JPH1068066A - 真空成膜装置の基体ホルダー - Google Patents
真空成膜装置の基体ホルダーInfo
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- JPH1068066A JPH1068066A JP9117151A JP11715197A JPH1068066A JP H1068066 A JPH1068066 A JP H1068066A JP 9117151 A JP9117151 A JP 9117151A JP 11715197 A JP11715197 A JP 11715197A JP H1068066 A JPH1068066 A JP H1068066A
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- Japan
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- substrate
- holder
- base
- substrate holder
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/50—Substrate holders
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 各面に最適で均一な付着を与えるため、蒸着
すべき基体面を真空容器の中心に円錐状に上昇する蒸着
ビームに対して正確な角度位置に非常に簡単にできるよ
うに前記種類の基体ホルダーを形成する。 【解決手段】 排気可能な真空容器で交換可能な蒸着源
の上部にある多数のホルダーに取り付けたプラスチック
の眼鏡ガラスのような光学基体の表面に反射防止膜を蒸
着する真空成膜装置の基体ホルダーにあって、基体ホル
ダー２の半径方向の延長部にそれぞれ一つの基体に対す
る少なくとも二つの収納領域を設け、これ等の収納領域
の間に、基体ホルダー２を部分１２，２２に分割するそ
れぞれ一つのヒンジあるいはリンク結合部６があり、こ
れ等のヒンジあるいはリンク結合部の周りに前記の基体
ホルダー部分が基体と共に両側に所定の角度まで自由に
傾く。
すべき基体面を真空容器の中心に円錐状に上昇する蒸着
ビームに対して正確な角度位置に非常に簡単にできるよ
うに前記種類の基体ホルダーを形成する。 【解決手段】 排気可能な真空容器で交換可能な蒸着源
の上部にある多数のホルダーに取り付けたプラスチック
の眼鏡ガラスのような光学基体の表面に反射防止膜を蒸
着する真空成膜装置の基体ホルダーにあって、基体ホル
ダー２の半径方向の延長部にそれぞれ一つの基体に対す
る少なくとも二つの収納領域を設け、これ等の収納領域
の間に、基体ホルダー２を部分１２，２２に分割するそ
れぞれ一つのヒンジあるいはリンク結合部６があり、こ
れ等のヒンジあるいはリンク結合部の周りに前記の基体
ホルダー部分が基体と共に両側に所定の角度まで自由に
傾く。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、排気可能な真空
容器で交換可能な蒸着源の上部にある多数のホルダーに
取り付けたプラスチックの眼鏡ガラスのような光学基体
の表面に反射防止膜を蒸着する真空成膜装置の基体ホル
ダーに関する。
容器で交換可能な蒸着源の上部にある多数のホルダーに
取り付けたプラスチックの眼鏡ガラスのような光学基体
の表面に反射防止膜を蒸着する真空成膜装置の基体ホル
ダーに関する。
【０００２】
【従来の技術】真空中で光学基体、特に眼鏡のガラスに
少なくとも一つの表面膜を蒸着するこの種の周知の装置
では、通常多数の膜を付けた後、所定数のこのような基
体を基体面を交換可能な蒸着源の作用に曝す面から出し
て、基体面にその後に一度あるいは何回も蒸着するた
め、もう一度同じ数の基体面をこの面に入れる。
少なくとも一つの表面膜を蒸着するこの種の周知の装置
では、通常多数の膜を付けた後、所定数のこのような基
体を基体面を交換可能な蒸着源の作用に曝す面から出し
て、基体面にその後に一度あるいは何回も蒸着するた
め、もう一度同じ数の基体面をこの面に入れる。
【０００３】これには、例えば真空中にある回転台を使
用し、この回転台の周りに基体を脱着可能に固定する多
数のステーションが配置されている。更に、この装置に
は対向する基体面に作用する少なくとも一つの蒸着源が
ある。この場合、各ステーションには基体ホルダーが設
けてあり、このホルダーにそれぞれ一つの基体を脱着可
能に固定する保持手段がある。一方の側の基体面に個々
の反射防止膜を順次蒸着すれば、回転台の回転により基
体ホルダーを裏返して、他方の基体面を蒸着する。
用し、この回転台の周りに基体を脱着可能に固定する多
数のステーションが配置されている。更に、この装置に
は対向する基体面に作用する少なくとも一つの蒸着源が
ある。この場合、各ステーションには基体ホルダーが設
けてあり、このホルダーにそれぞれ一つの基体を脱着可
能に固定する保持手段がある。一方の側の基体面に個々
の反射防止膜を順次蒸着すれば、回転台の回転により基
体ホルダーを裏返して、他方の基体面を蒸着する。
【０００４】更に、多数の基体を面状で円形セグメント
状のホルダーに取り付けるため、基体ホルダーを所謂ド
ーム（プラネタリユウムとも言う）に形成することも知
られている。多数のこのようなドームはそれぞれドーム
状にしかも真空容器の上部に回転可能に延びている。こ
れにより各ドームで多数の基体をその都度同時に裏返す
ことができる。
状のホルダーに取り付けるため、基体ホルダーを所謂ド
ーム（プラネタリユウムとも言う）に形成することも知
られている。多数のこのようなドームはそれぞれドーム
状にしかも真空容器の上部に回転可能に延びている。こ
れにより各ドームで多数の基体をその都度同時に裏返す
ことができる。
【０００５】このような装置で問題となることは、各面
上に最適で均一な付着を与えるため、真空容器の中心に
円錐状に上昇する蒸着ビームが蒸着すべき基体面をビー
ム円錐に対して正確に角度設定ことを必要とする。回転
台から半径方向に突き出て、 180°ほど軸に関して反転
できるそれぞれ一つの基体を有する基体ホルダーの配置
では、上記のことは軸を傾けて簡単に達成できる。
上に最適で均一な付着を与えるため、真空容器の中心に
円錐状に上昇する蒸着ビームが蒸着すべき基体面をビー
ム円錐に対して正確に角度設定ことを必要とする。回転
台から半径方向に突き出て、 180°ほど軸に関して反転
できるそれぞれ一つの基体を有する基体ホルダーの配置
では、上記のことは軸を傾けて簡単に達成できる。
【０００６】多数の基体を面状で円形セグメント状のホ
ルダーの上に付けるドーム状の基体ホルダーの場合、こ
れはそれほど十分ではない。それ故、これ等のドーム状
の基体ホルダーでは基体保持部をホルダーに設けてい
る。これ等の基体保持部は基体と共に両面を支持板面か
ら所定の角度まで自由に傾けることができる。
ルダーの上に付けるドーム状の基体ホルダーの場合、こ
れはそれほど十分ではない。それ故、これ等のドーム状
の基体ホルダーでは基体保持部をホルダーに設けてい
る。これ等の基体保持部は基体と共に両面を支持板面か
ら所定の角度まで自由に傾けることができる。
【０００７】もっとも、ホルダー上のこのような基体保
持部は非常に複雑で壊れやすい。
持部は非常に複雑で壊れやすい。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】この発明の課題は、各
面に最適で均一な付着を与えるため、蒸着すべき基体面
を真空容器の中心に円錐状に上昇する蒸着ビームに対し
て正確な角度位置に非常に簡単にできるように前記種類
の基体ホルダーを形成することにある。
面に最適で均一な付着を与えるため、蒸着すべき基体面
を真空容器の中心に円錐状に上昇する蒸着ビームに対し
て正確な角度位置に非常に簡単にできるように前記種類
の基体ホルダーを形成することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
により、排気可能な真空容器で交換可能な蒸着源の上部
にある多数のホルダーに取り付けたプラスチックの眼鏡
ガラスのような光学基体の表面に反射防止膜を蒸着する
真空成膜装置の基体ホルダーにあって、基体ホルダー２
の半径方向の延長部にそれぞれ一つの基体に対する少な
くとも二つの収納領域を設け、これ等の収納領域の間
に、基体ホルダー２を部分１２，２２に分割するそれぞ
れ一つのヒンジあるいはリンク結合部６があり、これ等
のヒンジあるいはリンク結合部の周りに前記の基体ホル
ダー部分が基体と共に両側に所定の角度まで自由に傾く
ことによって解決されている。
により、排気可能な真空容器で交換可能な蒸着源の上部
にある多数のホルダーに取り付けたプラスチックの眼鏡
ガラスのような光学基体の表面に反射防止膜を蒸着する
真空成膜装置の基体ホルダーにあって、基体ホルダー２
の半径方向の延長部にそれぞれ一つの基体に対する少な
くとも二つの収納領域を設け、これ等の収納領域の間
に、基体ホルダー２を部分１２，２２に分割するそれぞ
れ一つのヒンジあるいはリンク結合部６があり、これ等
のヒンジあるいはリンク結合部の周りに前記の基体ホル
ダー部分が基体と共に両側に所定の角度まで自由に傾く
ことによって解決されている。
【００１０】この発明による他の有利な構成は、特許請
求の範囲の従属請求項に記載されている。
求の範囲の従属請求項に記載されている。
【００１１】
【発明の実施の形態】基体ホルダーの形状に無関係に、
しかもヒンジ手段あるいはリンク結合手段により分割さ
れ、基体を担持する部分の数に無関係に、基体ホルダー
を 180°ほど回転させる毎に、蒸着すべき基体面が真空
容器の中心に円錐状に上昇する蒸着ビームに対して正確
な角度位置となることが可能になる。従って、各基体面
に最適で一様な付着が得られる。
しかもヒンジ手段あるいはリンク結合手段により分割さ
れ、基体を担持する部分の数に無関係に、基体ホルダー
を 180°ほど回転させる毎に、蒸着すべき基体面が真空
容器の中心に円錐状に上昇する蒸着ビームに対して正確
な角度位置となることが可能になる。従って、各基体面
に最適で一様な付着が得られる。
【００１２】有利な構成は以下により可能である。即
ち、基体に対して円形状の保持部品から成り、基体ホル
ダー部分が基体と共に両側に所定の角度まで互いに自由
に傾くヒンジあるいはリンク結合部により連結してい
る、半径方向に延びていて回転軸に繋がる少なくとも二
つの部分により可能であるか、あるいは基体ホルダー部
分が基体と共に両側に所定の角度ほど互いに自由に傾く
リンク結合部により少なくとも二つの部分に分割され、
少なくとも中央の部分が隣接する少なくとも二つの基体
を収納する手段を有するドーム状の板によって可能であ
るか、あるいは基体ホルダー部分が基体と共に両側に所
定の角度ほど互いに自由に傾き、基体ホルダーを部分部
分に分割するヒンジあるいはリンク結合部が存在する少
なくとも二つの収納領域にそれぞれ一つの基体を分割す
る配置により可能になる。
ち、基体に対して円形状の保持部品から成り、基体ホル
ダー部分が基体と共に両側に所定の角度まで互いに自由
に傾くヒンジあるいはリンク結合部により連結してい
る、半径方向に延びていて回転軸に繋がる少なくとも二
つの部分により可能であるか、あるいは基体ホルダー部
分が基体と共に両側に所定の角度ほど互いに自由に傾く
リンク結合部により少なくとも二つの部分に分割され、
少なくとも中央の部分が隣接する少なくとも二つの基体
を収納する手段を有するドーム状の板によって可能であ
るか、あるいは基体ホルダー部分が基体と共に両側に所
定の角度ほど互いに自由に傾き、基体ホルダーを部分部
分に分割するヒンジあるいはリンク結合部が存在する少
なくとも二つの収納領域にそれぞれ一つの基体を分割す
る配置により可能になる。
【００１３】
【実施例】以下、図面を参照して好適実施例に基づきこ
の発明をより詳しく説明する。図１に示す光学基体、例
えばプラスチックの眼鏡のガラスに反射防止膜を蒸着す
る真空成膜装置には、真空ポンプで排気される周知の真
空容器（図示せず）がある。
の発明をより詳しく説明する。図１に示す光学基体、例
えばプラスチックの眼鏡のガラスに反射防止膜を蒸着す
る真空成膜装置には、真空ポンプで排気される周知の真
空容器（図示せず）がある。
【００１４】この真空容器の上部スペースには、この発
明による多数の基体ホルダー２を備えた所謂反転ホルダ
ー装置１がある。これ等の基体ホルダー２は円形の反転
ホルダー装置１の周りに半径方向に配置され、ここでは
二つ見られるが、 180°ほど時として回転する回転軸３
の支持されている。この場合、各基体ホルダー２には片
側に膜を付けるべき基体を挟持する手段あるいは片側に
膜を付ける二つの基体を保持する手段がある（図示せ
ず）。
明による多数の基体ホルダー２を備えた所謂反転ホルダ
ー装置１がある。これ等の基体ホルダー２は円形の反転
ホルダー装置１の周りに半径方向に配置され、ここでは
二つ見られるが、 180°ほど時として回転する回転軸３
の支持されている。この場合、各基体ホルダー２には片
側に膜を付けるべき基体を挟持する手段あるいは片側に
膜を付ける二つの基体を保持する手段がある（図示せ
ず）。
【００１５】以下では、この発明による基体ホルダー２
を更に詳しく説明する。真空容器の下部には中心蒸着源
４があり、この蒸着源４は周知のように基体ホルダー２
により保持されている基体の表面を蒸着するため円錐状
の蒸着ビーム５を発生する。基体ホルダー２を 180°回
転させる毎に、基体の蒸着すべき面を真空容器の中心で
円錐状に上昇する蒸着ビームに対して正確な角度位置に
して、各基体面に最適で一様な付着を与えるため、この
発明によれば、基体ホルダー２の半径方向の延長部に各
一つの基体に対して少なくとも二つの収納領域を設け、
これ等の収納領域の間に基体ホルダーを部分１２，２２
に分割するそれぞれ一つのヒンジあるいはリンク結合部
６があり、図１に破線で示すように、基体ホルダー部分
を基体と共に両側に所定の角度まで自由に傾けることが
できる。
を更に詳しく説明する。真空容器の下部には中心蒸着源
４があり、この蒸着源４は周知のように基体ホルダー２
により保持されている基体の表面を蒸着するため円錐状
の蒸着ビーム５を発生する。基体ホルダー２を 180°回
転させる毎に、基体の蒸着すべき面を真空容器の中心で
円錐状に上昇する蒸着ビームに対して正確な角度位置に
して、各基体面に最適で一様な付着を与えるため、この
発明によれば、基体ホルダー２の半径方向の延長部に各
一つの基体に対して少なくとも二つの収納領域を設け、
これ等の収納領域の間に基体ホルダーを部分１２，２２
に分割するそれぞれ一つのヒンジあるいはリンク結合部
６があり、図１に破線で示すように、基体ホルダー部分
を基体と共に両側に所定の角度まで自由に傾けることが
できる。
【００１６】基体ホルダー２の形状に無関係に、しかも
ヒンジあるいはリンク結合部６で分割され、基体を担持
する部分１２，２２の数に無関係に、蒸着すべき基体面
が真空容器の中心に円錐状に上昇する蒸着ビーム５に対
して何時も正確に角度位置になるが可能である。従っ
て、図１から分かるように、各基体面には最適で均一な
付着となる。
ヒンジあるいはリンク結合部６で分割され、基体を担持
する部分１２，２２の数に無関係に、蒸着すべき基体面
が真空容器の中心に円錐状に上昇する蒸着ビーム５に対
して何時も正確に角度位置になるが可能である。従っ
て、図１から分かるように、各基体面には最適で均一な
付着となる。
【００１７】図２の基体ホルダー２の実施例では、半径
方向に延び、回転軸３に接続する三つの部分１２，２
２，２３がある。これ等の部分は基体に対して円形方の
保持部品であり、ここではヒンジあるいはリンク結合部
６により連結されている。図３の基体ホルダー２の実施
例では、基体ホルダー２はドーム状の板で形成され、こ
のドーム状の板もリンク結合部６により三つの部分１
２，２２，２３に分割されている。この場合、中央の部
分２２は隣接する三つの基体を入れる手段を持ってい
る。
方向に延び、回転軸３に接続する三つの部分１２，２
２，２３がある。これ等の部分は基体に対して円形方の
保持部品であり、ここではヒンジあるいはリンク結合部
６により連結されている。図３の基体ホルダー２の実施
例では、基体ホルダー２はドーム状の板で形成され、こ
のドーム状の板もリンク結合部６により三つの部分１
２，２２，２３に分割されている。この場合、中央の部
分２２は隣接する三つの基体を入れる手段を持ってい
る。
【００１８】ドーム状の基体ホルダー２に対する基体の
大きさに応じて、当然もっと多数の基体を取り付けるこ
とができる。図４の基体ホルダー２の実施例では、各一
つの基体に対する三つの収納領域の帯状の基体ホルダー
２がある。これ等の収納領域の間には基体ホルダーを部
分１２，２２，２３に分割する各一つのヒンジあるいは
リンク結合部６があり、このヒンジあるいはリンク結合
部の周りに基体ホルダー部分が基体と共に両側に所定の
角度ほど互いに傾く。
大きさに応じて、当然もっと多数の基体を取り付けるこ
とができる。図４の基体ホルダー２の実施例では、各一
つの基体に対する三つの収納領域の帯状の基体ホルダー
２がある。これ等の収納領域の間には基体ホルダーを部
分１２，２２，２３に分割する各一つのヒンジあるいは
リンク結合部６があり、このヒンジあるいはリンク結合
部の周りに基体ホルダー部分が基体と共に両側に所定の
角度ほど互いに傾く。
【００１９】上の説明から分かることは、基体ホルダー
部分が基体と共に両側に所定の角度ほど互いに傾くので
あれば、基体ホルダーの形状は異なっていてもよい。
部分が基体と共に両側に所定の角度ほど互いに傾くので
あれば、基体ホルダーの形状は異なっていてもよい。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の基体ホ
ルダーにより、蒸着すべき基体面を真空容器の中心に円
錐状に上昇する蒸着ビームに対して正確な角度位置に非
常に簡単にでき、各面に最適で均一な付着を与えること
ができる。
ルダーにより、蒸着すべき基体面を真空容器の中心に円
錐状に上昇する蒸着ビームに対して正確な角度位置に非
常に簡単にでき、各面に最適で均一な付着を与えること
ができる。
【図１】 この発明による基体ホルダーを備えた真空成
膜装置の単純化した模式側面図、
膜装置の単純化した模式側面図、
【図２】 この発明による基体ホルダーの実施例の拡大
平面図、
平面図、
【図３】 この発明による基体ホルダーの実施例の拡大
平面図、
平面図、
【図４】 この発明による基体ホルダーの実施例の拡大
平面図。
平面図。
１ 反転ホルダー装置 ２ 基体ホルダー ３ 回転軸 ４ 蒸着源 ５ 蒸着ビーム ６ ヒンジあるいはリンク結合部 １２，２２，２３ ホルダーの部分
Claims (4)
- 【請求項１】 排気可能な真空容器で交換可能な蒸着源
の上部にある多数のホルダーに取り付けたプラスチック
の眼鏡ガラスのような光学基体の表面に反射防止膜を蒸
着する真空成膜装置の基体ホルダーにおいて、 基体ホルダー（２）の半径方向の延長部にそれぞれ一つ
の基体に対する少なくとも二つの収納領域を設け、これ
等の収納領域の間に、基体ホルダー（２）を部分（１
２，２２）に分割するそれぞれ一つのヒンジあるいはリ
ンク結合部（６）があり、これ等のヒンジあるいはリン
ク結合部の周りに前記の基体ホルダー部分が基体と共に
両側に所定の角度まで自由に傾くことを特徴とする基体
ホルダー。 - 【請求項２】 ヒンジあるいはリンク結合部（６）によ
り互いに連結し、基体に対する円形の保持部品からな
り、回転軸（３）に接続する部分（１２，２２，２３）
を設け、前記ヒンジあるいはリンク結合部の周りに基体
ホルダーの部分が基体と共に両側に所定の角度まで自由
に傾くことを特徴とする請求項１に記載の基体ホルダ
ー。 - 【請求項３】 リンク結合部により少なくとも二つの部
分（１２，２２，２３）に分割されたドーム状の板を設
け、前記リンク結合部の周りに基体ホルダーの部分が基
体と共に両側に所定の角度まで自由に傾き、少なくとも
中央部分（２２）が隣接する少なくとも二つの基体を収
納する手段を持っていることを特徴とする請求項１に記
載の基体ホルダー。 - 【請求項４】 各基体に対する少なくとも二つのの収納
領域に各一つの基体を配分する帯状装置を設け、前記収
納領域の間に、基体ホルダーを部分（１２，２２，２
３）に分割するそれぞれ一つのヒンジあるいはリンク結
合部（６）があり、このヒンジあるいはリンク結合部の
周りに基体ホルダーの部分が基体と共に両側に所定の角
度まで自由に傾くことを特徴とする請求項１に記載の基
体ホルダー。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH01200/96A CH691308A5 (de) | 1996-05-10 | 1996-05-10 | Substrat-Träger für Vakuum-Beschichtungsanlagen. |
| CH19961200/96 | 1996-05-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1068066A true JPH1068066A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=4204857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9117151A Pending JPH1068066A (ja) | 1996-05-10 | 1997-05-07 | 真空成膜装置の基体ホルダー |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6082298A (ja) |
| EP (1) | EP0806492B1 (ja) |
| JP (1) | JPH1068066A (ja) |
| CN (1) | CN1124363C (ja) |
| CH (1) | CH691308A5 (ja) |
| DE (1) | DE59702124D1 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2802947B1 (fr) * | 1999-12-28 | 2002-04-12 | St Microelectronics Sa | Support de substrats pour installation de revetement par evaporation |
| DE10261362B8 (de) * | 2002-12-30 | 2008-08-28 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Substrat-Halter |
| DE102004063703A1 (de) * | 2004-12-28 | 2006-07-06 | Schott Ag | Vakuumbeschichtungssystem |
| DE102005045718B4 (de) | 2005-09-24 | 2009-06-25 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Träger für ein Substrat |
| CN101041889B (zh) * | 2006-03-21 | 2010-05-12 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 镀膜方法 |
| DE102007062618B4 (de) | 2007-12-22 | 2009-11-05 | Carl Zeiss Vision Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Gläsern |
| EP2093018B2 (en) | 2008-02-25 | 2017-11-01 | Satisloh AG | Block piece for holding an optical workpiece, in particular a spectacle lens, for processing thereof, and method for manufacturing spectacle lenses according to a prescription |
| CN101597747B (zh) * | 2008-06-05 | 2012-06-20 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 光学镀膜装置 |
| TWI414615B (zh) * | 2008-06-20 | 2013-11-11 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 光學鍍膜裝置 |
| EP2138271B1 (en) | 2008-06-26 | 2011-08-03 | Satisloh AG | Method for manufacturing spectacle lenses according to a prescription |
| CN102234782A (zh) * | 2010-04-26 | 2011-11-09 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 镀膜伞架 |
| CN101955321A (zh) * | 2010-05-21 | 2011-01-26 | 蚌埠翼诚玻璃有限公司 | 分体式镀膜架 |
| KR20120083712A (ko) * | 2011-01-18 | 2012-07-26 | 삼성엘이디 주식회사 | 서셉터 및 이를 구비하는 화학 기상 증착 장치 |
| CN103014617B (zh) * | 2011-09-22 | 2014-05-14 | 株式会社新柯隆 | 薄膜形成装置 |
| LU92190B1 (en) | 2013-05-06 | 2014-11-07 | Satisloh Gmbh | Multi part blocking piece |
| LU92191B1 (en) | 2013-05-06 | 2014-11-07 | Satisloh Gmbh | Multimaterial block piece |
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