JPH111061A - アブレーシヨン記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】密着が良好で且つアブレーション時のDminを実
用上問題なく低くできるアブレーション記録材料を提供
する。 【解決手段】レーザーを利用して像様加熱する工程を施
すアブレーション記録材料において、紫外線照射処理、
グロー放電処理および火焔処理の少なくとも１種によっ
て表面処理された支持体を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザーアブレー
ション記録材料に関し、さらに詳しくは特定の表面処理
を施した支持体を用いたレーザーアブレーション記録材
料に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、電気信号をサーマルプリントヘッ
ドに与えて、画像形成させる熱転写システムが普及して
きている。一方、サーマルプリントヘッドの代わりにレ
ーザーを用いる方法も開発されており、レーザーの高出
力化に伴って普及していくものと考えられる。このよう
なシステムにおいては、記録材料中にレーザーの波長域
に強く吸収を有する物質が含まれており、吸収物質は光
エネルギーを熱エネルギーに転換してサーマルプリント
ヘッドを用いた場合と同様な効果をもたらす。また、レ
ーザーを使用した場合には、サーマルプリントヘッドに
比べて非接触であるために画像表面にキズが出ないこと
が利点であり、レーザービームが細く絞れるために画像
分解能を向上させることが可能である。

【０００３】さらに最近では、高出力レーザーを用いた
色素アブレーションと呼ばれる画像形成方法が開発され
ており、その記録材料が特開平７−１６４５７７号、同
７−１４９０６３号、同７−１４９０６５号等に記載さ
れており、画像形成装置が特開平８−４８０５３号、同
８−７２４００号に開示されている。このシステムで
は、支持体上に塗布された画像色素、レーザー波長域に
吸収を有する物質（赤外吸収物質）及びバインダーから
なる色素層組成物を有する記録材料を、色素層側からレ
ーザー照射することによって画像記録が行われる。レー
ザーによって与えられたエネルギーは、レーザービーム
が材料に当たったスポットで画像形成層に急激な局部変
化を起こし、それによって物質を層から追い出す。上記
特許公報によれば、これは完全に物理的な変化（例え
ば、溶融、蒸発または昇華）ではなく、ある種の化学変
化（例えば、結合破壊）であり、部分的な画像色素の除
去ではなく、完全な除去であるという。このような色素
アブレーション画像形成方法の有用性は、レーザー露光
で画像形成色素を除去することができる効率によって、
大きく左右される。この効率を示す尺度として、レーザ
ー露光部の最小濃度値（Dmin）が用いられ、値が小さい
ほど色素除去効率が高いことを示す。従って、支持体と
画像形成層の密着が強すぎるとDmin値が高くなり、一
方、密着が弱すぎるとDminは低くなるが印刷産業で通常
行われるテープによる貼り込み作業性がなくなり、いず
れにしても実用的でなくなる。

【０００４】米国特許第２，６９８，２４１号、同２，
７６４，５２０号、同２，８６４，７５５号、同３，４
６２，３３５号、同３，４７５，１９３号、同３，１４
３，４２１号、同３，５０１，３０１号、同３，４６
０，９４４号、同３，６７４，５３１号、英国特許第７
８８，３６５号、同８０４，００５号、同８９１，４６
９号、特公昭４８−４３１２２号、同５１−４４６号な
どにはポリエステルフィルム支持体とゼラチンを主とし
た保護コロイドからなるハロゲン化銀乳剤層を強固に密
着させるための種々の支持体の表面処理方法が開示され
ている。しかしながら、密着が非常に強固であるとDmin
が高くなる問題があるレーザーアブレーション記録材料
に関する記載はない。特開平８−５２９４８及び特開平
８−２８２０９９は、色素アブレーション記録材料及び
レーザーアブレーション転写記録材料に関する。これら
の明細書の実施例中には、コロナ放電処理したポリエチ
レンテレフタレート支持体上にシアノアクリレートバリ
ヤ中間層あるいはカーボンブラックを含む画像形成層を
塗布する記載があるが、これらの層と支持体との密着及
びこの時のDminに与える影響については何ら記載がな
い。また、表面処理方法としてグロー放電処理、紫外線
照射処理、火焔処理に関する記載は全くない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前記色素アブレーショ
ン記録材料関連特許及びレーザーアブレーション転写記
録材料特許については、それらの材料が、良好な密着と
アブレーション時のDminを低くすることを両立させなけ
ればならないという課題がある。本発明の目的は、密着
が良好で且つアブレーション時のDminを実用上問題なく
低くできるアブレーション記録材料を提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、レーザ
ーを利用して像様加熱する工程を施すアブレーション記
録材料において、紫外線照射処理、グロー放電処理、火
焔処理の少なくとも１種によって表面処理された支持体
上に、少なくとも１層の画像形成層を有し、該画像形成
層と支持体の間に少なくとも１層の中間層を有すること
を特徴とするアブレーション記録材料によって達成され
た。

【０００７】

【発明の実施の形態】意外にも、紫外線照射処理、グロ
ー放電処理、火焔処理の少なくとも１種によって表面処
理された支持体は、コロナ放電などの他の表面処理方法
に比べて、レーザーアブレーション記録材料の支持体と
中間層を良く密着させ、且つ、レーザー露光後のDminも
実用上問題なく低くできることがわかった。本発明にお
いては、下記の実施態様が特に好ましい。 １）該アブレーション記録材料の支持体の表面処理がグ
ロー放電処理であり、かつ、該グロー放電処理雰囲気の
ガス組成においてＨ₂ Ｏが１０％以上であることを特徴
とする上記の解決手段に述べたアブレーション記録材
料。 ２）該アブレーション記録材料の画像形成層側に無水グ
ルコース単位１個あたりの硝酸エステル基置換度が０．
２〜２．９５、カルボキシアルキルエーテル基置換度が
０．０５〜２．８であるカルボキシアルキルセルロース
の硝酸エステル類を含有することを特徴とする上記の解
決手段に述べたアブレーション記録材料。 ３）該画像形成層中に画像形成物質として無機微粒子を
含有することを特徴とする上記の解決手段に述べたアブ
レーション記録材料。 ４）該無機微粒子がカーボンブラックおよび／またはチ
タンブラックであることを特徴とする上記の解決手段に
述べたアブレーション記録材料。

【０００８】本発明で用いられるアブレーション記録材
料の支持体には、寸度安定性があり、しかもレーザーの
熱に耐えられるならば、いずれの材料でも使用できる。
このような材料としては、ポリ（エチレンナフタレー
ト）、ポリ（エチレンテレフタレート）などのポリエス
テル；ポリアミド；ポリカーボネート；酢酸セルロース
などのセルロースエステル；ポリ（フッ化ビニリデン）
や（テトラフルオロエチレン−共−ヘキサフルオロプロ
ピレン）などのフッ素ポリマー；ポリオキシメチレンな
どのポリエーテル；ポリアセタール；ポリスチレン、ポ
リエチレン、ポリプロピレンもしくはメチルペンテンポ
リマーなどのポリオレフィン及びポリイミド−アミドや
ポリエーテルイミド等のポリイミドが含まれる。支持体
の厚さは、一般に約５〜約２００μｍである。また、所
望であれば、米国特許第４，６９５，２８８号、同４，
７３７，４８６号に記載されているような下塗り層を支
持体に塗布しても良い。好ましい実施態様では支持体は
透明である。本発明で用いられる表面処理方法は、紫外
線照射処理、グロー放電処理、火焔処理である。

【０００９】先ず紫外線照射処理について以下に記す。
紫外線照射処理は特公昭４３−２６０３号、特公昭４３
−２６０４号、特公昭４５−３８２８号記載の処理方法
などによって行われるのが好ましい。水銀灯は石英管か
らなる高圧水銀灯で、紫外線の波長が１８０〜３２０ｎ
ｍの間であるものが好ましい。紫外線照射は支持体の延
伸工程、熱固定時、熱固定後の何れでもよい。紫外線照
射の方法については、光源は被支持体の表面温度が１５
０℃前後にまで上昇することが支持体性能上問題なけれ
ば、主波長が３６５nmの高圧水銀灯ランプを使用するこ
とができる。低温処理が必要とされる場合には主波長が
２５４nmの低圧水銀灯が好ましい。またオゾンレスタイ
プの高圧水銀ランプ、及び低圧水銀ランプを使用する事
も可能である。処理光量に関しては処理光量が多いほど
支持体と被接着層との接着力は向上するが、光量の増加
に伴い支持体が着色し、また支持体が脆くなるという問
題が発生する。従って、通常のポリエステル、ポリオレ
フィン等のプラスチックフィルムには３６５nmを主波長
とする高圧水銀ランプで、照射光量２０〜１００００
（mJ／cm² ) がよく、より好ましくは５０〜２０００
（mJ／cm² ) である。２５４nmを主波長とする低圧水銀
ランプの場合には、照射光量１００〜１００００（mJ／
cm² ）がよく、より好ましくは３００〜１５００（mJ／
cm² ) である。次に火焔処理としては、天然ガス、液化
プロパンガスなどを利用でき、空気との混合比が重要で
ある。好ましいガス／空気の混合比は容積比で液化プロ
パンガスでは１／１４〜１／２２、より好ましくは１／
１６〜１／１９である。天然ガスでは１／６〜１／１
０、より好ましくは１／７〜１／９である。

【００１０】火焔処理量は、１〜５０Ｋｃａｌ／m²、よ
り好ましくは３〜２０Ｋｃａｌ／m²である。またバーナ
ーの内炎の先端と支持体の距離を４cm未満とすることが
より効果的である。処理装置としては春日電気（株）製
フレーム処理機を用いることができる。処理時の支持体
を支えるバックアップローラーは中空型ロールが好まし
く、中に冷却液を透して常時一定の所定温度にする事が
好ましい。

【００１１】また効果的な表面処理であるグロー放電処
理は、従来知られているいずれの方法、例えば特公昭３
５−７５７８号、同３６−１０３３６号、同４５−２２
００４号、同４５−２２００５号、同４５−２４０４０
号、同４６−４３４８０号、米国特許３，０５７，７９
２号、同３，０５７，７９５号、同３，１７９，４８２
号、同３，２８８，６３８号、同３，３０９，２９９
号、同３，４２４，７３５号、同３，４６２，３３５
号、同３，４７５，３０７号、同３，７６１，２９９
号、英国特許９９７，０９３号、特開昭５３−１２９２
６２号等を用いることができる。グロー放電処理の雰囲
気に酸素、窒素、ヘリウムあるいはアルゴンのような種
々のガスを導入しながら行う手法があるが、ポリエステ
ル支持体の場合、特殊ガスを導入しても接着性の著しい
効果は見られず、ガスの価格も高価であり工業的に適し
ない。これに対して、水蒸気（Ｈ₂ Ｏ）を導入した場合
は、特殊ガスの導入の場合と同等あるいはそれ以上の接
着効果を有し、価格も大幅に安価であり、工業的に優れ
た方法である。

【００１２】Ｈ₂ Ｏの存在下でグロー放電処理を実施す
るＨ₂ Ｏ分圧は、１０％以上１００％以下が好ましく、
更に好ましくは２５％以上７５％以下である。１０％未
満では充分な接着性を得ることが困難となる。Ｈ₂ Ｏ以
外のガスは酸素、窒素等からなる空気である。このよう
なグロー放電の処理雰囲気中にＨ₂ Ｏを定量的に導入す
る方法は、グロー放電処理装置に取付けたサンプリング
チューブからガスを４極子型質量分析器（日本真空製Ｍ
ＳＱ−１５０）に導き、組成を定量しながら行うことで
達成できる。更に、表面処理すべきフィルムを予め加熱
した状態で真空グロー放電処理を行うと、常温で処理す
るのに比べ短時間の処理で接着性が向上し、黄色化を大
幅に減少させることができる。予熱温度は５０℃以上Ｔ
ｇ以下が好ましい。Ｔｇ以上の温度で予熱すると密着が
やや悪化してしまう。真空中でポリマー表面温度を上げ
る具体的方法としては、赤外線ヒータによる加熱、熱ロ
ールに接触させることによる加熱等がある。このように
予熱した支持体をグロー放電処理するが、上記Ｈ₂ Ｏ分
圧及び支持体の予熱温度等以外に抑制すべき重要な処理
条件として、真空度、電極間電圧、放電周波数等が挙げ
られる。これら処理条件を制御することにより、接着性
と黄色化抑制が両立するグロー放電処理を実施すること
が可能となる。

【００１３】グロー放電処理時の圧力は０．００５〜２
０Torrとするのが好ましい。より好ましくは０．０２〜
２Torrである。圧力が低すぎると支持体表面を十分に改
質することができず、充分な接着性を得ることができな
い。一方圧力が高すぎると安定な放電が起こらない。ま
た、電圧は、５００〜５０００Ｖの間が好ましい。より
好ましくは５００〜３０００Ｖである。電圧が低過ぎる
と支持体表面を十分に改質することができず、十分な接
着性を得ることができない。一方電圧が高すぎると表面
が変質してしまい、逆に接着性が低下する。また、使用
する放電周波数は、従来技術に見られるように、直流か
ら数１０００ＭＨｚ、好ましくは５０Ｈｚ〜２０ＭＨ
ｚ、更に好ましくは１ＫＨｚ〜１ＭＨｚである。放電処
理強度は、０．０１ＫＶ・Ａ・分／m²〜５ＫＶ・Ａ・分
／m²が好ましく、更に好ましくは０．１５ＫＶ・Ａ・分
／m²〜１ＫＶ・Ａ・分／m²で所望の接着性能が得られ
る。このようにして、グロー放電処理を施した支持体
は、直ちに冷却ロールを用いて温度を下げることが好ま
しい。支持体は温度の上昇に伴ない外力により塑性変形
し易くなり、被処理支持体の平面性が損なわれてしま
う。更に低分子量体（モノマー、オリゴマー等）が支持
体表面に析出し、透明性や耐ブロッキング性を悪化させ
る可能性がある。

【００１４】本発明で画像形成層に用いる画像形成物質
は特に限定されない。例えば、特開平７−１４９０６５
号、同７−１４９０６６号、同８−１０４０６５号、米
国特許第４５４１８３０号、同４６９８６５１号、同４
６９５２８７号、同４７０１４３９号、同４７５７０４
６号、同４７４３５８２号、同４７６９３６０号、同４
７５３９２２号等に記載されているアブレイティブ色素
であってもよい。本発明においてより好ましい画像形成
物質は無機微粒子である。この無機微粒子としては、カ
ーボンブラック、チタンブラック、コロイド銀、硫化銀
コロイド、金属酸化物等が含まれる。本発明に用いる無
機微粒子を塗布した場合の色としては、印刷製版用途の
画像形成の場合はＵＶ領域に吸収を有することが必用で
あり、医療用途の場合には、黒色であることが必用であ
る。このため、無機微粒子の色を与える粒子サイズもさ
まざまであるが、５〜５００ｎｍの粒子サイズが好まし
く、特に５〜２５０ｎｍの粒子サイズが好ましい。本発
明に用いる無機微粒子の製法は、上記粒子サイズを満た
す製法であればいずれでもよい。例えば、カーボンブラ
ック原料としては、Dennel Voet 著の"Carbon Black" M
arcel Dekker Inc.(1976) に記載されているようなチャ
ンネル法、サーマル法、およびファーネス法などの任意
の製法のものが使用できる。

【００１５】画像形成層における無機微粒子等の画像形
成物質の塗布量は、レーザー未照射部分で濃度２．５以
上（印刷用途の場合はＵＶ領域の吸収値、医療用途の場
合は可視域の吸収値）の吸収を有する塗布量であればど
の程度でもよく、その量は使用する画像形成物質の種
類、サイズによっても異なる。例えば、カーボンブラッ
ク（一次粒径として２３ｎｍ）の場合は塗布量０．６７
ｇ／ｍ² でＵＶ濃度４．０、可視濃度２．７であり、チ
タンブラック（粒径５８ｎｍ）の場合は塗布量０．７４
ｇ／ｍ² でＵＶ濃度４．０、可視濃度３．６である。

【００１６】本発明に用いるカルボキシアルキルセルロ
ースの硝酸エステル類とは、カルボキシメチルセルロー
ス、カルボキシエチルセルロース等のカルボキシアルキ
ルセルロース類を公知の硝酸エステル化用混酸、例え
ば、硫酸、硝酸、そして水からなる硝酸エステル化用混
酸で反応を行い、カルボキシアルキルセルロース中に含
まれる硝酸エステル基置換度が０．２以上、カルボキシ
アルキルエーテル基置換度が０．０５以上であるものを
いい、詳しくは特開平５−３９３０１号公報、特開平５
−３９３０２号公報に示された水性セルロース誘導体を
言う。本発明に用いるカルボキシアルキルセルロースの
硝酸エステル類の硝酸エステル基置換度の好ましい範囲
は０．２以上２．２以下であり、カルボキシアルキルエ
ーテル基置換度の好ましい範囲は０．０５以上１．５以
下である。硝酸エステル基置換度が０．２未満では顕色
剤や染料の分散性及び耐水性が不十分であり、カルボキ
シアルキルエーテル基置換度が０．０５未満では水への
溶解性が不十分になり、実質的に水溶性バインダーとし
て用いることが困難となる。

【００１７】また、硝酸エステル基置換度が２．２を越
えると、水と有機溶剤との混合溶剤に溶解または分散す
るために、有機溶剤の量を増加させる必要を生じる。ま
た、カルボキシアルキルエーテル基置換度が１．５を越
えると、塗布面の耐水性がやや不十分となる傾向があ
る。本発明に用いるカルボキシアルキルセルロースの硝
酸エステル類のカルボキシル基は、一部、あるいは全部
中和されていてもかまわない。中和されることにより水
及び水を主成分とした水溶性有機溶剤への溶解度が上が
る。中和のためにはアルカリ金属イオン、アルカリ土類
金属イオン、アンモニウムイオン、有機アミン等の陽イ
オンの１種または２種以上を用いることが出来る。この
場合、中和の程度は、目的とする溶液の水、有機溶剤等
の組成に応じて任意に決定されるが、一般的には、含ま
れるカルボキシル基の５０％以上が中和されていること
が好ましい。本発明に用いるカルボキシアルキルセルロ
ースの硝酸エステル類は画像形成層を有する側の構成層
のいずれの層にも用いることができる。好ましく用いら
れる構成層としては、画像形成層、支持体と画像形成層
との間の中間層、画像形成層の上のオーバーコート層で
ある。特に好ましくは、支持体と画像形成層の間の中間
層である。本発明に用いるカルボキシアルキルセルロー
スの硝酸エステル類の塗布量としては０．０５〜５ｇ／
m²が好ましく、さらには０．１〜３ｇ／m²が好ましい。
本発明に用いるカルボキシアルキルセルロースの硝酸エ
ステル類は、単独で使用してもよいし、公知のバインダ
ーの少なくとも一種と組み合わせて用いることもでき
る。

【００１８】前述したバインダー以外で、本発明の記録
材料の画像形成層側に用いられる高分子バインダーとし
ては、米国特許第５３３０８７６号に記載されているよ
うなサイズ排除クロマトグラフィーで測定したポリスチ
レン等価分子量が１０万以上で、分解性のポリマーが好
ましい。ここで分解性とは、レーザー画像化の際に得ら
れる温度において素早く熱分解して十分量の気体および
揮発性フラグメントを与えるバインダーか、あるいは少
量の酸存在下で分解温度が著しく低下するバインダーを
意味する。

【００１９】本発明のアブレーション記録材料は、支持
体と画像形成層の間に中間層を設ける。これは該中間層
を設けることによりアブレーション効率が上がり、前述
のレーザー照射部のＤｍｉｎを低減できるからである。
本発明の中間層には、画像形成層やオーバーコート層に
用いられる他の任意のバインダーを組み合わせて用いて
も良い。中間層のバインダーの塗布量としては、可能な
限りＤｍｉｎが低減できる量ならばいずれでもよいが、
０．０５〜２ｇ／ｍ² が好ましく、更には０．１〜１．
５ｇ／ｍ² が好ましい。また、中間層を支持体との密着
を兼ねる層、例えば下塗り層としてもよく、その場合の
バインダーの塗布量としては０．０５〜０．５ｇ／ｍ²
が好ましい。

【００２０】本発明のアブレーション記録材料のオーバ
ーコート層にはポリテトラフルオロエチレンビーズが好
ましく用いられ、意図する目的のために有効な任意の濃
度または粒子サイズで使用することができる。一般的
に、このビーズは約０．１〜約２０μｍ、好ましくは約
０．１〜約５μｍの範囲内の粒子サイズを有している。
ビーズの塗布量は約０．００５〜約５．０ｇ／ｍ² 、好
ましくは約０．０５〜約０．５ｇ／ｍ² の範囲であって
良い。ビーズは球状である必要はなく、任意の形状のも
のであってよい。本発明のオーバーコート層は、特開平
８−１０８６２２号に記載されているように、耐引掻
性、耐磨耗性および艶消し仕上げを付与する上で有効で
ある。本発明の記録材料においては、ビーズを含有する
オーバーコート層のバインダーとしては、前述のバイン
ダー以外に任意のポリマー物質を使用することができ
る。例えば、セルロース誘導体、例えばセルロースアセ
テート水素フタレート、セルロースアセテート、セルロ
ースアセテートプロピオネート、セルロースアセテート
ブチレート、セルトーストリアセテート、ヒドロキシプ
ロピルセルロースエーテル、エチルセルロースエーテ
ル；ポリカーボネート；ポリウレタン；ポリエステル；
ポリ（酢酸ビニル）；ポリ（塩化ビニル）およびポリ
（塩化ビニル）コポリマーのようなポリ（ハロゲン化ビ
ニル）；ポリ（ビニルエーテル）；無水マレイン酸コポ
リマー；ポリスチレン；ポリ（スチレン−共−アクリロ
ニトリル）；ポリスルホン；ポリ（フェニレンオキシ
ド）；ポリ（エチレンオキシド）；ポリ（ビニルアセタ
ール）、ポリ（ビニルアセタール−共−ブチラール）ま
たはポリ（ビニルベンザール）のようなポリ（ビニルア
ルコール−共−アゼタール）；またはこれらの混合物も
しくはコポリマーを使用することができる。オーバーコ
ート層のバインダーは約０．１〜約５ｇ／ｍ² の塗布量
で使用することができる。

【００２１】本発明のレーザーアブレーションによる画
像形成では、アブレートされた材料が支持体から離れて
周囲の空気中に散らばる。このアブレートされた材料の
中にはレーザー装置の周囲に集まり、レーザーで書き込
まれた部分に堆積するものがある。この堆積物はレーザ
ー光を遮り、前述のＤｍｉｎを許容レベル以上に増加さ
せ、画質を実用に耐えなくさせてしまう場合がある。こ
のアブレートされた材料を空気流により除去することが
望ましく、そのような除去装置が特開平８−７２４００
号に記載されている。

【００２２】本発明のアブレーション記録材料は、特開
平８−４８０５３号に開示されているように、レーザー
照射後の最小記録濃度（Ｄｍｉｎ）が０．１１以下であ
ることが好ましい。これはこの濃度以下であると目に見
えるラスターラインが大幅に削減されるからである。こ
のためにはレーザーダイオードによって発生される書き
込み用レーザー光線の記録材料上での強度が０．１ミリ
ワット／平方ミクロン（ｍＷ／μｍ² ）以上であること
が好ましい。本発明の方法を使用してレーザーアブレー
ション画像を得るためには、７００ｎｍ以上に発光を有
する赤外域のダイオートレーザーを使用することが好ま
しい。これは、大きさが小さいこと、コストが低いこ
と、安定性が良好であること、信頼性が良好であるこ
と、頑丈であること、変調がしやすいことといった実質
的な利点があるからである。本発明で用いることのでき
るレーザーは市販されている。例えば、スペクトラダイ
オード研究所（Spectra Diode Labs) からのレーザーモ
デルＳＤＬ−２４２０−Ｈ２またはソニー株式会社から
のレーザーモデルＳＬＤ３０４Ｖ／Ｗを使用することが
できる。

【００２３】実用に際しては、本発明のアブレーション
記録材料の中間層などに赤外吸収物質、例えばカーボン
ブラック、または米国特許４９７３５７２号に記載され
ているシアニン赤外吸収色素、または米国特許４９４８
７７７号、同４９５０６４０号、同４９５０６３９号、
同４９４８７７６号、同４９４８７７８号、同４９４２
１４１号、同４９５２５５２号、同５０３６０４０号、
同４９１２０８３号、同５３６０６９４号、同５３８０
６３５号および特願平８−１８９８１７号に記載されて
いる赤外吸収物質を含有させる。本発明に好ましく用い
られる赤外吸収物質の代表例を以下に示すが、これらに
限定されるものではない。

【００２４】

【化１】

【００２５】

【化２】

【００２６】レーザー光線は画像形成層中に吸収され、
そして内部変換として知られる分子過程によって熱に変
換される。上記の熱変換のための赤外吸収物質は画像形
成層自身に含まれていても、又これと組み合わされた別
の層、すなわち画像形成層の上層や下層に含まれても良
い。本発明の方法におけるレーザー照射はアブレーショ
ン記録材料の画像形成層を通して行われるので、本発明
の画像形成は単シート法（すなわち、別の受容材料を必
要としない方法）であることができる。本発明に用いら
れる赤外吸収物質の塗布量はレーザー波長の吸光度で
０．５以上、更には１．０以上、特に１．５以上を与え
る量が好ましい。

【００２７】本発明のアブレーション記録材料のバック
層のベック平滑度は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｐ８１１
９「紙および板紙のベック試験器による平滑度試験方
法」およびＴＡＰＰＩ標準法Ｔ４７９により容易に求め
ることができる。本発明のアブレーション記録材料のバ
ック層の最外層表面のベック平滑度は、４０００秒以下
であり、より好ましくは１０秒〜４０００秒である。こ
れは記録材料同士の接着性や剥離性の点から重要であ
る。ベック平滑度は、前記バック層の最外層に含有させ
るマット剤の平均粒径および添加量を種々変化させるこ
とによってコントロールすることができる。本発明にお
いて好ましいマット剤の平均粒径は、２０μｍ以下であ
り、特に０．４〜１０μｍの範囲である。本発明におい
て好ましいマット剤の添加量は、５〜４００mg／m²、特
に１０〜２００mg／m²の範囲である。本発明に用いられ
るマット剤は、取り扱い性の上で悪影響を及ぼさない固
体粒子であれば、どのようなものでもよい。無機系のマ
ット剤としては、二酸化ケイ素、チタンおよびアルミニ
ウムの酸化物、亜鉛およびカルシウムの炭酸塩、バリウ
ムおよびカルシウムの硫酸塩、カルシウムおよびアルミ
ニウムのケイ酸塩など、有機系のマット剤としては、セ
ルロースエステル類、ポリメチルメタクリレート、ポリ
スチレンまたはポリジビニルベンゼンおよびこれらのコ
ポリマーなどの有機重合体のマット剤が挙げられる。

【００２８】本発明では、特開平３−１０９５４２号公
報２頁左下欄８行目〜３頁右上欄４行目に記載された多
孔性のマット剤、特開平４−１２７１４２号公報３頁右
上欄７行目〜５頁右下欄４行に記載されたアルカリで表
面修飾したマット剤、特願平４−２６５９６２号明細書
の段落番号「０００５」から「００２６」に記載された
有機重合体のマット剤を用いることがより好ましい。ま
た、これらのマット剤を２種以上併用してもよい。例え
ば、無機系のマット剤と有機系のマット剤の併用、多孔
性のマット剤と非多孔性のマット剤の併用、不定形のマ
ット剤と球形のマット剤の併用、平均粒径の異なるマッ
ト剤の併用（例えば特願平４−２６５９６２号に記載さ
れている平均粒径が１．５μｍ以上のマット剤と平均粒
径が１μｍ以下のマット剤の併用）などがある。

【００２９】本発明において、表面抵抗率が２５℃３０
％ＲＨの雰囲気下で１０¹²Ω以下の層（以下「導電層」
と記す）を付与しても良い。導電性物質として、導電性
金属酸化物あるいは導電性高分子化合物などを用いるこ
とによって得られる。本発明に用いられる導電性金属酸
化物として好ましいのは結晶性の金属酸化物粒子である
が、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対
してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は一般
的に言って導電性が高いので特に好ましい。金属酸化物
の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ
₃ 、Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＭｇＯ、ＢａＯ、Ｍｏ
Ｏ₃ 、Ｖ₂ Ｏ₅ 等、あるいはこれらの複合酸化物が良
く、特にＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 及びＳｎＯ₂ が好ましい。異
種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡ
ｌ、Ｉｎ等の添加、ＳｎＯ₂ に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハ
ロゲン元素等の添加、またＴｉＯ₂ に対してはＮｂ、Ｔ
ａ等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は
０．０１mol ％〜３０mol％の範囲が好ましいが、０．
１mol ％〜１０mol ％であれば特に好ましい。本発明に
好ましく用いる金属酸化物微粒子は導電性を有してお
り、その体積抵抗率は１０⁷ Ω・ｃｍ以下、特に１０⁵
Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。これら酸化物につ
いては特開昭５６−１４３４３１号、同５６−１２０５
１９号、同５８−６２６４７号などに記載されている。
更に又、特公昭５９−６２３５号に記載のごとく、他の
結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状物（例えば酸化チ
タン）に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使
用してもよい。利用できる粒子サイズは１０μ以下が好
ましいが、２μ以下であると分散後の安定性が良く使用
し易い。また光散乱性をできるだけ小さくする為に、
０．５μ以下の導電性粒子を利用することが好ましい。
これによって、導電層を設けても支持体を透明に保つこ
とが可能になるからである。又、導電性材料が針状ある
いは繊維状の場合はその長さは３０μｍ以下で直径が２
μ以下が好ましく、特に好ましいのは長さが２５μｍ以
下で直径０．５μ以下であり長さ／直径比が３以上であ
る。

【００３０】本発明に用いられる導電性高分子化合物と
しては、例えばポリビニルベンゼンスルホン酸塩類、ポ
リビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、米
国特許第４，１０８，８０２号、同４，１１８，２３１
号、同４，１２６，４６７号、同４，１３７，２１７号
に記載の４級塩ポリマー類、米国特許第４，０７０，１
８９号、ＯＬＳ２，８３０，７６７号、特開昭６１−２
９６３５２号、同６１−６２０３３号等に記載のポリマ
ーラテックス等が好ましい。以下に本発明の導電性高分
子化合物の具体例を示すが必ずしもこれらに限定される
ものではない。

【００３１】

【化３】

【００３２】

【化４】

【００３３】本発明に用いられる導電性金属酸化物又は
導電性高分子化合物はバインダー中に分散又は溶解させ
て用いられる。バインダーとしては、フィルム形成能を
有するものであれば特に限定されるものではないが、例
えばゼラチン、カゼイン等の蛋白質、カルボキシメチル
セルロース、ヒドロキシエチルセルロース、アセチルセ
ルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロ
ース等のセルロース化合物、デキストラン、寒天、アル
ギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポリビニルアルコ
ール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリ
メタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリアクリルア
ミド、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリエステル、ポ
リ塩化ビニル、ポリアクリル酸等の合成ポリマー等を挙
げることができる。特に、ゼラチン（石灰処理ゼラチ
ン、酸処理ゼラチン、酵素分解ゼラチン、フタル化ゼラ
チン、アセチル化ゼラチン等）、アセチルセルロース、
ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ブ
チル、ポリアクリルアミド、デキストラン等が好まし
い。

【００３４】本発明に用いられる導電性金属酸化物ある
いは導電性高分子化合物をより効果的に使用して導電層
の抵抗を下げるために、導電層中における導電性物質の
体積含有率は高い方が好ましいが、層としての強度を十
分に持たせるために最低５％程度のバインダーが必要で
あるので、導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合
物の体積含有率は５〜９５％の範囲が望ましい。本発明
に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物
の使用量は、アブレーション記録材料一平方メートル当
たり０．０５〜２０ｇが好ましく、特に０．１〜１０ｇ
が好ましい。本発明の導電層の表面抵抗率は２５℃３０
％ＲＨの雰囲気下で１０¹²Ω以下で、好ましくは１０¹¹
Ω以下が良い。これにより良好な帯電防止性が得られ
る。本発明に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高
分子化合物を含有する導電層は、構成層として少なくと
も一層設けることが好ましい。例えば、表面保護層、バ
ック層、下塗層などのいずれでもよいが、必要に応じて
２層以上設けることもできる。

【００３５】本発明においては、上記導電性物質の他
に、更に含フッ素界面活性剤を併用することによって更
に良好な帯電防止性を得ることができる。本発明に用い
られる好ましい含フッ素界面活性剤としては、炭素数４
以上のフルオロ−アルキル基、アルケニル基、又はアリ
ール基を有し、イオン性基としてアニオン基（スルホン
酸（塩）、硫酸（塩）、カルボン酸（塩）、リン酸
（塩））、カチオン基（アミン塩、アンモニウム塩、芳
香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩）、ベ
タイン基（カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニウ
ム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホスホ
アンモニウム塩）又はノニオン基（置換、無置換のポリ
オキシアルキレン基、ポリグリセリル基またはソルビタ
ン残基）を有する界面活性剤が挙げられる。これらの含
フッ素界面活性剤は特開昭４９−１０７２２号、英国特
許第１，３３０，３５６号、米国特許第４，３３５，２
０１号、同４，３４７，３０８号、英国特許第１，４１
７，９１５号、特開昭５５−１４９９３８号、同５８−
１９６５４４号、英国特許第１，４３９，４０２号、な
どに記載されている。これらの具体例のいくつかを以下
に記す。

【００３６】

【化５】

【００３７】本発明において、画像の耐久性を更に高め
るために用いられる、レーザー照射後の画像形成層を有
する側の表面の画像保護の方法に関しては、例えば特表
平５−５０４００８号、特開平６−３４４６７６号に記
載されているような画像保護用積層性シートを積層する
ことにより達成される。これらの方法は、耐久性層を画
像に面するようにして、耐久性層と支持体とを含む積層
用シートを画像に積層させることにより行われる。次に
画像が耐久性層で保護されたまま残るように支持体層は
画像から取り外される。該耐久性層は実質的に透明かつ
対磨耗性を有する。特に、特開平６−３４４６７６号に
記載される保護方法を採用すれば、印刷において用いら
れる強力な接着剤テープの繰り返しの使用および保護さ
れた画像の繰り返しの溶剤洗浄に対しても耐久性層の剥
離がない。

【００３８】本発明で用いられる耐久性層材料として
は、特開平６−３４４６７６号に記載のシロキサンを含
有する重合有機材料を使用することができる。シロキサ
ン含有重合材料はどのような方法で作成してもよいが、
例えばビニルエーテル基で官能化された有機単量体また
はオリゴマーと、シロキサン単量体またはオリゴマーと
を共重合化することにより作製される。画像上の耐久性
層は３０μｍ以下の厚みを有するが、解像度の望ましく
ない損失を防止するためには、１０μｍ以下の厚みを有
するのが好ましく、より好ましくは、０．５〜６μｍの
範囲である。

【００３９】

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説
明するが本発明はこれに限定されるものではない。

【００４０】実施例１ ＜支持体の表面処理＞厚さ１００μｍのポリエチレンテ
レフタレート支持体について、その各々の両面に、処理
雰囲気圧力０．２Torr、雰囲気気体中の水分圧４０％、
放電周波数３０kHz 、出力２５００Ｗ、処理強度０．５
kV・A ・分／ｍ² でグロー放電処理した。この支持体の
片側の面に、下記組成のバック層第１層、第２層及び第
３層を塗布した。また、比較のため、表面処理をしてい
ない厚さ１００μｍの裸のポリエチレンテレフタレート
支持体、下記に示す両面に下塗層を施した厚さ１００μ
ｍのポリエチレンテレフタレート支持体及びピラー社製
ソリッドステートコロナ処理機6KVAモデルを用いて、そ
の両面を１０ｍ／分でコロナ放電処理した厚さ１００μ
ｍのポリエチレンテレフタレート支持体についても同様
のバック層を塗布した。

【００４１】＜下塗層の塗設＞二軸延伸された厚さ１０
０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上にコロ
ナ放電を行い、下記の組成より成る第１下塗液を塗布量
が４．９ml／ｍ² と成るようにワイヤーバーコーターに
より塗布し、１８５℃にて１分間乾燥した。次に反対面
にも同様にして第１下塗層を設けた。 （第１下塗液） ・ブタジエンースチレン共重合体ラテックス溶液 （固形分４０％。ブタジエン／スチレン重量比＝３１／６９） １５８ml ・２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ −トリアジンナトリウム塩４重量％溶液 ４１ml ・蒸留水 ８０１ml ＊ラテックス溶液中には、乳化分散剤として化合物Ａ−１をラテックス固形 分に対し０．４ｗｔ％含有 （下塗層の塗布）上記の両面の第１下塗層上に下記の組
成からなる第２下塗層を塗布量が下記に記載の量となる
ように片側ずつ、両面にワイヤー・バーコーター方式に
より塗布し、１５５℃で乾燥した。 ・ゼラチン ５０．５ｍｇ／ｍ² ・化合物Ａ−２ ０．１８ｇ／ｍ² ・マット剤 平均粒径２．５μｍのポリメチルメタクリレート ２．８ｍｇ／ｍ²

【００４２】

【化６】

【００４３】＜バック層第１層（導電層）＞塩化第２ス
ズ水和物２３０ｇと三塩化アンチモン２３ｇをエタノー
ル３０００ｇに溶解し均一溶液を得た。この溶液に１Ｎ
水酸化ナトリウム水溶液を前記溶液がｐＨ３になるまで
滴下し、コロイド状酸化第２スズと酸化アンチモンの共
沈殿物を得た。得られた共沈殿を５０℃に２４時間放置
し、赤褐色のコロイド状沈殿を得た。赤褐色コロイド状
沈殿を遠心分離により分離した。過剰なイオンを除くた
め沈殿に水を加え遠心分離によって水洗した。この操作
を３回繰り返し過剰イオンを除去した。過剰イオンを除
去したコロイド状沈殿２００ｇを水１５００ｇに再分散
し、５００℃に加熱した焼成炉に噴霧し、青みがかった
平均粒径０．００５μｍの酸化第二スズ−酸化アンチモ
ン複合物の微粒子を得た。この微粒子粉末の抵抗率は２
５Ω・ｃｍであった。上記微分末４０ｇと水６０ｇの混
合液をｐＨ７．０に調整し、攪拌機で粗分散の後横型サ
ンドミル（ダイノミル、Willy A. Backfen AG製）で
滞留時間が３０分になるまで分散して、一次粒子が一部
凝集して２次凝集体として０．０５μｍになる分散液を
調製した。下記処方の液を乾燥膜厚が０．３μｍになる
ように塗布し、１１０℃で３０秒間乾燥した。 上記導電性微粒子分散液（SnO₂／Sb₂O₃ 、0.05μｍ） １００ｇ ゼラチン（Ca²⁺を100ppm含有した石灰処理ゼラチン） １０ｇ 水 ２７０ｇ メタノール ６００ｇ レゾルシン ２０ｇ ポリ（重合度１０）オキシエチレンノニルフェニルエーテル ０．１ｇ

【００４４】 ＜バック層第２層＞ ジアセチルセルロース １００ｇ トリメチロールプロパン−３−トルエンジイソシアネート ２５ｇ メチルエチルケトン １０５０ｇ シクロヘキサノン １０５０ｇ 架橋型ポリマーマット剤（メチルメタクリレート：ジビニルベンゼン＝ ９：１の共重合物）（平均粒径３．５μｍ） ２ｇ 上記処方の液を乾燥膜厚が１．２μｍになるように塗布
した。乾燥は１１０℃で行った。

【００４５】＜バック層第３層（滑り層）＞ （１）滑り層第１液の調製 下記の１液を９０℃加温溶解し、２液に添加後、高圧ホ
モジナイザーで分散して滑り分散原液とした。 １液 滑り剤：C₆H₁₃CH(OH)(CH₂)₁₀COOC₄₀H_8１ ０．７ｇ 滑り剤：n-C₁₇H₃₅COOC₄₀H₈₁-n １．１ｇ キシレン ２．５ｇ （２）滑り層第２液の調製 上記滑り層第１液に下記のバインダー、溶剤を加え塗布
液とした。 プロピレングリコールモノメチルエーテル ３４．０ｇ ジアセチルセルロース ３．０ｇ アセトン ６００．０ｇ シクロヘキサノン ３５０．０ｇ 上記塗布液を１０ｃｃ／ｍ² の塗布量でバック層最上層
にコートした。以上で、バック層側の塗設を終了した。
次に画像形成層側の中間層、画像形成層、オーバーコー
ト層の塗設について説明する。

【００４６】＜中間層の作製＞以下に示す組成の塗布液
を前記バック層を塗布した１００μ厚みのポリエチレン
テレフタレート透明支持体の反対側に塗布し、表１に示
す構成で中間層を作製した。 （１）中間層１ 下記組成の塗布液をカルボキシメチルセルロースの硝酸
エステル塗布量が０．５ｇ／ｍ² となるように塗布し
た。 下記のバインダーＡ液 １１．３ｇ アセトン ８．８ｇ メタノール ４．４ｇ 水 ５．５ｇ （２）中間層２ 中間層１の塗布液に例示赤外吸収物質（１）を加え、カ
ルボキシメチルセルロースの硝酸エステル塗布量が０．
５ｇ／ｍ² 、例示赤外吸収物質（１）の塗布量が０．０
５ｇ／ｍ² なるように塗布した。

【００４７】（バインダーＡ液の調製）無水グルコース
単位１個あたりの硝酸エステル基置換度が２．１、カル
ボキシメチルエーテル基置換度が０．７のカルボキシメ
チルセルロースの硝酸エステルの１５％溶液（このうち
アセトン４０％、メタノール２０％、水２５％で、アン
モニア水にてｐＨ６．９に調整）をバインダーＡ液とす
る。 ＜画像形成層の作製＞上記中間層の上に下記に示す画像
形成層を、表１に示す構成で塗布した。 （１）画像形成層１ 下記組成の混合物をペイントシェーカーで均一に分散し
た後、カーボンブラックの塗布量が０．６７ｇ／ｍ² と
なるように塗布した。 硝酸セルロース（RS1 ／８秒、ダイセル化学工業（株）製） ５ｇ イソプロピルアルコール ２．１４ｇ メチルイソブチルケトン ２６．６ｇ メチルエチルケトン ６２．０ｇ ソルスパースＳ２００００（ゼネカ（株）製） １．３５ｇ ソルスパースＳ１２０００（ゼネカ（株）製） ０．２３ｇ カーボンブラック（粒径23nm、吸油量66ml／100g） ５ｇ フッ素系界面活性剤−１ ３７．３ｍｇ （２）画像形成層２ 下記組成の混合物をペイントシェーカーで均一に分散し
た後、チタンブラックの塗布量が０．７４ｇ／ｍ² とな
るように塗布した。 硝酸セルロース（RS1 ／８秒、ダイセル化学工業（株）製） ５ｇ イソプロピルアルコール ２．１４ｇ メチルイソブチルケトン ２６．６ｇ メチルエチルケトン ６２．０ｇ ソルスパースＳ２００００（ゼネカ（株）製） １．３５ｇ ソルスパースＳ１２０００（ゼネカ（株）製） ０．２３ｇ チタンブラック１２Ｓ（粒子径58nm、三菱マテリアル（株）製） ５ｇ フッ素系界面活性剤−１ ３３．８ｍｇ

【００４８】

【化７】

【００４９】＜オーバーコート層の作製＞以下に示すオ
ーバーコート層を前記の画像形成層の上に塗布し、試料
１〜９を作製した。オーバーコート層１はシクロヘキサ
ノン溶液で、オーバーコート層２はアセトン／メタノー
ル／水の混合溶液として塗布した。 （１）オーバーコート層１ ポリエチルメタクリレート ０．２５ｇ／ｍ² ポリテトラフルオロエチレンのビーズ（デュポン社製 ゾニールTLP-10F-1 ：粒子サイズ０．２μｍ） ０．１ｇ／ｍ² フローレンＴＧ７１０（共栄社化学製） ０．０３ｇ／ｍ² （２）オーバーコート層２ 前述のバインダーＡ液のカルボキシメチルセルロースの硝酸エステル ０．２５ｇ／ｍ² ポリテトラフルオロエチレンのビーズ（デュポン社製 ゾニールTLP-10F-1 ：粒子サイズ０．２μｍ） ０．１ｇ／ｍ² フローレンＴＧ７１０（共栄社化学製） ０．０３ｇ／ｍ² 以上のベースの表面処理、中間層、画像形成層及びオー
バーコート層の組み合わせは表１に示すとおりである。

【００５０】＜乾燥時の密着評価法＞画像形成層塗布面
に、カミソリで縦横７ｍｍ間隔に１３本ずつ切れ目を入
れて菱形のます目を作り、この上にポリエステル粘着テ
ープ（日東電気工業（株）社製）を貼り付け、１８０度
方向に素早く引き剥がす。この方法において、剥離しな
いものをＡ級、未剥離部分が９５％以上の場合をＢ級、
９０％以上の場合をＣ級、６０％以上の場合をＤ級、６
０％未満の場合をＥ級とする。アブレーション記録材料
として十分実用に耐える密着強度とは、上記５段階評価
のうちＡ級とＢ級に分類されるものである。得られた結
果を、表１に示す。

【００５１】＜画像記録のための露光条件＞特開平８−
４８０５３号に記載されているのと同様な画像露光装置
のドラムに各試料をその画像形成層を外側に向けて固定
した。各レーザービームは830 〜840nm の波長範囲を有
し、フィルム面での公称出力は550mW 、スポットサイズ
は25μｍであった。上記画像形成装置の試料を巻き付け
たドラムの回転数を変化させて照射量を変化させ、適切
に露光した。また、横方向の移動については、移動ステ
ージによってダイオードレーザーを移動させて、照射ビ
ームの中心間距離が10μｍとなるような速度に設定し
た。さらに、レーザーによって照射された表面の物質の
除去を効果的に行うため、特開平８−７２４００号と同
様な装置を用いて、レーザー照射をしながら空気流を吹
き付けて、画像形成物質やバインダーなどを除去した。

【００５２】＜ＵＶ領域のＤmax （最高濃度）、Ｄmin
（最低濃度）の評価＞Macbeth 社製の濃度計TD904 （UV
フィルター使用）を用いて、レーザー未照射部分と照射
部分の濃度を測定して、UV領域のDmax（最高濃度）、Dm
in（最低濃度）とした。得られた結果を表１に示す。

【００５３】

【表１】

【００５４】表１より、表面処理していない裸ベースで
はDminは低くなるが、密着が不良である。また、下塗層
を付与したＰＥＴベース及びコロナ放電処理したＰＥＴ
ベースは、密着は良好であるが、密着強度が強すぎるた
めか、Dminが高い。これに対して、グロー放電処理した
ＰＥＴベースでは密着は良好で、且つ、Dminも低くでき
ることがわかる。以上より、本発明の有効性は明らかで
ある。

【００５５】実施例２ ＜支持体の表面処理＞厚さ１００μｍのポリエチレンテ
レフタレート支持体について、その各々の両面に、グロ
ー放電処理雰囲気気体中のＨ₂ Ｏ分圧を表２に示す条件
にコントロールした以外は実施例１と同様の条件でグロ
ー放電処理した。 ＜バック層・中間層・画像形成層・オーバーコート層の
作製＞上記表面処理した支持体上に、実施例１と同様に
して、実施例１のバック層（第１層〜第３層）、中間層
１、画像形成層１、オーバーコート層１を塗布した。 ＜乾燥時の密着評価法＞実施例１と同様にして、上記試
料の乾燥時の密着を評価した。 ＜画像記録のための露光条件＞実施例１と同様にして、
画像記録を行った。 ＜ＵＶ領域のＤmax （最高濃度）、Ｄmin （最低濃度）
の評価＞実施例１と同様にして、レーザー未照射部及び
照射部の濃度を測定した。

【００５６】

【表２】

【００５７】グロー放電処理をした水準２〜５は実用上
問題ない密着を示す。Ｈ₂ Ｏ分圧が５％あると密着レベ
ルは実用上良好な領域にはいるが、分圧が増加するに従
い更に良化することが水準２〜５からわかる。

【００５８】実施例３ 実施例１で用いた試料No.1, 4 〜8 を大日本スクリーン
製造（株）社製感熱イメージセッターGenasett Dry 107
0 と同様の装置でレーザー露光した結果、実施例１と同
様の低いDminを与えることがわかった。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザーを利用して像様加熱する工程を
   施すアブレーション記録材料において、紫外線照射処
   理、グロー放電処理および火焔処理の少なくとも１種に
   よって表面処理された支持体上に、少なくとも１層の画
   像形成層、該画像形成層と支持体の間に少なくとも１層
   の中間層を有することを特徴とするアブレーション記録
   材料。
2. 【請求項２】 該アブレーション記録材料の支持体の表
   面処理がグロー放電処理であり、かつ、該グロー放電処
   理雰囲気のガス組成においてＨ₂ Ｏ分圧が１０％以上で
   あることを特徴とする請求項１記載のアブレーション記
   録材料。
3. 【請求項３】 該アブレーション記録材料の画像形成層
   側に無水グルコース単位１個あたりの硝酸エステル基置
   換度が０．２〜２．９５、カルボキシアルキルエーテル
   基置換度が０．０５〜２．８であるカルボキシアルキル
   セルロースの硝酸エステル類を含有することを特徴とす
   る請求項１または２記載のアブレーション記録材料。
4. 【請求項４】 該画像形成層中に画像形成物質として無
   機微粒子を含有することを特徴とする請求項１、２また
   は３記載のアブレーション記録材料。
5. 【請求項５】 該無機微粒子がカーボンブラックおよび
   ／またはチタンブラックであることを特徴とする請求項
   ４記載のアブレーション記録材料。