KR950012813B1 - 제품 코팅을 위한 증착 방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

제품 코팅을 위한 증착 방법
제 1 도는 본 발명의 사용 적합한 캐리어위에 배열된 렌즈 형태의 다수의 전형적인 제품을 도시하는 도면.
제 2 도는 제 1 도의 장치부의 부분 평면도.
제 3 도는 제 1 도의 장치부의 절단 측면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 구형 렌즈 d1: 하부 트렌취의 깊이
12 : 캐리어 d2: 상부 트렌취의 깊이
141: 수평 트렌취 161: 수직 트렌취
W1: 하부트렌취의 너비 W2: 상부 트렌취의 너비
A, B, C, D : 접촉점
[발명의 배경]
[기술분야]
본 발명은 제조 제품을 코팅하는 방법, 특히 이러한 코팅 적용을 위한 증착 방법에 관한 것이다.
[종래기술의 설명]
과거에는, 구형 렌즈가 MgF2, SiO2또는 다른 물리적으로 증착된 필름과 같은 반사 방지(AR) 물질로서 코팅되었다. 특히, 상기 구형 렌즈는 고정부 내로 인착되어 배럴(barrel)코팅 기계내로 삽입된다. 그 다음 상기 고정부는 AR 물질로 구형제를 코팅하기 위하여 물리적으로 회전된다.
상기 구형의 양측면을 코팅하기 위하여서는, 상기 공정은 정지되어 고정부가 뒤집어져야만 한다. 결과적으로, 상기 코팅 공정은 중앙부 주위에 코팅이 안된 링 형상의 표면을 남긴다. 그래서 후에 렌즈를 이용할때, 설치는 상기 코팅이 안된 링 영역이 광학 신호 경로에 외부로 위치할 수 있도록 조심스럽게 조정되어야만 한다. 상기 물리적 증착의 접근에 따른 다른 문제점은 AR 코팅의 균일성 부족이고, 상기 균일성의 부족은 렌즈의 결합 효율에 영향을 미친다. 또한, 어떠한 물질(유리와 같은)을 만들때 상당히 작은 직경의 각구형체(예를들면, ≤300㎛)와 이러한 렌즈의 연약함은 상당히 많은 수의 렌즈가 코팅 공정중에 회복할 수 없을 정도로 손상이 생긴다.
그러므로 구형 렌즈 부재와 같은 제품에 대한 AR 코팅에서는, 균일한 코팅 적용 방법에 대한 기술이 요구된다.
[발명의 요약]
종래 기술에서 요구되는 것은 제조 제품에 코팅을 적용하는 방법 특히, 첨부된 특허청구의 범위에 기재된 코팅과 같은 증착 방법에 관한 본 발명에 의하여 해결된다.
본 발명의 전형적인 일 실시예에서, 다수의 제품은 캐리어위에 안착되고, 소정 두께의 거의 균일한 코팅을 공급하기에 충분한 시간과 온도에 대한 적합한 물질의 화화적인 증착(CVD)에 도출된다. 상기 균일성은 가스 형상의 반작용과 방법에 비교하여 이종의 필름 성장(heterogeneous film growth : 가스 흐름의 동적인 것에 최소한으로 영향을 받는)을 돕는 CVD 방법을 사용함으로써 성취될 수 있다.
특정 실시예에서는, 상기 제품은 구형 부재를 포함할 수 있다. 구형체를 사용할때, 렌즈가 상부면위에 위치되어 있고 4개의 각 접촉점(접촉부는 1μm 보다 휠씬 적고 트렌취(trench)의 교차점에 의하여 형성된다)위에서만 놓일 수 있도록, 상기 캐리어는 상부면 위에 일련의 격자 형상의 트렌취를 포함하도록 형성될 수있다. 상기 캐리어의 사용은 각 구형 부재의 전외부면을 거의 코팅한다. 다양한 크기의 구형체와 동시에 코팅될 수 있다. 실질적으로, 다른 크기의 렌즈를 지지하는 격자를 각각 포함하는 다수의 분리 캐리어는 동시에 처리될 수 있다.
AR 코팅을 다수의 구형 렌즈에 적용하기 위하여 사용될때, 상기 방법은 DADBS(diacetoxyditertiar : ybutoxysilane)와, 같은 SiO2물질의 화학 증착을 사용할 수 있다. 양호하게는, 본 발명의 방법은 구형 부재에 반사 코팅을 적용하는데에 사용될 수 있다. 상기 경우, 침착 물질의 두께는 바람직한 정도의 반사를 공급하도록 선택된다. 또한, 금속은 반사성 금속 필름을 생산하기 위하여 유기 합성체 전조물(organo-metallic precursor) 로 침착된다.
본 발명 기술의 장점은 다수의 제조 제품이 소정의 균일성을 가진 코팅층을 형성하기 위하며 동시에 진행될 수 있고, 상기 CVD 방법은 코팅된 제품의 매우 높은 생산을 하게 된다는 것이다.
본 발명의 다른 장점과 부가의 장점은 다음의 설명과 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명될 것이다.
제 1 도에는 본 발명의 방법에 따라 사용되는 적절히 형성된 캐리어 부재(12)위에 위치된 다수의 구형 렌즈(10)가 도시되어 있다. 후술되는 코팅 방법은 어떠한 소정의 제품에 적절하게 사용되고, 구형 부재에 대한 다음의 설명은 단지 전형적인 것이다. 제 1 도를 참조하면, 부재(12)는 부재(12)의 상부면(18)에 형성된 다수의 "수평"트렌취(14)와 다수의 수직 트렌취(16)를 포함한다. 상기 다수의 트렌취는 제 1 도에 도시된 것과 같은 격자형 구조를 형성하기 위하여 교차된다. 트렌취(14,16)의 치수와 공간은 렌즈(10)가 제 1 도에서 A, B, C 및 D로 표시된 단지 4개의 접촉점 사이에 놓일 수 있도록 형성된다. 제 2 도 및 제 3 도와 관련하여 후술되는 바와 같이, 트렌취(14,16)는 캐리어(12)내의 구형체(10)의 인정성을 향상시키도록 이층 구조로 형성된다.
구형체 렌즈(10)가 캐리어(12)위에 안착된 후에, 캐리어(12)는 코팅 물질의 화학적인 증착을 시작하기 위하여 반응 챔버(도시되지 않음)내에 삽입된다. 상기 코팅이 소정의 두께(시간 및 주위 온도 같은 매개 변수에 의하여 결정되는)로 침착되면, 상기 캐리어는 상기 챔버로부터 나온다. 그 다음, 코팅된 렌즈(10)는 예를들면 "픽 앤드 플레이스(pick and place)" 공구를 사용하여 캐리어(12)로부터 이동된다. 접촉점(A,B,C,D)이 코팅되지 않더라도, 이것은 매우 작은 접촉점 크기(예를들면, 직경 300㎛ 구형체에 대해 lμm 보다 훨씬 작은 크기) 때문에, 코팅된 렌즈의 광학적 성질에는 영향을 미치지 않는 것으로 밝혀졌다. 다양한 크기의 구형체는 동시에 접촉되고, 또한 몇몇 캐리어는 작업 처리량을 증가시키기 위하여 동시에 치리된다.
[실시예]
직경이 약 300㎛인 구형체 사파이어 약 1000개가 제 1 도에 도시된 것 바와같이 캐리어(약 2.54cm 길이의 정방형)위에 인착된다. 상기 안착된 캐리어는 반응 챔버내로 이송되고 DADBS SiO2층이 침착된다. 실질적으로, 하나의 반응 챔버는 각 작동 동안에 10 내지 50 캐리어를 쉽게 취급할 수 있다. 상기 챔버는 약 500℃ 온도에서 유지되고, 침착 작용은 약 26.5분 동안에 실행된다.시간과 온도 인자는 약 22.5nm 두께의 AR 코팅층(λ=1.3μm)을 생산하기 위하여 계산된다.
코팅된 슬라이드부 위에서는 타원도 측정은 약 222nm의 실질적인 두께를 만든다. 상기 구형체 위에서의 광학적인 전달과 반사의 측정은 이론과 일치하는 결과를 낳는다(즉 전달율 〉98%이고, 반사율 〈1%). 광학적인 마세 조사에 의해, 어떠한 접촉점도 볼 수 없다(400배율 보다 더 큰 확대에 의해). 몇천개의 구형체 측정은 회전에도 불구하고 98% 보다 더 큰 전달율을 가진 구형체를 만든다.
실험을 통하여, 캐리어(12)의 트렌취 구조위에서의 구형체의 향상된 안정성은 특히 제 2 도 및 제 3 도에 도시된 바와같이, 일련의 이층 구조 트렌취의 사용으로부터 발생된다. 제 2 도의 평면도에서, 전형적인 구형체(10ij)는 수평 트렌취(14i)와 수직 트렌취(16i)의 교차점 위에 도시되어 있다. 실질적으로, 각 트렌취는 하부 트렌취 너비(W1)와 상부 트렌취 너비(W2)를 포함하는데, 상기 W1은 W2보다 작다. 직경(D)의 구형체가 4개의 점촉점(A, B, C, D)(A와 B는 제 3 도에서 단지 볼 수 있는 접촉점이다)위에 놓일 수 있도록 상기 너비는 선택된다.
제 3 도에서 도시된 바와같이, 하부 수평 트렌취(14i)는 캐리어(12)의 상부면(18) 아래에서 깊이(d1)를 포함한다. 상기 깊이는 CVD 코팅 방법이 유지될 동안에 트렌취를 통하여 물질이 충분히 흐를 수 있도록 선택된다. 상부 트렌취(14''i)의 깊이(d2)는 구형체(10ij)의 약 반정도가 캐리어(12)의 표면(18)위에 남아 있을수 있도록 선택된다.
상술한 기술은 제조 제품위에서 반사 코팅을 형성하기 위하여 동일하게 적용 가능하고, 상기 반사 코팅은 몇몇 적용에 유용할 수 있다. 어떠한 적정 코팅 물질 예를들면, 유기 하성물 전조물로부터 침착된 알루미늄 또는 텅스텐과 같은 금속은 본 발명의 증착 방법을 사용하는 반사 코딩을 형성하기 위하여 사용된다.

Claims (11)

  1. 가) 다수의 제조 제품(10)을 공급하는 공급 단계와, 나) 다수의 제조 제품을 캐리어 지지 부재(12)위에 인착시키는 인착 단계와, 다) 상기 인착된 캐리어 지지 부재를 반응 챔버내로 삽입시키는 삽입 단계 및, 라) 소정 두께의 거의 균일한 코팅을 형성하기에 충분한 시간과 온도에서, CVD 방법을 사용하여 각 제조제품의 외부 표면 위에서 코팅 물질을 침착시키는 침착 단계를 포함하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법에 있어서, 단계 가)를 수행함에 있어서, 다수의 구형 렌즈가 제공되고, 단계 나)를 수행함에 있어서, 각구형 렌즈가 한쌍의 트렌취의 교차점에 배치되어 캐리어 지지 부재와 접촉하는 4개 점에 의하여 지지될 수있도록, 상기 캐리어 지지 부재는 상부면 위에 형성된 격자형 교차 트렌취를 포함하는 것을 특징으로 하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 단계 라)를 실행함에 있어서, 상기 코팅 물질로서 반사 방지 코팅 물질을 침착하는 것을 특징으로 하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 단계 라)를 실행함에 있어서, 실리콘 2 산화물의 코팅을 침착하는 것을 특징으로하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법.
  4. 제 3 항에 있어서, 단계 라)를 실행함에 있어서, 실리콘 2 산화물을 형성하기 위하여 DADBS가 사용되는 것을 특징으로 하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 단계 라)를 실행함에 있어서, 소정의 침착 온도는 약 500℃인 것을 특징으로 하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 단계 라)를 실행함에 있어서, 상기 침착은 200 내지 300nm 범위내의 코팅을 형성하기 위한 충분한 시간으로 실행되는 것을 특징으로 하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 소정 시간은 20 내지 30분 범위내에 있는 것을 특징으로 하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법.
  8. 제 1 항에 있어서, 단계 라)를 실행함에 있어서, 반사 코팅을 침착하는 것을 특징으로 하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 단계 라)를 실행함에 있어서, 유기 합성물 전조물로부터 금속 물질을 침착시키는 것을 특징으로 하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법.
  10. 제 8 항에 있어서, 단계 라)를 실행함에 있어서, 알루미늄이 침착되는 것을 특징으로 하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법.
  11. 제 1 항에 있어서, 단계 나)를 실행함에 있어서, 상기 교차 트렌취는 이층 구조이고, 너비(W1)를 가진 하부 트렌취와 너비(W2)를 가진 상부 트렌취를 포함하고, 상기 너비(W2)는 너비(W1) 보다 더 큰 것을 특징으로 하는 다수의 구형 부재를 코팅하는 방법.
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5792423A (en) * 1993-06-07 1998-08-11 Markelov; Michael Headspace autosampler apparatus and method
SE509984C2 (sv) * 1994-03-18 1999-03-29 Sandvik Ab Chargeringssystem för CVD
US5874127A (en) * 1995-08-16 1999-02-23 Ciba Vision Corporation Method and apparatus for gaseous treatment
US6017581A (en) * 1997-04-18 2000-01-25 Semi-Alloys Company Method for coating lenticular articles
US6210546B1 (en) * 1998-10-29 2001-04-03 Lucent Technologies Inc. Fixture with at least one trough and method of using the fixture in a plasma or ion beam
JP4836102B2 (ja) * 2000-06-30 2011-12-14 Ｈｏｙａ株式会社 光学素子の位置決め部材、光学素子の位置決め部材の製造方法、光学ユニット、光学ユニットの製造方法、レンズチップ、光メモリ媒体用浮上型ヘッド
US20030021572A1 (en) * 2001-02-07 2003-01-30 Steinberg Dan A. V-groove with tapered depth and method for making
US6978896B2 (en) * 2002-04-11 2005-12-27 3M Innovative Properties Company Method of making retrochromic beads and kit thereof
US7036944B2 (en) 2002-04-11 2006-05-02 3M Innovative Properties Company Retrochromic articles
US7294360B2 (en) * 2003-03-31 2007-11-13 Planar Systems, Inc. Conformal coatings for micro-optical elements, and method for making the same
JP5622219B2 (ja) * 2008-11-06 2014-11-12 Ntn株式会社 球状体の表面処理用治具、球状体の表面処理方法および球状部品の製造方法
JP6106266B2 (ja) * 2012-04-16 2017-03-29 ザ・ティムケン・カンパニーＴｈｅ Ｔｉｍｋｅｎ Ｃｏｍｐａｎｙ 球形部品にコーティングを施すための方法およびテーブルアセンブリ
JP2017503924A (ja) 2013-12-27 2017-02-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 均一な形状の物品の３次元アレイ上の均一な化学蒸着コーティング

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2026203A (en) * 1934-07-05 1935-12-31 Ackles Hornkohl Company Icing mechanism
US4415512A (en) * 1979-07-20 1983-11-15 Torobin Leonard B Method and apparatus for producing hollow metal microspheres and microspheroids
USRE30626E (en) * 1979-09-14 1981-05-26 Ultramet of Pacoima Spheres obtained by vapor deposition for use in ball point pens
US4361111A (en) * 1981-12-23 1982-11-30 Groen Henry J Golf ball dry rack
DE3321028A1 (de) * 1982-06-17 1983-12-22 Smiths Industries Public Ltd. Co., London Optisches bauteil
JPS5972127A (ja) * 1982-10-18 1984-04-24 Toshiba Corp 気相成長用溝切り熱板
JPS6025281A (ja) * 1983-07-22 1985-02-08 Nec Corp 発光受光素子
JPS61138201A (ja) * 1984-12-11 1986-06-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 無反射コ−テイング膜を有する球レンズの製造法
WO1986006756A1 (en) * 1985-05-03 1986-11-20 American Telephone & Telegraph Company Method of making a device comprising a patterned aluminum layer
US4725890A (en) * 1986-07-15 1988-02-16 Ovonic Imaging Systems, Inc. Flexible array of photosensitive elements
JPS6333571A (ja) * 1986-07-25 1988-02-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 球状物の成膜方法
US4704298A (en) * 1986-07-31 1987-11-03 The Research Foundation Of State University Of New York Coating spherical objects
US4916091A (en) * 1987-11-05 1990-04-10 Texas Instruments Incorporated Plasma and plasma UV deposition of SiO2
SE461491B (sv) * 1987-12-02 1990-02-19 Asea Ab Monolitisk optokopplare
JPH01300528A (ja) * 1988-05-30 1989-12-05 Fujitsu Ltd 薄膜形成方法
US5098483A (en) * 1989-09-05 1992-03-24 Spire Corporation Methods of treating spherical surfaces
US5081069A (en) * 1989-12-26 1992-01-14 Texas Instruments Incorporated Method for depositing a Tio2 layer using a periodic and simultaneous tilting and rotating platform motion
DE4008405C1 (ko) * 1990-03-16 1991-07-11 Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De

Also Published As

Publication number Publication date
EP0551737A1 (en) 1993-07-21
DE69210792T2 (de) 1996-09-26
DE69210792D1 (de) 1996-06-20
EP0551737B1 (en) 1996-05-15
KR930013201A (ko) 1993-07-21
JP2513976B2 (ja) 1996-07-10
US5380551A (en) 1995-01-10
JPH0680487A (ja) 1994-03-22

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