CN219291852U - 一种涂布装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种涂布装置,包括涂布轮、涂布模头、中空座体及气槽,其中涂布模头与涂布轮平行设置,中空座体设置于涂布轮下方,且其上端具有开口,开口与涂布轮之间的距离形成间隙,且中空座体的侧壁上设有至少一个气孔。此外,气槽设置于中空座体的内部,并与中空座体的气孔流体连通,且气槽的顶部具有条状气道,其长度与中空座体的开口的长度相同,藉由条状气道可使负压均匀施加于涂布基材的幅宽方向上,于幅宽方向提供均匀减压进而可进一步均化涂布基材上的涂液,从而避免产生表面纹路等外观不良的问题,提升涂布质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种涂布装置,特别涉及一种可提升涂布质量的涂布装置。
背景技术
常见涂布技术包含辊式涂布法、狭缝式涂布法、刮刀式涂布法、浸涂法、滚轮涂布法、旋转涂布法、喷涂法等,其中狭缝式涂布法由于涂布厚度均匀性高、适用涂液黏度范围广及材料利用率高等优点而被广泛应用于光学薄膜等精密涂布上。
而采用狭缝式涂布法的涂布设备上,在完成涂布动作时,为使于涂布模头出料的涂液对涂布基材的涂布位置形成稳定的涂布液珠(Coating Bead),进而避免涂布缺陷,现有技术中通常对该位置进行减压。
请参考图1A与图1B,图1A为一种现有狭缝式涂布装置的侧视示意图,图1B所绘示的是图1A所示现有狭缝式涂布装置的中空座体的立体示意图。如图1A、图1B所示,该狭缝式涂布装置100包含中空座体110、涂布模头120以及涂布轮130,其中相对于该涂布轮130,该涂布模头120设置于其平行位置,且该涂布模头120的出料口121朝向涂布轮130;该中空座体110靠近设置于该涂布轮130下方,且其上端具有开口111,该开口111与该涂布轮130之间的距离形成间隙d1。请搭配参考图1B,其为该中空座体110的立体示意图,该中空座体110的侧壁113设置有一个以上的气孔112。当使用上述狭缝式涂布装置时,该涂布轮130带动涂布基材10行经该开口111与该涂布轮130之间的间隙d1到达该出料口121,则该涂液122即可经由该涂布模头120出料并分布于该涂布基材10上而完成涂布动作,同时藉由真空泵(未绘示)以流体连接该气孔112,使该中空座体110内部产生负压并对该开口111处产生吸力,从而可通过开口111与涂布轮130之间的间隙d1对该涂液122提供减压。然而,当该开口111产生吸力时,由于该涂布基材10的幅宽方向上的各区域与该气孔112之间的距离不同而产生吸引压差,进一步导致该涂液122于涂布基材10的幅宽方向上的减压效果不均,而容易造成于特定区域产生连续性表面纹路等外观不良的问题。
实用新型内容
有鉴于此,需要一种可解决上述问题的涂布装置。为了达到上述目的,本实用新型提供一种一种涂布装置,包括涂布轮、涂布模头、中空座体及气槽。该涂布模头与该涂布轮平行设置;该中空座体设置于该涂布轮下方,其上端具有开口,该开口与该涂布轮之间的距离形成间隙,且该中空座体的侧壁具有至少一个气孔;该气槽设置于该中空座体的内部,并与该中空座体的该至少一个气孔流体连通。其中,该气槽的顶部具有条状气道,且该条状气道的长度与该中空座体的该开口的长度相同。
作为可选的技术方案,该气槽进一步包含调控叶片,该调控叶片设置于该气槽的该条状气道上,该调控叶片用于沿该条状气道的宽度方向位移以改变该条状气道的宽度。
作为可选的技术方案,该条状气道设置于邻近该涂布模头的一侧。
作为可选的技术方案,该涂布模头为狭缝模具。
作为可选的技术方案,其中该气槽的容积占该中空座体的容积的20%至95%。
作为可选的技术方案,该至少一个气孔用于与真空泵连接。
作为可选的技术方案,该中空座体还包含压力检测组件,该压力检测组件用于检测该中空座体内的气压。
作为可选的技术方案,该涂布模头上设有出料口,该出料口邻近该涂布轮。
作为可选的技术方案,该出料口与该涂布轮之间的间距大小可调节。
作为可选的技术方案,该开口与该涂布轮之间的距离形成的该间隙的大小可调节。
本实用新型的涂布装置,气槽设置于中空座体的内部,气槽的顶部具有条状气道,同时中空座体的侧壁具有至少一个气孔。当涂布装置运作时,涂布轮带动涂布基材经过中空座体的开口与涂布轮之间的间隙并行进至涂布模头的出料口,使涂液经由涂布模头的出料口对涂布基材进行涂布,同时中空座体藉由气孔连接真空泵进行抽气,使得与气孔流体连通的气槽呈现负压,并藉由条状气道使负压均匀施加于涂布基材的幅宽方向上,于幅宽方向提供均匀减压而可均化涂布基材上的涂液,从而避免产生表面纹路等外观不良的问题,提升涂布质量。
以下结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细描述,但不作为对本实用新型的限定。
附图说明
图1A所绘示的是一种现有狭缝式涂布装置的侧视示意图。
图1B所绘示的是图1A所示的现有狭缝式涂布装置中的中空座体的立体示意图。
图2A所绘示的是根据本实用新型所公开的一种涂布装置的侧视示意图。
图2B所绘示的是图2A所示的根据本实用新型所公开的一种涂布装置中的中空座体的立体示意图。
具体实施方式
为使对本实用新型的目的、构造、特征及其功能有进一步的了解,兹配合实施例详细说明如下。
请一并参阅图2A与图2B,其为本使用新型公开的一实施例的涂布装置200的侧视图以及根据本实用新型所公开的一种涂布装置中的中空座体210的立体示意图。图2A与图2B仅以简要图式呈现本实用新型的主要元件关系,并未依实际比例绘制,故不可用以限制本实用新型。如图2A和图2B所示,本实用新型的涂布装置200包括涂布轮230、涂布模头220、中空座体210及气槽300,其中涂布模头220与涂布轮230平行设置,中空座体210设置于涂布轮230下方,且其上端具有开口211,开口211与涂布轮230之间的距离形成间隙d2,中空座体210的侧壁213具有至少一个气孔212。此外,中空座体210内部还设有气槽300,且气槽300与中空座体210的气孔212流体连通。其中,气槽300的顶部具有条状气道310,且条状气道310的长度与中空座体210的开口211长度相同。如此,可使涂布基材10的幅宽方向上的各区域与条状气道310之间的距离几近相同,进一步使涂液222于涂布基材10的幅宽方向上的减压效果均匀,涂液222形成的涂层厚度均匀且涂布稳定。本实用新型公开的涂布装置200于一实施例中,气槽300含调控叶片320,调控叶片320设置于气槽300的条状气道310上,并可沿条状气道310宽度方向位移以改变条状气道310的宽度,在实际应用时,可根据涂布的具体需求通过改变条状气道310的宽度来进一步调节负压强度。
本实用新型公开的一实施例的涂布装置200,当其运作时,涂布轮230带动涂布基材20经过开口211与涂布轮230之间的距离所形成的间隙d2并行进至涂布模头220的出料口221,使涂液222经由涂布模头220的出料口221对涂布基材20进行涂布,同时中空座体210藉由气孔212连接真空泵(未绘示)进行抽气,使得与气孔212流体连通的气槽300呈现负压,并藉由条状气道310使负压均匀施加于涂布基材20的幅宽方向上,且可依需要沿条状气道310宽度方向位移调控叶片320以改变条状气道310的宽度来调整至合适的负压强度,于幅宽方向提供均匀减压进而可进一步均化涂布基材10上的涂液122,从而避免产生表面纹路等外观不良的问题,提升涂布质量。
在实际操作中,气槽300上的条状气道310设置在邻近涂布模头220的一端,调控叶片320设置于远离涂布模头220的一侧,如此,可使得在进行涂布作业时,更有效的将均匀的负压施加于涂布基材10上的涂液122,进一步提升涂布的效率和质量。此外,本实用新型提供的涂布装置200,其中空座体210还可包含压力检测组件(未图示),压力检测组件包含压力传感器,用于检测中空座体210的内部压力,在实际使用过程中可根据压力检测组件的检测数值控制真空泵来调节检测中空座体210内部(尤其是邻近开口211处)的负压大小,以提高涂布稳定性。压力检测组件可邻近开口211设置,但压力检测组件的设置位置不限于此。
于一实施例中,出料口221与涂布轮230之间的间距大小可调节,在实际应用时,可通过设置调节组件(未图示)来调节出料口221与涂布轮230之间的间距大小,通过改变间距大小来实现涂布厚度的变化,即可根据需要得到图案化的涂层。例如,通过调节组件使涂布模头220朝涂布轮230移动,缩小了出料口221与涂布轮230之间的间距,使得涂层厚度变薄;还可以通过周期性的改变出料口221与涂布轮230之间的间距大小以得到周期性间隔设置的涂层。
在本使用新型公开的一实施例的涂布装置200中,涂布模头220为狭缝模具(SlotDie),狭缝模具可使涂液222在一定压力一定流量下沿着涂布模具的缝隙挤压喷出而转移至涂布基材20上,涂布速度快、精度高,且模具封闭,涂布过程中能防止污染物进入,涂液222的利用率高性质稳定。该气槽300的容积占该中空座体210的容积的20%至95%。
在实际操作时,开口211与涂布轮230之间的距离所形成的间隙d2的大小可根据需要调节,以进一步提高涂布稳定性。
本实用新型的涂布装置,气槽设置于中空座体的内部,气槽的顶部具有条状气道,同时中空座体的侧壁具有至少一个气孔。当涂布装置运作时,涂布轮带动涂布基材经过中空座体的开口与涂布轮之间的间隙并行进至涂布模头的出料口,使涂液经由涂布模头的出料口对涂布基材进行涂布,同时中空座体藉由气孔连接真空泵进行抽气,使得与气孔流体连通的气槽呈现负压,并藉由条状气道使负压均匀施加于涂布基材的幅宽方向上,于幅宽方向提供均匀减压而可均化涂布基材上的涂液,从而避免产生表面纹路等外观不良的问题,提升涂布质量。
当然,本实用新型还可有其它多种实施例,在不背离本实用新型精神及其实质的情况下,熟悉本领域的技术人员可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形,但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种涂布装置,其特征在于包括:
涂布轮;
涂布模头,与该涂布轮平行设置;
中空座体,设置于该涂布轮下方,其上端具有开口,该开口与该涂布轮之间的距离形成间隙,且该中空座体的侧壁具有至少一个气孔;及
气槽,设置于该中空座体的内部,并与该中空座体的该至少一个气孔流体连通;
其中,该气槽的顶部具有条状气道,且该条状气道的长度与该中空座体的该开口的长度相同。
2.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,该气槽进一步包含调控叶片,该调控叶片设置于该气槽的该条状气道上,该调控叶片用于沿该条状气道的宽度方向位移以改变该条状气道的宽度。
3.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,该条状气道设置于邻近该涂布模头的一侧。
4.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,该涂布模头为狭缝模具。
5.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,其中该气槽的容积占该中空座体的容积的20%至95%。
6.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,该至少一个气孔用于与真空泵连接。
7.根据权利要求6所述的涂布装置,其特征在于,该中空座体还包含压力检测组件,该压力检测组件用于检测该中空座体内的气压。
8.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,该涂布模头上设有出料口,该出料口邻近该涂布轮。
9.根据权利要求8所述的涂布装置,其特征在于,该出料口与该涂布轮之间的间距大小可调节。
10.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,该开口与该涂布轮之间的距离形成的该间隙的大小可调节。
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