JPH11190301A - ダイアフラムおよびそれを用いたアキュムレータ - Google Patents
ダイアフラムおよびそれを用いたアキュムレータInfo
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Abstract
性を備え、しかも耐久性に優れたダイアフラムを提供す
る。 【解決手段】ガス遮蔽用の樹脂層21と、この樹脂層2
1の両面に形成されるガス室側ゴム層22および油室側
ゴム層23とを備えてなるダイアフラムである。そし
て、上記ガス室側ゴム層22が、ブチル系ゴムとエチレ
ン−プロピレン−ジエン系共重合体との混合物により形
成されている。
Description
等の油圧装置等に利用されるダイアフラムおよびそれを
用いたアキュムレータに関するものである。
あり、一般的に、金属製のシェルと、このシェル内に配
設されシェルの内部空間を2室(ガス室および油室)に
区画するダイアフラムとで構成されている。このアキュ
ムレータは、窒素ガス等のガスがガス室に封入され、油
室が流通孔を介して油圧装置の油圧回路に接続されて使
用に供される。そして、流通孔から油室に流入する作動
油により油室の圧力がガス室の圧力よりも大きくなる
と、ダイアフラムが湾曲して弾性変形し、これによりガ
ス室が圧縮され体積が小さくなる。一方、油室は拡大さ
れ作動油が蓄圧される。このアキュムレータに用いられ
るダイアフラムは、一般に、ガス遮蔽用の樹脂層と、こ
の樹脂層を介してガス室側に形成されるガス室側ゴム層
と、上記樹脂層を介して油室側に形成される油室側ゴム
層とから構成されている。そして、上記ガス室側ゴム層
および油室側ゴム層の形成材料としてブチル系ゴムが用
いられている。
成のダイアフラムにおいて室温以下で、かつ、作動圧力
の高いところでの作動耐久を行うと、作動時の弾性変形
によりゴムの圧縮と引っ張りが繰り返し行われるため、
ゴムどうしが擦れ合い、ゴムが摩耗する結果、ゴム層に
亀裂が発生し、耐久性が低下するという問題が生じる。
したがって、このようなダイアフラムを用いたアキュム
レータは、その寿命が低下するという問題も生じてい
る。
もので、良好な低温作動性および室温作動性の双方の特
性を備え、しかも耐久性に優れたダイアフラムおよびそ
れを用いたアキュムレータの提供をその目的とする。
め、本発明のダイアフラムは、ガス遮蔽用の樹脂層と、
この樹脂層の両面に形成されるガス室側ゴム層および油
室側ゴム層とを備えてなるダイアフラムであって、上記
ガス室側ゴム層が、ブチル系ゴムとエチレン−プロピレ
ン−ジエン系共重合体との混合物により形成されている
という構成をとる。また、本発明のアキュムレータは、
シェルと、このシェルの内部空間をガス室および油室に
区画するダイアフラムとを備えたアキュムレータであっ
て、上記ダイアフラムが、ガス遮蔽用の樹脂層と、この
樹脂層の両面に形成されるガス室側ゴム層および油室側
ゴム層とを備えてなり、かつ、上記ガス室側ゴム層が、
ブチル系ゴムとエチレン−プロピレン−ジエン系共重合
体との混合物により形成されているという構成をとる。
ゴム層の耐久性について研究を重ねた結果、ガス室側ゴ
ム層の方が油室側ゴム層に比べてゴムが摩擦しやすく、
ゴム層に亀裂が生じやすいことを突き止めた。そして、
上記ガス室側ゴム層の形成材料についてさらに研究を重
ねた結果、従来用いられているブチル系ゴムに、エチレ
ン−プロピレン−ジエン系共重合体を混合したゴム材料
を用いて上記ガス室側ゴム層を形成すると、ブチル系ゴ
ムを単独で用いる場合に比べて低温作動性および室温作
動性が向上し、所期の目的が達成できることを見出し本
発明に到達した。
層の表面に、断面が凹状の溝を周方向に複数形成する
と、ガス室側ゴム層の耐久性がさらに向上するようにな
る。
しく説明する。
に示す。このアキュムレータは、シェル1,2と、シェ
ル1,2の内部空間をガス室3および油室4に区画する
ダイアフラム20とを用いて構成されている。図におい
て、5はリング状保持材、6はポペット、7は油ボート
8を持つプラグ、9はガスプラグ、10は電子ビーム溶
接部である。図において、一点鎖線はダイアフラム20
が弾性変形した状態を示している。
ば特に限定するものではなく、例えば鉄製、アルミニウ
ム系合金製等のものが好適に用いられる。
に、ガス遮蔽用の樹脂層21と、この樹脂層21の両面
に一体的に形成されたガス室側ゴム層22および油室側
ゴム層23とから構成されている。
れたガスが透過するのを防止するものであり、その形成
材料としては、ガス透過性の低い材料であれば特に限定
はなく、例えばエチレン−ビニルアルコール共重合体
(EVOH)、ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニリデ
ン、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンサルファイ
ド、液晶ポリマー、ポリエチレンナフタレート等があげ
られる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いら
れる。そして、上記樹脂層21は、上記形成材料を用い
てなる単層構造であってもよいし、上記形成材料を複数
用いた2層以上の多層構造であってもよい。
ではないが、エチレン含有量が20〜65重量%(以下
「%」と略す)で、残りがビニルアルコールからなるも
のを用いることが好ましい。なかでもエチレン含有量が
32%のものが好適である。
6、ナイロン66、ナイロン6−10、ナイロン6−1
2等があげられ、単独でもしくは併せて用いられる。こ
のようなポリアミド樹脂は、上記ナイロン6もしくはナ
イロン66がベースに入っていれば、EVOHの融点と
近似するようになることから、ナイロン6と他のナイロ
ン樹脂等との各種の混合物を使用することが可能であ
る。特に、上記ポリアミド樹脂と、ポリオレフィン樹脂
とをブレンドして用いることが好ましい。このようにす
ると、ポリオレフィン樹脂が、吸水性に乏しいことか
ら、EVOHに対する吸水を防止するようになる。すな
わち、EVOHは吸水すると、耐ガスバリアー性が低下
するからであり、ポリオレフィン樹脂はこれを防止す
る。
は、ブチル系ゴムと、エチレン−プロピレン−ジエン系
共重合体(以下「EPDM」と略す)との混合物が用い
られる。
ゴム(IIR)、塩素化ブチルゴム(Cl−IIR)、
臭素化ブチルゴム(Br−IIR)等があげられ、単独
でもしくは2種以上併せて用いられる。なかでも、圧縮
永久歪みが優れている点で、塩素化ブチルゴム(Cl−
IIR)が好適である。
分)としては、エチリデンノルボルネン、ジシクロペン
タジエン、1,4−ヘキサジエン等があげられる。
0〜70%の範囲に設定することが好ましく、特に好ま
しくは50〜60%の範囲である。すなわち、エチレン
含有量が50%未満であると、生ゴムの引張り強度が低
くなり、70%を超えると、低温作動性が悪化するから
である。また、上記EPDMにおける第三成分(ジエン
成分)の含有量は5%程度に設定することが好ましく、
残りがプロピレン含有量である。そして、上記EPDM
におけるヨウ素価は10〜24の範囲に設定することが
好ましく、特に好ましくは12〜17の範囲である。す
なわち、上記ヨウ素価が10未満であると加硫速度が遅
くなり、24を超えると耐熱性が低下するからである。
は、重量比で、ブチル系ゴム/EPDM=90/10〜
60/40の範囲に設定することが好ましく、特に好ま
しくはブチル系ゴム/EPDM=85/15〜70/3
0の範囲である。すなわち、上記EPDMが10未満で
ある(ブチル系ゴムが90を超える)と、ゴムの屈曲疲
労性が不充分となり、EPDMが40を超える(ブチル
系ゴムが60未満である)と、耐ガス透過性が低下する
からである。
上記ブチル系ゴムおよびEPDMに加えて、さらに充填
剤を配合することができる。上記充填剤としては特に限
定はなく、例えばカーボンブラックがあげられる。上記
充填剤の配合割合は、ゴム材料の硬度(JIS A)が
60〜80の範囲になるよう設定することが好ましい。
すなわち、硬度(JIS A)が60未満になると、ダ
イアフラム20の樹脂層21の剛性に対する補強効果が
不充分で、ダイアフラム20の変形時にガス室側ゴム層
22自体がスムーズに変形しなくなり、硬度(JIS
A)が80を超えると、ゴム材料自体の破断伸びが低下
するからである。
特に限定するものではなく、従来公知のゴムが用いられ
る。例えば、前記ブチル系ゴムや、天然ゴム、ニトリル
ゴム、ヒドリンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴ
ム(NBR)、水素添加アクリロニトリル−ブタジエン
ゴム(H−NBR)等があげられる。これらは単独でも
しくは2種以上併せて用いられる。なお、本発明におい
ては、上記油室側ゴム層23の形成材料として、上記ガ
ス室側ゴム層22と同様の形成材料を用いることも可能
である。
層23の形成材料には、上記ゴム材料に加えて、さらに
加硫剤、加硫促進剤、老化防止剤、軟化剤、可塑剤等の
添加剤を適宜配合することが可能である。
のようにして製造することができる。すなわち、まず、
前記EVOH、ポリアミド樹脂等のガス透過性の低い樹
脂膜を、単独であるいは2種以上重ね合わせてガス遮蔽
用の樹脂層(樹脂フィルム)21を作製する。ついで、
上記樹脂層(樹脂フィルム)21の上下両面に従来公知
の接着剤を塗布し、上記ガス室側ゴム層22および油室
側ゴム層23の形成材料をプレス機によってプレス成形
し加硫接着する。このようにして、図1に示すような層
構造になっているダイアフラム20を製造することがで
きる。
ラム20は、上記樹脂層(樹脂フィルム)21の厚み
は、通常10〜150μmであり、好ましくは20〜1
00μmである。また、上記ガス室側ゴム層22の厚み
は、通常1〜4mmであり、好ましくは1.5〜3mm
である。そして、上記油室側ゴム層23の厚みは、通常
1〜4mmであり、好ましくは1.5〜3mmである。
ム20を用いて、例えばつぎのようにして製造すること
ができる。すなわち、まず、上記のようにして製造した
ダイアフラム20を、図1に示すように、略半球殻状の
2個の分割シェル1,2のうち下側の分割シェル2の開
口部の内周縁にその周縁部を位置決めし、その周縁部を
リング状保持材5の外周と下側の分割シェル2の開口部
内周縁とで挟持固定して、下側の分割シェル2に取り付
ける。ついで、この下側の分割シェル2の開口に上側の
分割シェル1の開口を突き合わし、電子ビーム溶接等を
行う。このようにして、図1に示すようなアキュムレー
タを製造することができる。
に、ダイアフラム20のガス室側ゴム層22の表面に、
断面が凹状の溝24を所定間隔で周方向に複数形成し
て、リブ25を形成することも可能である。このような
凹状の溝24を形成することにより、ガス室側ゴム層2
2の耐久性が向上する結果、ダイアフラム20およびこ
れを用いたアキュムレータの耐久性がさらに向上するよ
うになる。なお、上記断面が凹状の溝24とは、断面が
略凹状であればよく、V字状等も含む意味である。
ェルの形状としては、図1に示したような略半球殻状の
2個の分割シェル1,2を突き合わせて略半球殻に仕上
げたものに限定されるものではなく、例えば略半殻状、
筒状、箱状等各種の形状のものを用いることが可能であ
る。
明する。
の表1および表2に示す各成分を同表に示す割合で配合
して、ゴム組成物1〜10品を作製した。そして、各ゴ
ム組成物品について、常態物性、低温ねじり、耐久性お
よび圧縮永久歪みを下記の基準に従って測定した。その
結果を、後記の表1および表2に併せて示した。
の方法に準じて、破断点強度(MPa)、破断点伸び
(%)および硬度(JIS A)を測定した。
ける柔軟性を評価するため、JIS K 6301に記
載の方法に準じて低温ねじり試験を行った。
屈曲試験に準じて耐久性を評価した。そして、試験片
(ゴム組成物品)が6級(亀裂長さが3.0mm以上)
に達するまでの屈曲回数を測定した。なお、屈曲回数は
50万回までとし、50万回後に試験片が6級に達して
いない場合は50万回後における「級」を表示した。
記載の方法に準じて、120℃×70時間の条件で測定
した。
物7〜9品は、塩素化ブチルゴムを用いているが、EP
DMと併用していないため、耐久性に劣ることがわか
る。これに対して、ゴム組成物1〜6,10品は、ブチ
ル系ゴムとEPDMを併用しているため、耐久性に優れ
ていることがわかる。
01、エチレン含有量32%)およびポリアミド樹脂
(デュポン社製、スーパータフナイロンST811H
S)を準備し、これらを押出成形機を用いて共押出し、
図3に示すような3層構造の樹脂層21を作製した。図
3において、21aはEVOH層(厚み50μm)、2
1bはポリアミド樹脂層(厚み80μm)である。つぎ
に、上記樹脂層21の上下両面に従来公知の接着剤を塗
布した後、ガス室側ゴム層22および油室側ゴム層23
の形成材料として、後記の表3および表4に示す各ゴム
組成物品を用い、これらをプレス機でプレス成形したの
ち加硫接着した。このようにして、目的とするダイアフ
ラムを製造した(図2参照)。なお、ガス室側ゴム層2
2の厚みは1.5mmであり、油室側ゴム層23の厚み
は1.5mmであった。
て、後記の表5に示すように、EPDMを併用していな
いゴム組成物7〜9品を用いた。それ以外は実施例と同
様にしてダイアフラムを製造した。
較例品のダイアフラムを用いて、下記の基準に従い、室
温および低温(−30℃)での作動耐久試験を行った。
その結果を、後記の表3〜表5に併せて示した。
験機にかけ、図5(A)および(B)に示す状態に交互
に変化させ作動耐久試験を行った。なお、封入ガスはN
2 ガスを用い、初期封入圧力(PO)の1.5〜3倍の
範囲でオイルの圧力を変化させて、図5(A)および
(B)の状態を発生させた。また、試験条件は、室温で
100万回のサイクルで変化させた場合と、低温(−3
0℃)で3万回のサイクルで変化させた場合について行
った。
イアフラムを用いた場合は、室温および低温のいずれの
場合もガス室側ゴム層に大きな異常は発生せず、一部の
実施例品において小さな摩耗が発生したが、アキュムレ
ータ用ダイアフラムとしての使用には問題がない程度の
摩耗であった。これに対して、比較例品のダイアフラム
を用いた場合は、室温および低温のいずれの場合も、ガ
ス室側ゴム層に大きな摩耗や亀裂が発生した。
いて、下記のようにしてアキュムレータを作製した。す
なわち、図1に示すように、略半球殻状の2個の分割シ
ェルとして、上分割シェル1と下分割シェル2を準備す
るとともに、上記実施例で得られたダイアフラム20に
ついては周縁部を厚肉部に形成した。そして、図示のよ
うに、上記ダイアフラム20をリング状保持材5を用い
て下分割シェル2の開口部内周面に固定した。この場
合、図6に示すように、下分割シェル2の開口部内周面
には、予め円周方向に溝11が形成されているととも
に、その下側に段部12が形成されている。上記リング
状保持材5は、リング状の上部側が大径で下部側が小径
になった段付構造になっており、その上部側を図6に示
すように上記下分割シェル2の開口部内周面に位置決め
し、段部12をダイアフラム20の厚肉部の端面に位置
決めするとともに、下部をダイアフラム20の厚肉部の
上に位置決めした。ついで、その状態で、かしめ装置
(図示せず)を用い、リング状保持材5を図7に示すよ
うにかしめた。これにより、ダイアフラム20の内周厚
肉部が、リング状保持材5の下部外周部と、下分割シェ
ル2の開口部内周面とで挟持固定される。このかしめに
より、リング状保持材5の上部側の中央部は、下分割シ
ェル2の開口部内周面に円周方向に沿って形成された溝
11内にくい込んだ状態になる。そのため、リング状保
持材5の固定度が向上するとともに、リング状保持材5
と下分割シェル2との間のシール度が向上する。したが
って、下分割シェル2とリング状保持材5との間から
の、ガスおよび作動油の浸透、洩れが阻止されるように
なる。また、下分割シェル2の開口部内周面に設けた段
部12によって、リング状保持材5の位置ずれ等が生じ
なくなり、リング状保持材5の位置決め精度の向上効果
が得られるようになる。このようにして、下分割シェル
2にダイアフラム20を取り付け、ついで、この下分割
シェル2の開口に上分割シェル1の開口を図1に示すよ
うに合わせ、全体として略球殻状のシェルに仕上げる。
この場合、上分割シェル1の取り付け前に、ダイアフラ
ム20の取り付け状態を肉眼で確認することができ、そ
れによってダイアフラム20の取り付け不良の発生を防
止することが可能となる。そして、上記上分割シェル1
の開口と下分割シェル2の開口の接合は、両開口の接合
部を電子ビーム溶接等することによって行う。これによ
り、溶け込み幅を狭くすることができることから、ダイ
アフラム20の周縁厚肉部に対する熱影響を軽減または
回避することが可能となる。このようにして、図1に示
すようなアキュムレータを製造した。このアキュムレー
タでは、ダイアフラム20によってシェル1,2の内部
空間がガス室3と油室4に区画されている。このように
して得られたアキュムレータは、いずれも耐久性に優れ
長寿命であった。
は、ガス室側ゴム層の形成材料として、ブチル系ゴムと
EPDMとの混合物を用いているため、従来のようにブ
チル系ゴムを単独で用いる場合に比べて低温作動性およ
び室温作動性が向上し、優れた耐久性を備えるようにな
る。したがって、上記ダイアフラムを用いた本発明のア
キュムレータは、長寿命となる。
層の表面に、断面が凹状の溝を周方向に複数形成する
と、ガス室側ゴム層の耐久性が向上する結果、ダイアフ
ラムおよびこれを用いたアキュムレータの耐久性がさら
に向上するようになる。
図である。
要部拡大断面図である。
部拡大断面図である。
す要部拡大断面図である。
屈曲試験を説明する図である。
にかしめ付ける前の状態の要部断面図である。
にかしめ付けた後の状態の要部断面図である。
ラム20は、上記樹脂層(樹脂フィルム)21の厚み
は、通常10〜210μmである。また、上記ガス室側
ゴム層22の厚みは、通常1〜4mmであり、好ましく
は1.5〜3mmである。そして、上記油室側ゴム層2
3の厚みは、通常1〜4mmであり、好ましくは1.5
〜3mmである。
Claims (4)
- 【請求項1】 ガス遮蔽用の樹脂層と、この樹脂層の両
面に形成されるガス室側ゴム層および油室側ゴム層とを
備えてなるダイアフラムであって、上記ガス室側ゴム層
が、ブチル系ゴムとエチレン−プロピレン−ジエン系共
重合体との混合物により形成されていることを特徴とす
るダイアフラム。 - 【請求項2】 上記ガス室側ゴム層の表面に、断面が凹
状の溝が周方向に複数形成されている請求項1記載のダ
イアフラム。 - 【請求項3】 シェルと、このシェルの内部空間をガス
室および油室に区画するダイアフラムとを備えたアキュ
ムレータであって、上記ダイアフラムが、ガス遮蔽用の
樹脂層と、この樹脂層の両面に形成されるガス室側ゴム
層および油室側ゴム層とを備えてなり、かつ、上記ガス
室側ゴム層が、ブチル系ゴムとエチレン−プロピレン−
ジエン系共重合体との混合物により形成されていること
を特徴とするアキュムレータ。 - 【請求項4】 上記ダイアフラムのガス室側ゴム層の表
面に、断面が凹状の溝が周方向に複数形成されている請
求項3記載のアキュムレータ。
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