JPH11106508A - 低屈折率透明ポリイミド共重合体、及びそれらの前駆体溶液、及びそれらの製造方法 - Google Patents

低屈折率透明ポリイミド共重合体、及びそれらの前駆体溶液、及びそれらの製造方法

Info

Publication number
JPH11106508A
JPH11106508A JP28428497A JP28428497A JPH11106508A JP H11106508 A JPH11106508 A JP H11106508A JP 28428497 A JP28428497 A JP 28428497A JP 28428497 A JP28428497 A JP 28428497A JP H11106508 A JPH11106508 A JP H11106508A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
low
refractive index
refractive
polyimide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP28428497A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3425854B2 (ja
Inventor
Toru Matsuura
松浦  徹
Nobutake Koshiyoubu
信建 小勝負
Shigekuni Sasaki
重邦 佐々木
Shogo Kobayashi
尚吾 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP28428497A priority Critical patent/JP3425854B2/ja
Publication of JPH11106508A publication Critical patent/JPH11106508A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3425854B2 publication Critical patent/JP3425854B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明性を有する含フッ素ポリイミドの屈折率
を石英の屈折率に近づけ、かつこの低屈折率領域におい
て、屈折率を精密に制御できる光学用ポリイミド材料を
提供する。 【解決手段】 一般式(化1): 【化1】 〔式中Rfは−Cm 2m-1(ただし、mは9以上の整数
を示す)、Yは酸素、硫黄、又は単結合を示す〕で表さ
れる繰り返し単位と、式(化1)におけるアミン成分
が、2,2′−ビス(CF3 )−4,4′−ジアミノビ
フェニルである繰り返し単位とからなる低屈折率透明ポ
リイミド共重合体。その前駆体溶液。それらの常法によ
る製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、低屈折率で透明性
を有する含フッ素ポリイミド共重合体、及びそれらの前
駆体溶液、及びそれらの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリイミドは種々の有機ポリマーの中で
耐熱性に優れているため、宇宙、航空分野から電子通信
分野まで幅広く使われ始めている。特に最近では、単に
耐熱性に優れているだけでなく、用途に応じて種々の性
能を合せ持つことが期待されている。例えばプリント板
や、LSI用の層間絶縁膜などでは、熱膨張係数、誘電
率が小さいことが期待され、光通信関係特に光導波路の
コア材料、クラッド材料には屈折率が小さいことが期待
されている。光導波路において、光をコアに閉じ込める
ためにはクラッドの屈折率はコアの屈折率より小さくす
る必要があるため、クラッド材料には低屈折率であるこ
とが要求される。また、石英系の光ファイバとの接合を
考慮すると、光導波路材料の屈折率はできるだけ石英の
屈折率(1.46)に近い方が、光の接続損失を低く抑
えることができるが、ポリイミドの屈折率は一般に石英
に比べてかなり大きい(1.55〜1.75程度)。し
たがって、ポリイミドを用いた光導波路では、コア材料
であっても、用いるポリイミドは低屈折率であることが
望まれている。更に、設計通りの光導波路を作製するた
めにはコアとクラッドの屈折率差を精密に制御する必要
があるため、光導波路用材料には精密な屈折率制御性が
要求される。更に、光導波路用材料には導波する光の減
衰をできるだけ少なくするために透明性に優れることも
重要である。また、安定な物性値を保つには、吸水率が
小さいことが必要である。これまでに本発明者らは特願
平2−110498号明細書において2種類のフッ素化
ポリイミドの共重合体が、ポリイミドの分子構造にフッ
素を導入することで屈折率を低減し、また共重合化を変
えることでポリイミドの屈折率を波長589.3nmに
おいて1.551から1.647の範囲で制御できるこ
とを示した。しかしながら、このフッ素化ポリイミド共
重合体はフッ素を含まないポリイミドより低屈折率では
あるものの、その屈折率は石英と比較して0.1程度以
上も大きい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】これまでに先に述べた
性能を十分満足するポリイミドは得られていなかった。
本発明の目的は、透明性を有する含フッ素ポリイミドの
屈折率を更に低屈折率である石英の屈折率に近づけ、か
つこの低屈折率領域において、屈折率を精密に制御でき
る光学用ポリイミド材料を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明を概説すれば、本
発明の第1の発明は、低屈折率透明ポリイミド共重合体
に関する発明であって、下記一般式(化1):
【0005】
【化1】
【0006】〔式中Rfは−Cm 2m-1(ただし、mは
9以上の整数を示す)、Yは酸素、硫黄、又は単結合を
示す〕で表される繰り返し単位と、下記一般式(化
2):
【0007】
【化2】
【0008】で表される繰り返し単位とからなることを
特徴とする。また、本発明の第2の発明は低屈折率透明
ポリイミド共重合体に関する発明であって、一般式(化
1)において、Rfが−C9 17であり、かつYが酸素
であることを特徴とする。また、本発明の第3の発明は
低屈折率透明ポリイミド共重合体の前駆体溶液に関する
発明であって、下記一般式(化3):
【0009】
【化3】
【0010】〔式中Rfは−Cm 2m-1(ただし、mは
9以上の整数を示す)、Yは酸素、硫黄、又は単結合を
示す〕で表される繰り返し単位と、下記一般式(化
4):
【0011】
【化4】
【0012】で表される繰り返し単位とからなるポリア
ミド酸共重合体が、有機溶媒中に溶解していることを特
徴とする。また、本発明の第4の発明は低屈折率透明ポ
リイミド共重合体の前駆体溶液に関する発明であって、
一般式(化3)において、Rfが−C9 17であり、か
つYが酸素であることを特徴とする。また、本発明の第
5の発明は低屈折率透明ポリイミド共重合体の前駆体溶
液の製造方法に関する発明であって、下記式(化5):
【0013】
【化5】
【0014】で表される2,2−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物と下
記一般式(化6):
【0015】
【化6】
【0016】〔式中Rfは−Cm 2m-1(ただし、mは
9以上の整数を示す)、Yは酸素、硫黄、又は単結合を
示す〕で表される2種類のジアミンとを有機溶媒中で反
応させることを特徴とする。また、本発明の第6の発明
は低屈折率透明ポリイミド共重合体の前駆体溶液の製造
方法に関する発明であって、一般式(化6)において、
Rfが−C9 17であり、かつYが酸素であることを特
徴とする。また、本発明の第7の発明は低屈折率透明ポ
リイミド共重合体の製造方法に関する発明であって、式
(化5)で表される2,2−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物と一般式
(化6)で表される2種類のジアミンとを有機溶媒中で
反応させてポリイミドの前駆体溶液を製造し、これをイ
ミド化と脱溶媒を行うことを特徴とする。また、本発明
の第8の発明は低屈折率透明ポリイミド共重合体の製造
方法に関する発明であって、一般式(化6)において、
Rfが−C9 17であり、かつYが酸素であることを特
徴とする。
【0017】本発明者らは、ポリイミドの分子構造と耐
熱性、透明性、屈折率、吸水率、及び共重合による屈折
率制御について種々検討した。その結果、一般式(化
1)で示される側鎖に多フッ素置換基を有するフッ素化
ポリイミドと(化2)で示されるフッ素化ポリイミドと
の共重合体が既存のポリイミドと比較して優れた耐熱
性、透明性、低屈折率性、及び低吸水性、及び低屈折率
領域での屈折率制御性を有していることを明らかにし
た。このポリイミドは側鎖に多フッ素置換基を有する屈
折率の極めて小さいポリイミドと透明性に特に優れた含
フッ素ポリイミドとを共重合させることで低屈折率領域
での屈折率制御性と優れた透明性を有している。また、
すべての共重合比においてフッ素含有率を30%以上に
することで優れた低吸湿性を有している。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的に説明す
る。本発明の構成要素である第1の発明の一般式(化
1)で表されるポリイミド中の基Rfのmは9以上の整
数であればよいが、mが著しく大きくなるとポリイミド
の耐熱性が低下するため、mは12以下であることが好
ましい。一方、mが9未満の場合にはポリイミドに低屈
折率性を発現させるフッ素の割合が小さくなるため、十
分な低屈折率性と屈折率制御性を持たせることが不可能
となるため、不適である。Rfの具体的な構造の例とし
ては、−C9 17、−C1019、−C1223等を挙げる
ことができる。Yについては、Rfが直接芳香族環に結
合してもよいし、酸素(O)や硫黄(S)を介して結合
してもよい。
【0019】次にこれらの低屈折率透明ポリイミド共重
合体の製造方法について説明する。まず、構造式(化
5)に示された2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物と(化6)に
示された2種類のジアミンとを有機溶媒中で重合させて
得られるポリアミド酸共重合体溶液を製造する。用いる
酸二無水物と2種類のジアミンの質量は2種類のジアミ
ンのモル数の和が酸二無水物のモル数と同じになるよう
にすればよい。更にこの共重合体溶液を加熱、又は無水
酢酸等を用いて化学的にイミド化することでポリアミド
酸の脱水閉環反応を起こさせて、低屈折率透明ポリイミ
ド共重合体を製造する。ポリアミド酸溶液の製造に用い
る原料の酸二無水物は酸二無水物以外にその誘導体であ
るテトラカルボン酸やこれらの酸から誘導される酸塩化
物等の誘導体であってもよい。ポリアミド酸の製造に用
いる極性溶媒としてはN−メチル−2−ピロリドン、
N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン等を挙
げることができる。
【0020】
【実施例】以下、実施例により本発明の低屈折率透明ポ
リイミド共重合体、及びそれらの前駆体溶液、及びその
製造方法について更に具体的に説明するが、本発明はこ
れら実施例に限定されない。下記各例中、ポリイミドの
構造の確認は赤外吸収スペクトルにおけるカルボニル基
の対称及び非対称伸縮振動による特性吸収から行った。
また、高分子量化は前駆体溶液の粘度を測定することに
より確認した。また、低屈折率透明ポリイミド共重合体
の熱分解温度は窒素気流下10℃/分の昇温速度で加熱
したときの10%重量減少温度である。また、低屈折率
透明ポリイミドフィルム表面の屈折率はプリズムカプラ
を用い、波長633nm、TEモード(ポリイミドフィ
ルム面と平行方向の光の偏波モード)で測定した。
【0021】参考例1 三角フラスコに以下の構造式(化7)を持つ5−(パー
フルオロノネニルオキシ)−1,3−ジアミノベンゼ
ン:
【0022】
【化7】
【0023】11.08g(20.0mmol)と構造
式(化5)で示される2,2−ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物8.8
8g(20.0mmol)、及びN,N−ジメチルアセ
トアミド(DMA)80gを加えた。この混合物を窒素
雰囲気下、室温で3日間かくはんし、ポリイミドの前駆
体溶液を得た。この溶液の粘度は約50ポアズであっ
た。次にこの前駆体溶液をアルミニウム基板上にスピン
コーティングし、窒素雰囲気下で70℃で2時間、16
0℃で1時間、250℃で30分、更に350℃で1時
間で加熱キュアした。このアルミニウム板を10%HC
l水溶液に浸し、アルミニウム板を溶解してポリイミド
を製造した。この赤外吸収スペクトルを測定するとイミ
ド基に特有の吸収が1735及び1780cm-1に現
れ、イミド化が完全に進行したことが確認できた。この
ものの熱分解温度は471℃、屈折率は1.476であ
った。
【0024】参考例2 参考例1における5−(パーフルオロノネニルオキシ)
−1,3−ジアミノベンゼンを以下の構造式(化8)で
示される2,2′−ビス(トリフルオロメチル)−4,
4′−ジアミノビフェニル:
【0025】
【化8】
【0026】の混合物6.40g(20mmol)に置
き換えて、参考例1と同様に行い、ポリイミドの前駆体
溶液、及びポリイミドを得た。得られたポリイミドの特
性を表1に示す。
【0027】実施例1〜4 参考例1における5−(パーフルオロノネニルオキシ)
−1,3−ジアミノベンゼンを、表1に示す5−(パー
フルオロノネニルオキシ)−1,3−ジアミノベンゼン
と2,2′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−
ジアミノビフェニルとの混合物20mmolに置き換え
て、参考例1と同様に行い、低屈折率透明ポリイミド共
重合体の前駆体溶液、及び低屈折率透明ポリイミド共重
合体を得た。得られたポリイミドの特性を表1に示す。
【0028】比較例1 実施例1における5−(パーフルオロノネニルオキシ)
−1,3−ジアミノベンゼンを以下の構造式(化9)で
示される4,4′−オキシジアニリン:
【0029】
【化9】
【0030】4.00g(20mmol)に置き換え、
また実施例1における2,2−ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)ヘキサフルオロプロパン酸二無水物を以
下の構造式(化10)で示されるピロメリット酸二無水
物:
【0031】
【化10】
【0032】4.36g(20mmol)に置き換え
て、実施例1と同様に行い、ポリイミドを製造した。こ
のものの特性を表1に示す。
【0033】
【表1】
【0034】これらの結果から、本発明の低屈折率透明
ポリイミド共重合体は既存のポリイミドと比較して波長
633nmでの屈折率(TEモード)が0.1以上小さ
くなった。更に実施例1から実施例4で得られた低屈折
率透明ポリイミド共重合体フィルムにおいて、2種類の
ジアミンの混合比、すなわち共重合比(mol%、横
軸)に対する屈折率(縦軸)の関係を図1に示した。こ
の結果より本低屈折率透明ポリイミド共重合体フィルム
はその共重合比を変えることで屈折率を1.542以下
の小さな領域で、1.542から1.476の範囲で精
密に制御できることが明らかとなった。更に実施例1か
ら実施例4で得られたすべての低屈折率透明ポリイミド
共重合体フィルムは、同一の膜厚で比較例1で得られた
既存のポリイミドフィルムと比較して着色が少なく、可
視波長での透明性に優れていた。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の低屈折率
透明ポリイミド共重合体は、従来のポリイミドの持つ優
れた耐熱性に加えて、従来のポリイミドにない優れた耐
熱性、透明性、低屈折率性、かつ低屈折率領域での屈折
率制御性を合せ持つため、光導波路材料を初めとした光
学部品用材料として極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のポリイミド共重合体フィルムにおい
て、2種類のジアミンの混合比に対する屈折率の関係を
示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 尚吾 東京都武蔵野市御殿山一丁目1番3号 エ ヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株 式会社内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(化1): 【化1】 〔式中Rfは−Cm 2m-1(ただし、mは9以上の整数
    を示す)、Yは酸素、硫黄、又は単結合を示す〕で表さ
    れる繰り返し単位と、下記一般式(化2): 【化2】 で表される繰り返し単位とからなることを特徴とする低
    屈折率透明ポリイミド共重合体。
  2. 【請求項2】 一般式(化1)において、Rfが−C9
    17であり、かつYが酸素であることを特徴とする請求
    項1記載の低屈折率透明ポリイミド共重合体。
  3. 【請求項3】 下記一般式(化3): 【化3】 〔式中Rfは−Cm 2m-1(ただし、mは9以上の整数
    を示す)、Yは酸素、硫黄、又は単結合を示す〕で表さ
    れる繰り返し単位と、下記一般式(化4): 【化4】 で表される繰り返し単位とからなるポリアミド酸共重合
    体が、有機溶媒中に溶解していることを特徴とする低屈
    折率透明ポリイミド共重合体の前駆体溶液。
  4. 【請求項4】 一般式(化3)において、Rfが−C9
    17であり、かつYが酸素であることを特徴とする請求
    項3記載の低屈折率透明ポリイミド共重合体の前駆体溶
    液。
  5. 【請求項5】 下記式(化5): 【化5】 で表される2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
    ル)ヘキサフルオロプロパン二無水物と下記一般式(化
    6): 【化6】 〔式中Rfは−Cm 2m-1(ただし、mは9以上の整数
    を示す)、Yは酸素、硫黄、又は単結合を示す〕で表さ
    れる2種類のジアミンとを有機溶媒中で反応させること
    を特徴とする請求項3記載の低屈折率透明ポリイミド共
    重合体の前駆体溶液の製造方法。
  6. 【請求項6】 一般式(化6)において、Rfが−C9
    17であり、かつYが酸素であることを特徴とする請求
    項5記載の低屈折率透明ポリイミド共重合体の前駆体溶
    液の製造方法。
  7. 【請求項7】 式(化5)で表される2,2−ビス
    (3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロ
    パン二無水物と一般式(化6)で表される2種類のジア
    ミンとを有機溶媒中で反応させてポリイミドの前駆体溶
    液を製造し、これをイミド化と脱溶媒を行うことを特徴
    とする請求項1記載の低屈折率透明ポリイミド共重合体
    の製造方法。
  8. 【請求項8】 一般式(化6)において、Rfが−C9
    17であり、かつYが酸素であることを特徴とする請求
    項7記載の低屈折率透明ポリイミド共重合体の製造方
    法。
JP28428497A 1997-10-02 1997-10-02 低屈折率透明ポリイミド共重合体、及びそれらの前駆体溶液、及びそれらの製造方法 Expired - Fee Related JP3425854B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28428497A JP3425854B2 (ja) 1997-10-02 1997-10-02 低屈折率透明ポリイミド共重合体、及びそれらの前駆体溶液、及びそれらの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28428497A JP3425854B2 (ja) 1997-10-02 1997-10-02 低屈折率透明ポリイミド共重合体、及びそれらの前駆体溶液、及びそれらの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11106508A true JPH11106508A (ja) 1999-04-20
JP3425854B2 JP3425854B2 (ja) 2003-07-14

Family

ID=17676546

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28428497A Expired - Fee Related JP3425854B2 (ja) 1997-10-02 1997-10-02 低屈折率透明ポリイミド共重合体、及びそれらの前駆体溶液、及びそれらの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3425854B2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006335677A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Nippon Shokubai Co Ltd パーフルオロアルケニル誘導体
US9279036B1 (en) 2014-12-26 2016-03-08 Fuji Xerox Co., Ltd. Polyamideimide precursor composition, polyamideimide molded article, and method for preparing polyamideimide molded article
JP2018131601A (ja) * 2017-02-15 2018-08-23 律勝科技股▲分▼有限公司 ポリイミド樹脂及びその製造方法と薄膜
KR20230016613A (ko) 2020-05-29 2023-02-02 도요보 가부시키가이샤 폴리이미드 필름 및 그 제조 방법
KR20230019064A (ko) 2020-05-29 2023-02-07 도요보 가부시키가이샤 폴리이미드 필름 및 그 제조 방법
KR20230025652A (ko) 2020-06-16 2023-02-22 도요보 가부시키가이샤 무색 다층 폴리이미드 필름, 적층체, 플렉시블 전자 디바이스의 제조 방법
KR20230098789A (ko) 2020-11-10 2023-07-04 도요보 가부시키가이샤 폴리이미드 필름 및 그 제조 방법

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006335677A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Nippon Shokubai Co Ltd パーフルオロアルケニル誘導体
US9279036B1 (en) 2014-12-26 2016-03-08 Fuji Xerox Co., Ltd. Polyamideimide precursor composition, polyamideimide molded article, and method for preparing polyamideimide molded article
JP2018131601A (ja) * 2017-02-15 2018-08-23 律勝科技股▲分▼有限公司 ポリイミド樹脂及びその製造方法と薄膜
KR20230016613A (ko) 2020-05-29 2023-02-02 도요보 가부시키가이샤 폴리이미드 필름 및 그 제조 방법
KR20230019064A (ko) 2020-05-29 2023-02-07 도요보 가부시키가이샤 폴리이미드 필름 및 그 제조 방법
KR20230025652A (ko) 2020-06-16 2023-02-22 도요보 가부시키가이샤 무색 다층 폴리이미드 필름, 적층체, 플렉시블 전자 디바이스의 제조 방법
KR20230098789A (ko) 2020-11-10 2023-07-04 도요보 가부시키가이샤 폴리이미드 필름 및 그 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP3425854B2 (ja) 2003-07-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100310092B1 (ko) 광통신용 폴리이미드, 그 제조방법 및 그것을 이용한 다층 폴리이미드막의 형성방법
JP2640553B2 (ja) フッ素化ポリイミド共重合体及びその製造方法
JP3131940B2 (ja) ポリイミド共重合体及びその製造方法
JP3425854B2 (ja) 低屈折率透明ポリイミド共重合体、及びそれらの前駆体溶液、及びそれらの製造方法
JP2657700B2 (ja) 含フッ素ポリイミド光学材料
JP3674878B2 (ja) ポリイミド光導波路
US6486292B2 (en) Optical polyimide precursor, optical polyimide compound and fabricating method thereof
KR100319299B1 (ko) 광통신용 폴리이미드
US6028159A (en) Polyamideimide for optical communications and method for preparing the same
JPH0676554B2 (ja) 含フッ素ポリイミド組成物及びその製造方法
JP6638744B2 (ja) ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドの製造方法、ポリイミド、ポリイミドフィルム、及び基板
JP2694008B2 (ja) 含フッ素ポリイミド及びその製造方法
JP2000198842A (ja) 光学基板用ポリイミド及び光学用ポリイミド基板
JP3506320B2 (ja) 光学基板用ポリイミド及びその製造方法
JP3082879B2 (ja) ポリアミド酸組成物及びポリイミド組成物
JP2009269986A (ja) 高分子−無機ハイブリッド光学材料
JP2843314B2 (ja) 含フッ素ポリイミド光学材料
JP2940645B2 (ja) 耐熱性プラスチック光ファイバ
JP2998835B2 (ja) 含フッ素ポリイミド光学材料
JP2000198843A (ja) 光学基板用ポリイミド及び光学用ポリイミド基板
JPH1121350A (ja) はっ水性ポリイミドフィルム及びその製造方法
JP2002202422A (ja) 高分子光導波路
JPH0532894A (ja) 透明な芳香族ポリイミドの溶液組成物
JP2827059B2 (ja) フッ素化ポリアミド酸、フッ素化ポリイミド及びそれらの製造方法
JP2003160664A (ja) 光学用ポリイミド前駆体およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 6

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090509

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 6

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090509

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 7

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100509

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100509

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110509

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120509

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130509

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees