JPH11169769A - 塗布装置及び塗布方法並びにカラーフィルタの製造装置及び製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】タテスジむらや膜切れと称すタテスジ欠陥の発
生を防止し、塗布厚み精度が悪化することなく塗布速度
の高速化が実現できる塗布装置の提供。 【解決手段】該塗布液供給手段からの塗布液の供給を受
けて一方向に延びる吐出口から塗布液を吐出する塗布器
と、該塗布器及びそれに対向する位置に配置された被塗
布枚葉部材の少なくとも一方を相対的に移動させる移動
手段とを具備し、前記塗布器は、前記被塗布枚葉部材の
相対的な進行方向でみた場合、進行方向側に位置するフ
ロントリップと、前記進行方向とは反対側に位置するリ
アリップと、前記両リップ間に形成されるリップ間隙と
を有しているとともに、前記両リップはそれぞれ、少な
くとも前記リップ間隙を形成する接液面と、該接液面に
連なり前記被塗布枚葉部材に対向するリップエッジ面と
を有する塗布装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス基板や金属
板などの硬質で平坦な枚葉部材の表面に塗布液を吐出
し、その塗布液の塗膜を形成する塗布装置および塗布方
法並びにカラー液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製
造装置および製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶ディスプレイ用のカラーフィ
ルタは、被塗布部材としてのガラス基板上に３原色の細
かな格子模様を有しており、このような格子模様はガラ
ス基板上に黒色の塗膜を形成した後、そのガラス基板上
をさらに赤、青、緑の３原色に塗り分けて得られる。

【０００３】それゆえ、カラーフィルタの製造には、ガ
ラス基板上に黒、赤、青、緑の塗布液を順次塗布し、そ
れぞれの塗膜を形成する枚葉塗布工程が不可欠となる。

【０００４】この種の塗布工程には従来、枚葉塗布装置
としてスピナー、バーコータあるいはロールコータが使
用されていたが、塗布液の消費量削減が可能で、塗膜物
性の向上やガラス基板の大板化への対応が比較的容易に
できるという利点から、近年に至ってはダイコータの使
用が検討され、さらには製造タクトタイム短縮のために
塗布速度の高速化も検討されつつある。

【０００５】ダイコータで被塗布部材に良好な塗布液の
塗膜を形成するには、図５に示すように、塗布液を吐出
する塗布器いわゆるスリットダイ４０のフロントおよび
リアリップエッジ面（下端面）７０、７４と被塗布部材
Ａとの隙間（以下、クリアランスと称す）に架橋するビ
ードと呼ばれる液溜まりを塗布幅方向に亘って均一に形
成し、安定に保持することが重要であり、この形成、安
定保持に対する支配的因子は、塗布速度、塗布厚み（塗
布液量）、クリアランス、塗布液の種類および粘度、ま
たリップエッジ面形状等である。

【０００６】ダイコータでは、塗布速度を速くするほ
ど、特にリアリップ側ビードＢｒの形成、安定保持がで
きる塗布安定条件が厳しくなり、塗布幅方向の任意箇所
でビードＢの非形成、もしくは破壊による空気同伴でタ
テスジむらや塗膜形成のできないタテスジ欠陥（以下、
膜切れと称す）が発生し易くなり、塗膜表面の品質を良
好に維持することが困難となる。従って、ダイコータで
塗布速度を速くする場合、塗布厚みを厚く、クリアラン
スを狭く、塗布液の粘度を低く、ビード後方のガスを減
圧することでリアリップ側ビードＢｒを形成、安定に保
持することが試みられる。

【０００７】しかし、塗布厚みを厚くするにも乾燥能力
アップに伴う設備費の大幅な増加が、クリアランスを狭
くするにも被塗布部材Ａの厚さむらが原因で塗布中のク
リアランス変動が生じて塗膜厚さ不良が、塗布液の粘度
を低くするにも乾燥むら欠陥が、逆に発生しやすくなる
ため、それぞれの設定には限界がある。また、ビード後
方の気体を減圧すると、塗布速度が速くなるほど塗布開
始、終了時における減圧度調整が難しくなり、さらに減
圧度が高いほどクリアランス変動による塗布膜厚むらが
大きくなるため、塗布膜厚全域で高い塗布精度が要求さ
れるカラーフィルタを製造するような塗布装置に適用す
ることは困難である。

【０００８】従って、これら条件を変更しないでも高速
枚葉塗布が実現できるリップエッジ面形状の最適化は重
要である。

【０００９】従来より、リップエッジ面形状を最適にし
て塗布速度を速くしてもビードを形成、安定に保持する
ことが可能となる塗布装置が、特開平１−２８８３６４
号公報、特開平３−３２７６８号、特開平４−１９０８
７０号公報、特開平７−１８５４３３公報、特開平９−
１３１５５９号公報等に数多く開示されている。

【００１０】例えば、特開平１−２８８３６４号公報、
特開平３−３２７６８号や特開平７−１８５４３３公報
には、２つのロール間に張架された連続走行するフィル
ムやテープなどの可撓性を有したウエブに高速で連続塗
布するために最適なリップエッジ面形状が開示されてい
る。

【００１１】また、特開平４−１９０８７０号公報に
は、支持体を巻き回して連続走行させるバックアップロ
ーラにスリットダイのリップエッジ面を近接させて高速
塗布するために最適なリップエッジ面形状が開示されて
いる。

【００１２】さらに、特開平９−１３１５５９号公報で
は、硬質で表面が平坦なガラス基板等などの枚葉部材に
塗布する場合でも、ビードを塗布幅方向で均一に形成で
きるリップエッジ面形状が開示されている。

【００１３】しかし、前記の如き公知のリップエッジ面
形状では、硬質で平坦なガラス基板のような枚葉部材表
面に塗布領域全面の厚みが均一で、表面品位の高い塗膜
を高速で順次形成するためのダイコータには適さないこ
とがわかった。

【００１４】つまり、前記特開平１−２８８３６４号公
報、特開平３−３２７６８号や特開平７−１８５４３３
公報で開示されているスリットダイのリップエッジ面
は、ビードの形成と安定保持のため、リップエッジ面を
押しつけてウエブを屈曲させることでビード内部の液圧
を高め、ビードの形成と安定保持ができるように最適な
形状となっているため、硬質で屈曲することのできない
被枚葉塗布部材に塗布液を塗布するためのスリットダイ
には適さない。

【００１５】また、前記特開平４−１９０８７０号公報
で開示されているスリットダイは、高速で薄膜塗布を行
なう場合にリアリップ後方に設けた減圧室の減圧度を高
くしても、ビードが後方の減圧室に引き込まれないよう
に吐出口における塗布液の流れの圧力および速度を低下
させる目的で、フロントまたはリアリップエッジ面に塗
布液吐出方向にスロットクリアランスが徐々に広がるよ
うな切り欠き部を有している。従って、塗布速度を速く
してもビードが前方の吐出口側に引き込まれないよう
に、逆にリアリップ側ビードが後方に延びるようにリッ
プエッジ面形状を最適化することが必要なスリットダイ
には適さなかった。

【００１６】さらに、特開平９−１３１５５９号公報で
開示されているスリットダイのリップエッジ面形状（図
５参照）では、塗布速度が３ｍ／分のように比較的に低
速の場合にはビードを塗布幅方向で均一に形成、保持し
て塗布厚みを均一にすることは容易であったが、塗布速
度を速くするほど塗布できる塗布厚みを厚くしなければ
膜切れが発生する問題があった。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した事
情に基づいてなされたもので、その目的とするところ
は、硬質で平坦な枚葉部材表面に塗布液を高速で塗布す
る場合でも、塗布厚みを厚くすることなく、ビードを形
成、安定保持してタテスジむらや膜切れのない塗膜が形
成でき、かつ、高い塗布厚み精度で広い有効膜厚領域
（膜厚が均一な領域）が維持できる枚葉塗布装置および
枚葉塗布方法を提供することにある。さらに、これら枚
葉塗布装置および枚葉塗布方法を用いた、製造タクトタ
イムが短く生産効率の高いカラーフィルタの製造装置お
よび製造方法を提供することにある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明者らが鋭意研究を
重ねた結果、上記目的を達成するためには、フロントリ
ップエッジ面の塗布進行方向でみた長さを適度に短くす
ることでビード形成の安定化をはかり、かつ、フロント
エッジ面の吐出口側端部をリアリップエッジ面の吐出側
端部よりも被塗布部材方向に突出した位置に設定して、
吐出口より吐出される塗布液がその流速を落とすことな
くリアリップ側へ流れやすい形状にすることが重要との
結論に至った。

【００１９】上記目的を達成する本発明の構成は以下の
通りである。すなわち、 （１）本発明の塗布装置は、塗布液を供給する手段と、
該塗布液供給手段からの塗布液の供給を受けて一方向に
延びる吐出口から塗布液を吐出する塗布器と、該塗布器
およびそれに対向する位置に配置された被塗布枚葉部材
の少なくとも一方を相対的に移動させる移動手段とを具
備し、前記被塗布枚葉部材の表面に塗布液の塗膜を形成
する塗布装置であって、前記塗布器は、前記被塗布枚葉
部材の相対的な進行方向でみた場合、進行方向側に位置
するフロントリップと、前記進行方向とは反対側に位置
するリアリップと、前記両リップ間に形成されるリップ
間隙とを有しているとともに、前記両リップはそれぞ
れ、少なくとも前記リップ間隙を形成する接液面と、該
接液面に連なり前記被塗布部材と対向するリップエッジ
面とを有し、 ａ）前記フロントリップエッジ面の前記進行方向に沿っ
た長さＬＦが０．５ｍｍ以下であり、 ｂ）前記フロントリップエッジ面の前記リップ接液面へ
と繋がる吐出口側端部Ｅｆが、前記リアリップの前記リ
ップ接液面へと繋がる吐出口側端部Ｅｒよりも、ΔＨだ
け前記被塗布枚葉部材方向へ突出した位置にあることを
特徴とする。

【００２０】上記本発明の塗布装置によれば、塗布速度
を速くしても、塗布液の流れが乱れることなく、フロン
トリップエッジ面と被塗布部材との間で形成されるフロ
ントリップ側ビードを安定に保持でき、さらに吐出口よ
り吐出された塗布液はリアリップ側へ円滑に流れるた
め、リアリップエッジ面と被塗布部材との間に形成され
るフロントリップ側ビードを十分に大きくすることがで
きる。従って、塗布厚みを厚くすることなく、塗布速度
を速くしてもビードを十分に形成、安定に保持すること
が可能となり、ビード破壊による空気同伴を確実に防止
できる。

【００２１】（２）また、本発明の塗布装置は、前記フ
ロントリップエッジ面と前記被塗布枚葉部材との最小ク
リアランスをＨＦとしたとき、前記ΔＨが０．２≦ΔＨ
／ＨＦ≦２．０の範囲に収められているものであること
が好ましい。

【００２２】上記塗布装置によれば、リアリップ側のク
リアランスが大きくなりすぎて、リアリップ側ビードと
気体との界面であるメニスカスの曲率半径が増大し、ビ
ードを安定に保持する塗布液の表面張力の作用が低下す
ることを抑制でき、塗布膜厚を厚くすることなしに、ビ
ードを形成、安定に保持して塗布速度を速くすることが
できる。

【００２３】（３）また、本発明の塗布装置は、前記リ
アリップエッジ面における前記相対的な進行方向に沿っ
た長さが、前記フロントリップエッジ面の前記長さより
長く設定されていることが好ましい。

【００２４】この場合、塗布速度を速くしても、ビード
形成を制御することが容易となるため、塗布開始、終了
時における塗布膜厚の均一性を高めることが可能にな
る。

【００２５】（４）また、本発明の塗布装置は、前記フ
ロントおよびリアリップエッジ面が、それぞれ前記相対
的な進行方向と略平行な少なくとも１つの平面から構成
されていることが好ましい。

【００２６】この場合、塗布幅方向で所望のクリアラン
スを容易に精度良く設定できるため、塗布速度を速くし
ても、塗布幅方向におけるビード形状の均一性を高め、
塗布膜厚精度の高い塗膜を得ることが可能となる。

【００２７】（５）また、本発明の塗布装置は、リアリ
ップエッジ面の前記吐出側端部Ｅｒ、を起点として、 ａ）塗布進行方向と逆向きに被塗布枚葉部材に向かって
突出するような少なくとも１つ斜面が形成され、 ｂ）該斜面部の塗布進行方向に沿った長さＬＴが０．５
ｍｍ以下に設定されていることが好ましい。

【００２８】上記塗布装置によれば、特に低粘度（１０
ｃｐ以下）の塗布液を塗布厚みがクリアランスの１／５
以下で塗布する場合に、塗布膜厚を厚くすることなく塗
布速度を速くしても膜切れが発生することを抑制でき
る。

【００２９】（６）また、本発明の塗布装置は、前記リ
アリップエッジ面に前記斜面を設ける場合、該斜面から
後方へ連なる平面が設けられ、その平面は、 ａ）前記相対的な進行方向と略平行で、 ｂ）前記リアリップエッジ面と前記被塗布枚葉部材のク
リアランスにおいて最小値ＨＲの位置で、 ｃ）前記ＨＲは前記フロントエッジ面における最小クリ
アランスＨＦと略同一、となるように設定されているこ
とが好ましい。

【００３０】上記塗布装置によれば、リアリップエッジ
面に前記斜面を設ける場合においても、前記（４）と同
様の作用を得ることが可能となる。

【００３１】（７）また、本発明の塗布装置は、前記フ
ロントおよびリアリップエッジ面が平面より構成され、
それぞれの平面は、 ａ）塗布幅方向に沿った真直度が０．０１μｍ以上、１
０μｍ以下、 ｂ）算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００１μｍ以上、０．
２μｍ以下、 の範囲に設定されていることが好ましい。

【００３２】上記塗布装置によれば、塗布幅方向に亘っ
てリップエッジ断面形状のバラツキを小さくでき、塗布
速度を速くする場合でも、前記（４）と同様の作用を得
ることができる。

【００３３】（８）また、本発明の塗布装置は、前記フ
ロントおよびリアリップエッジ面の前記吐出口側端部Ｅ
ｆおよびＥｒの曲率半径が０．１μｍから１０μｍ以下
に設定されていることが好ましい。

【００３４】上記範囲に吐出口端部の曲率半径が設定さ
れていると、塗布幅方向で機械加工による曲率半径のバ
ラツキが小さくなるため、吐出口からビードに供給され
る塗布液の流れは塗布幅方向に亘って均一となり、塗布
速度を速くしても塗布幅方向で均一なビードを形成し、
安定保持することが可能になる。さらに、リップ間隙の
幅を顕微鏡などで容易に精度良く測定できるため、塗布
幅方向でリップ間隙の幅を均一に設定し、塗布幅方向の
膜厚の均一性を保つことが容易にできる。

【００３５】（９）また、本発明のカラーフィルタの製
造装置は、前記（１）〜（８）のいずれかに記載の塗布
装置を含んでおり、このカラーフィルタの製造装置は、
その塗布器から塗布液を吐出してガラス基板などの透明
基板に表面品位の高い所定の塗膜を高速で連続的に形成
できるため、効率良くカラーフィルタを製造することが
できる。

【００３６】（１０）また、本発明の塗布方法は、請求
項１〜４のいずれかに記載の塗布装置を用い、塗布器お
よび被塗布部材のうちの少なくとも一方を相対的に移動
させて被塗布部材の表面に塗布液の塗膜を形成するもの
である。

【００３７】上記の塗布方法によれば、前記（１）〜
（８）の塗布装置と同様な作用、つまり、表面品位が高
く、塗布幅方向や塗布進行方向ともに膜厚が均一な塗膜
を高速で形成することができる。

【００３８】（１１）また、本発明のカラーフィルタの
製造方法は、前記（１０）の塗布方法を用いてガラス基
板などの透明基板に所定の塗膜を短時間で順次形成する
ことができるため、タクトタイムを短縮しカラーフィル
タを効率良く製造することが可能となる。

【００３９】

【発明の実施の形態】以下、図面に示す実施例を参照し
ながら、本発明をさらに詳細に説明する。

【００４０】図１は本発明の一実施例のダイコータを示
した概略斜視図である。

【００４１】図２は図１のダイコータを塗布液の供給系
をも含めて示した概略構成図である。

【００４２】図３は図１のダイコータに使用されている
本発明の第１実施例におけるスリットダイの断面図であ
る。

【００４３】図４は図１のダイコータに使用されている
本発明の第２実施例におけるスリットダイの断面図であ
る。

【００４４】図１を参照すると、カラーフィルタの製造
に適用された塗布装置いわゆるダイコータが示されてお
り、ダイコータは基台２を備えている。基台２上には一
対のガイド溝レール４が設けられており、これらガイド
溝レール４には、ステージ６が配置され、このステージ
６の上面はサクション面として構成されている。ステー
ジ６は、一対のスライド脚８を介してガイド溝レール４
上を水平方向に往復動自在となっている。

【００４５】一対のガイド溝レール４間には、ガイド溝
レール４に沿って延びるケーシング１２が配置されてお
り、このケーシング１２は送り機構を内蔵している。送
り機構は、図２に示されているように、ボールねじから
なるフィードスクリュー１４を有しており、フィードス
クリュー１４はステージ６の下面に固定されたナット状
のコネクタ１６にねじ込まれ、このコネクタ１６を貫通
して延びている。フィードスクリュー１４の両端部は図
示しない軸受に回転自在に支持されており、その一端に
はＡＣサーボモータ１８が連結されている。なお、ケー
シング１２の上面又は側面にはコネクタ１６の移動を許
容する開口が形成されているが、図１中その開口は省略
されている。

【００４６】なお、ここでは、ステージ６が往復動する
構成となっているが、これに限らず、後述するスリット
ダイ４０がステージ６に対して往復動する構成であって
もよい。要は、ステージ６およびスリットダイ４０のう
ちの少なくとも一方が往復動すればよい。

【００４７】基台２の上面にはその一端側に逆Ｌ字形の
センサ支柱２０が配置されている。センサ支柱２０はそ
の先端が一方のガイド溝レール４の上方まで延びてお
り、その先端には電動型の昇降アクチュエータ２１が取
り付けられている。この昇降アクチュエータ２１には厚
みセンサ２２が下向きにして取り付けられており、この
厚みセンサ２２としてはレーザ変位計、電子マイクロ変
位計、超音波厚さ計などを使用することができる。

【００４８】さらに、基台２の上面にはセンサ支柱２０
よりも基台２の中央側に同じく逆Ｌ字形をなしたダイ支
柱２４が配置されている。ダイ支柱２４の先端は一対の
ガイド溝レール４間の上方、つまり、ステージ６の往復
動経路の上方に位置し、その先端には昇降機構２６が取
り付けられている。図１中には詳細に示されていないけ
れども、昇降機構２６は昇降ブラケットを備えており、
この昇降ブラケットは一対のガイドロッドに昇降自在に
取り付けられている。これらガイドロッド間にはボール
ねじからなるフィードスクリューが配置されており、こ
のフィードスクリューは昇降ブラケットのナット部にね
じ込まれ、このナット部を貫通して延びている。フィー
ドスクリューの上端部にはＡＣサーボモータ３０が連結
されており、このＡＣサーボモータ３０はケーシング２
８の上面に取り付けられている。なお、前述したガイド
ロッドおよびフィードスクリューはケーシング２８に収
容され、軸上を介して回転自在に支持されている。

【００４９】昇降ブラケットには支持軸（図示しない）
を介してコ字形をなしたダイホルダ３２が垂直面内で回
転自在に取り付けられており、このダイホルダ３２は一
対のガイド溝レール４の上方をこれらガイド溝レール４
間に亘って水平に延びている。さらに、昇降ブラケット
にはダイホルダ３２の上方に水平バー３６が固定されて
おり、この水平バー３６はダイホルダ３２に沿って延び
ている。水平バー３６の両端部には、空圧型の調整アク
チュエータ３８がそれぞれ取り付けられている。この調
整アクチュエータ３８は水平バー３６の下面から突出し
た伸縮可能なロッドを有しており、これら伸縮ロッドの
下端はダイホルダ３２の両端それぞれに当接されてい
る。

【００５０】ダイホルダ３２内には塗布器としてのスリ
ットダイ４０が取り付けられている。図２に示されてい
るようにスリットダイ４０からは塗布液の供給ホース４
２が延びており、この供給ホース４２の先端はシリンジ
ポンプ４４における電磁切り換え弁４６の供給ポートに
接続されている。電磁切り換え弁４６の吸引ポートから
は吸引ホース４８が延びており、この吸引ホース４８の
先端部は、塗布液を蓄えたタンク５０内に挿入されてい
る。

【００５１】シリンジポンプ４４のポンプ本体５２は、
電磁切り換え弁４６の切り換え作動により供給ホース４
２および吸引ホース４８の一方に選択的に接続可能とな
っている。そして、これら電磁切り換え弁４６およびポ
ンプ本体５２はコンピュータ５４に電気的に接続され、
このコンピュータ５４からの制御信号を受けて、それら
の作動が制御されるようになっている。また、コンピュ
ータ５４は前述した昇降アクチュエータ２１および厚み
センサ２２もまた電気的に接続されている。

【００５２】さらに、シリンジポンプ４４の作動を制御
するため、コンピュータ５４にはシーケンサ５６もまた
電気的に接続されている。このシーケンサ５６は、ステ
ージ６側のフィードスクリュー１４のＡＣサーボモータ
３０の作動をシーケンス制御するものであり、そのシー
ケンス制御のために、シーケンサ５６にはＡＣサーボモ
ータ１８，３０の作動状態を示す信号、ステージ６の移
動位置を検出する位置センサ５８からの信号、スリット
ダイ４０の作動状態を検出するセンサ（図示しない）か
らの信号などが入力され、一方、シーケンサ５６からは
シーケンス動作を示す信号がコンピュータ５４に出力さ
れるようになっている。なお、位置センサ５８を使用す
る代わりに、ＡＣサーボモータ１８にエンコーダを組み
込み、このエンコーダから出力されるパルス信号に基づ
き、シーケンサ５６にてステージ６の位置を検出するこ
とも可能である。また、シーケンサ５６にコンピュータ
５４による制御を組み込むことも可能である。

【００５３】図示されていないが、ダイコータには、ス
テージ６上に被塗布部材としての枚葉部材、つまり、カ
ラーフィルタのためのガラス基板Ａを供給するローダ
や、ステージ６からガラス基板Ａを取り外すためのアン
ローダが備えられており、これらローダおよびアンロー
ダにはその主要構成部分に例えば円筒座標系産業用ロボ
ットを使用することができる。

【００５４】図１から明らかなように、前述したスリッ
トダイ４０は、ステージ６の往復動方向と直行する方
向、すなわち、ステージ６の幅方向に水平に延びてお
り、その両端がダイホルダ３２に支持されている。ここ
で、スリットダイ４０の水平調整は、前述した水平バー
３６の両端に設けた調整アクチュエータ３８の伸縮ロッ
ドを伸縮させ、ダイホルダ３２をその支持軸回りに回転
させることで行うことができる。

【００５５】図３には、第１実施例のスリットダイ４０
の詳細を示している。このスリットダイ４０は長尺なブ
ロックであるフロントリップ５９およびリアリップ６０
を備えており、これらフロントおよびリアリップ５９、
６０はステージ６の往復動方向前後に位置して、互いに
一体的に結合されている。スリットダイ４０内の中央部
分には前述した塗布液の供給ホース４２に内部通路を介
して常時接続されている、塗布液を塗布幅方向に拡幅す
るための拡幅路、すなわちマニホールド６２が形成され
ており、このマニホールド６２はステージ６の往復動方
向と直行する方向に延びている。

【００５６】マニホールド６２からは下方に向けてリッ
プ間隙６４が垂直に延び、スリットダイ４０の下面に開
口している。リップ間隙６４の下端開口、つまり、吐出
口６６はマニホールド６２と同様にステージ６の往復動
方向と直交する方向に延びている。具体的にはフロント
リップ５９とリアリップ６０との間にはシム（図示しな
い）が介在されており、このシムの厚みにより、リップ
間隙６４および吐出口６６の隙間幅（リップ間隙の幅Ｌ
Ｐ）、つまり、ステージ６の往復動方向に沿う長さが例
えば０．０５ｍｍ以上、０．３ｍｍ以下に設定されてい
る。

【００５７】図１に示す状態からステージ６がスリット
ダイ４０に向けて往動するとき、その往動方向（図３中
の矢印Ｃ方向）でみて前側に位置するフロントリップ５
９に関し、その前面の下部は吐出口６６に向けて傾斜し
た傾斜面６８に形成されており、この傾斜面６８の下端
縁と吐出口側端部Ｅｆとの間にて、フロントリップエッ
ジ面７０が規定されている。一方、リアリップ６０に関
しては、その後面の下端部が吐出口６６に向けて傾斜し
た傾斜面７２に形成されており、この傾斜面７２の下端
縁と吐出口側端部Ｅｒとの間にて、リアリップエッジ面
７４が規定されている。

【００５８】図３から明らかなように、フロントリップ
エッジ面７０の吐出口側端部Ｅｆはリアリップエッジ面
７４の吐出口側端部Ｅｒよりも被塗布部材、すなわちガ
ラス基板Ａに対して垂直な方向に沿ってΔＨだけ被塗布
部材方向に突出した位置に設定されている。ΔＨの大き
さは、フロントリップ側エッジ面７０とガラス基板Ａと
の最小クリアランスＨＦに対して０．２≦ΔＨ／ＨＦ≦
２．０の範囲に規定されていることが好ましく、０．５
≦ΔＨ／ＨＦ≦１．０の範囲に規定されていることがよ
り好ましい。

【００５９】さらに、フロントリップエッジ面７０のス
テージ６の往復動方向に沿った長さＬＦは、０．５ｍｍ
以下に設定されていることが好ましく、０．０２ｍｍ以
上、０．１５ｍｍ以下の範囲に規定されていることがよ
り好ましい。ＬＦを前述した長さ０．５ｍｍより大きく
すると、特にガラス基板Ａとの最小クリアランスＨＦに
対して１／３以下の塗布膜厚ｔで塗布する場合、フロン
トリップ側ビードＢｆ内部において塗布液の流れが乱れ
やすく、ビードＢを形成、安定に保持することが難しく
なる。逆にＬＦを短くしすぎると、塗布幅方向における
リアリップエッジ面の機械製作精度を確保することが難
しくなるため、ＬＦは０．０２ｍｍ以上であることが好
ましい。

【００６０】リアリップエッジ面７４のステージ６の往
復動方向に沿った長さＬＲは、枚葉塗布の塗布開始、終
了時における塗布膜厚ｔを均一にするため、図３で示し
ているように前述のＬＦよりも長く設定されていること
が好ましい。

【００６１】また、フロントおよびリアリップエッジ面
７０、７４は、塗布幅方向におけるガラス基板Ａとのク
リアランスの均一性を精度よく容易に設定できるよう、
その一部がステージ６の往復動方向と略平行な平面で構
成されていることが好ましく、図３のスリットダイ４０
においては、フロントおよびリアリップエッジ面７０、
７４の形状は、ともにステージ６の往復動方向と略平行
な１つの平面で構成されている。

【００６２】図４には、第２実施例のスリットダイ４０
の詳細が示されているが、リアリップエッジ面７４の形
状以外は図３の第１実施例のスリットダイ４０と同じ構
成となっており、前述したフロントリップエッジ面７０
の長さＬＦ、およびフロントおよびリアリップエッジ面
７４の吐出口側端部Ｅｆ、Ｅｒの相対的な位置関係は、
第１実施例と同じ設定である。

【００６３】第２実施例のスリットダイ４０では、リア
リップエッジ面７４に吐出口側端部Ｅｒを起点とした、
ステージ６の往動方向と逆向きにガラス基板Ａに向かっ
て突出するような斜面７４ａが設けられており、その斜
面７４ａのステージ６の往復動方向に沿った長さＬＴは
好ましくは０．５ｍｍ以下に設定されている。より好ま
しくは、ＬＴはリアリップ側ビードＢｒの気液界面であ
るメニスカスＭｒが形成される位置よりも吐出口６６側
になるように設定されるよう、０．３ｍｍ以下に規定さ
れていることが好ましい。また、ＬＴを短くしていくと
斜面７４ａを機械加工で均一に仕上げることが困難とな
り、塗布幅方向でビードＢを均一に形成できなくなるた
め、長さＬＴは０．１ｍｍ以上であることが好ましい。

【００６４】図４で示す第２実施例のスリットダイ４０
では１つの斜面７４ａから構成されているが、全体の長
さＬＴが０．５ｍｍ以下であれば、斜面の数が複数であ
っても本発明の効果は損なわれることがない。

【００６５】また、第２実施例のスリットダイ４０は塗
布幅方向で均一なクリアランスを精度良く容易に設定で
き、塗布厚みがクリアランスＨＦの１／５以下で塗布す
る場合でも塗布速度を速くできるように、リアリップエ
ッジ面７４には斜面７４ａから連なる平面を設け、その
平面はステージ６の往動方向と略平行で、リアリップエ
ッジ面７４における最小クリアランスＨＲがフロントリ
ップエッジ面７０における最小クリアランスＨＦと略同
一長さにできる位置に設定することが好ましい。

【００６６】さらに、図４で示しているスリットダイ４
０においても、リアリップエッジ面７４の長さＬＲはフ
ロントリップエッジ面７０の長さＬＦよりも長く設定す
ることが、前述した塗布開始、終了時における塗布膜厚
ｔを均一にするためには好ましい。

【００６７】様々な評価のすえ、図３、図４で示す第１
および第２実施例のスリットダイ４０におけるフロント
およびリアリップエッジ面７０、７４を構成する平面
は、それぞれ、塗布幅方向で真直度が０．０１μｍ以
上、１０μｍ以下であって、算術平均粗さ（Ｒａ）が
０．００１μｍ以上、０．２μｍ以下の範囲に規定する
ことが、カラーフィルタを製造するような超精密塗布が
要求される塗布装置の塗布器として好ましいことがわか
った。前述の範囲に真直度と算術平均粗さ（Ｒａ）を規
定すると、塗布幅方向におけるフロントおよびリアリッ
プエッジ面７０、７４の形状のバラツキを小さくするこ
とができ、塗布速度を速くしても、ビードＢを塗布幅方
向で均一に形成、安定に保持して表面品位が高く、厚み
の均一な塗布液の塗膜を得ることができる。逆に良くし
すぎると加工費がかさむため、真直度は０．０１μｍ以
上、算術平均粗さ（Ｒａ）は０．００１μｍ以上とする
のがよい。

【００６８】本発明で規定する真直度とは、ＪＩＳ Ｂ
０６２１（１９９４）に準拠して定義されたものであ
る。すなわわち、真直度とは直線形体の幾何学的に正し
い直線からの狂いをいう。また、本発明で規定する算術
平均粗さ（Ｒａ）とは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（１９９
４）に準拠して測定される数値である。すなわち、算術
平均粗さ（Ｒａ）は、粗さ曲線からその平均線の方向に
基準長さ（Ｌ）だけ抜き取り、この抜き取り部分の平均
線の方向にＸ軸、縦倍率の方向にＹ軸を取り、粗さ曲線
をｙ＝ｆ（ｘ）で表したときに、次の式１によって求め
られる値をマイクロメートル単位（μｍ）で表したもの
をいう。

【００６９】

【化１】 さらに、第１および第２実施例のスリットダイ４０のフ
ロントおよびリアリップエッジ面７０、７４における吐
出口側端部Ｅｆ、Ｅｒの曲率半径は０．１μｍ以上、１
０μｍ以下に規定していることが好ましく、曲率半径が
前述の範囲内であれば塗布幅方向でビードＢを均一に形
成、安定に保持することができ、吐出口６６におけるリ
ップ間隙６４の幅ＬＰも光学顕微鏡で容易に測定できる
ことから、塗布速度を速くしても表面品位が高い厚みの
均一な塗布液の塗膜を得ることができる。

【００７０】以上、本発明の塗布装置における塗布器、
すなわちスリットダイの実施例を図面により詳述した
が、本発明の具体的な構成はこの実施例に限られるもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で設計変更な
どがあっても本発明に含まれる。

【００７１】次に、カラーフィルタの製造に係わる一工
程、つまり、上述したダイコータを使用して行われる塗
布方法を説明する。

【００７２】まず、ダイコータにおける各作動部の原点
復帰が行われると、ステージ６は厚みセンサ２２の下方
に位置付けられ、また、タンク５０から吸引ホース４８
および供給ホース４２を経て、スリットダイ４０内のマ
ニホールド６８およびリップ間隙６４内に至る経路内に
塗布液が満たされる。さらに、塗布準備動作として、シ
リンジポンプ４４の電磁切り換え弁４６がそのポンプ本
体５２に吸引ホース４８と接続すべく切り換え作動さ
れ、そして、ポンプ本体５２にタンク５０内の塗布液を
吸引ホース４８を通じて吸引する吸引動作を行わせる。
シリンジポンプ４４内に所定量の塗布液が吸引される
と、シリンジポンプ４４の電磁切り換え弁４６はポンプ
本体５２と供給ホース４２とを接続すべく切換作動され
る。

【００７３】この状態で、図示しないローダからステー
ジ６上にガラス基板Ａが供給され、このガラス基板Ａは
ステージ６上にサクション圧を受けて保持される。この
ようにしてガラス基板Ａのローディングが完了すると、
厚みセンサ２２が所定の位置まで下降され、ガラス基板
Ａの厚みが厚みセンサ２２により測定される。測定後、
厚みセンサ２２は元の位置まで上昇される。

【００７４】ガラス基板Ａのローディングが完了する
と、ステージ６はスリットダイ４０に向けて往動され、
スリットダイ４０の直前で停止される。この後、スリッ
トダイ４０が下降され、スリットダイ４０、すなわち、
その吐出口６６のフロントリップエッジ面７０とガラス
基板Ａの上面との間に所定のクリアランス、すなわち、
形成すべき塗膜の厚さｔに対して数倍となる、例えば
０．１ｍｍのクリアランスＨＦ（図３、図４参照）が確
保される。クリアランスＨＦは、厚みセンサ２２により
測定したガラス基板Ａの厚さを考慮し、ステージ６とス
リットダイ４０との間の距離を測定する距離センサ（図
示しない）からの出力信号に基づき、スリットダイ４０
の下降位置が位置決めされることで正確に設定される。

【００７５】次に、ステージ６をさらに往動させ、ガラ
ス基板Ａの上面にて、塗膜の形成を開始すべきスタート
ラインがスリットダイ４０の吐出口６６の直下に位置づ
けされて現時点で、ステージ６を一旦停止させる。

【００７６】このステージ６の一旦停止と実質的に同時
に、シリンジポンプ４４に塗布液の吐出動作を開始さ
せ、塗布液をスリットダイ４０に向けて供給する。した
がって、スリットダイ４０の吐出口６６からガラス基板
Ａ上に塗布液Ｌが吐出される。ここで、吐出口６６はそ
の間隙がスリットダイ４０の長手方向、つまり、ステー
ジ６の往復動方向に沿って一定であるから、吐出口６６
からはガラス基板Ａのスタートラインに沿って一様に塗
布液Ｌが吐出され、この結果、スリットダイ４０とガラ
ス基板Ａとの間には塗布液の液溜まりであるビードＢ
（図３、図４参照）がスタートラインに沿って形成され
る。

【００７７】このようなビードＢの形成と同時に、吐出
口６６からの塗布液Ｌの吐出を継続しながら、ステージ
６を一定の速度で往動方向に進行させると、図３および
図４に示されるように、ガラス基板Ａの上面に塗布液Ｌ
の塗膜Ｄが連続的に形成される。

【００７８】なお、塗膜Ｄの形成にあたっては、ステー
ジ６の往動を一旦停止することなく、ガラス基板Ａのス
タートラインがスリットダイ４０の吐出口６６を通過す
るタイミングにて、吐出口６６から塗布液Ｌを吐出する
ようにしてもよい。

【００７９】ステージ６の進行に伴い、ガラス基板Ａ上
にて塗膜Ｄの形成を終了すべきフィニッシュラインがス
リットダイ４０の吐出口６６の直前位置に到達すると、
この時点で、シリンジポンプ４４の吐出動作が停止され
ても、ガラス基板Ａ上の液溜まりＣの塗布液を消費しな
がら、塗膜Ｄの形成がフィニッシュラインまで継続され
る。なお、ガラス基板Ａ上のフィニッシュラインがスリ
ットダイ４０の吐出口７４を通過した時点で、シリンジ
ポンプ４４の吐出動作を停止するようにしてもよい。

【００８０】ガラス基板Ａ上のフィニッシュラインが吐
出口６６を通過する時点又は通過した時点で、シリンジ
ポンプ４４の吸引動作がわずかに行われ、これにより、
スリットダイ４０のリップ間隙６４内の塗布液Ｌはマニ
ホールド６２側に吸引される。

【００８１】同時に、スリットダイ４０は元の位置まで
上昇され、スリットダイ４０から塗布液Ｌの吐出工程が
終了する。次に、シリンジポンプ４４に吸引動作と同じ
量だけ吐出動作を与えて、スリットダイ４０のリップ間
隙６４に空気が残らないようにした後、シリンジポンプ
４４の電磁切り換え弁４６はポンプ本体５２と吸引ホー
ス４８とを接続すべく切り換え動作され、そして、ポン
プ本体５２にタンク５０内の塗布液を吸引ホース４８を
通じて吸引する吸引動作を行わせる。シリンジポンプ４
４内に所定量の塗布液が吸引されると、シリンジポンプ
４４の電磁切り換え弁４６はポンプ本体５２と供給ホー
ス４２とを接続すべく切り換え作動される。なお、スリ
ットダイ４０の上昇位置にて、そのフロントおよびリア
リップエッジ面７０、７４に付着している塗布液Ｌがク
リーナ（図示しない）により拭き取られる。

【００８２】一方、ステージ６の往動は、塗布液Ｌの吐
出工程が終了しても継続されており、ステージ６がガイ
ド溝レール４の終端に到達した時点で、その往動が停止
される。この状態で、塗膜Ｄが形成されたガラス基板Ａ
は、そのサクションによる吸着が解除されて後、アンロ
ーダによりステージ６上から取り外される。この後、ス
テージ６は往動され、図１に示す初期位置に戻されて一
連の塗布工程が終了する。初期位置にて、ステージ６は
新たなガラス基板がローディングされるまで待機する。

【００８３】上述したガラス基板Ａ上への塗膜Ｄを形成
するダイコータは上述したスリットダイ４０を備えてい
るので、スリットダイ４０より塗布液Ｌを吐出している
間のステージ６の往動速度、すなわち塗布速度を速くし
てもビードＢを塗布幅方向で均一に形成し、安定に保持
して表面品位が高く厚みの均一な塗膜Ｄを形成すること
ができるため、カラーフィルタを製造するタクトタイム
を短縮して、生産効率を向上させることが可能となる。

【００８４】さらに、塗布速度を速くしても塗膜Ｄの厚
みｔを厚くする必要がないため、乾燥設備の能力アップ
に伴う設備費アップや乾燥時間の増加を抑制でき、カラ
ーフィルタの製造コストを下げることが可能になる。

【００８５】つまり、スリットダイ４０に関し、フロン
トリップエッジ面７０はその長さＬＦが０．５ｍｍ以下
と短く設定されており、かつ、フロントリップエッジ面
７０の吐出口側端部Ｅｆがリアリップエッジ面７４の吐
出口側端部Ｅｒよりも下側にΔＨだけ突出しているた
め、フロントリップ側ビードＢｆ内部における塗布液の
流れが乱れず、気液界面であるメニスカスＭｆをフロン
トエッジ面７０の後縁で確実に保持し、さらに、吐出口
６６より吐出された塗布液がリアリップエッジ面７４側
に流れやすくなるためリアリップ側ビードＢｒを十分大
きく形成し、安定に保持することができる。よって、塗
布速度を速くしても塗布幅方向の任意の箇所で膜切れが
発生することはない。

【００８６】また、特に塗布液の粘度が低く（１０ｃｐ
以下）、塗布厚みｔが設定するフロントリップ側クリア
ランスＨＦの１／５以下で塗布する必要がある場合に
は、前述したフリアエッジ面７４の吐出口側端部Ｅｒを
起点に斜面７４ａを設けたスリットダイ４０によって、
塗布厚みｔを厚くすることなく塗布速度を速くすること
が可能になる。

【００８７】さらに、フロントおよびリアリップエッジ
面７０、７４をステージ６の往復動方向に略平行な少な
くとも１つの平面から構成することにより、クリアラン
スＨＦを塗布幅方向で均一に精度良く設定することが容
易となるため、塗布速度を速くしても塗膜Ｄの膜厚均一
性が悪化することはない。

【００８８】また、フロントおよびリアリップエッジ面
７０、７４の吐出口側端部Ｅｆ、Ｅｒの曲率半径を前述
の範囲に設定しておけば、塗布幅方向でビードＢ内の塗
布液の流れを均一化でき、さらにリップ間隙６４の幅Ｌ
Ｐを精度よく設定して塗布幅方向に亘る均一な塗布液の
吐出が可能になるため、塗布速度を速くしても塗布膜厚
の均一性が悪化することはない。

【００８９】したがって、本発明における塗布装置およ
び塗布方法によって、カラーフィルタの品質を維持しな
がら、製造タクトタイムを短縮することが可能となり、
生産効率を高めることができる。

【００９０】

【実施例】枚葉塗布装置において、塗膜品位、塗布膜厚
ｔを維持しながら塗布速度を速くするためには、フロン
トおよびリアリップエッジ面の形状を前述したような形
状に特定することが重要である。

【００９１】表１に、本発明における第１実施例のスリ
ットダイを用いて前述した塗布方法でガラス基板に塗布
液を塗布する際に、ビードＢの非形成もしく破壊による
空気同伴が原因のタテスジむらや膜切れが発生すること
なしに塗膜Ｄを形成できるステージ６の移動速度（塗布
速度）を実験によって比較した結果を示す。この実験で
は、リップ間隙６４の幅ＬＰを０．１ｍｍ、ガラス基板
Ａの大きさが縦横５５０×６５０ｍｍ、クリアランスＨ
Ｆが０．１ｍｍに設定されおり、後述する実験結果も全
て同じ条件にしている。また、塗布液として、ピグメン
トレッド１７７とガラスビーズをγ−ブチロラクトンへ
ホモジナイザーによって分散処理した後、濾過によりガ
ラスビーズを除去した顔料分散液にポリアミック酸のγ
−ブチロラクトン溶液を粘度が３０ｃｐとなるよう適宜
添加、混合した２種類のカラーペーストを使用し、２５
μｍの所定塗布膜厚ｔで塗布した。さらに、比較例とし
て図５に示すような、フロントリップエッジ面７０とリ
アリップエッジ面７４全域が同一面内に設定されている
スリットダイ４０を用いて塗布した結果も表１に示す。

【００９２】

【表１】 前記の表１から明らかなように、フロントリップエッジ
面７４の長さＬＦを０．５ｍｍ以下に設定して、フロン
トリップエッジ面７０の吐出口側端部Ｅｆをリアリップ
エッジ面７４の吐出口側端部Ｅｒよりも、ΔＨだけ突出
させることによって塗布可能速度を速くできることがわ
かる。さらに、ΔＨを０．２≦ΔＨ／ＨＦ≦２．０の範
囲に設定することで、塗布可能速度をより速くできるこ
とがわかる。

【００９３】表２では、本発明における第２実施例のス
リットダイを用いて前述した塗布方法でガラス基板に塗
布液を塗布する際に、表１と同様にタテスジむらや膜切
れが発生することなしに塗膜Ｄを形成できるステージ６
の移動速度（塗布速度）を実験によって比較した結果を
示す。この実験では、塗布液として前述のカラーペース
トの粘度が３ｃｐとなるよう調整したものを使用し、５
μｍの所定塗布膜厚ｔで塗布した。

【００９４】

【表２】 表２から明らかなように、図４に示すような第２実施例
のスリットダイでは、フロントリップエッジ面７０の長
さＬＦが０．５ｍｍ以下で、かつ斜面７４ａの長さＬＴ
が０．５ｍｍ以下に設定されているとき、塗布速度を速
くできることがわかる。

【００９５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項
１，２，５，１０の塗布装置および塗布方法によれば、
硬質で平坦な枚葉部材表面に塗布液を高速で薄膜塗布す
る場合でも、リップエッジ面と被塗布枚葉部材との隙間
に架橋して形成されるビードを十分大きく形成して安定
に保持することができる。この結果、ビードの非形成、
もしくは破壊による空気同伴でタテスジむらや塗膜形成
のできない膜切れ発生を防ぎ、表面品位の高い塗膜を高
速で形成することが可能となる。

【００９６】請求項３の塗布装置によれば、ビード形成
の制御が容易になって、塗布開始、終了時の塗布膜厚均
一性を高めることが可能となるため、塗布速度を速くし
た場合でも塗布膜厚精度を維持することができる。

【００９７】請求項４，５の塗布装置によれば、被塗布
部材とリアリップエッジ面のクリアランスを塗布幅方向
で均一に精度よく設定することが容易になって、塗布幅
方向において均一なビードを形成することが可能となる
ため、請求項３の場合と同様な効果を得ることができ
る。

【００９８】請求項７，８の塗布装置によれば、塗布幅
方向に亘るリップエッジ断面形状のバラツキが小さくな
るため、塗布幅方向で均一なビードを形成することが可
能になり、請求項３の場合と同様な効果を得ることがで
きる。

【００９９】そして、請求項９，１１のカラーフィルタ
の製造装置および製造方法によれば、高品質なカラーフ
ィルタをタクトタイムを短縮して製造することが可能と
なる。

【図面の簡単な説明】

【図１】一実施例のダイコータを示した概略斜視図であ
る。

【図２】図１のダイコータを塗布液の供給系をも含めて
示した概略構成図である。

【図３】図１のダイコータに使用されている本発明の第
１実施例におけるスリットダイの断面図である。

【図４】図１のダイコータに使用されている本発明の第
２実施例におけるスリットダイの断面図である。

【図５】比較例における従来のスリットダイの断面図で
ある。

【符号の説明】 ６：ステージ １４：フィードスクリュー ４０：スリットダイ（塗布器） ４４：シリンジポンプ（供給手段） ５０：タンク ５９：フロントリップ ６０：リアリップ ６２：マニホールド ６４：リップ間隙 ６６：吐出口 ６８，７２：傾斜面 ７０：フロントリップエッジ面 ７４：リアリップエッジ面 Ａ：ガラス基板（被塗布枚葉部材）

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】塗布液を供給する手段と、該塗布液供給手
   段からの塗布液の供給を受けて一方向に延びる吐出口か
   ら塗布液を吐出する塗布器と、該塗布器およびそれに対
   向する位置に配置された被塗布枚葉部材の少なくとも一
   方を相対的に移動させる移動手段とを具備し、前記被塗
   布枚葉部材の表面に塗布液の塗膜を形成する塗布装置で
   あって、前記塗布器は、前記被塗布枚葉部材の相対的な
   進行方向でみた場合、進行方向側に位置するフロントリ
   ップと、前記進行方向とは反対側に位置するリアリップ
   と、前記両リップ間に形成されるリップ間隙とを有して
   いるとともに、前記両リップはそれぞれ、少なくとも前
   記リップ間隙を形成する接液面と、該接液面に連なり前
   記被塗布枚葉部材に対向するリップエッジ面とを有し、 ａ）前記フロントリップエッジ面の前記進行方向に沿っ
   た長さＬＦが０．５ｍｍ以下であり、 ｂ）前記フロントリップエッジ面の前記リップ接液面へ
   と繋がる吐出口側端部Ｅｆが、前記リアリップの前記リ
   ップ接液面へと繋がる吐出口側端部Ｅｒよりも、ΔＨだ
   け前記被塗布枚葉部材方向へ突出した位置にあることを
   特徴とする塗布装置。
2. 【請求項２】前記フロントリップエッジ面と前記被塗布
   枚葉部材との最小クリアランスをＨＦとしたとき、前記
   ΔＨが０．２≦ΔＨ／ＨＦ≦２．０の範囲に設定されて
   いることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
3. 【請求項３】前記リアリップエッジ面における前記相対
   的な進行方向に沿った長さが、前記フロントリップエッ
   ジ面の前記長さより長いことを特徴とする請求項１また
   は２に記載の塗布装置。
4. 【請求項４】前記フロントおよびリアリップエッジ面
   は、それぞれ前記相対的な進行方向と略平行な少なくと
   も１つの平面から構成されることを特徴とする請求項１
   〜３のいずれかに記載の塗布装置。
5. 【請求項５】前記リアリップエッジ面には前記吐出側端
   部Ｅｒを起点として、 １）前記進行方向と逆向きに前記被塗布枚葉部材に向か
   って突出するような少なくとも１つの斜面が形成され、 ２）該斜面部の前記相対的な進行方向に沿った長さＬＴ
   が０．５ｍｍ以下に設定されていることを特徴とする請
   求項１〜４のいずれかに記載の塗布装置。
6. 【請求項６】前記リアリップエッジ面には、前記斜面か
   ら後方へ連なる平面が設けられ、その平面は、 ａ）前記相対的な進行方向と略平行で、 ｂ）前記リアリップエッジ面と前記被塗布枚葉部材のク
   リアランスが最小値ＨＲとなる位置で、 ｃ）前記ＨＲは前記フロントエッジ面における最小クリ
   アランスＨＦと略同一、となるように設定されているこ
   とを特徴とする請求項５記載の塗布装置。
7. 【請求項７】前記フロントおよびリアリップエッジ面が
   平面より構成され、それぞれの平面は、 ａ）塗布幅方向に沿った真直度が０．０１μｍ以上、１
   ０μｍ以下、 ｂ）算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００１μｍ以上、０．
   ２μｍ以下、の範囲に設定されていることを特徴とする
   請求項１〜６のいずれかに記載の塗布装置。
8. 【請求項８】前記フロントおよびリアリップエッジ面の
   前記吐出口側端部ＥｆおよびＥｒの曲率半径が０．１μ
   ｍ以上、１０μｍ以下に設定されていることを特徴とす
   る請求項１〜７のいずれかに記載の塗布装置。
9. 【請求項９】請求項１〜８のいずれかの塗布器を含むカ
   ラーフィルタの製造装置。
10. 【請求項１０】請求項１〜８のいずれかに記載の枚葉塗
    布装置を用い、塗布器および被塗布枚葉部材の少なくと
    も一方を相対的に移動させて前記被塗布枚葉部材の表面
    に塗布液の塗膜を形成することを特徴とする塗布方法。
11. 【請求項１１】請求項１０の塗布方法を用いてカラーフ
    ィルターを製造することを特徴とするカラーフィルター
    の製造方法。