführt. Das Paar der Förderrollen 32 schickt die PS-Platte 12 in den Entwicklerbehälter 18 in einem Winkel von 15° in bezug auf die Horizontalrichtung.
Ein Paar von Gummiplatten 106, dessen Endabschnitte in Vertikalrichtung elastisch sind, ist an der Innenoberfläche des Gehäuses 100 angebracht. Jeweilige Zwischenabschnitte der Klingen 106 sind bogenförmig gekrümmt. Die Enden der Klingen 106 sind zur stromabwärtigen Seite in der Förderrichtung der PS-Platte 12 gerichtet.
Infolge ihrer Elastizität stehen die beiden Endabschnitte der Klingen 106 miteinander in Berührung, und verschließen die Einsetzöffnung 102.
Wenn die PS-Platte 12 in die Einsetzöffnung 102 befördert wird, so wird das Paar der Klingen 106 gegen ihre Elastizität geöffnet, infolge der Druckkraft, wenn die PS-Platte 12 gefördert wird. Dies führt dazu, daß die PS-Platte 12 glatt in das Gehäuse 100 hineinbefördert werden kann.
Weiterhin ist ein Sensor 108, der das Vorhandensein der PS-Platte 12 feststellt, in der Nähe der Einsetzöffnung 102 vorgesehen. Das Vorhandensein der PS-Platte 12 innerhalb des Gehäuses 100 kann durch den Sensor 108 festgestellt werden.
Ein Schwimmdeckel 250 ist auf der Oberfläche der Entwicklerlösung in dem Entwicklerbehälter 18 vorgesehen. Ein Abschnitt des Schwimmdeckels 250, welcher der Drehbürstenwalze 38 entspricht, steht nach oben bogenförmig vor. Der Schwimmdeckel 250 schwimmt auf der Oberfläche der Entwicklerlösung, um so den Kontakt zwischen der Luft und der Oberfläche der Entwicklerlösung zwischen den Führungsrollen 36 und 40 zu minimalisieren. Materialien mit geringem Gewicht wie beispielsweise Polyvinylchlorid, Polyethylen, Polyamid und dergleichen können als das Material für den Schwimmdeckel 250 verwendet werden.
Ein nicht dargestelltes Überlaufrohr ist in der Oberfläche der stromabwärtigen Seitenwand des Entwicklerbehälters 18 angeordnet. Wenn Entwicklerlösung nachgefüllt wird, so daß der Entwicklerbehälter 18 mit Entwicklerlösung gefüllt ist, fließt überlaufende Entwicklerlösung in das Überlaufrohr.
Ein Paar von Quetschrollen 54 ist in dem am weitesten stromabwärts liegenden Abschnitt des Entwicklerbehälters 18 vorgesehen. Die aus dem Entwicklerbehälter 18 ausgestoßene PS-Platte 12 wird zwischen den Quetschrollen 54 angeordnet und durch diese befördert, und die Rollen quetschen die Entwicklerlösung von den Oberflächen der PS-Platte 12 ab.
In dem PS-Plattenprozessor 10 ist der Waschwasser-Abfallbehälter 28 des Waschabschnitts 24 stromabwärts des Entwicklungsabschnitts 22 angeordnet. Wie in den 3 und 10 gezeigt, ist das Paar der Förderrollen 52 oberhalb des Waschwasser-Abfallbehälters 28 angeordnet. Die Förderrollen 52 sind in nicht dargestellten Seitenplatten drehbar gehaltert und werden durch eine an sie übertragene Drehkraft von einer nicht dargestellten Antriebseinrichtung gedreht, um so den Förderweg für die PS-Platte 12 zu bilden, die von dem Entwicklerabschnitt 22 aus zugeführt wird.
In dem Entwicklerabschnitt 22 erfährt die PS-Platte 12 eine Entwicklerbehandlung. Danach erfährt die PS-Platte 12 eine Waschbehandlung in dem Waschabschnitt 24, und daraufhin eine Desensibilisierungsbehandlung in dem Endbearbeitungsabschnitt 26. Nachdem die Behandlung in dem Endbearbeitungsabschnitt 26 beendet ist, gelangt die PS-Platte 12 durch die Ausstoßöffnung 104 des Gehäuses 100, und wird in den Trocknerabschnitt 31 geschickt.
Auf der Ausstoßöffnung 104 ist ein Deckel 110 vorgesehen. Der Deckel 110 weist die Form einer flachen Platte auf. Ein Endabschnitt des Deckels 110 ist an einer Welle 112 befestigt, deren Achse parallel zur Querrichtung der PS-Platte 12 verläuft. Die Welle 112 ist axial durch eine Stütze 114 gehaltert, die an dem oberen Endabschnitt der Ausstoßöffnung 104 angebracht ist. Der Deckel 110 kann um die Welle 112 herum verschwenkt werden. Befindet sich der Deckel 110 in seiner Vertikallage, so wird die Ausstoßöffnung 104 durch Federwirkung oder Schwerkraft verschlossen.
Die Welle 112 kann durch eine nicht dargestellte Antriebseinrichtung gedreht werden (beispielsweise eine Magnetspule). Der Deckel 110 wird in einem Bereich von ungefähr 0° bis 90° verschwenkt, wenn sich die Welle 112 dreht. Befindet sich der Deckel 110 im wesentlichen in der Horizontalrichtung, so ist die Ausstoßöffnung 104 geöffnet.
Die Drehung der Welle 112 erfolgt auf der Grundlage der Feststellung der PS-Platte 12 durch den Sensor 108, der in der Nähe der Einsetzöffnung 102 angeordnet ist. Der Deckel wird nämlich in seiner Horizontallage gehalten (also dem geöffneten Zustand der Ausstoßöffnung 104), bis ein vorbestimmter Zeitraum seit dem Zeitpunkt vergangen ist, an welchem die PS-Platte 12 durch den Sensor 108 festgestellt wurde, und dann nicht länger festgestellt wird (also nachdem ihr hinteres Ende festgestellt wurde). Zu anderen Zeiten wird der Deckel 110 in seiner Vertikallage gehalten (also dem geschlossenen Zustand der Ausstoßöffnung 104).
Wenn die PS-Platte 12 durch die Ausstoßöffnung 104 gelangt, tritt daher überhaupt keine Berührung zwischen der PS-Platte 12 und dem Deckel 110 auf.
Nachstehend wird der Betrieb beider vorliegenden Ausführungsform beschrieben.
Zuerst, wenn die Entwicklerbehandlung der PS-Platte 12 nicht durch den PS-Plattenprozessor 10 durchgeführt wird, ist die Einsetzöffnung 102 des Gehäuses 100 geschlossen, da die beiden Klingen 106 einander infolge ihrer Elastizität berühren. Da die PS-Platte 12 noch nicht durch den Sensor 108 festgestellt wurde, befindet sich darüber hinaus der Deckel 110 in seinem Vertikalzustand, so daß die Ausstoßöffnung 104 geschlossen ist.
Daher ist die Entwicklerlösung innerhalb des Entwicklerbehälters 18 nicht der Außenluft ausgesetzt, so daß es kaum eine Kohlendioxid-Ermüdung gibt. Hierdurch kann die Abnahme der Entwicklerfähigkeit infolge einer zeitlichen Alterung unterdrückt werden. Daher läßt sich die Menge an Nachfüll-Lösung wesentlich verringern. Insbesondere der Schwimmdeckel 250, der die Oberfläche der Entwicklerlösung innerhalb des Entwicklerbehälters 18 abdeckt, weist eine erhebliche Wirkung in der Hinsicht auf, den Kontakt der Entwicklerlösung mit der Außenluft zu verhindern.
Als nächstes wird die Bearbeitungsreihenfolge der PS-Platte 12 beschrieben.
Die PS-Platte 12, auf welcher durch eine nicht dargestellte Druckvorrichtung oder dergleichen Bilder aufgezeichnet wurden, wird auf den Einsetztisch 16 aufgebracht und zu dessen Rückseite geschickt. Hierdurch erreicht die PS-Platte 12 die Einsetzöffnung 102 des Gehäuses 100. Infolge der Druckkraft der PS-Platte 12, welche die Einsetzöffnung 102 des Gehäuses 100 erreicht hat, werden die Klingen 106 gegen ihre Elastizität geöffnet. Dies führt dazu, daß die PS-Platte 12 glatt in das Gehäuse 100 eingeführt wird.
Wenn das Vorderende der PS-Platte 12 durch die Einsetzöffnung 102 gelangt, so wird das Vorhandensein des Vorderendes von dem Sensor 108 festgestellt. Die Welle 112 wird gedreht, so daß der Deckel 110 der Ausstoßöffnung 104 aus seiner Vertikallage in seine Horizontallage verschwenkt wird. Daher wird die Ausstoßöffnung 104 geöffnet. Es kann eine Anordnung vorgesehen sein, bei welcher dann, wenn der Sensor 108 das Vorderende der PS-Platte 12 feststellt, der Sensor 108 ein Signal an eine CPU ausgibt, so daß die Ausstoßöffnung entsprechend einer geeigneten Zeitvorgabe auf der Grundlage der Fördergeschwindigkeit der PS-Platte 12 geöffnet wird.
Die PS-Platte 12, die in das Gehäuse 100 eingeführt wurde, wird zum Entwicklerabschnitt 22 geschickt. Wird die PS-Platte 12 in den PS-Plattenprozessor 10 eingeführt, so wird die PS-Platte 12 durch die Förderrollen 32 in den Entwicklerbehälter 18 geschickt. In dem Entwicklerbehälter 18 erfährt die PS-Platte 12 eine Entwicklungsbearbeitung. Daraufhin wird die PS-Platte 12 einer Waschbearbeitung in dem Waschabschnitt 24 unterzogen, und erfährt dann eine Desensibilisierungsbehandlung in dem Endbearbeitungsabschnitt 26.
Der Zeittakt des Ausstoßens der Waschlösung aus dem Lösungszufuhrrohr 56 des Waschabschnitts 24 und der Zeittakt des Ausstoßens der Gummilösung aus dem Lösungszufuhrrohr 82 können durch die CPU gesteuert werden, entsprechend einem Signal, welches anzeigt, daß der Sensor 108 die PS-Platte 12 ermittelt hat, so daß die Waschlösung und die Gummilösung im wesentlichen nur dann abgegeben werden, wenn die PS-Platte 12 direkt unter den Ausstoßöffnungen des Lösungszufuhrrohrs 56 und den Ausstoßöffnungen des Lösungszufuhrrohrs 82 liegt.
Die aus dem Endbearbeitungsabschnitt 26 ausgestoßene PS-Platte 12 erreicht dann die Ausstoßöffnung 104 des Gehäuses 100.
Obwohl der Deckel 110 an der Ausstoßöffnung 104 angeordnet ist, wird die Welle 112 infolge der Ermittlung der PS-Platte 12 durch den Sensor 108 gedreht, so daß der Deckel 110 in seine im wesentlichen horizontale Lage gebracht wird. Daher gibt es keine Störung zwischen der PS-Platte 12, die durch die Ausstoßöffnung 104 hindurchgeht, und dem Deckel 110. Daher erfolgt keine Reibungsberührung mit der lichtempfindlichen Oberfläche der entwickelten PS-Platte 12, und deren Bildqualität bleibt unbeeinträchtigt.
Wenn ein vorbestimmter Zeitraum vergangen ist, nachdem das hintere Ende der PS-Platte 12 von dem Sensor 108 ermittelt wurde, wird der Deckel 110 in seine Vertikallage gebracht, also die Ausstoßöffnung 104 geschlossen. Da die Zeit konstant ist, die zum Hindurchgehen der PS-Platte 12 durch das Gehäuse 100 erforderlich ist, wird der Deckel 110 verschwenkt und die Ausstoßöffnung 104 geschlossen, nachdem das hintere Ende der PS-Platte 12 auf sichere Weise durch die Ausstoßöffnung 104 gegangen ist.
Die PS-Platte 12, die durch die Ausstoßöffnung 104 hindurchgegangen ist, erfährt eine Trocknungsbehandlung in dem Trocknerabschnitt 31, und wird dann aus dem PS-Plattenprozessor 10 ausgestoßen. Hiermit ist die Bearbeitung beendet.
Da ein Ziel der vorliegenden Erfindung darin besteht, den Kontakt zwischen der Entwicklerlösung und der Außenluft auf ein Minimum zu beschränken, wird darüber hinaus vorzugsweise die Länge des Zeitraums, in welchem der Deckel 110 offen bleibt, auf einem Minimum gehalten. Daher ist vorzugsweise der Deckel 110 nur dann offen, wenn die PS-Platte 12 hindurchgeht, und zu allen anderen Zeiten ist der Deckel 110 vorzugsweise geschlossen. Zu diesem Zweck kann beispielsweise eine Anordnung vorgesehen werden, bei welcher ein Sensor in der Nähe einer Innenseite der Ausstoßöffnung 104 angeordnet ist. Wird das Vorderende der PS-Platte 12 ermittelt, so wird der Deckel 110 geöffnet. Die Zeit, die dafür benötigt wird, daß das hintere Ende der PS-Platte 12 vollständig aus der Ausstoßöffnung 104 herausgelangt ist, wird aus der Fördergeschwindigkeit der PS-Platte ermittelt. Ein Zeitgeber wird auf diesen Zeitraum eingestellt, so daß der Deckel 110 geschlossen wird, nachdem das hintere Ende der PS-Platte vollständig aus der Ausstoßöffnung 104 herausgelangt ist.
Die vorliegende Erfindung wurde unter Verwendung eines Beispiels beschrieben, bei welchem der gesamte automatische Entwickler durch ein Gehäuse umschlossen ist. Allerdings ist es ausreichend, einen Aufbau vorzusehen, bei welchem keine Öffnungen zwischen den verschiedenen Behandlungsbehältern vorhanden sind, und bei welchem ein Deckel vorgesehen ist, so daß es keine Öffnungen in den oberen Oberflächen sämtlicher Behandlungsbehälter gibt. Darüber hinaus ist auch eine Anordnung wirksam, bei welcher nur der Entwicklerbehälter abgedeckt ist.
Nachstehend wird die dritte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben. Es wird auf eine Beschreibung von Teilen verzichtet, die ebenso ausgebildet sind wie bei den voranstehend beschriebenen ersten und zweiten Ausführungsformen.
Wie aus 12 hervorgeht, sind der Entwicklerabschnitt 22, der Waschabschnitt 24 und der Endbearbeitungsabschnitt 26 in einem Innenabschnitt eines Gehäuses 14 vorgesehen. Der Entwicklerabschnitt 22 umfaßt den Entwicklerbehälter 18, der zur Entwicklerbehandlung der PS-Platte 12 verwendet wird, und das Überlaufrohr 20, welches zur Rückgewinnung der Entwicklerlösung dient, die aus dem Entwicklerbehälter 18 überläuft. In dem Waschabschnitt 24 wird die an der PS-Platte 12 anhaftende Entwicklerlösung abgewaschen, wenn die PS-Platte 12 eine Waschbehandlung erfährt. In dem Endbearbeitungsabschnitt 26 wird Gummilösung auf die gewaschene PS-Platte 12 aufgebracht, so daß die PS-Platte 12 eine Desensibilisierungsbehandlung erfährt.
Eine Einsetzöffnung 202 und eine Ausstoßöffnung 204, die beide schlitzförmig ausgebildet sind, sind in dem Gehäuse 14 vorgesehen. Die Einsetzöffnung 202 ist so angeordnet, daß sie eine Öffnung an der Rückseite des Einsetztisches 16 entspricht. Wie aus 11 hervorgeht, ist die Ausstoßöffnung 204 so angeordnet, daß sie dem Eintritt des Trocknerabschnitts 31 entspricht, der stromabwärts des Endbearbeitungsabschnitts 26 angeordnet ist. Eine Wiedereintritts-Einsetzöffnung (nachstehend "Hilfseinsetzöffnung") 150 ist in der oberen Oberfläche des Gehäuses 14 zwischen dem Entwicklerabschnitt 22 und dem Waschabschnitt 24 angeordnet. Die PS-Platte 12, die durch andere Prozesse als den Entwicklerprozeß behandelt werden soll, wird in die Hilfseinsetzöffnung 150 eingeführt.
Eine Klinge 152, die als Unterteilungsplatte dient, ist an der Hilfseinsetzöffnung 150 angeordnet. Die Klinge 152 besteht aus Gummi und ihr Endabschnitt berührt das Gehäuse 14, welches als Führungshalteoberfläche der Hilfseinsetzöffnung 150 dient. Der Basisabschnitt der Klinge 152 ist an der rückwärtigen Oberfläche des Gehäuses 14 über eine Halterung 154 befestigt. Die Hilfseinsetzöffnung 150 wird durch die Klinge 152 verschlossen. Wird eine PS-Platte 12 von der Hilfseinsetzöffnung 150 aus eingeführt, so verformt sich die Klinge 152 elastisch, so daß das Einführen der PS-Platte 12 nicht gestört wird.
Wie aus 12 hervorgeht, ist das Paar der Förderrollen 32 an der Einführungsseite der PS-Platte 12 in den Entwicklerbehälter 18 des Entwicklerabschnitts 22 angeordnet. Die PS-Platte 12, auf welche Bilder aufgedruckt sind, wird zwischen das Paar der Förderrollen 32 von der Einsetzöffnung 202 aus eingeführt. Das Paar der Förderrollen 32 schickt die PS-Platte 12 in den Entwicklerbehälter 18 nach unten in einem Winkel von 15° in bezug auf die Horizontalrichtung.
In der Nähe der stromabwärtigen Seite der Förderrollen 32 ist eine Gummiklinge 206 vorgesehen. Der Endabschnitt der Klinge 106 berührt die Seitenwand des Entwicklerbehälters 18 des Entwicklerabschnitts 22. Der Basisabschnitt der Klinge 206 ist an dem Gehäuse 14 über eine Halterung 156 befestigt. Die Halterung 156 wird durch einen fixierten Abschnitt 156A und einen Gleitabschnitt 156B gebildet, der an dem fixierten Abschnitt 156A über eine Flügelmutter 158 befestigt ist. Die Klinge 206 ist an dem Gleitabschnitt 156B befestigt. Durch Lösen der Flügelmutter 158, so daß eine Gleitverschiebung des Gleitabschnitts 156B in bezug auf den fixierten Abschnitt 156A auftritt, kann der Endabschnitt der Klinge 206 von der Seitenwand des Entwicklerbehälters 18 wegbewegt werden.
Der Endabschnitt der Klinge 206 berührt gewöhnlich die Seitenwand des Entwicklerbehälters 18. Wird die PS-Platte 12 in die Einsetzöffnung 202 befördert, so wird die Klinge 206 gegen ihre Elastizität geöffnet, infolge der Druckkraft der PS-Platte 12, welche gefördert wird. Daher kann die PS-Platte 12 glatt in den Entwicklerabschnitt 22 hineinbefördert werden.
Ein Sensor 208, der das Vorhandensein der PS-Platte 12 feststellt, ist in der Nähe der Einsetzöffnung 202 vorgesehen. Das Vorhandensein der PS-Platte 12 innerhalb der Vorrichtung kann durch den Sensor 208 ermittelt werden.
Der Entwicklerbehälter 18 ist oben offen, und ein zentraler Abschnitt seines Bodenabschnitts steht nach unten mit im wesentlichen rechteckiger Form vor. Eine Pumpe 160 ist in der Nähe des Entwicklerbehälters 18 vorgesehen.
Entwicklerlösung innerhalb des Entwicklerbehälters 18 wird aus diesem durch die Pumpe 160 abgesaugt und dann durch Sprührohre 44, 172 versprüht, die später beschrieben werden. Die innerhalb des Entwicklerbehälters 18 gespeicherte Entwicklerlösung wird hierdurch im Kreislauf geführt. Beim Zirkulieren der Entwicklerlösung gelangt diese durch ein Meßinstrument 162, welches den Alterungs- oder Abnutzungsgrad der Entwicklerlösung mißt (die Impedanz des Wechselstroms der Entwicklerlösung), um so den Alterungsgrad der Entwicklerlösung zu ermitteln. Darüber hinaus wird Nachfüll-Lösung dem Entwicklerbehälter 18 aus einem Entwicklerlösungs-Nachfüllbehälter 166 über eine Pumpe 164 zugeführt.
Eine Führungsplatte 168 ist innerhalb des Entwicklerbehälters 18 an dessen stromaufwärtiger Seite vorgesehen. Die mehrere Führungsrollen 34 und eine Drehbürstenrolle 170 sind in einer stromabwärtigen Seite des Entwicklerbehälters 18 angeordnet. Die Führungsrollen 34 und die Drehbürstenrolle 170 sind drehbar zwischen einem Paar von Seitenplatten des Entwicklerbehälters 18 gehaltert.
Die einen verhältnismäßig großen Durchmesser aufweisende Führungsrolle 36 ist oberhalb der Führungsplatte 168 angeordnet. Die Drehbürstenrolle 38 und die Führungsrolle 40 sind oberhalb der Führungsrollen 34 angeordnet. Die Führungsrollen 36, 40 und die Drehbürstenrolle 38 sind zwischen dem Paar der Seitenplatten des Entwicklerbehälters 18 drehbar gehaltert.
Das Paar der Quetschrollen 42, die mehreren Führungsrollen 34 in der Nähe der Quetschrollen 42, und die Führungsplatte 168 sind so angeordnet, daß sie die PS-Platte 12 in einem Krümmungsradius von 300 bis 350 mm in der Nähe des Bodenabschnitts des Entwicklerbehälters 18 befördern. Daher wird die PS-Platte 12, die zwischen dem Paar der Rollen 32 eingeführt ist, durch diese gefördert wird und in den Entwicklerbehälter 18 eingetaucht ist, so gefördert, daß sie mit einem Neigungswinkel zwischen die Führungsplatte 168 und die Führungsrolle 136 gelangt. Dann wird die PS-Platte 12 zwischen die Quetschrollen 42 eingeführt. Die Quetschrollen 42 entfernen überschüssiges Wasser, welches in die Entwicklerlösung hineinfließt, von der Seite der lichtempfindlichen Schicht (der Oberseite in 12) der PS-Platte 12, so daß das überschüssige Material nicht zusammen mit der Bewegung der PS-Platte 12 stromabwärts befördert wird.
Das Sprührohr 44, welches sich nahe an den Quetschrollen 42 an deren stromabwärtiger Seite befindet, ist als eine Rolle des Aufsteckspindeltyps ausgebildet und mit mehreren elastischen Drehteilen versehen, die axial auf dem Außenumfang der Welle des Sprührohrs 44 gehaltert sind. Das Sprührohr 44 dient zur Führung der PS-Platte 12. Auslaßöffnungen (nicht dargestellt), die mit dem Außenumfang und dem Inneren des Sprührohrs 44 in Verbindung stehen, sind in dem Sprührohr 44 zwischen den elastischen Drehteilen vorgesehen. Weiterhin ist ein Sprührohr 172 unterhalb der Führungsplatte 168 angeordnet. Mehrere, nicht gezeigte Auslaßöffnungen, die mit dem Innenabschnitt eines Hohlrohrs in dem Sprührohr 172 in Verbindung stehen, sind in der Außenumfangsoberfläche des Sprührohrs 172 entlang dessen Axialrichtung vorgesehen. Die Axialrichtung des Sprührohrs 172 ist die Querrichtung des Förderweges. Das Sprührohr 172 und das Sprührohr 44 stoßen Entwicklerlösung zur Bodenoberfläche des Entwicklerbehälters 18 aus, so daß frische Entwicklerlösung schnell durch den gesamten Entwicklerbehälter 18 hindurch diffundieren kann.
Das Überlaufrohr 20 ist an dem am weitesten stromabwärts gelegenen Abschnitt des Entwicklerbehälters 18 angeordnet. Wenn die Flüssigkeitsoberfläche der Entwicklerlösung einen vorbestimmten Pegel übersteigt, so wird die Entwicklerlösung durch das Überlaufrohr 20 einem Abfall-Lösungsbehälter 184 zugeführt, und so entsorgt.
Ein Schwimmdeckel 350 ist auf der Oberfläche der Entwicklerlösung innerhalb des Entwicklerbehälters 18 angeordnet. Ein Abschnitt des Schwimmdeckels 350 entsprechend der Drehbürstenrolle 38 und der Führungsrolle 40, welche dieser benachbart angeordnet ist, springt annähernd bogenförmig vor. Die Oberfläche der Entwicklerlösung ist abgedeckt, so daß ein Kontakt zwischen der Oberfläche der Entwicklerlösung und der Luft auf das mögliche Minimum beschränkt ist. Beide Enden des Schwimmdeckels 350 in der Förderrichtung der PS-Platte 12 sind an nicht gezeigten Seitenplatten durch eine gleitbewegliche Einrichtung befestigt, so daß der Schwimmdeckel 350 sich in Vertikalrichtung entsprechend den Schwankungen des Pegels der Entwicklerlösung bewegt. Ein Material mit geringem Gewicht wie beispielsweise Polyvinylchlorid, Polyethylen, Polyamid oder dergleichen kann als das Material des Schwimmdeckels 350 verwendet werden.
Ein Ende eines klingenartigen Teils 174 berührt das stromabwärtige Seitenende des Schwimmdeckels 350. Das klingenartige Teil 174 besteht aus Gummi und ist über eine Halterung 176 an dem Gehäuse 14 befestigt. Die Flüssigkeitsoberfläche der Entwicklerlösung, die von dem stromabwärtigen Ende des Schwimmdeckels 350 aus freiliegt, und der Bereich oberhalb des Schwimmdeckels 350 sind durch das klingenartige Teil 174 getrennt. Der Bereich oberhalb des Schwimmdeckels 350 ist vollständig gegenüber der Außenluft durch das klingenartige Teil 174 und das klingenartige Teil 206 in der Nähe der Einsetzöffnung 202 getrennt (wenn das klingenartige Teil 206 die Seitenwand des Entwicklerbehälters 18 berührt). Die Verdampfung der Entwicklerlösung kann unterdrückt werden, und die Alterung (CO₂-Alterung) infolge der Tatsache, daß die Entwicklerlösung der Außenluft ausgesetzt ist, kann wesentlich verringert werden.
In dem PS-Plattenprozessor 10 ist der Waschwasserabfallbehälter 28 des Waschabschnitts 24 an der stromabwärtigen Seite des Entwicklerabschnitts 22 angeordnet. Zwei Paare von Förderrollen 52, 53 sind oberhalb des Waschwasserabfallbehälters 28 vorgesehen. Die Förderrollen 52, 53 sind drehbar an nicht dargestellten Seitenplatten gehaltert und werden durch eine Antriebskraft gedreht, die auf sie von einer nicht dargestellten Antriebseinrichtung übertragen wird, um so den Förderweg für die PS-Platte 12 zu bilden, die von dem Entwicklerabschnitt 22 aus zugeführt wird.
Waschwasser, welches die Entwicklerlösung von der PS-Platte 12 abgewaschen hat, die aus dem Entwicklerbehälter 18 herausbefördert wurde, sammelt sich innerhalb des Waschwasserabfallbehälters 28 an. Das Lösungszufuhrrohr 56 ist an einer stromaufwärtigen Seite der Förderrollen 53 und oberhalb des Förderweges angeordnet. Mehrere Abgabelöcher, die mit dem Innenabschnitt des Lösungszufuhrrohrs 56 in Verbindung stehen, sind in dem Außenumfang des Lösungszufuhrrohrs 56 vorgesehen. Waschwasser, welches aus einem Waschwasserbehälter 178 durch eine Pumpe 180 heraufgezogen wird, tropft von dem Lösungszufuhrrohr 56 auf die Förderrolle 53 oberhalb des Förderweges. Während sich die Förderrollen 53 drehen, breitet sich das Waschwasser schnell auf der Oberfläche der PS-Platte 12 aus, so daß die Oberfläche der PS-Platte 12 durch das Waschwasser gewaschen wird.
Weiterhin sind untere Abschnitte der unteren Förderrollen 52, 53 innerhalb der Pfanne 62 aufgenommen. Waschwasser wird innerhalb der Pfanne 62 gespeichert und wird durch die Drehung der Förderrollen 52, 53 unter dem Förderweg heraufgezogen. Die rückseitige Oberfläche der PS-Platte 12 wird gewaschen und ein Trocknen der oberen Förderrollen 52, 53 wird unterdrückt.
Die Hauptwirkung der Förderrollen 52 besteht darin, den Entwicklungs-Wirkungsgrad für die rückseitige Oberfläche der PS-Platte 12 zu erhöhen. Allerdings sorgen die Förderrollen 52 darüber hinaus für die Stabilität des Förderns der PS-Platte 12, und verhindern, daß der Oberfläche der PS-Platte 12 zugeführtes Wasser zur stromaufwärtigen Seite in der Förderrichtung der PS-Platte 12 zurückfließt.
Weiterhin fließt das Waschwasser, das sich auf der Oberfläche der PS-Platte 12 in deren Querrichtung verteilt, aus beiden Endabschnitten in Querrichtung der PS-Platte 12 in die Pfanne 62 herunter. Die rückseitige Oberfläche der PS-Platte 12 erfährt eine Waschbearbeitung durch das Waschwasser, welches aus der Pfanne 62 durch die Förderrollen 52, 53 heraufgezogen wird, die sich unterhalb des Förderweges befinden. Das Waschwasser, welches aus der Pfanne 62 überläuft, wird dem Waschwasserabfallbehälter 28 zugeführt. Ein Überlaufrohr 182 ist so in dem Waschwasserabfallbehälter 28 angeordnet, daß dann, wenn die Flüssigkeitsoberfläche einen vorbestimmten Pegel übersteigt, das Waschwasser in den Abfallbehälter 184 abgegeben wird.
Wie aus 13 hervorgeht, kann die Pfanne 62 so aufgebaut sein, daß die Länge des Flußweges des frischen Wassers so lange wie möglich ausgebildet wird, so daß der größte Waschwirkungsgrad erzielt werden kann.
Darüber hinaus stehen der Waschwasserabfallbehälter 28 und der Entwicklerbehälter 18 über eine Pumpe 186 miteinander in Verbindung. Durch Antrieb der Pumpe 186 wird das Waschwasser innerhalb des Waschwasserabfallbehälters 28 dem Entwicklerbehälter 18 zugeführt, so daß das Waschwasser als verdünnte Lösung verwendet werden kann, wenn Nachfüll-Lösung dem Entwicklerbehälter 18 zugeführt wird.
Wie aus 12 hervorgeht, ist das Paar der Förderrollen 78 oberhalb des Gummilösungsabfallbehälters 30 des Endbearbeitungsabschnitt 26 vorgesehen, welche einen Desensibilisierungs-Bearbeitungsabschnitt darstellt. Die durch die Transportrollen 53 heraufgeschickte PS-Platte 12 wird durch die Förderrollen 78 geführt.
Sprührohre 82, 188 sind stromaufwärts der Förderrollen 78 in der Vertikalrichtung des Förderweges angeordnet. Das Sprührohr 188 unterhalb des Förderweges ist als Rolle des Aufsteckspindeltyps ausgebildet und dient zum Führen der PS-Platte 12. Auf dieselbe Weise wie bei dem Lösungszufuhrrohr 56 sind (nicht dargestellt) Auslaßöffnungen in dem Lösungszufuhrrohr 82 und dem Sprührohr 188 vorgesehen, und stehen mit jeweiligen Innenabschnitten des Lösungszufuhrrohrs 82 und des Sprührohrs 188 in Verbindung. Gummilösung, die durch eine Pumpe 182 aus einem Gummilösungsbehälter 190 heraufgesaugt wird, wird aus dem Lösungszufuhrrohr 82 und dem Sprührohr 188 ausgestoßen und den Oberflächen der PS-Platte 12 zugeführt.
Die Gummilösung in dem Gummilösungsbehälter 30 wird durch die Pumpe 194 im Kreislauf umgewälzt. Ein Überlaufrohr 196 ist in dem Gummilösungsabfallbehälter 30 vorgesehen, so daß dann, wenn die Flüssigkeitsoberfläche der Gummilösung einen vorbestimmten Pegel übersteigt, die Gummilösung dem Abfall-Lösungsbehälter 184 zugeführt und entsorgt wird.
Die PS-Platte 12, deren Bearbeitung in dem Endbearbeitungsabschnitt 26 beendet ist, gelangt durch die Ausstoßöffnung 204 des Gehäuses 14 und wird dem Trocknungsabschnitt 31 zugeführt. Ein Deckel 210, der als Trennplatte dient, ist an der Ausstoßöffnung 204 angeordnet. Der Deckel 210 ist als flache Platte geformt, und sein oberer Endabschnitt ist an einer Welle 212 befestigt, die parallel zur Querrichtung der PS-Platte 12 verläuft. Der Deckel 210 ist um die Welle 212 herum verschwenkbar. Befindet sich der Deckel 210 in seiner Vertikallage, so wird die Ausstoßöffnung 204 durch eine Feder oder infolge der Schwerkraft geschlossen.
Die Welle 212 ist mit Hilfe einer nicht dargestellten Antriebseinrichtung (beispielsweise einer Magnetspule) drehbar. Der Deckel 210 verschwenkt in einem Bereich von etwa 0° bis 90°, wenn sich die Welle 212 dreht. Befindet sich der Deckel 210 im wesentlichen in seiner Horizontallage, so ist die Ausstoßöffnung 204 offen.
Die Drehung der Welle 212 beruht auf der Ermittlung der PS-Platte 12 durch den Sensor 208, der in der Nähe der Einsetzöffnung 202 angeordnet ist. Der Deckel 210 wird nämlich in seinem im wesentlichen horizontalen Zustand (also dem geöffneten Zustand der Ausstoßöffnung 204) gehalten, bis ein vorbestimmter Zeitraum seit dem Zeitpunkt verstrichen ist, an welchem die PS-Platte 12 durch den Sensor 208 ermittelt wurde und dann nicht länger festgestellt wird (also nachdem das hintere Ende ermittelt wurde). Zu anderen Zeiten wird der Deckel 210 in seinem Vertikalzustand gehalten (also dem geschlossenen Zustand der Auslaßöffnung 204).
Wenn daher die PS-Platte 12 durch die Ausstoßöffnung 204 gelangt, gibt es überhaupt keine Berührung zwischen der PS-Platte 12 und dem Deckel 210.
Nachstehend wird der Betrieb bei der vorliegenden Ausführungsform beschrieben.
Die Bearbeitungsbehälter, beispielsweise der Entwicklerbehälter 18, der Waschwasserabfallbehälter 28, der Gummilösungsabfallbehälter 30 und dergleichen, werden durch ein Gehäuse 300 abgedeckt, welches durch das Gehäuse 14, einen Hauptkörper 8 und dergleichen gebildet wird. Wenn keine Entwicklungsbehandlung der PS-Platte 12 durchgeführt wird, so ist die Einsetzöffnung 202 geschlossen, da das klingenartige Teil 206 die Seitenwand des Entwicklerbehälters 18 berührt. Da die PS-Platte 12 noch nicht durch den Sensor 208 ermittelt wurde, wird darüber hinaus in diesem Zustand der Deckel 210 in seiner Vertikallage gehalten, so daß auch die Ausstoßöffnung 204 geschlossen ist. Auch die Hilfseinsetzöffnung 150 ist durch das klingenartige Teil 152 verschlossen, so daß der Bereich des Entwicklerabschnitts 22 oberhalb des Schwimmdeckels 350 durch die klingenartigen Teile 206, 174 verschlossen ist. Dies führt dazu, daß die Entwicklerlösung innerhalb des Entwicklerbehälters 18, das Waschwasser innerhalb des Waschabschnitts 24, und die Gummilösung innerhalb des Endbearbeitungsabschnitts 26 nicht der Außenluft ausgesetzt sind, so daß eine Verdampfung der Behandlungslösungen unterdrückt werden kann, und eine CO₂-Ermüdung praktisch vollständig ausgeschaltet werden kann. Dies führt dazu, daß eine Verringerung der Entwicklungskraft infolge einer zeitlichen Verschlechterung unterdrückt werden kann. Daher kann beispielsweise die Menge an Nachfüll-Lösung, die in den Entwicklerabschnitt 22 nachgefüllt wird, wesentlich verringert werden. Insbesondere der Schwimmdeckel 350, der die Oberfläche der Entwicklerlösung innerhalb des Entwicklerbehälters 18 abdeckt, weist eine erhebliche Wirkung in der Hinsicht auf, einen Kontakt der Entwicklerlösung und der Außenluft zu verhindern.
Da der Gleitabschnitt 156B gleitbeweglich ist, wenn die Flügelmutter 158 gelöst ist, wird das klingenartige Teil 206 der Einsetzöffnung 202 beweglich und kann, soweit erforderlich, geöffnet werden. Wenn es beispielsweise wünschenswert ist, die Menge der Nachfüll-Lösung zu erhöhen, kann dann, wenn das klingenartige Teil 206 um ein bestimmtes Maß geöffnet ist, das Nachfüll-Intervall verkürzt werden, verglichen mit dem Nachfüll-Intervall, wenn der Entwicklerbehälter 18 geschlossen ist. Hierdurch kann die Menge der Nachfüll-Lösung vergrößert werden.
Weiterhin kann ein derartiger Aufbau vorgesehen sein, in welchem ein nicht dargestelltes klingenartiges Teil, welches denselben Aufbau aufweist wie das klingenartige Teil 174 und das klingenartige Teil 206, zwischen dem Entwicklerbehälter 18 und dem Waschwasserabfallbehälter 28 oder zwischen dem Waschwasserabfallbehälter 28 und dem Gummilösungsabfallbehälter 30 vorgesehen ist. Durch Lösen der Flügelmutter auf dieselbe Weise wie bei dem klingenartigen Teil 206 wird der Gleitabschnitt gleitbeweglich und das klingenartige Teil kann geöffnet werden, soweit erforderlich.
Nachstehend wird die Reihenfolge der Bearbeitung der PS-Platte 12 beschrieben.
Die in das Gehäuse 300 eingeschobene PS-Platte 12 wird zunächst dem Entwicklerabschnitt 22 zugeführt. Ist die PS-Platte 12 in dem PS-Plattenprozessor 10 eingeführt, so wird sie durch die Förderrollen 32 in den Entwicklerbehälter 18 geschickt. Die Druckkraft der PS-Platte 12, die durch die Förderrollen 32 befördert wird, öffnet das klingenartige Teil 206 gegen dessen Elastizität. Dies führt dazu, daß die PS-Platte 12 glatt in den Entwicklerabschnitt 22 befördert wird.
Die PS-Platte 12 wird durch die Führungsplatte 168 nach unten in einem Winkel von 15° gegenüber der Horizontalrichtung geführt und wird durch die Führungsrollen 34 usw. in den Entwicklerbehälter 18 befördert.
Daraufhin wird die mit einer lichtempfindlichen Schicht versehene Seitenoberfläche der PS-Platte 12 durch die Drehbürstenrolle 38 abgerieben, so daß die Entwicklung gefördert wird. Die lichtempfindliche Schicht in den nicht mit einem Bild versehenen Abschnitten wird entfernt.
Die PS-Platte 12, welche eine Entwicklerbehandlung erfahren hat, wird dem Waschabschnitt 24 zugeführt und zwischen den Förderrollen 52, 53 angeordnet und durch diese befördert. Zu diesem Zeitpunkt wird die Oberfläche der PS-Platte 12 durch frisches Waschwasser gewaschen, welches auf die obere Förderrolle 53 von dem Lösungszufuhrrohr 56 heruntertropft. Die rückseitige Oberfläche der PS-Platte 12 wird durch Waschwasser gewaschen, welches aus der Pfanne 62 durch die untere Förderrolle 53 heraufgezogen wird.
Hierbei breitet sich das von dem Lösungszufuhrrohr 56 heruntertropfende Waschwasser in beide Endabschnitte in Querrichtung der PS-Platte 12 aus und fließt von der Oberfläche der PS-Platte 12 in die Pfanne 62. Das Waschwasser fließt in die Pfanne 62 von beiden Endabschnitten der PS-Platte 12 in Querrichtung. Die unteren Rollen der Förderrollen 52, 53, die in die Pfanne 62 eingetaucht sind, ziehen innerhalb der Pfanne 62 befindliches Waschwasser nach oben, während sich die unteren Förderrollen 52, 53 drehen. Auf diese Weise wird die rückseitige Oberflächenseite der PS-Platte 12 gewaschen.
Das Waschwasser, welches aus der Pfanne 62 überläuft, wird dem Waschwasserabfallbehälter 28 zugeführt. Wenn das Waschwasser innerhalb des Waschwasserabfallbehälters 28 eine bestimmte Menge übersteigt, so wird das Waschwasser über das Überlaufrohr 182 dem Abfall-Lösungsbehälter 184 zugeführt. Das meiste Waschwasser wird an den Entwicklerbehälter 18 über eine Pumpe 186 geliefert.
Durch den Betrieb der Pumpe 164 wird dem Entwicklerbehälter 18 Nachfüll-Lösung von dem Entwicklerlösungs-Nachfüllbehälter 166 zugeführt, entsprechend der Menge der bearbeiteten PS-Platten 12 und dergleichen. Das Waschwasser in dem Waschwasserabfallbehälter 28 wird als verdünnte Lösung in einem vorbestimmten Verhältnis zur Menge der Nachfüll-Lösung verwendet, mit welcher der Entwicklerbehälter 18 nachgefüllt wird. Auf diese Weise wird das Waschwasser, welches für die Waschbearbeitung in dem Waschabschnitt 24 benutzt wurde, wirksam eingesetzt und die Menge an Abfall-Lösung kann verringert werden.
Nachdem die Waschbehandlung beendet ist, wird die PS-Platte 12 dem Endbearbeitungsabschnitt 26 zugeführt, welche einen Desensibilisierungs-Behandlungsabschnitt darstellt. Die PS-Platte 12 wird zwischen den Förderrollen 78 angeordnet und durch diese befördert. Eine Desensibilisierungsbehandlung wird durch eine Gummilösung bewirkt, die von dem Lösungszufuhrrohr 82 und dem Sprührohr 188 ausgestoßen wird.
Die aus dem Endbearbeitungsabschnitt 26 ausgestoßene PS-Platte 12 erreicht die Ausstoßöffnung 204 des Gehäuses 300.
Der Deckel 204 ist an der Ausstoßöffnung 204 vorgesehen. Die Welle 212 wird auf die Feststellung der PS-Platte 12 durch den Sensor 208 hin gedreht, so daß der Deckel in seine im wesentlichen horizontale Lage gebracht wird. Daher gibt es keine Störung zwischen der PS-Platte 12, die durch die Ausstoßöffnung 204 hervorgeht, und dem Deckel 210. Daher erfolgt keine Reibberührung mit der lichtempfindlichen Oberfläche der entwickelten PS-Platte 12, und die Oberflächenqualität der PS-Platte 12 kann so aufrechterhalten werden.
Wenn ein vorbestimmter Zeitraum verstrichen ist, nachdem der Sensor das hintere Ende der PS-Platte 12 ermittelt hat, wird dann der Deckel in seine Vertikallage gebracht, also die Ausstoßöffnung 204 geschlossen. Da die Zeit konstant ist, welche die PS-Platte 12 benötigt, durch das Innere des Gehäuses 300 hindurchzugehen, wird der Deckel 210 verschwenkt und die Ausstoßöffnung 204 geschlossen, nachdem das hintere Ende der PS-Platte 12 sicher die Ausstoßöffnung verlassen hat.
Die PS-Platte 12, die durch die Ausstoßöffnung 204 gelangt ist, wird in dem Trocknerabschnitt 31 einer Trocknungsbehandlung unterzogen. Dann wird die PS-Platte 12 aus dem PS-Plattenprozessor 10 ausgestoßen und die Behandlung ist beendet.
Da ein Ziel der vorliegenden Erfindung darin besteht, den Kontakt zwischen der Entwicklerlösung und der Außenluft auf ein Minimum zu beschränken, wird vorzugsweise der Öffnungszeitraum des Deckels 210 so kurz wie möglich gehalten. Daher ist der Deckel 210 vorzugsweise nur dann offen, wenn die PS-Platte 12 durch ihn hindurchgelangt und zu allen anderen Zeitpunkten ist der Deckel 210 geschlossen. Zu diesem Zweck kann beispielsweise eine Anordnung vorgesehen werden, bei welcher ein Sensor in der Nähe einer Innenseite der Ausstoßöffnung vorgesehen ist. Wird die Vorderkante der PS-Platte 12 ermittelt, so wird der Deckel 210 geöffnet. Aus der Fördergeschwindigkeit der PS-Platte wird die Zeit ermittelt, die dafür erforderlich ist, daß das hintere Ende der PS-Platte vollständig aus der Ausstoßöffnung ausgestoßen ist. Ein Taktgeber wird so eingestellt, daß er nach diesem Zeitraum den Deckel 110 schließt.
Bei der vorliegenden Ausführungsform ist in dem Waschabschnitt 24 das Waschwasser in einem großen Behälter gespeichert. Statt ein kreislaufartiges System zu verwenden, tropft bei der vorliegenden Ausführungsform die minimale Menge an Waschwasser unvermeidlicherweise herunter, und auch das sich daran anschließende Abwassersystem ist kein Kreislaufsystem. Daher kann der Waschwasserabfallbehälter 28 relativ kompakt ausgebildet werden. Da es nicht erforderlich ist, eine Kreislaufpumpe, entsprechende Rohre und dergleichen vorzusehen, kann darüber hinaus die gesamte Vorrichtung kompakter ausgebildet werden. Die vorliegende Ausführungsform schaltet auch Nachteile aus, die in kreislaufartigen Systemen auftreten. Derartige Nachteile betreffen beispielsweise Ausfällungen, die sich auf den Rollen und auf den Wänden und dergleichen der Behandlungsbehälter ausbilden, in die Behandlungslösungen hineinfallen und die Ausstoßöffnungen der Sprührohre verschließen, welche die Behandlungslösungen ausstoßen. Diese Schwierigkeiten werden durch die Verdampfung der Behandlungslösungen aus einem großen Behandlungsbehälter hervorgerufen, der zum Sammeln und zum Zirkulieren der Behandlungslösungen verwendet wird, die in ihn nach der Behandlung der PS-Platte 12 herunterfließen. Da derartige Schwierigkeiten bei der vorliegenden Ausführungsform ausgeschaltet sind, werden die Wartungsanforderungen an die Vorrichtung verringert. Darüber hinaus beträgt bei der vorliegenden Ausführungsform die Gesamtmenge an Abfall-Lösung 25 bis 100 cm³/m² und Tag, unabhängig von der behandelten Fläche. Dies stellt eine erhebliche Verringerung dar, verglichen mit konventionellen Vorrichtungen, bei denen die Gesamtmenge an Abfall-Lösung 150 bis 500 cm³/m² und Tag beträgt.
Der Entwicklerabschnitt 22 ist von anderen Abschnitten durch die klingenartigen Teile 206 und 174 getrennt. Das klingenartige Teil 152 und der Deckel 210 sind an der Hilfseinsetzöffnung 150 bzw. der Ausstoßöffnung 204 angeordnet. Daher kann das Innere der Vorrichtung in verschiedene Blöcke unterteilt werden, und eine Alterung der Behandlungslösungen infolge des Kontakts mit der Außenluft kann wesentlich unterdrückt werden. Da die Verdampfung der Behandlungslösungen wesentlich unterdrückt werden kann, kann die Menge an Nachfüll-Lösung verringert werden und eine stabile Behandlung bewirkt werden.
Weiterhin sind bei der Vorrichtung gemäß der vorliegenden Ausführungsform keine Reinigungsplatten (etwa eine bis zu drei Platten) erforderlich, die dann benötigt werden, wenn der Betrieb bei konventionellen Behandlungsvorrichtungen beginnt. Auch dies erleichtert die Handhabung.
Der Endbearbeitungsabschnitt 26 bei der vorliegenden Ausführungsform ist so aufgebaut, daß keine Pfanne vorgesehen ist und die untere Förderrolle 78 direkt in den Gummilösungsabfallbehälter 30 eintaucht. Allerdings kann auch, auf dieselbe Weise wie bei dem Waschabschnitt 24, eine Pfanne vorgesehen werden. Der Endbehandlungsabschnitt kann auch so aufgebaut sein, daß er kein Kreislaufsystem bildet, entsprechend der Behandlungsfähigkeiten der Gummilösung.
Weiterhin wird bei der vorliegenden Ausführungsform der Entwicklerabschnitt 22 als ein Block angesehen, und der Waschabschnitt 24 und der Endbearbeitungsabschnitt 26 werden als ein weiterer Block angesehen. Diese Blöcke sind voneinander getrennt durch die klingenartigen Teile 206, 152 und 174 und den Deckel 210. Allerdings können auch der Entwicklerabschnitt 22, der Waschabschnitt 24 und der Endbearbeitungsabschnitt 26 als ein Block angesehen werden, so daß kein klingenartiges Teil 174 vorgesehen ist. Darüber hinaus können der Entwicklerabschnitt 22, der Waschabschnitt 24 und der Endbearbeitungsabschnitt 26 als unabhängige, jeweilige Blöcke angesehen werden und die klingenartigen Teile können zwischen sämtlichen dieser Blöcke vorgesehen werden. Wenn die verwendeten Behandlungslösungen extrem widerstandsfähig gegen eine durch Luft hervorgerufene Alterung sind, so können die Trennwände zwischen den Blöcken vollständig weggelassen werden.
Bei der vorliegenden Ausführungsform wird eine Computersteuerung durchgeführt, um den Zeitraum und Zeitpunkt für die Nachfüllung der Entwickler-Nachfüll-Lösung zu ermitteln, auf der Grundlage der Ergebnisse der Messungen durch das Meßinstrument 162. Daher können Druckplatten, welche eine Teilung von 400 bis 700 Linien pro Zoll (Linien pro 25,4 mm) aufweisen, und die für sehr exakte Druckvorgänge verwendet werden, stabil behandelt werden. Falls nur die übliche Präzision erforderlich ist, mit etwa 150 bis 170 Linien pro Zoll (Linien pro 25,4 mm), so kann die Rechnersteuerung weggelassen werden.

Claims

Behandlungsvorrichtung für platten- oder blattartiges Material (12), bei dem dann, wenn das plattenartige Material (12) zwischen einem Rollenpaar (52) angeordnet ist und durch dieses befördert wird, überschüssige Behandlungslösung von dem plattenartigen Material (12) ausgequetscht wird und das plattenartige Material (12) behandelt wird, wobei eine Lösungszufuhrvorrichtung (56) an einer stromaufwärtigen Seite des Rollenpaars (52) vorgesehen ist, um die Behandlungslösung heraustropfen zu lassen, und eine Behandlungslösungs-Begrenzungseinrichtung (60) an einer stromaufwärtigen Seite des Rollenpaars (52) vorgesehen ist, um eine Bewegung der Behandlungslösung zur stromaufwärtigen Seite zu begrenzen, und um die Behandlungslösung durch das Rollenpaar (52) und die Behandlungslösungs-Begrenzungseinrichtung (60) zu sammeln, dadurch gekennzeichnet, dass weiterhin ein Behandlungslösungssammelteil (62) vorgesehen ist, welches die Behandlungslösung empfängt und ansammelt, die von Enden in Querrichtung des plattenartigen Materials (12) herunterfließt, und in welche nur eine Rolle des Rollenpaares (52) eingetaucht ist, die sich an einer Unterseite des Förderweges des plattenartigen Materials (52) befindet, sowie ein Ausflussabschnitt (70), der auf einer Vertikalwand (62A) des Sammelteils (60) in einem zentralen Abschnitt bezogen auf die Enden in Querrichtung des plattenartigen Materials (12) vorgesehen ist, um überschüssige Behandlungslösung innerhalb des Sammelteils (62) herausfließen zu lassen.
Behandlungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Behandlungslösungssammelteil (62) ein Reinigungsteil (72) aufweist, welches eine Umfangsoberfläche der unteren Rolle berührt.
Behandlungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungslösungs-Begrenzungseinrichtung (60) ein klingenartiges Teil ist, welches einen spitzen Endabschnitt aufweist, der in Gleitberührung mit der Oberfläche des plattenartigen Materials (12) angeordnet ist, wobei das klingenartige Teil verhindert, dass die Behandlungslösung, die von der Lösungszufuhrvorrichtung (56) herabgetropft ist und sich auf dem plattenartigen Material (12) ansammelt, zu einer stromaufwärtigen Seite des plattenartigen Materials (12) zurückfließt.
Behandlungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungslösungs-Begrenzungseinrichtung (60) ein klingenartiges Teil ist, welches an einer stromaufwärtigen Seite des Rollenpaars (52) vorgesehen ist, wobei ein spitzer Endabschnitt des klingenartigen Teils so angeordnet ist, dass er eine Umfangsoberfläche einer Rolle des Rollenpaars (52) berührt, die sich an einer Oberseite eines Förderweges des plattenartigen Materials (12) befindet, und dass das klingenartige Teil die Behandlungslösung auffängt, die von einer Lösungszufuhrvorrichtung (56) herabgetropft ist.
Automatische Entwicklervorrichtung für lichtempfindliche lithographische Druckplatten (12), in welcher die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) durch eine Entwicklerlösung in einem Entwicklerbehälter (18) befördert werden, so dass die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) entwickelt werden und bei welcher die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) einem Waschvorgang mit Waschwasser und einer Desensibilisierung durch Gummilösung unterzogen und getrocknet werden, die folgendes umfasst: ein Gehäuse (100), welches zumindest verhindert, dass der Entwicklerbehälter (18) der Außenumgebung ausgesetzt wird, wobei das Gehäuse (100) eine Einsetzöffnung (102) aufweist, durch welche die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) eingeführt werden, sowie eine Ausstoßöffnung (104), durch welche die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) ausgestoßen werden, einen ersten Deckel, der an der Einsetzöffnung des Gehäuses vorgesehen ist und dieses gewöhnlich verschließt und der so geöffnet wird, dass die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) einführbar sind, wenn die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) eingeführt werden und der erste Deckel durch die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten mit einem Druck beaufschlagt wird, einen zweiten Deckel (110), der an der Ausstoßöffnung (104) des Gehäuses (100) vorgesehen ist und diese gewöhnlich verschließt, und so geöffnet wird, dass die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) ausstoßbar sind, ohne den zweiten Deckel (110) zu berühren, wenn die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) aus dem Gehäuse (100) ausgestoßen werden, sowie einen Sensor (108) zum Erfassen der Anwesenheit der Druckplatte (12), wobei der zweite Deckel (110) auf der Grundlage der Erfassung der Druckplatte (12) durch den Sensor (108) geschlossen wird.
Automatische Entwicklervorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass weiterhin ein Oberflächendeckel (250) vorgesehen ist, welcher die Oberfläche der Entwicklerlösung abdeckt und berührt, die sich in dem Entwicklerbehälter (18) ansammelt, und welcher die Entwicklerlösung gegenüber der Luft isoliert.
Automatische Entwicklervorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass in der Vorrichtung die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) behandelt werden, während die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) zwischen einem Rollenpaar (52) angeordnet sind und durch dieses befördert werden, um überschüssige Behandlungslösung aus den lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten (12) herauszuquetschen, und dass weiterhin vorgesehen sind: eine Lösungszufuhrvorrichtung (56), die an einer stromaufwärtigen Seite des Rollenpaares (52) vorgesehen ist und die Behandlungslösung heraustropfen lässt, sowie eine Behandlungslösungs-Begrenzungseinrichtung (60), die an einer stromaufwärtigen Seite der Lösungszufuhrvorrichtung (56) angeordnet ist und die Bewegung der Behandlungslösung begrenzt, wobei die Behandlungslösung durch das Rollenpaar (52) und die Behandlungslösungs-Begrenzungseinrichtung (60) gesammelt wird.
Automatische Entwicklervorrichtung zur Behandlung lichtempfindlicher lithographischer Druckplatten (12), gekennzeichnet durch: einen Entwicklungsabschnitt (22), der einen der Behandlungsabschnitte der automatischen Entwicklervorrichtung darstellt, in welchem eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) durch eine Entwicklerlösung behandelt wird, während sie gefördert wird; einen Spülabschnitt (24) zum Abspülen der Entwicklerlösung von der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte (12) durch Zufuhr einer Spüllösung zu beiden Oberflächen der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte (12), während die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) gefördert wird, wobei die Spüllösung auf eine obere Oberfläche der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte (12) tropft, und wobei die Spüllösung, die von der oberen Oberfläche herabfließt, gesammelt wird, um einer unteren Oberfläche der Druckplatte (12) zugeführt zu werden, und wobei überschüssige Spüllösung ausgestoßen wird; und ein Gehäuse (100) zum Umschließen eines Behandlungsbereichs der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte (12) einschließlich zumindest entweder des Entwicklerabschnitts (22) oder des Spülabschnitts (24), um zu verhindern, dass zumindest entweder die Entwicklerlösung oder die Spüllösung der Außenumgebung ausgesetzt wird, wobei das Gehäuse (100) eine Einsetzöffnung (102) aufweist, durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) in das Gehäuse (100) eingeführt wird, und eine Ausstoßöffnung (104), durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) aus dem Gehäuse (100) ausgestoßen wird, wobei die Spüllösung Wasser ist, und wobei das Wasser, welches zum Spülen verwendet wurde, von dem Spülabschnitt (24) dem Entwicklerabschnitt (22) als Verdünnungslösung zum Nachfüllen von Lösung eines Entwicklermittels zugeführt wird.
Automatische Entwicklervorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass weiterhin Unterteilungsplatten vorgesehen sind, welche den Behandlungsabschnitt in einzelne Behandlungsabschnitte oder Blöcke unterteilen, welche mehrere Behandlungsabschnitte auf weisen, und die Blöcke so unterteilen, dass keine Störung mit dem Durchgang der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte (12) erfolgt.
Automatische Entwicklervorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass dann, wenn die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) durch die Ausstoßöffnung (104) gelangt, sich eine der Unterteilungsplatten, die an der Ausstoßöffnung (104) vorgesehen ist, aus ihrer Abschirmposition zurückzieht in eine Position, in welcher diese Unterteilungsplatte nicht die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) berührt.
Automatische Entwicklervorrichtung für lichtempfindliche lithographische Druckplatten (12), bei welcher eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) so gefördert wird, dass sie zumindest durch entweder einen Entwicklerabschnitt (22) oder einen Spülabschnitt (24) gelangt, welche Behandlungsabschnitte für die Behandlung der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte (12) darstellen, gekennzeichnet durch: ein Gehäuse (100), welches einen Behandlungsabschnitt der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte (12) umschließt, einschließlich zumindest eines der Behandlungsabschnitte, um zu verhindern, dass zumindest eine der Behandlungslösungen der Außenumgebung ausgesetzt wird, wobei das Gehäuse (100) mit einer Einsetzöffnung (102) versehen ist, durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) eingeführt wird, und einer Ausstoßöffnung (104), durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) ausgestoßen wird; Unterteilungsplatten, welche den Behandlungsabschnitt so unterteilen, dass Blöcke für jeden Behandlungsabschnitt und Blöcke für mehrere Behandlungsabschnitte gebildet werden, wobei die Unterteilungsplatten zwischen den Blöcken, an der Einsetzöffnung (102) und der Ausstoßöffnung (104) des Gehäuses (100) vorgesehen sind, und die Unterteilungsplatten die Einsetzöffnung (102) und die Ausstoßöffnung (104) schließen und jeden der Blöcke abteilen, ohne den Durchgang der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte (12) zu stören; eine Bewegungseinrichtung zum Bewegen der Unterteilungsplatten in geschlossene Positionen und offene Positionen; und einen Sensor (108) zum Erfassen der Anwesenheit einer Druckplatte (12), wobei sich, wenn die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) durch die Behandlungsabschnitte gelangt, eine der Unterteilungsplatten, die an der Ausstoßöffnung (104) vorgesehen ist, in eine Position zurückzieht, bei der diese eine Unterteilungsplatte die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) nicht berührt, auf der Basis der Erfassung der Druckplatte (12) durch den Sensor (108).
Automatische Entwicklervorrichtung zur Behandlung lichtempfindlicher lithographischer Druckplatten (12), in welcher eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) gefördert und durch zumindest eine Entwicklerlösung in einem Behandlungsabschnitt behandelt wird, der einen Entwicklerabschnitt (22) und einen Spülabschnitt (24) aufweist, gekennzeichnet durch: ein Gehäuse (100), um zu verhindern, dass zumindest die Entwicklerlösung der Außenumgebung ausgesetzt ist, und um zumindest den Entwicklerabschnitt (22) zu umschließen, in welchem die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) durch die Entwicklerlösung behandelt wird, wobei das Gehäuse (100) mit einer Einsetzöffnung (102) versehen ist, durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) eingeführt wird, und mit einer Ausstoßöffnung (104), durch welche die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) ausgestoßen wird; Unterteilungsplatten (106, 110), die an der Einsetzöffnung (102) und der Ausstoßöffnung (104) vorgesehen sind, und die Einsetzöffnung (102) und die Ausstoßöffnung (104) öffnen und schließen, ohne die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) zu stören, wenn diese durch die Einsetzöffnung (102) und die Ausstoßöffnung (104) gelangt; eine Spüllösungszufuhreinrichtung (56), um Spüllösung zuzuführen, die zur Behandlung der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte (12) in dem Spülabschnitt (24) verwendet wurde, von dem Spülabschnitt (24) zu dem Entwicklerabschnitt (22) als Verdünnungslösung zum Verdünnen von Nachfüll-Lösung, die zum Nachfüllen der Entwicklerlösung in dem Entwicklerabschnitt (22) verwendet wird, wobei die Spüllösung Wasser ist; und einen Sensor (108) zum Erfassen der Anwesenheit einer Druckplatte (12), wobei sich, wenn die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) durch die Behandlungsabschnitte gelangt, eine der Unterteilungsplatten (110), die an der Ausstoßöffnung (104) vorgesehen ist, in eine Position zurückzieht, bei der diese eine Unterteilungsplatte (110) die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (12) nicht berührt, auf der Basis der Erfassung der Druckplatte (12) durch den Sensor (108).