CN1124363C - 真空镀膜设备的基片支架 - Google Patents

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Abstract

用于在光学基片表面上蒸镀镀膜的真空镀膜设备的基片支架，光学基片可被夹紧在多个这样的支架上，支架本身装在一个可抽成真空的容器内在可更换的蒸发源上方，其中，在基片支架的径向延伸段中至少设有两个各用于一个基片的安装区，在这些安装区之间总有一个将基片支架分成段的活动关节或铰链，带着基片的支架段可围绕着铰链彼此相对地向两侧自由摆动一个预定的角度。

Description

真空镀膜设备的基片支架
技术领域
本发明涉及一种用于在光学基片例如塑料眼镜片表面上蒸镀镀膜的真空镀膜设备的基片支架，光学基片可被夹紧在多个这样的支架上，支架本身装在一个可抽成真空的容器内在可更换的蒸发源上方。
背景技术
在此类已知的用于在真空中在光学基片尤其是眼镜片上至少蒸镀一层镀膜层的设备中，预定数量的这种基片在通常蒸镀多层后，从基片表面在其中经受可更换的蒸发源作用的平面中移出，并再次将同样数量的基片表面移入此平面中，以便接着同样为它们蒸镀一次或多次。
为此例如常用一种可置于真空下的转台，在转台的圆周上设有多个工位，用于可拆式地固定基片。此设备还至少包括一个与相对的基片表面建立工作联系的蒸发源。其中每一个工位配备有一个基片支架，可拆式地固定各个基片的固定装置位于基片支架上。若在一侧的基片表面上已连续蒸镀了各个镀膜层，则通过旋转转台回转基片支架，接着蒸镀另一些基片表面。
此外还已知设计为所谓球形罩的基片支架，以便将多个基片装在扁平的圆弧形支架上。多个这样的球形罩在容器上部圆顶状延伸并可以旋转，因此通过每一个球形罩总是可以同时回转多个基片。
在这类结构中存在的问题是，在容器中心呈锥形上升的蒸镀电子束，要求要蒸镀的那些基片表面相对于电子束锥体有一个准确的角向位置，以便能在每一个表面上获得最佳的均匀的沉积。
这一要求在一种沿径向从转台伸出并可绕一根轴回转180°的各带有一个基片的基片支架结构中，通过轴的倾斜定位可以毫无问题地满足。
但是，对于在扁平的圆弧形支架上可以安装多个基片的半球形的基片支架不能毫无问题地充分满足上述要求。
因此，在这种半球形基片支架中已经有人在支架上设基片固定装置，它们带着基片可从支承板平面出发向两侧自由摆动直到一个预定的角度。
但是，在支架上的这种基片固定装置非常复杂和容易产生故障。
发明内容
因此本发明的目的是，设计上述类型的基片支架，使它们能用非常简单的办法将要蒸镀的基片表面始终置于一个相对于在容器中央呈锥形上升的蒸镀电子束的准确角向位置，以便在每个表面上获得最佳的均匀的沉积。
在一种用于在光学基片例如塑料眼镜片表面上蒸镀镀膜的真空镀膜设备的基片支架中，其中光学基片可被夹紧在多个这样的支架上，支架本身装在一个可抽成真空的容器内在可更换的蒸发源上方，为达到上述目的，在基片支架的径向延伸段至少设有两个各用于一个基片的安装区，在这些个安装区之间总有一个将基片支架分成段的活动关节或铰链，带着基片的基片支架段可围绕着铰链彼此相对地向两侧方向自由摆动直到一个预定的角度。
因此，与基片支架的形状无关和与通过活动关节或铰链将它分成装基片的分段数量无关地可以在基片支架每旋转180°后，将要蒸镀的基片表面始终置于一个相对于在容器中央呈锥形上升的蒸镀电子束的新的准确角向位置，由此可以在每个基片表面上获得最佳的均匀的沉积。
一种最佳结构形式是可以采用至少两个沿径向延伸并连接在转轴上的支架段，它们由用于基片的圆形固定件构成并通过活动关节或铰链连接，带着基片的基片支架段可围绕着铰链彼此相对地向两侧方向自由摆动直至预定的角度；或可以采用一种半球形的板，它被铰链分成至少两段，带着基片的基片支架段可围绕着铰链彼此相对地向两侧方向自由摆动到一个预定的角度，其中，至少中央段具有用于安装至少两个并列基片的装置；或可以采用一种条状的结构，它被分为至少两个用于各一个基片的安装区，在这些安装区之间总有一个将基片支架分成段的活动关节或铰链，带着基片的基片支架段可围绕着铰链彼此相对地向两侧方向自由摆动直至一个预定的角度。
附图说明
下面借助于附图详细说明作为举例的本发明技术内容的实施形式。其中：
图1  具有按本发明的基片支架的真空镀膜设备示意简化的侧视图；以及
图2至4按本发明的基片支架实施形式比例放大的俯视图。
具体实施方式
图1中表示的用于在光学基片例如塑料眼镜片上蒸镀镀膜的真空镀膜设备，包括一个用真空泵可抽成真空的已知容器(图中未表示)。
在此容器的上部腔室内装有一个所谓的回转架装置1，它有多个(图中可看到两个)沿径向的围绕着圆形回转架装置1设置的按本发明的基片支架2，它们分别支承在一根可临时旋转180°的转轴3上，其中，每一个基片支架2包括用于夹紧地固定一个要双面镀膜的基片的装置，或用于固定两个要单面镀膜的基片的装置(图中未表示)。
下面更详细地说明按本发明的基片支架2。
在容器下部表示了一个中央蒸发源4，它按已知的方式产生一个圆锥形的蒸镀电子束5，用于蒸镀固定在基片支架2上的基片表面。
现在为了使基片的要蒸镀的基片表面在基片支架每旋转180°后始终置于一个相对于在容器中央呈锥形上升的蒸镀电子束准确角向位置，以便能在每个基片表面上获得最佳的均匀的沉积，按本发明在基片支架2的径向延伸段中至少设有两个各用于一个基片的安装区，在这些安装区之间总有一个将基片支架分成段12、22的活动关节或铰链6，带着基片的基片支架段可绕此铰链彼此相对地向两侧方向自由摆动直至一个预定的角度，如图1用虚线表示的那样。
因此，与基片支架2的形状无关和与通过活动关节或铰链6将它分为装基片的分段12、22数量无关地，可以使要蒸镀的基片表面始终处于一个相对于在容器中央呈锥状上升的蒸镀电子束5的准确角向位置，由此可以在每个基片表面获得最佳的均匀沉积，如图1所示。
在按图3的基片支架2实施方案中，设有三个沿径向延伸并连接在转轴3上的分段12、22和23，它们由圆形的基片固定件构成，在这里它们用两个活动关节或铰链6连接起来。
在按图2的基片支架2实施形式中，基片支架2由半球形板组成，它同样通过铰链6分成三个分段12、22和23，其中，中央分段22在这里具有用于安装三个并列基片的装置。
当然，根据基片相对于半球形基片支架2的相对尺寸，也还可以安装更多的基片。
在按图4的基片支架2的实施方案中，条状的基片支架2分成三个各用于一个基片的安装区，在这些安装区之间各有一个将基片支架分成段12、22和23的活动关节或铰链6，带着基片的基片支架段可围绕着铰链彼此相对地向两侧方向自由摆动直至一个预定的角度。
由以上所述可知，基片支架的形状可以是不同的，只要它们允许基片支架段带着基片一起能彼此相对地向两侧方向自由摆动到一个预定的角度。

Claims (5)

1.真空镀膜设备的基片支架，该设备包括：
一容纳待镀膜的基片的支架；
一蒸发源，其与该支架竖直隔开并将蒸汽流散发到安装在该支架上的基片上；其改进在于所述支架包括：
(a)至少两个径向相邻的段，各自容纳至少一个待镀膜的基片；
(b)一连接所述相邻的段的铰链，以允许所述段彼此相对地向两侧方向摆动至一预定的角度，从而使所述基片支架的所述段能相对于所述蒸发源成一角度。
2.按照权利要求1的基片支架，其特征在于还包括一固定在所述支架上的转轴，用于使所述支架转动180°，以便将该基片的另一表面暴露给蒸汽流。
3.按照权利要求1的基片支架，其特征在于所述段构成用于基片的圆形固定件。
4.按照权利要求1的基片支架，其特征在于所述支架为半球形的板，该半球形的板被分为所述的段，所述段构成板状段。
5.按照权利要求1的基片支架，其特征在于所述支架是条状的，所述段构成连续的条状段。
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