JPH11237434A - 半導体素子試験用キャリア及び半導体素子試験方法及び半導体素子試験用装置 - Google Patents

半導体素子試験用キャリア及び半導体素子試験方法及び半導体素子試験用装置

Info

Publication number
JPH11237434A
JPH11237434A JP10037718A JP3771898A JPH11237434A JP H11237434 A JPH11237434 A JP H11237434A JP 10037718 A JP10037718 A JP 10037718A JP 3771898 A JP3771898 A JP 3771898A JP H11237434 A JPH11237434 A JP H11237434A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor element
membrane type
contactor
semiconductor device
type contactor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10037718A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3949256B2 (ja
Inventor
Makoto Haseyama
誠 長谷山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP03771898A priority Critical patent/JP3949256B2/ja
Priority to US09/190,028 priority patent/US6445200B2/en
Priority to KR10-1998-0048873A priority patent/KR100392103B1/ko
Publication of JPH11237434A publication Critical patent/JPH11237434A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3949256B2 publication Critical patent/JP3949256B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/04Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
    • G01R1/0408Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
    • G01R1/0433Sockets for IC's or transistors
    • G01R1/0483Sockets for un-leaded IC's having matrix type contact fields, e.g. BGA or PGA devices; Sockets for unpackaged, naked chips

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明はメンブレン式コンタクタを用いて半導
体素子に対して試験を行う構成とされた半導体素子試験
用キャリア及び半導体素子試験方法及び半導体素子試験
用装置に関し、組み立て時及び試験実施時において半導
体素子とメンブレン状コンタクタとの間で位置ずれが発
生することを防止することを課題とする。 【解決手段】半導体素子22の電極部と電気的な接続を行
うコンタクトを備えた半導体素子試験用キャリアにおい
て、メンブレン式コンタクタ24A と、半導体素子22を搭
載する面と反対側の面よりメンブレン式コンタクタ24A
を半導体素子22に向けて加圧する加圧機構28A と、半導
体素子22のメンブレン式コンタクタ24A と接続する面と
反対の面を保持する加圧保持体26A とを具備し、かつ加
圧保持体28A に突出形成されることにより半導体素子22
を保持した状態でメンブレン式コンタクタ24A と加圧保
持体26A とを当接させる当接部30A を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子試験用キ
ャリア及び半導体素子試験方法及び半導体素子試験用装
置に係り、特にメンブレン式コンタクタを用いて半導体
素子(ベアチップ、BGA(Ball Grid Array),SOP(S
mall Outline Package),QFP(Quad FlatPackage)等
を含む)に対して試験を行う構成とされた半導体素子試
験用キャリア及び半導体素子試験方法及び半導体素子試
験用装置に関する。
【0002】近年の電子回路は、小型化、高速化、高密
度化が要求されている。このため、これらの電子回路に
配置される電極についても、小型化、高速化、高密度化
に対応すべく微細化が図られ、このような電子回路に対
し試験や実装を行う場合、確実に電気的な接続を得るた
めのコンタクタが求められている。このようなコンタク
タとしては、近年PI(ポリイミド)フィルム上に導電
パターンを施した形態のメンブレン(薄膜)状コンタク
タが用いられるケースが増えてきており、このようなコ
ンタクタを備えた半導体素子、特にベアチップ用の試験
用キャリアが開発されている。
【0003】
【従来の技術】従来のメンブレン状コンタクタを備えた
半導体素子試験用キャリアは、通常被試験対象となる半
導体素子をメンブレン状コンタクタの所定の位置に搭載
した後、この半導体素子を前記メンブレン状コンタクタ
に押しつけるための加圧機構を半導体素子背面(メンブ
レン状コンタクタと接触させる面と反対面)に設置する
構成となっている。。つまり、キャリア構造としては、
下部よりメンブレン状コンタクタ−半導体素子−加圧機
構という3重構造を基本としている。
【0004】この種の半導体素子試験用キャリアとし
て、例えば図13に示すものが従来より知られている。
同図に示す半導体素子試験用キャリア1は、大略すると
メンブレン式コンタクタ3,枠体4,キャップ5,加圧
機構7,フェンス10,及びクッション材11等により
構成されている。
【0005】メンブレン式コンタクタ3は枠体4の上面
に配設されており、その外周部に形成されたテスターパ
ッド(図示せず)にはテスター信号が供給されるよう構
成されている。また、メンブレン式コンタクタ3の上部
には、半導体素子2を所定の位置に収めるためのフェン
ス10が設けられており、半導体素子試験用キャリア1
の外部からの衝撃、振動が加わっても半導体素子2がズ
レないよう構成されている。
【0006】加圧機構7は、加圧板8及びコイルバネ9
とにより構成されている。コイルバネ9の上端部は連結
棒6により枠体4上に支持されたキャップ5に当接して
おり、またコイルバネ9の下端部は加圧板8に当接して
いる。このコイルバネ9は、加圧板8を下方に向け付勢
する弾性力を発生させる。この加圧機構7は、コイルバ
ネ9の力により加圧板8を介して半導体素子2をメンブ
レン式コンタクタ3に向け加圧し、これにより半導体素
子2とメンブレン式コンタクタ3との良好な電気的接続
が得られるよう構成されている。
【0007】また、枠体4 の半導体素子2と対向する位
置には凹部が形成されており、この凹部内にはクッショ
ン材11が配設されている。このクッション材11は、
メンブレン式コンタクタ3の半導体素子搭載面と反対側
の面に当接しており、前記した加圧機構7の加圧力を受
ける機能を奏する。また、半導体素子試験用キャリア1
と半導体素子2との組み立て工程としては、先ず半導体
素子2をメンブレン状コンタクタ3の既定位置に装着す
る。この際、半導体素子2の電極とメンブレン状コンタ
クタ3の電極が確実に接続されるよう高精度に位置決め
する。その後、前記加圧機構7を装着し、半導体素子2
の背面(メンブレン状コンタクタ3と接触させる面と反
対面)からメンブレン状コンタクタ3に向かって半導体
素子2を加圧する。このように組み立てられた半導体素
子試験用キャリア1の形態で、半導体素子2に対し試験
を実施する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の半導
体素子試験用キャリア1は、半導体素子2をメンブレン
状コンタクタ3に搭載した後に加圧機構7をセットする
構成とされており、かつ加圧機構7(加圧板8)は直接
半導体素子2に当接する構成とされていたため、半導体
素子2をメンブレン状コンタクタ3に高精度に搭載して
も、加圧機構7のセット時に加圧板8が半導体素子2に
衝撃することにより、高精度に位置合わされた半導体素
子2とメンブレン状コンタクタ3との間で位置ずれが発
生してしまうという問題点があった。
【0009】また、試験工程実施中において、半導体素
子試験用キャリア1に種々の衝撃・振動等が印加された
場合、この衝撃・振動等は直接半導体素子2に伝わって
しまい、よって半導体素子試験用キャリア1の組み立て
後であっても、半導体素子2とメンブレン状コンタクタ
3との間で位置ずれが発生してしまう。このように、半
導体素子2とメンブレン状コンタクタ3との間で位置ず
れが発生すると、電極接触部分にダメージを与え、良好
な電気的接続が図れなくなるおそれがあるという問題点
があった。
【0010】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、組み立て時及び試験実施時において半導体素子と
メンブレン状コンタクタとの間で位置ずれが発生するこ
とを防止しうる半導体素子試験用キャリア及び半導体素
子試験方法及び半導体素子試験用装置を提供することを
目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、次の手段
を講じることにより解決することができる。請求項1記
載の発明では、被試験対象となる半導体素子の電極部と
電気的な接続を行うコンタクトを備えた半導体素子試験
用キャリアにおいて、前記コンタクトとして機能するメ
ンブレン式コンタクタと、前記半導体素子を搭載する面
と反対側の面より、前記メンブレン式コンタクタを前記
半導体素子に向けて加圧する加圧機構と、前記半導体素
子の前記メンブレン式コンタクタと接続する面と反対の
面を保持する加圧保持体とを具備し、かつ、前記メンブ
レン式コンタクタまたは前記加圧保持体の少なくとも一
方に突出形成されることにより、前記半導体素子を保持
した状態で前記メンブレン式コンタクタと前記加圧保持
体とを当接させる当接部を設けたことを特徴とするもの
である。
【0012】また、請求項2記載の発明では、前記請求
項1記載の半導体素子試験用キャリアにおいて、前記メ
ンブレン式コンタクタの外周部に、前記加圧保持体を囲
繞するよう硬質材よりなる枠体を設けたことを特徴とす
るものである。また、請求項3記載の発明では、前記請
求項1または2記載の半導体素子試験用キャリアにおい
て、前記半導体素子の搭載位置に対応する位置に開口部
が形成されると共に、上面に前記メンブレン式コンタク
タが配設されるコンタクタ装着体を設けたことを特徴と
するものである。
【0013】また、請求項4記載の発明では、前記請求
項3記載の半導体素子試験用キャリアにおいて、前記コ
ンタクタ装着体を樹脂により形成すると共に、前記メン
ブレン式コンタクタを前記コンタクタ装着体にインサー
ト成形により一体的な構成としたことを特徴とするもの
である。
【0014】また、請求項5記載の発明では、前記請求
項3または4記載の半導体素子試験用キャリアにおい
て、前記コンタクタ装着体の熱膨張係数と前記メンブレ
ン式コンタクタの熱膨張係数を近似させたことを特徴と
するものである。また、請求項6記載の発明では、前記
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体素子試験
用キャリアにおいて、前記加圧機構として、ブロック状
の弾性体を用いたことを特徴とするものである。
【0015】また、請求項7記載の発明では、前記請求
項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体素子試験用キ
ャリアにおいて、前記加圧機構として、気体を圧縮封止
した構成の気体ばねを用いたことを特徴とするものであ
る。
【0016】また、請求項8記載の発明では、前記 請
求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体素子試験用
キャリアにおいて、前記加圧機構として、圧縮性流体を
内封した液体ばねを用いたことを特徴とするものであ
る。
【0017】また、請求項9記載の発明では、前記請求
項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体素子試験用キ
ャリアにおいて、前記加圧機構として、前記メンブレン
式コンタクタの前記半導体素子を搭載する面側の圧力を
真空にする真空装置を用いたことを特徴とするものであ
る。
【0018】また、請求項10記載の発明では、前記請
求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体素子試験用
キャリアにおいて、前記加圧機構として、一対の磁石を
同極が対向するよう配置した磁石ばねを用いたことを特
徴とするものである。
【0019】また、請求項11記載の発明では、前記請
求項1乃至10のいずれか1項に記載の半導体素子試験
用キャリアにおいて、前記当接部が、前記半導体素子の
平面方向の位置決めを行う位置決め部材として機能する
よう構成したことを特徴とするものである。
【0020】また、請求項12記載の発明では、前記請
求項1乃至11のいずれか1項に記載の半導体素子試験
用キャリアにおいて、前記加圧保持体を導電性材料によ
り構成すると共に、前記メンブレン式コンタクタに前記
加圧保持体と電気的に接続される接地用パッドを設けた
ことを特徴とするものである。
【0021】また、請求項13記載の発明では、前記請
求項1乃至12のいずれか1項に記載の半導体素子試験
用キャリアにおいて、前記加圧保持体に、放熱フィンを
設けたことを特徴とするものである。また、請求項14
記載の発明では、前記請求項1乃至13のいずれか1項
に記載の半導体素子試験用キャリアを用いて、前記半導
体素子に対し試験を行う半導体素子試験方法において、
前記メンブレン式コンタクタの既定位置に前記半導体素
子を位置合わせして搭載する搭載工程と、前記加圧保持
体を前記メンブレン式コンタクタに装着することによ
り、前記半導体素子を前記メンブレン式コンタクタ上に
保持する保持工程と、前記加圧機構により、前記メンブ
レン式コンタクタを前記半導体素子を搭載する面と反対
側の面より前記半導体素子に向けて加圧する加圧工程
と、上記各工程を実施することにより形成される半導体
素子試験用キャリアをテスターを接続し、該テスターを
用いて前記半導体素子に対し試験を実施する試験工程と
を有することを特徴とするものである。
【0022】また、請求項15記載の発明では、前記請
求項1乃至13のいずれか1項に記載の半導体素子試験
用キャリアを用いて、前記半導体素子に対し試験を行う
半導体素子試験方法において、前記加圧保持体と前記半
導体素子とを固定した上で、前記加圧保持体を前記メン
ブレン式コンタクタの既定位置に位置合わせ装着するこ
とにより、前記半導体素子を前記メンブレン式コンタク
タ上に保持する保持工程と、前記加圧機構により、前記
メンブレン式コンタクタを前記半導体素子を搭載する面
と反対側の面より前記半導体素子に向けて加圧する加圧
工程と、上記各工程を実施することにより形成される半
導体素子試験用キャリアをテスターを接続し、該テスタ
ーを用いて前記半導体素子に対し試験を実施する試験工
程とを有することを特徴とするものである。
【0023】更に、請求項16記載の発明に係る半導体
素子試験用装置では、前記請求項1乃至13のいずれか
1項に記載の半導体素子試験用キャリアと、前記半導体
素子試験用キャリアを構成する前記メンブレン式コンタ
クタを保持すると共に、前記加圧機構と対向する位置に
開口部が形成されたベースと、前記半導体素子試験用キ
ャリアを構成する前記加圧保持体が設けられ、該加圧保
持体に前記半導体素子を搭載することにより、該半導体
素子を収納トレイと所定試験位置との間で搬送すると共
に、前記加圧保持体を前記メンブレン式コンタクタに装
着する搬送用ロボットとを具備することを特徴とするも
のである。
【0024】上記した各手段は、次のように作用する。
請求項1及び請求項14記載の発明によれば、加圧機構
は、半導体素子を搭載する面と反対側の面より、メンブ
レン式コンタクタを半導体素子に向けて加圧する。即
ち、加圧機構は半導体素子を直接加圧する構成とはされ
ていない。また、加圧保持体は、半導体素子のメンブレ
ン式コンタクタと接続する面と反対の面を保持する構成
とされている。
【0025】更に、メンブレン式コンタクタまたは加圧
保持体の少なくとも一方に当接部を突出形成し、この当
接部が半導体素子を保持した状態でメンブレン式コンタ
クタと加圧保持体とが当接するよう構成しているため、
外部からの衝撃・振動等が加圧保持体に印加されたとし
ても、加圧保持体はメンブレン式コンタクタ上で支えら
れているので、半導体素子とメンブレン式コンタクタの
位置がずれるようなことはない。また、加圧保持体に印
加された衝撃・振動は、当接部を介してメンブレン式コ
ンタクタ側に逃がすことができるため、半導体素子への
ダメージを軽減することが出来る。
【0026】また、請求項2記載の発明によれば、メン
ブレン式コンタクタの外周部に、加圧保持体を囲繞する
よう硬質材よりなる枠体を設けたことにより、可撓性を
有することにより変形し易いメンブレン式コンタクタの
外周部分の試験工程における取扱いを容易にすることが
できる。また、試験工程においてテスターのプローブを
メンブレン式コンタクタに接続する場合も、硬質材より
なる枠体が存在することにより、プローブの接続を確実
に行うことができる。
【0027】また、請求項3記載の発明によれば、半導
体素子の搭載位置に対応する位置に開口部が形成される
と共に、上面にメンブレン式コンタクタが配設されるコ
ンタクタ装着体を設けたことにより、可撓性を有するメ
ンブレン式コンタクタを単体として取り扱う必要がなく
なり、コンタクタ装着体に装着された状態で取り扱うこ
とができるため、半導体素子試験用キャリアの組み立て
時等におけるメンブレン式コンタクタの取り扱いを容易
とすることができる。
【0028】また、請求項4記載の発明によれば、コン
タクタ装着体を樹脂により形成すると共に、メンブレン
式コンタクタをコンタクタ装着体にインサート成形によ
り一体的な構成としたことにより、メンブレン式コンタ
クタとコンタクタ装着体とを別個に用意する必要がなく
なり、また両者を組み立てる工程も不要となるため、半
導体素子試験用キャリアの組み立て処理を容易かつ安価
に行うことができる。
【0029】また、請求項5記載の発明によれば、コン
タクタ装着体の熱膨張係数とメンブレン式コンタクタの
熱膨張係数とを合わせたため、例えばバーンイン等の高
温下で行われる試験が実施されても、コンタクタ装着体
とメンブレン式コンタクタとの間に熱膨張の収縮による
ずれ及び歪みが発生することを防止することができる。
【0030】また、請求項6記載の発明によれば、加圧
機構としてブロック状の弾性体を用いたことにより、加
圧機構を安価に短手番で入手することが出来る。また、
請求項7記載の発明によれば、加圧機構として気体を圧
縮封止した構成の気体ばねを用いたことにより、半導体
素子に対するメンブレン式コンタクタの加圧力分布を一
様とすることが可能となる。
【0031】また、請求項8記載の発明によれば、加圧
機構として圧縮性流体を内封した液体ばねを用いたこと
により、高圧になった際の体積ロスがなく、また高温下
で実施される試験等においても加圧機構の体積変化を少
なくすることができる。また、請求項9記載の発明によ
れば、加圧機構としてメンブレン式コンタクタの半導体
素子を搭載する面側の圧力を真空にする真空装置を用い
たことにより、メンブレン式コンタクタを半導体素子に
圧着させる手段を講じるため、半導体素子試験用キャリ
ア自体に加圧機構を準備する必要がなくなり、キャリア
構成の簡素化を図ることができる。
【0032】また、請求項10記載の発明によれば、加
圧機構として一対の磁石を同極が対向するよう配置した
磁石ばねを用いたことにより、コイルスプリング等の機
械的な圧力に比べて、加圧平面全体に一様な力を発生さ
せることが出来る。また、請求項11記載の発明によれ
ば、当接部が半導体素子の平面方向の位置決めを行う位
置決め部材として機能するよう構成したことにより、試
験工程等において印加される衝撃・振動によっても半導
体素子とメンブレン式コンタクタの平面方向の位置を確
実に保持することができる。
【0033】また、請求項12記載の発明によれば、加
圧保持体を導電性材料により構成すると共に、メンブレ
ン式コンタクタに加圧保持体と電気的に接続される接地
用パッドを設けたことにより、半導体素子試験用キャリ
アを組み立てた際、接地パッドが加圧保持体と電気的に
接続されることにより加圧保持体は接地された状態とな
る。加圧保持体は半導体素子を覆うよう配設されるた
め、よってキャリア外部からの電磁波等の影響から被試
験対象となる半導体素子を保護することができる。
【0034】また、請求項13記載の発明によれば、加
圧保持体に放熱フィンを設けたことにより、試験中に半
導体素子から発生する熱を効率よく放熱することができ
る。また、請求項15記載の発明によれば、保持工程に
おいて、半導体素子の背面(メンブレン式コンタクタと
接続する面と反対の面)を保持する加圧保持体と半導体
素子とを固定した状態でメンブレン式コンタクタの既定
位置に位置合わせ搭載するため、メンブレン式コンタク
タに対する半導体素子の位置合わせ後から加圧保持体の
装着までの間に半導体素子とメンブレン式コンタクタと
の間に位置ずれが発生することを防止することができ
る。
【0035】更に、請求項16記載の発明によれば、搬
送用ロボットは、半導体素子をベースに配設されたメン
ブレン式コンタクタ上の所定試験位置と収納トレイとの
間を搬送させるため、半導体素子に対する試験の自動化
を図ることができ、試験効率の向上を図ることができ
る。
【0036】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面と共に説明する。図1及び図2は、本発明の第1
実施例である半導体素子試験用キャリア20Aを示して
いる。図1は半導体素子試験用キャリア20Aの分解図
であり、図2は半導体素子試験用キャリア20Aの組み
立てた状態を示す図である。
【0037】各図に示されるように、半導体素子試験用
キャリア20Aは、メンブレン式コンタクタ24A,加
圧保持機構26A,及び加圧機構28A等により構成さ
れている。メンブレン式コンタクタ24Aは可撓性を有
したフィルム状の部材であり、PI(ポリイミド)フィ
ルム上に所定の導電パターンを形成した構成とされてい
る。このメンブレン式コンタクタ24Aの半導体素子2
2が搭載される既定位置には、半導体素子22に形成さ
れた電極と対応するよう素子接続用パッド98(図10
参照)が形成されている。
【0038】加圧保持体26Aは、本実施例では絶縁性
を有した硬質樹脂により形成されており、その内側中央
部分には半導体素子22と対向する凹部44が形成さ
れ、また外周部分は図中下方に向け(メンブレン式コン
タクタ24Aに向け)突出した当接部30Aが形成され
ている。尚、凹部44の大きさは半導体素子22の大き
さに比べて大きく設定されている。
【0039】また、加圧機構28Aは、後に詳述するよ
うに、例えばばね等を用いることにより、加圧板36A
を図中上方に向け(メンブレン式コンタクタ24Aに向
け)弾性付勢しうる構成とされている。ここで、本実施
例に係る半導体素子試験用キャリア20Aの半導体素子
22,メンブレン式コンタクタ24A,加圧保持機構2
6A,及び加圧機構28Aの配置関係に注目すると、メ
ンブレン式コンタクタ24Aの上部に先ず半導体素子2
2が位置し、更にその上部に加圧保持体26Aが位置す
る構成とされている。また、加圧機構28Aはメンブレ
ン式コンタクタ24Aの下部に位置した構成とされてい
る。
【0040】従って、加圧機構36Aは、半導体素子2
2を搭載する面(以下、表面という)と反対側の面(以
下、裏面という)より、メンブレン式コンタクタ24A
を半導体素子22に向けて加圧する構成となる。また、
加圧保持体26Aは、半導体素子試験用キャリア20A
を組み立てた状態において、半導体素子22の前記メン
ブレン式コンタクタ24Aと接続する面と反対の面(図
中の上面)を保持する。また、この半導体素子22を保
持した状態において、加圧保持体26Aに設けられた当
接部30Aは、メンブレン式コンタクタま24Aと当接
した状態となっている。
【0041】上記構成とされた半導体素子試験用キャリ
ア20Aを組み立てる方法としては、2種類の方法が考
えられる。一つ目の方法(以下、第1の方法という)と
しては、先ずメンブレン式コンタクタ24Aの既定位置
に半導体素子22を位置合わせして搭載する搭載工程を
実施する。半導体素子22がメンブレン式コンタクタ2
4A上に搭載されると、続いて加圧保持体26Aをメン
ブレン式コンタクタ24Aに装着することにより、半導
体素子22をメンブレン式コンタクタ24A上に保持す
る保持工程を実施する。この保持工程を実施した時点
で、加圧保持体26Aに設けられている当接部30Aは
メンブレン式コンタクタ24Aに当接する。
【0042】続いて、加圧機構28Aを用いてメンブレ
ン式コンタクタ24Aを裏面(半導体素子22を搭載す
る面と反対側の面)より、半導体素子22に向けて加圧
する加圧工程を実施する。これにより、メンブレン式コ
ンタクタ24Aは半導体素子22に加圧され、かつ半導
体素子22の上面は加圧保持体26Aに保持されている
ため、上記加圧力は半導体素子22とメンブレン式コン
タクタ24Aとの接続部(即ち、半導体素子22の電極
部とメンブレン式コンタクタ24Aの素子接続用パッド
98との接続部)に印加される。よって、半導体素子2
2とメンブレン式コンタクタ24Aは電気的に接続され
る。
【0043】続いて、半導体素子試験用キャリア20A
をテスターを接続し、このテスターを用いて半導体素子
22に対し試験を実施する試験工程を実施する。もう一
つの方法(以下、第2の方法という)は、先ず加圧保持
体26Aに半導体素子22を固定する。そして、この半
導体素子22を加圧保持体26Aに固定した状態を維持
しつつ、加圧保持体26Aをメンブレン式コンタクタ2
4Aの既定位置に位置合わせ装着し、これにより半導体
素子22をメンブレン式コンタクタ24Aの既定位置に
保持する(保持工程)。この保持工程が終了した時点
で、加圧保持体26Aに形成された当接部30Aはメン
ブレン式コンタクタ24Aに当接した状態となってい
る。 以後の工程は、前述した工程と同様であり、加圧
工程を実施することにより、メンブレン式コンタクタ2
4Aを半導体素子22に加圧し、半導体素子22とメン
ブレン式コンタクタ24Aとを電気的に接続する。続い
て、半導体素子試験用キャリア20Aをテスターを接続
し、このテスターを用いて半導体素子22に対し試験を
実施する試験工程を実施する。
【0044】前記した第1の方法と第2の方法を比較す
ると、第2の方法では、保持工程において半導体素子2
2を固定した状態の加圧保持体26Aをメンブレン式コ
ンタクタ24Aの既定位置に位置合わせ搭載する構成と
しているため、第1の方法に比べ、メンブレン式コンタ
クタ24Aに対する半導体素子22の位置合わせ後から
加圧保持体ま26Aの装着までの間に半導体素子22と
メンブレン式コンタクタ24Aとの間に位置ずれが発生
することを防止することができるという効果を有してい
る。
【0045】ここで、図2に示される組み立て状態の半
導体素子試験用キャリア20Aに注目すると、組み立て
られた状態(即ち、半導体素子22が加圧保持体26A
に保持された状態)では、加圧保持体26Aに形成され
た当接部30Aはメンブレン式コンタクタ24Aと当接
した構成となっている。このため、外部からの衝撃・振
動等が加圧保持体26Aに印加されたとしても、加圧保
持体26Aはメンブレン式コンタクタ24A上で支えら
れているので、半導体素子22とメンブレン式コンタク
タ24Aとの間で位置ずれが発生するようなことはな
い。
【0046】また、加圧保持体26Aに印加された衝撃
・振動は、当接部30Aを介してメンブレン式コンタク
タ24A側に逃げるため、半導体素子22へのダメージ
を軽減することができる。よって、半導体素子22とメ
ンブレン式コンタクタ24Aとの接続状態を良好な状態
に保つことができ、試験の信頼性の向上及び半導体素子
22の損傷を確実に防止することができる。
【0047】続いて、本発明の第2実施例について説明
する。図3は、第2実施例である半導体素子試験用キャ
リア20Bの断面図である。尚、図3において、図1及
び図2に示した第1実施例に係る半導体素子試験用キャ
リア20Aと同一構成については同一符号を付してその
説明を省略する。本実施例では、加圧保持体26Bの側
部に爪部32を形成し、この爪部32が加圧機構28B
の下部に形成された係合部34に係合するよう構成され
ている。また、メンブレン式コンタクタ24Aの爪部3
2の形成位置に対応する位置には孔が形成されており、
よってこの孔を挿通することにより爪部32はメンブレ
ン式コンタクタ24Aの下方へ延出しうる構成とされて
いる。
【0048】また、加圧機構28Bは、内部に形成され
た凹部内に上下方向に移動可能な構成で加圧板36Aが
配設されており、かつ加圧板36Aの下部にはコイルス
プリング38が配設されている。このコイルスプリング
38の弾性力により、加圧板36Aは図中上方に向け付
勢された構成とされている。上記構成とされた加圧保持
体26B及び加圧機構28Bは、メンブレン式コンタク
タ24Aを挟んでその上部に加圧保持体26Bが配設さ
れ、下部に加圧機構28Bが配設される。そして、加圧
保持体26Bに形成された爪部32を加圧機構28Bに
形成された係合部34に係合させることにより、メンブ
レン式コンタクタ24A,加圧保持体26B,及び加圧
機構28Bは一体化される。
【0049】この状態において、加圧保持体26Bは半
導体素子22を保持すると共に当接部30Bはメンブレ
ン式コンタクタ24Aと当接している。また、加圧機構
28Bは、メンブレン式コンタクタ24Aの下側から半
導体素子22に向けメンブレン式コンタクタ24Aを加
圧している。よって、本実施例においても、半導体素子
22とメンブレン式コンタクタ24Aとの接続状態を良
好な状態に保つことができ、試験の信頼性の向上及び半
導体素子22の損傷を確実に防止することができる。
【0050】ここで、メンブレン式コンタクタ24Aの
外周部に注目すると、メンブレン式コンタクタ24Aの
外周部には、加圧保持体26Bを囲繞する枠体40が配
設されている。この枠体40は枠体上部半体41と枠体
下部半体42とにより構成されており、各半体41,4
2を接着手段或いは機械的固定手段によりメンブレン式
コンタクタ24Aの外周部にこれを挟持するよう配設さ
れている。この枠体40は、絶縁性を有した硬質樹脂に
より形成されている。
【0051】本実施例のように、メンブレン式コンタク
タ24Aの外周部に硬質材よりなる枠体40を設けたこ
とにより、可撓性を有することにより変形し易いメンブ
レン式コンタクタ24Aの外周部分の試験工程時におけ
る取扱いを容易にすることができる。また、試験工程に
おいてテスターのプローブをメンブレン式コンタクタ2
4Aの外周部に接続する場合も、硬質材よりなる枠体4
0が存在することによりプローブの接続を確実に行うこ
とができる。
【0052】続いて、本発明の第3実施例について説明
する。図4及び図5は、第3実施例に係る半導体素子試
験用キャリア20Cを示している。図4は半導体素子試
験用キャリア20Cの分解図であり、図5(A)は半導
体素子試験用キャリア20Cの組み立て状態を示す平面
図であり、更に図5(B)は半導体素子試験用キャリア
20Cの組み立て状態を示す断面図である。尚、図4及
び図5において、図1乃至図3に示した第1及び第2実
施例に係る半導体素子試験用キャリア20A,20Bと
同一構成については同一符号を付してその説明を省略す
る。
【0053】本実施例で採用している加圧機構28C
は、本体部56Aと加圧板36Bとにより構成されてい
る。本体部56Aの下部には爪部58形成されると共
に、上部には加圧板36Bの脱落を防止する係止部60
が形成されている。加圧板36Bは本体部56Aに形成
された凹部内を上下方向に移動可能に取り付けられてお
り、また加圧板36Bと本体部56Aとの間に配設され
たコイルスプリング38により図中上方向に弾性付勢さ
れた構成とされている。
【0054】また本実施例では、メンブレン式コンタク
タ24Aが配設されるコンタクタ装着体46Aを設けた
ことを特徴としている。このコンタクタ装着体46A
は、例えば絶縁性樹脂により形成されており、半導体素
子22の搭載位置に対応する位置に開口部48が形成さ
れると共に、上面にメンブレン式コンタクタ24Aが配
設される構成とされている。
【0055】また、コンタクタ装着体46Aの外周部分
には鍔部52が形成されると共に、この鍔部52には加
圧保持体26Cなに形成された爪部32が挿通する貫通
孔54が形成されている。更に、開口部48の内周所定
位置には、加圧機構28Cに形成された爪部58が係合
する係合部50が形成されている。上記のように、メン
ブレン式コンタクタ24Aはコンタクタ装着体46Aの
上面に配設されるが、本実施例では、メンブレン式コン
タクタ24Aをコンタクタ装着体46Aに固定する手段
としてインサート成形法を用いている。即ち、樹脂形成
品であるコンタクタ装着体46Aを成形する際、予め金
型内にメンブレン式コンタクタ24Aを装着しておき、
その上でコンタクタ装着体46Aとなる樹脂を金型内に
モールドする。
【0056】このように、メンブレン式コンタクタ24
Aをコンタクタ装着体46Aにインサート成形により一
体成形することにより、メンブレン式コンタクタ24A
とコンタクタ装着体46Aとを別個に形成する必要がな
くなり、また両者を組み立てる工程も不要となるため、
半導体素子試験用キャリア20Cの製造工程を容易かつ
安価に行うことができる。尚、製造工程の複雑化は伴う
ものの、メンブレン式コンタクタ24Aとコンタクタ装
着体46Aとを接着剤を用いて接合、またはネジ等を用
いて機械的に固定する方法も可能である。
【0057】上記構成とされた半導体素子試験用キャリ
ア20Cを組み立てるには、先ず半導体素子22をコン
タクタ装着体46Aに配設されたメンブレン式コンタク
タ24A上の既定位置に位置決めして搭載すると共に、
加圧保持体26Cをメンブレン式コンタクタ24Aの上
部よりコンタクタ装着体46Aに装着する。具体的に
は、加圧保持体26Cに形成されている爪部32を貫通
孔54内に挿入し(メンブレン式コンタクタ24Aの貫
通孔54と対向する位置にも孔が形成されている)、爪
部32をコンタクタ装着体46Aの下縁部に係合させ
る。
【0058】このように、加圧保持体26Cをコンタク
タ装着体46Aに装着した状態において、加圧保持体2
6Cに形成された当接部30Cはメンブレン式コンタク
タ24Aと当接しており、かつ加圧保持体26Cは半導
体素子22の上面と当接することにより、この半導体素
子22を保持した状態となっている。続いて、加圧機構
28Cをメンブレン式コンタクタ24Aの裏面側からコ
ンタクタ装着体46Aに装着する。そして、爪部58が
係合部50に係合することにより、加圧機構28Cはコ
ンタクタ装着体46Aに装着された状態となる。この装
着状態において、図5(B)に示されるように、加圧板
36Bはメンブレン式コンタクタ24Aの裏面に当接
し、コイルスプリング38の弾性力をもってメンブレン
式コンタクタ24Aを半導体素子22に向け押圧する。
【0059】この際、加圧機構28Cはメンブレン式コ
ンタクタ24Aの裏面に当接し、直接半導体素子22に
は当接しておらず、また半導体素子22を保持する加圧
保持体26Cの当接部30Cはメンブレン式コンタクタ
24Aと当接した状態を維持している。よって、本実施
例の構成によっても、半導体素子22とメンブレン式コ
ンタクタ24Aとの接続状態を良好な状態に保つことが
でき、試験の信頼性の向上及び半導体素子22の損傷を
確実に防止することができる。
【0060】一方、本実施例では、前記したようにメン
ブレン式コンタクタ24Aがコンタクタ装着体46Aに
装着された構成とされているため、可撓性を有するメン
ブレン式コンタクタ24Aを単体として取り扱う必要が
なくなり、コンタクタ装着体46Aに装着された状態で
取り扱うことができるため、半導体素子試験用キャリア
20Cの組み立て時等におけるメンブレン式コンタクタ
24Aの取り扱いを容易とすることができる。
【0061】更に、本実施例においては、コンタクタ装
着体46Aの熱膨張係数とメンブレン式コンタクタ24
Aの熱膨張係数とを略等しくなるよう構成している。具
体的には、前記のようにメンブレン式コンタクタ24A
はPI(ポリエチレン)を基材とするため、コンタクタ
装着体46Aの材料としてポリエーテルイミド(熱膨張
係数:25×10-6/℃)を用いている。
【0062】このように、コンタクタ装着体46Aとし
てポリエーテルイミドを用いた結果、常温下で行う試
験、及び高温下(約125℃)で実施されるバーンイン
試験においても、半導体素子22とメンブレン式コンタ
クタ24Aとの間に熱膨張の収縮によるずれ及び歪みが
発生することはなかった。よって、半導体素子22とメ
ンブレン式コンタクタ24Aとの接点部分にダメージが
発生することはなく、良好な試験結果を得ることができ
た。尚、必要であれば、コンタクタ装着体46Aの材料
として熱膨張係数:14×10-6/℃クラスのポリエー
テルイミドを用いてもよい。
【0063】続いて、本発明の第4乃至第7実施例につ
いて説明する。図6(A)〜(D)は、第4乃至第7実
施例に係る半導体素子試験用キャリアに設けられる加圧
機構28D〜28Gを示している。尚、第4乃至第7実
施例に係る半導体素子試験用キャリアは加圧機構28D
〜28Gに特徴を有し、他の構成は図4及び図5に示し
た第3実施例に係る半導体素子試験用キャリア20Cと
同一であるため、加圧機構28D〜28Gのみを図示し
て説明するものとする。
【0064】図6(A)は、第4実施例に係る半導体素
子試験用キャリアに設けられる加圧機構28Dを示して
いる。本実施例では、加圧機構28Dとして空気67
(他の気体を用いることも可能)を袋体66に圧縮封止
した構成の気体ばね64を用いたことを特徴とするもの
である。この構成の加圧機構28Dを用いることによ
り、半導体素子22に対するメンブレン式コンタクタ2
4Aの加圧力分布を一様とすることが可能となる。
【0065】また、空気67に代えて、圧縮性流体を袋
体66に内封した液体ばねを用いることも可能である。
この構成では、高圧になった際の体積ロスがなく、また
高温下で実施される試験等においても体積変化を少なく
することができる。図6(B)は、第5実施例に係る半
導体素子試験用キャリアに設けられる加圧機構28Eを
示している。
【0066】本実施例では、本体部56Cに移動可能な
構成で配設された加圧板36Cの側部にシール部材69
を設けることにより、本体部56Cに対し加圧板36C
が気密(液密)状態を維持しつつ移動可能な構成とした
ことを特徴とするものである。また、本体部56Cと加
圧板36Cとの間に形成される空間部分には、気体或い
は圧縮性流体が充填されている(図では、空気67を充
填した構成を示している)。
【0067】本実施例の構成によっても第4実施例と同
様に、気体を用いた場合には半導体素子22に対するメ
ンブレン式コンタクタ24Aの加圧力分布を一様とする
ことが可能となり、また圧縮性流体を用いた場合には高
圧になった際の体積ロスがなく、高温下で実施される試
験等においても体積変化を少なくすることができる。図
6(C)は、第6実施例に係る半導体素子試験用キャリ
アに設けられる加圧機構28Fを示している。
【0068】本実施例では、ゴム等の弾性体をブロック
状とした弾性体ブロック70を加圧機構28Fとして用
いたことを特徴とするものである。このような構成の弾
性体ブロック70は安価でかつ容易に入手することがで
きる。よって、加圧機構28Fを安価に短手番で入手す
ることが可能となる。図6(D)は、第7実施例に係る
半導体素子試験用キャリアに設けられる加圧機構28G
を示している。
【0069】本実施例では、加圧機構28Gとして第1
及び第2の磁石71,72を用いたことを特徴とするも
のである。第1の磁石71は本体部56Dに埋設されて
おり、また第2の磁石72は本体部56Dに対し上下方
向に移動可能とされた加圧板36Dに埋設されている。
また、第1及び第2の磁石71,72は、互いに同極が
対向するよう配設されている。
【0070】この構成とすることにより、第1の磁石7
1と第2の磁石72との間で反発力が発生し、この反発
力により加圧板36Dは本体部56Dに対し上動付勢さ
れ、従ってこの第1及び第2の磁石71,72は磁石ば
ねを構成することとなる。この磁石ばねを用いることに
より、コイルスプリング等の機械的な弾性力に比べて加
圧平面全体に一様な力を発生させることができ、安定し
た加圧処理を行うことが可能となる。
【0071】続いて、本発明の第8実施例について説明
する。図7は、第8実施例に係る半導体素子試験用キャ
リア20Dを示す断面図である。尚、図7において、図
1乃至図5に示した第1乃至第3実施例に係る半導体素
子試験用キャリア20A〜20Cと同一構成については
同一符号を付してその説明を省略する。また、以下説明
する各実施例についても同様とする。
【0072】本実施例に係る半導体素子試験用キャリア
20Dは、加圧機構28Hとして、メンブレン式コンタ
クタ24Aの半導体素子22を搭載する面側(表面側)
の圧力を真空にする真空装置を用いたことを特徴とする
ものである。具体的には、加圧保持体26Dに形成され
た凹部44と連通する真空引き孔74を設けるととも
に、この真空引き孔74に真空ポンプ78を接続する。
また、真空引き孔74と真空ポンプ78との間に、真空
を解除するための弁体76を設ける。
【0073】上記構成とされた半導体素子試験用キャリ
ア20Dを組み立てるには、先ず半導体素子22をコン
タクタ装着体46Bに配設されたメンブレン式コンタク
タ24A上の既定位置に位置決めして搭載すると共に、
加圧保持体26Dをメンブレン式コンタクタ24Aの上
部よりコンタクタ装着体46Bに装着する。この加圧保
持体26Dをコンタクタ装着体46Bに装着した状態に
おいて、加圧保持体26Dに形成された当接部30Cは
メンブレン式コンタクタ24Aと当接しており、かつ加
圧保持体26Dは半導体素子22の上面と当接すること
により半導体素子22を保持した状態となっている。
【0074】続いて、加圧機構28Hを構成する真空ポ
ンプ78を真空引き孔74に接続し、真空ポンプ78を
駆動させると共に、弁体76を操作して真空ポンプ78
と真空引き孔74とが連通した状態とする。これによ
り、凹部44内の空気は真空ポンプ78により吸引さ
れ、凹部44内の真空度は上昇する。一方、メンブレン
式コンタクタ24Aの裏面には大気圧が作用した状態で
あるため、メンブレン式コンタクタ24Aは半導体素子
22を加圧保持体26Dに押圧するよう変位する。
【0075】この際、加圧機構28Hは直接半導体素子
22には当接しておらず、また半導体素子22を保持す
る加圧保持体26Dの当接部30Cはメンブレン式コン
タクタ24Aと当接した状態を維持している。よって、
本実施例の構成によっても、半導体素子22とメンブレ
ン式コンタクタ24Aとの接続状態を良好な状態に保つ
ことができ、試験の信頼性の向上及び半導体素子22の
損傷を確実に防止することができる。
【0076】一方、本実施例では、前記したように加圧
機構28Hとしてメンブレン式コンタクタ24Aの半導
体素子22を搭載する面側の圧力を真空にする真空ポン
プ78を用いた構成としている。この構成では、半導体
素子試験用キャリア20D自体に加圧機構を準備する必
要がなくなり、キャリア構成の簡素化を図ることができ
る。即ち、コンタクト装着体46Bの開口部48には、
何も配設されない構成とすることができる。
【0077】続いて、本発明の第9実施例について説明
する。図8は、第9実施例に係る半導体素子試験用キャ
リアに設けられる加圧保持体26Aの近傍を拡大して示
す図である。本実施例では、加圧保持体26Aに放熱フ
ィン79を設けたことを特徴とするものである。前記し
てきた各実施例から明らかなように、半導体素子試験用
キャリアが組み立てられた状態において、加圧保持体2
6Aは半導体素子22と当接する構成とされている。よ
って、この加圧保持体26Aに放熱フィン79を設ける
ことにより、試験中に半導体素子22から発生する熱を
効率よく放熱することができる。尚、この構成の場合、
加圧保持体26Aの材質も、放熱特性の良好な材質を選
定することが望ましい。
【0078】続いて、本発明の第10実施例について説
明する。図9は、第10実施例に係る半導体素子試験用
キャリアに設けられる加圧保持体26A及びコンタクト
装着体46Cの近傍を拡大して示す図である。本実施例
では、当接部30Dをメンブレン式コンタクタ24Bに
設けると共に、この当接部30Dを半導体素子22の平
面方向の位置決めを行う位置決め部材として用いたこと
を特徴とするものである。この当接部30Dは、メンブ
レン式コンタクタ24B上に接着等により配設しても、
またメッキ法を用いてメンブレン式コンタクタ24B上
に金属を成長させた構成としてもよい。
【0079】本実施例のように、メンブレン式コンタク
タ24Bに当接部30Dを設ける構成とすることによ
り、加圧保持体26Eの下面(メンブレン式コンタクタ
24Bと対向する面)を平坦面とすることができ、前記
した各実施例のように当接部30A〜30Cを加圧保持
体側に形成する構成に比べ、その加工を容易に行うこと
ができる。
【0080】また、前記した各実施例と同様に組み立て
状態において、加圧保持体26Eは当接部30Dと当接
することにより、当接部30Dを介してメンブレン式コ
ンタクタ24B上に支持されており、かつこの状態にお
いて加圧保持体26Eは半導体素子22の上面と当接す
るよう構成されている。よって、本実施例によっても、
ね半導体素子22とメンブレン式コンタクタ24Aとの
接続状態を良好な状態に保つことができ、試験の信頼性
の向上及び半導体素子22の損傷を確実に防止すること
ができる。
【0081】更に本実施例では、当接部30Dが半導体
素子22の平面方向の位置決めを行う位置決め部材とし
て機能しているため、試験工程等において印加される衝
撃・振動によって、半導体素子22とメンブレン式コン
タクタ24Bの平面方向の位置を確実に保持することが
できる。よって、信頼性の高い試験を行うことが可能と
なり、かつ半導体素子22とメンブレン式コンタクタ2
4Bとの接合部分に応力が印加されることを防止するこ
ともできる。
【0082】続いて、本発明の第11実施例について説
明する。図10は、第11実施例に係る半導体素子試験
用キャリア20Eの加圧保持体26Fとメンブレン式コ
ンタクタ24Cとの接続部分を拡大して示す図である。
本実施例では、加圧保持体26Fを導電性材料により形
成している。具体的には、銅或いはアルミニウム等の導
電性金属により加圧保持体26Fを形成している。ま
た、メンブレン式コンタクタ24Cは、半導体素子22
と接続を行うための素子接続用パッド98に加え、加圧
保持体26Fと電気的接続を行うための接地用パッド9
6を設けた構成としている。この接地用パッド96は、
メンブレン式コンタクタ24Cに形成されている接地用
配線パターンに接続されている。
【0083】本実施例のように、加圧保持体26Fを導
電性材料により構成すると共に、メンブレン式コンタク
タ20Cに加圧保持体26Fと電気的に接続される接地
用パッド96を設けたことにより、半導体素子試験用キ
ャリア20Eを組み立てた際、接地パッド96が加圧保
持体26Fと電気的に接続される。これにより、加圧保
持体26Fは接地された状態となる。また、加圧保持体
26Fは前記のように半導体素子22を覆うよう配設さ
れるため、半導体素子試験用キャリア20Eを組み立て
た状態において、外部からの電磁波等の影響から被試験
対象となる半導体素子22を保護することが可能とな
る。また逆に、半導体素子22として高周波で駆動する
ものを用いた場合には、半導体素子22が発する電磁波
等が加圧保持体26Fの外部に漏洩することを防止する
ことができる。
【0084】続いて、本発明の一実施例である半導体素
子試験用装置について説明する。図11及び図12は、
本発明の一実施例である半導体素子試験用装置80を示
しており、図11は半導体素子試験用装置80を側面視
した要部構成図、図12は半導体素子試験用装置80を
平面視した要部構成図である。本実施例に係る半導体素
子試験用装置80は、前記した第1乃至第11実施例に
係る半導体素子試験用キャリア20A〜20Eの何れを
も適用することができるが、本実施例では第1実施例に
係る半導体素子試験用キャリア20A(加圧機構28I
のみ異なる)を適用した例について説明するものとす
る。
【0085】本実施例に係る半導体素子試験用装置80
は、大略するとメンブレン式コンタクタ24A,ベース
82,搬送用ロボット84等により構成されている。ベ
ース82は、メンブレン式コンタクタ24Aを上部に保
持すると共に、加圧機構28Iと対向する位置には開口
部88が形成されている。また、ベース82の上部に
は、図12に示されるように、試験前の半導体素子22
が収納される素子収納用トレイ90,試験を実施した後
に良品であると判断された半導体素子22が収納される
良品用トレイ92,及び試験を実施した後に不良品であ
ると判断された半導体素子22が収納される不良品用ト
レイ94が配設されている。
【0086】一方、搬送用ロボット84は、先端部に加
圧保持体26Aが配設されたアーム86を有しており、
このアーム86を図中矢印X方向,Z方向に直線移動さ
せると共に、図中矢印θで示す方向に回転可能な構成と
されている。よって、この搬送用ロボット84を用いる
ことにより、半導体素子22を素子収納トレイ90から
取り出しメンブレン式コンタクタ24Aの既定位置に装
着し試験を行い、試験終了した後は、試験結果に基づき
半導体素子22を良品用トレイ92或いは不良品用トレ
イ94に搬送することが可能となるるまた、加圧機構2
8Iはベース82の下部に配設されており、加圧板36
Eを図中矢印Z方向に移動させる構成とされている。本
実施例では、加圧機構28Iとしてエアシリンダを用い
ており、よって加圧板36Eの上下動を制御する事が可
能な構成とされている。
【0087】半導体素子試験用装置80を上記の構成と
することにより、搬送用ロボット84は、半導体素子2
2をベース82に配設されたメンブレン式コンタクタ2
4A上の所定試験位置と各トレイ90〜94との間で搬
送させることができるため、半導体素子22に対する試
験の自動化を図ることができる。よって、半導体素子2
2に対する試験効率の向上を図ることができ、また人手
による試験に比べて半導体素子22のメンブレン式コン
タクタ24Aに対する装着精度も向上し、信頼性の高い
試験を実施することが可能となる。
【0088】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、次に述べる
種々の効果を実現することができる。請求項1及び請求
項14記載の発明によれば、外部からの衝撃・振動等が
加圧保持体に印加されたとしても、加圧保持体はメンブ
レン式コンタクタ上で支えられているので、半導体素子
とメンブレン式コンタクタとの間で位置ずれが発生する
ことを防止できる。また、加圧保持体に印加された衝撃
・振動は、当接部を介してメンブレン式コンタクタ側に
逃がすことができるため、半導体素子へのダメージを軽
減することが出来る。
【0089】また、請求項2記載の発明によれば、可撓
性を有することにより変形し易いメンブレン式コンタク
タの外周部分の試験工程における取扱いを容易にするこ
とができると共に、試験工程においてテスターのプロー
ブをメンブレン式コンタクタに接続する場合も、プロー
ブの接続を確実に行うことができる。また、請求項3記
載の発明によれば、可撓性を有するメンブレン式コンタ
クタを単体として取り扱う必要がなくなり、コンタクタ
装着体に装着された状態で取り扱うことができるため、
半導体素子試験用キャリアの組み立て時等におけるメン
ブレン式コンタクタの取り扱いを容易とすることができ
る。
【0090】また、請求項4記載の発明によれば、メン
ブレン式コンタクタとコンタクタ装着体とを別個に用意
する必要がなくなり、また両者を組み立てる工程も不要
となるため、半導体素子試験用キャリアの組み立て処理
を容易かつ安価に行うことができる。また、請求項5記
載の発明によれば、例えばバーンイン等の高温下で行わ
れる試験が実施されても、コンタクタ装着体とメンブレ
ン式コンタクタとの間に熱膨張の収縮によるずれ及び歪
みが発生することを防止することができる。
【0091】また、請求項6記載の発明によれば、加圧
機構としてブロック状の弾性体を用いたことにより、加
圧機構を安価に短手番で入手することが出来る。また、
請求項7記載の発明によれば、加圧機構として気体を圧
縮封止した構成の気体ばねを用いたことにより、半導体
素子に対するメンブレン式コンタクタの加圧力分布を一
様とすることが可能となる。
【0092】また、請求項8記載の発明によれば、加圧
機構として圧縮性流体を内封した液体ばねを用いたこと
により、高圧になった際の体積ロスがなく、また高温下
で実施される試験等においても加圧機構の体積変化を少
なくすることができる。また、請求項9記載の発明によ
れば、半導体素子試験用キャリア自体に加圧機構を準備
する必要がなくなり、キャリア構成の簡素化を図ること
ができる。
【0093】また、請求項10記載の発明によれば、加
圧機構として一対の磁石を同極が対向するよう配置した
磁石ばねを用いたことにより、コイルスプリング等の機
械的な圧力に比べて、加圧平面全体に一様な力を発生さ
せることが出来る。また、請求項11記載の発明によれ
ば、試験工程等において印加される衝撃・振動によって
も半導体素子とメンブレン式コンタクタの平面方向の位
置を確実に保持することができる。
【0094】また、請求項12記載の発明によれば、半
導体素子試験用キャリアを組み立てた際、接地パッドが
加圧保持体と電気的に接続されることにより加圧保持体
は接地された状態となり、かつ加圧保持体は半導体素子
を覆うよう配設されるため、キャリア外部からの電磁波
等の影響から被試験対象となる半導体素子を保護するこ
とができる。
【0095】また、請求項13記載の発明によれば、加
圧保持体に放熱フィンを設けたことにより、試験中に半
導体素子から発生する熱を効率よく放熱することができ
る。また、請求項15記載の発明によれば、メンブレン
式コンタクタに対する半導体素子の位置合わせ後から加
圧保持体の装着までの間に半導体素子とメンブレン式コ
ンタクタとの間に位置ずれが発生することを防止するこ
とができる。
【0096】更に、請求項16記載の発明によれば、半
導体素子に対する試験の自動化を図ることができ、試験
効率の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例である半導体素子試験用キ
ャリアの分解図である。
【図2】本発明の第1実施例である半導体素子試験用キ
ャリアの組み立て状態を示す断面図である。
【図3】本発明の第2実施例である半導体素子試験用キ
ャリアの断面図である。
【図4】本発明の第3実施例である半導体素子試験用キ
ャリアの分解図である。
【図5】本発明の第3実施例である半導体素子試験用キ
ャリアを示す図であり、(A)は平面図、(B)は組み
立て状態を示す断面図である。
【図6】本発明の第4乃至第7実施例である半導体素子
試験用キャリアに組み込まれる加圧機構を説明するため
の図である。
【図7】本発明の第8実施例である半導体素子試験用キ
ャリアの断面図である。
【図8】本発明の第9実施例である半導体素子試験用キ
ャリアの加圧保持体近傍を拡大して示す図である。
【図9】本発明の第10実施例である半導体素子試験用
キャリアの要部を拡大して示す分解図である。
【図10】本発明の第11実施例である半導体素子試験
用キャリアの要部を拡大して示す断面図である。
【図11】本発明の第1実施例である半導体素子試験用
装置の要部構成を示す側面図である。
【図12】本発明の第1実施例である半導体素子試験用
装置の要部構成を示す平面図である。
【図13】従来の半導体素子試験用キャリアの一例を示
す構成図である。
【符号の説明】
20A〜20E 半導体素子試験用キャリア 22 半導体素子 24A〜24C メンブレン式コンタクタ 26A〜26F 加圧保持体 28A〜28I 加圧機構 30A〜30D 当接部 36A〜36E 加圧板 38 コイルスプリング 40 枠体 46A〜46C コンタクタ装着体 48 開口部 56A〜56D 本体部 64 気体ばね 69 シール部材 70 弾性体ブロック 71 第1の磁石 72 第2の磁石 74 真空引き孔 76 弁体 78 真空ポンプ 79 放熱フィン 80 半導体素子試験用装置 82 ベース 84 搬送用ロボット 86 アーム 88 開口部 90 素子収納用トレイ 92 良品用トレイ 94 不良品用トレイ 96 接地用パッド 98 素子接続用パッド

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被試験対象となる半導体素子の電極部と
    電気的な接続を行うコンタクトを備えた半導体素子試験
    用キャリアにおいて、 前記コンタクトとして機能するメンブレン式コンタクタ
    と、 前記半導体素子を搭載する面と反対側の面より、前記メ
    ンブレン式コンタクタを前記半導体素子に向けて加圧す
    る加圧機構と、 前記半導体素子の前記メンブレン式コンタクタと接続す
    る面と反対の面を保持する加圧保持体とを具備し、 かつ、前記メンブレン式コンタクタまたは前記加圧保持
    体の少なくとも一方に突出形成されることにより、前記
    半導体素子を保持した状態で前記メンブレン式コンタク
    タと前記加圧保持体とを当接させる当接部を設けたこと
    を特徴とする半導体素子試験用キャリア。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体素子試験用キャリ
    アにおいて、 前記メンブレン式コンタクタの外周部に、前記加圧保持
    体を囲繞するよう硬質材よりなる枠体を設けたことを特
    徴とする半導体素子試験用キャリア。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の半導体素子試験
    用キャリアにおいて、 前記半導体素子の搭載位置に対応する位置に開口部が形
    成されると共に、上面に前記メンブレン式コンタクタが
    配設されるコンタクタ装着体を設けたことを特徴とする
    半導体素子試験用キャリア。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の半導体素子試験用キャリ
    アにおいて、 前記コンタクタ装着体を樹脂により形成すると共に、前
    記メンブレン式コンタクタを前記コンタクタ装着体にイ
    ンサート成形により一体的な構成としたことを特徴とす
    る半導体素子試験用キャリア。
  5. 【請求項5】 請求項3または4記載の半導体素子試験
    用キャリアにおいて、前記コンタクタ装着体の熱膨張係
    数と前記メンブレン式コンタクタの熱膨張係数を近似さ
    せたことを特徴とする半導体素子試験用キャリア。
  6. 【請求項6】 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の
    半導体素子試験用キャリアにおいて、 前記加圧機構として、ブロック状の弾性体を用いたこと
    を特徴とする半導体素子試験用キャリア。
  7. 【請求項7】 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の
    半導体素子試験用キャリアにおいて、 前記加圧機構として、気体を圧縮封止した構成の気体ば
    ねを用いたことを特徴とする半導体素子試験用キャリ
    ア。
  8. 【請求項8】 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の
    半導体素子試験用キャリアにおいて、 前記加圧機構として、圧縮性流体を内封した液体ばねを
    用いたことを特徴とする半導体素子試験用キャリア。
  9. 【請求項9】 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の
    半導体素子試験用キャリアにおいて、 前記加圧機構として、前記メンブレン式コンタクタの前
    記半導体素子を搭載する面側の圧力を真空にする真空装
    置を用いたことを特徴とする半導体素子試験用キャリ
    ア。
  10. 【請求項10】 請求項1乃至5のいずれか1項に記載
    の半導体素子試験用キャリアにおいて、 前記加圧機構として、一対の磁石を同極が対向するよう
    配置した磁石ばねを用いたことを特徴とする半導体素子
    試験用キャリア。
  11. 【請求項11】 請求項1乃至10のいずれか1項に記
    載の半導体素子試験用キャリアにおいて、 前記当接部が、前記半導体素子の平面方向の位置決めを
    行う位置決め部材として機能するよう構成したことを特
    徴とする半導体素子試験用キャリア。
  12. 【請求項12】 請求項1乃至11のいずれか1項に記
    載の半導体素子試験用キャリアにおいて、 前記加圧保持体を導電性材料により構成すると共に、 前記メンブレン式コンタクタに前記加圧保持体と電気的
    に接続される接地用パッドを設けたことを特徴とする半
    導体素子試験用キャリア。
  13. 【請求項13】 請求項1乃至12のいずれか1項に記
    載の半導体素子試験用キャリアにおいて、 前記加圧保持体に、放熱フィンを設けたことを特徴とす
    る半導体素子試験用キャリア。
  14. 【請求項14】 請求項1乃至13のいずれか1項に記
    載の半導体素子試験用キャリアを用いて、前記半導体素
    子に対し試験を行う半導体素子試験方法において、 前記メンブレン式コンタクタの既定位置に前記半導体素
    子を位置合わせして搭載する搭載工程と、 前記加圧保持体を前記メンブレン式コンタクタに装着す
    ることにより、前記半導体素子を前記メンブレン式コン
    タクタ上に保持する保持工程と、 前記加圧機構により、前記メンブレン式コンタクタを前
    記半導体素子を搭載する面と反対側の面より前記半導体
    素子に向けて加圧する加圧工程と、 上記各工程を実施することにより形成される半導体素子
    試験用キャリアをテスターを接続し、該テスターを用い
    て前記半導体素子に対し試験を実施する試験工程とを有
    することを特徴とする半導体素子試験方法。
  15. 【請求項15】 請求項1乃至13のいずれか1項に記
    載の半導体素子試験用キャリアを用いて、前記半導体素
    子に対し試験を行う半導体素子試験方法において、 前記加圧保持体と前記半導体素子とを固定した上で、前
    記加圧保持体を前記メンブレン式コンタクタの既定位置
    に位置合わせ装着することにより、前記半導体素子を前
    記メンブレン式コンタクタ上に保持する保持工程と、 前記加圧機構により、前記メンブレン式コンタクタを前
    記半導体素子を搭載する面と反対側の面より前記半導体
    素子に向けて加圧する加圧工程と、 上記各工程を実施することにより形成される半導体素子
    試験用キャリアをテスターを接続し、該テスターを用い
    て前記半導体素子に対し試験を実施する試験工程とを有
    することを特徴とする半導体素子試験方法。
  16. 【請求項16】 請求項1乃至13のいずれか1項に記
    載の半導体素子試験用キャリアと、 前記半導体素子試験用キャリアを構成する前記メンブレ
    ン式コンタクタを保持すると共に、前記加圧機構と対向
    する位置に開口部が形成されたベースと、 前記半導体素子試験用キャリアを構成する前記加圧保持
    体が設けられ、該加圧保持体に前記半導体素子を搭載す
    ることにより、該半導体素子を収納トレイと所定試験位
    置との間で搬送すると共に、前記加圧保持体を前記メン
    ブレン式コンタクタに装着する搬送用ロボットとを具備
    することを特徴とする半導体素子試験用装置。
JP03771898A 1998-02-19 1998-02-19 半導体素子試験用キャリア及び半導体素子試験方法及び半導体素子試験用装置 Expired - Fee Related JP3949256B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03771898A JP3949256B2 (ja) 1998-02-19 1998-02-19 半導体素子試験用キャリア及び半導体素子試験方法及び半導体素子試験用装置
US09/190,028 US6445200B2 (en) 1998-02-19 1998-11-12 Semiconductor element testing carrier using a membrane contactor and a semiconductor element testing method and apparatus using such a carrier
KR10-1998-0048873A KR100392103B1 (ko) 1998-02-19 1998-11-14 반도체 소자 시험용 캐리어 및 반도체 소자 시험방법 및 반도체 소자 시험용 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03771898A JP3949256B2 (ja) 1998-02-19 1998-02-19 半導体素子試験用キャリア及び半導体素子試験方法及び半導体素子試験用装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11237434A true JPH11237434A (ja) 1999-08-31
JP3949256B2 JP3949256B2 (ja) 2007-07-25

Family

ID=12505303

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03771898A Expired - Fee Related JP3949256B2 (ja) 1998-02-19 1998-02-19 半導体素子試験用キャリア及び半導体素子試験方法及び半導体素子試験用装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6445200B2 (ja)
JP (1) JP3949256B2 (ja)
KR (1) KR100392103B1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008232628A (ja) * 2007-03-16 2008-10-02 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置の押さえ機構および半導体装置の検査方法
JP2011039048A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Samsung Electronics Co Ltd テスター、及びこれを具備した半導体デバイス検査装置
JP2012119433A (ja) * 2010-11-30 2012-06-21 Kyocera Kinseki Corp モジュール
CN103575486A (zh) * 2013-11-21 2014-02-12 华东光电集成器件研究所 一种裸芯片冲击振动试验夹具及裸芯片的装夹方法

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000180469A (ja) * 1998-12-18 2000-06-30 Fujitsu Ltd 半導体装置用コンタクタ及び半導体装置用コンタクタを用いた試験装置及び半導体装置用コンタクタを用いた試験方法及び半導体装置用コンタクタのクリーニング方法
US8076216B2 (en) 2008-11-11 2011-12-13 Advanced Inquiry Systems, Inc. Methods and apparatus for thinning, testing and singulating a semiconductor wafer
US7325140B2 (en) * 2003-06-13 2008-01-29 Engedi Technologies, Inc. Secure management access control for computers, embedded and card embodiment
US6889509B1 (en) 2002-09-13 2005-05-10 Isothermal Systems Research Inc. Coolant recovery system
JP2005116762A (ja) * 2003-10-07 2005-04-28 Fujitsu Ltd 半導体装置の保護方法及び半導体装置用カバー及び半導体装置ユニット及び半導体装置の梱包構造
JP4512815B2 (ja) * 2004-07-30 2010-07-28 エスペック株式会社 バーンイン装置
JP4426396B2 (ja) * 2004-07-30 2010-03-03 エスペック株式会社 冷却装置
EP1783952B1 (en) * 2005-11-04 2012-01-11 Research In Motion Limited Correction of errors in radio communication, responsive to error frequency
US8213317B2 (en) 2005-11-04 2012-07-03 Research In Motion Limited Procedure for correcting errors in radio communication, responsive to error frequency
US7648130B2 (en) 2006-06-08 2010-01-19 Research In Motion Limited Use of magnets to provide resilience
DE602006019394D1 (de) * 2006-06-08 2011-02-17 Research In Motion Ltd Spannkrafterzeugung durch die Benutzung von Magneten
US8362797B2 (en) * 2009-08-25 2013-01-29 Advanced Inquiry Systems, Inc. Maintaining a wafer/wafer translator pair in an attached state free of a gasket disposed therebetween
US9176186B2 (en) 2009-08-25 2015-11-03 Translarity, Inc. Maintaining a wafer/wafer translator pair in an attached state free of a gasket disposed
JP5368290B2 (ja) * 2009-12-18 2013-12-18 株式会社アドバンテスト キャリア組立装置
CN103229066A (zh) 2010-09-28 2013-07-31 高级查询系统公司 晶片测试系统以及相关的使用和制造方法
JP5629670B2 (ja) 2011-04-20 2014-11-26 株式会社アドバンテスト 試験用キャリア
JP5702701B2 (ja) * 2011-04-20 2015-04-15 株式会社アドバンテスト 試験用キャリア
JP5702705B2 (ja) * 2011-11-16 2015-04-15 株式会社アドバンテスト 試験用キャリア

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0572268A (ja) * 1991-09-10 1993-03-23 Mitsubishi Electric Corp テープボンデイング半導体装置の特性検査用治工具
US5355079A (en) 1993-01-07 1994-10-11 Wentworth Laboratories, Inc. Probe assembly for testing integrated circuit devices
US5500605A (en) * 1993-09-17 1996-03-19 At&T Corp. Electrical test apparatus and method
JP3491700B2 (ja) * 1994-03-18 2004-01-26 富士通株式会社 半導体集積回路装置の試験用キャリア
US5986459A (en) * 1994-03-18 1999-11-16 Fujitsu Limited Semiconductor device testing carrier and method of fixing semiconductor device to testing carrier
US5828224A (en) * 1994-03-18 1998-10-27 Fujitsu, Limited Test carrier for semiconductor integrated circuit and method of testing semiconductor integrated circuit
US6229320B1 (en) * 1994-11-18 2001-05-08 Fujitsu Limited IC socket, a test method using the same and an IC socket mounting mechanism
US5831441A (en) * 1995-06-30 1998-11-03 Fujitsu Limited Test board for testing a semiconductor device, method of testing the semiconductor device, contact device, test method using the contact device, and test jig for testing the semiconductor device
JPH09113577A (ja) * 1995-10-20 1997-05-02 Toshiba Corp 半導体チップの特性評価用ボード及びチップの実装方法
US5929647A (en) * 1996-07-02 1999-07-27 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for testing semiconductor dice
JP4060919B2 (ja) * 1997-11-28 2008-03-12 富士通株式会社 電気的接続装置、接触子製造方法、及び半導体試験方法
JP3365612B2 (ja) * 1998-01-30 2003-01-14 富士通株式会社 電子装置用試験装置
JP3730428B2 (ja) * 1998-12-22 2006-01-05 富士通株式会社 半導体装置試験用コンタクタの製造方法
US6175241B1 (en) * 1999-02-19 2001-01-16 Micron Technology, Inc. Test carrier with decoupling capacitors for testing semiconductor components

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008232628A (ja) * 2007-03-16 2008-10-02 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置の押さえ機構および半導体装置の検査方法
JP2011039048A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Samsung Electronics Co Ltd テスター、及びこれを具備した半導体デバイス検査装置
US8779792B2 (en) 2009-08-07 2014-07-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Tester and semiconductor device test apparatus having the same
JP2012119433A (ja) * 2010-11-30 2012-06-21 Kyocera Kinseki Corp モジュール
CN103575486A (zh) * 2013-11-21 2014-02-12 华东光电集成器件研究所 一种裸芯片冲击振动试验夹具及裸芯片的装夹方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR100392103B1 (ko) 2003-11-28
US20010040462A1 (en) 2001-11-15
US6445200B2 (en) 2002-09-03
JP3949256B2 (ja) 2007-07-25
KR19990071430A (ko) 1999-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH11237434A (ja) 半導体素子試験用キャリア及び半導体素子試験方法及び半導体素子試験用装置
US5757199A (en) Test carrier for semiconductor integrated circuit and method of testing semiconductor integrated circuit
US6747361B2 (en) Semiconductor device and packaging method thereof
US5828224A (en) Test carrier for semiconductor integrated circuit and method of testing semiconductor integrated circuit
JP2000180469A (ja) 半導体装置用コンタクタ及び半導体装置用コンタクタを用いた試験装置及び半導体装置用コンタクタを用いた試験方法及び半導体装置用コンタクタのクリーニング方法
US5986459A (en) Semiconductor device testing carrier and method of fixing semiconductor device to testing carrier
US9250263B2 (en) Socket and electronic device test apparatus
KR102063761B1 (ko) 신호 전송 커넥터 및 그 제조방법
US7312621B2 (en) Semiconductor test unit having low contact resistance with examined electronic products, semiconductor contact board, method for testing semiconductor device, semiconductor device, and method for manufacturing thereof
US6340838B1 (en) Apparatus and method for containing semiconductor chips to identify known good dies
JP4461392B2 (ja) 検査装置および検査方法
JPH09232368A (ja) 半導体装置
CN102680749A (zh) 用于可释放地容纳半导体芯片的器件
JP3251194B2 (ja) 半導体ウェハ収納器
TWI618936B (zh) 用於測試半導體晶粒之裝置及方法
KR102496532B1 (ko) 반도체 패키지의 테스트 장치
JP2002181887A (ja) 電子部品試験装置
US10527671B2 (en) Absorption testing apparatus
JP2008008726A (ja) 半導体装置の検査装置
KR20230114642A (ko) 모바일 ap를 테스트하기 위한 테스트 장치
JP2679684B2 (ja) 異方導電フィルム及び異方導電フィルムを用いた半導体ウェハ測定治具
JP3056212B1 (ja) マイクロ波パッケ―ジ構造
KR20230102937A (ko) 테스트 소켓
JPH10115659A (ja) ベアチップテスト用治具
JP2002156407A (ja) 半導体測定装置のソケット台座

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041208

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060307

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060502

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060530

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060726

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20060810

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070410

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070418

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees