JPH1068064A - 光学基体上に反射膜を蒸着する真空成膜装置 - Google Patents
光学基体上に反射膜を蒸着する真空成膜装置Info
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- JPH1068064A JPH1068064A JP9117149A JP11714997A JPH1068064A JP H1068064 A JPH1068064 A JP H1068064A JP 9117149 A JP9117149 A JP 9117149A JP 11714997 A JP11714997 A JP 11714997A JP H1068064 A JPH1068064 A JP H1068064A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims description 13
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title abstract description 16
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title abstract description 16
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 18
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 全ての基体を同時に、しかも蒸着の流れを中
断することなく早く反転させることのできる、排気可能
な真空容器内の交換可能な蒸着源の上または下にある支
持手段に取り付けたプラスチックの眼鏡のガラスのよう
な光学基体の表面に反射膜を蒸着する真空成膜装置を提
供する。 【解決手段】 前記支持手段が円形の支持板２３の周り
の半径方向に多数配置され、時折 180°回転する回転軸
２２にそれぞれ支持された反転ホルダー２１を有する反
転ホルダー装置３で形成され、各反転ホルダー２１が両
側に被膜を付ける基体を挟持する手段あるいは片側に被
膜を付ける二つの基体を保持する手段を有し、反転ホル
ダー２１あるいは回転軸２２に全ての反転ホルダーを同
時に反転するあるいは裏返す反転手段が係合している。
断することなく早く反転させることのできる、排気可能
な真空容器内の交換可能な蒸着源の上または下にある支
持手段に取り付けたプラスチックの眼鏡のガラスのよう
な光学基体の表面に反射膜を蒸着する真空成膜装置を提
供する。 【解決手段】 前記支持手段が円形の支持板２３の周り
の半径方向に多数配置され、時折 180°回転する回転軸
２２にそれぞれ支持された反転ホルダー２１を有する反
転ホルダー装置３で形成され、各反転ホルダー２１が両
側に被膜を付ける基体を挟持する手段あるいは片側に被
膜を付ける二つの基体を保持する手段を有し、反転ホル
ダー２１あるいは回転軸２２に全ての反転ホルダーを同
時に反転するあるいは裏返す反転手段が係合している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、排気可能な真空
容器内の交換可能な蒸着源の上または下にある支持手段
に取り付けたプラスチックの眼鏡のガラスのような光学
基体の表面に反射膜を蒸着する真空成膜装置に関する。
容器内の交換可能な蒸着源の上または下にある支持手段
に取り付けたプラスチックの眼鏡のガラスのような光学
基体の表面に反射膜を蒸着する真空成膜装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空中で光学基体、特に眼鏡のガラスに
少なくとも一種の表面層を蒸着するこのような周知の装
置では、予め与えられた数のこのような基体が通常多数
の層を蒸着した後、基体表面が交換可能な蒸着源の作用
に曝される面から外れ、もう一度同じ数の基体表面がこ
の面に導入され、この面が以後一度あるいは数度蒸着さ
れる。
少なくとも一種の表面層を蒸着するこのような周知の装
置では、予め与えられた数のこのような基体が通常多数
の層を蒸着した後、基体表面が交換可能な蒸着源の作用
に曝される面から外れ、もう一度同じ数の基体表面がこ
の面に導入され、この面が以後一度あるいは数度蒸着さ
れる。
【０００３】これには、例えば真空下に置かれる回転台
が使用され、この回転台の周囲には基体を脱着可能に固
定する多数のステーションが配置されている。更に、こ
の装置には対向する基体面と作用する少なくとも一つの
蒸着源がある。その場合、各ステーションには、二つの
基体の間に遮蔽体が延びていて両基体を脱着可能に固定
する保持手段のある回転装置が装備されている。一方の
側の基体表面に個々の反射層を順次蒸着すると、保持手
段が回転台の回転により回転し、他の基体面が蒸着され
る。
が使用され、この回転台の周囲には基体を脱着可能に固
定する多数のステーションが配置されている。更に、こ
の装置には対向する基体面と作用する少なくとも一つの
蒸着源がある。その場合、各ステーションには、二つの
基体の間に遮蔽体が延びていて両基体を脱着可能に固定
する保持手段のある回転装置が装備されている。一方の
側の基体表面に個々の反射層を順次蒸着すると、保持手
段が回転台の回転により回転し、他の基体面が蒸着され
る。
【０００４】しかし、このような装置は複雑で経費がか
かり、非常に遅い。他方、支持手段として多数の所謂ド
ーム（球冠あるいはプラネタリウムとも言う）を使用す
る装置も知られている。このドームはそれぞれドーム状
で真空容器の上部に回転可能に延びていて、基体を入れ
るためドームの面の上に一様に多数、例えば全体で 36
ほどに配分された嵌込穴を有する。この場合、各ドーム
の向きを変えて多数の基体をその都度同時に裏返すつま
り反転させるこができる。
かり、非常に遅い。他方、支持手段として多数の所謂ド
ーム（球冠あるいはプラネタリウムとも言う）を使用す
る装置も知られている。このドームはそれぞれドーム状
で真空容器の上部に回転可能に延びていて、基体を入れ
るためドームの面の上に一様に多数、例えば全体で 36
ほどに配分された嵌込穴を有する。この場合、各ドーム
の向きを変えて多数の基体をその都度同時に裏返すつま
り反転させるこができる。
【０００５】ここでも一方の側の基体面上に個々の反射
防止膜を順次蒸着すると、反転機構でドームを回転させ
て他方の基体面を蒸着する。しかし、そのような装置は
最近の要請に合っていない。何故なら、蒸着工程毎に蒸
着源を止め、冷えた後、新しい反射防止膜のために新し
い蒸着源を使用する必要があるからである。裏返した基
体の両面に被膜を付ける場合、この処置を必ずもう一度
繰り返えす。更に、例えば電子ビーム蒸着器、あるいは
抵抗加熱される熱蒸着器である蒸着源を何回も加熱する
ことにより、蒸着材料が分解したり亜酸化物が生じた
り、それから屈折率の変化が生じる恐れがある。
防止膜を順次蒸着すると、反転機構でドームを回転させ
て他方の基体面を蒸着する。しかし、そのような装置は
最近の要請に合っていない。何故なら、蒸着工程毎に蒸
着源を止め、冷えた後、新しい反射防止膜のために新し
い蒸着源を使用する必要があるからである。裏返した基
体の両面に被膜を付ける場合、この処置を必ずもう一度
繰り返えす。更に、例えば電子ビーム蒸着器、あるいは
抵抗加熱される熱蒸着器である蒸着源を何回も加熱する
ことにより、蒸着材料が分解したり亜酸化物が生じた
り、それから屈折率の変化が生じる恐れがある。
【０００６】同じ出願人は、平行特許出願で、前記タイ
プの装置を用いて光学基体、特に眼鏡のガラスあるいは
レンズに被膜を付ける方法を特許請求した。この方法で
は、この発明により、反射防止膜を発生する蒸着過程内
でそれぞれ先ず支持手段上に装着される基体の蒸着源に
対向する面が蒸着され、次いで、蒸着源を休めることな
く、支持手段を基体と共に急速に反転させ、基体の蒸着
源に対向する面も同じように蒸着される。その後、新た
な蒸着過程内で基体面に他の反射防止膜を付けるために
蒸着源の周期的な交換が行われる。
プの装置を用いて光学基体、特に眼鏡のガラスあるいは
レンズに被膜を付ける方法を特許請求した。この方法で
は、この発明により、反射防止膜を発生する蒸着過程内
でそれぞれ先ず支持手段上に装着される基体の蒸着源に
対向する面が蒸着され、次いで、蒸着源を休めることな
く、支持手段を基体と共に急速に反転させ、基体の蒸着
源に対向する面も同じように蒸着される。その後、新た
な蒸着過程内で基体面に他の反射防止膜を付けるために
蒸着源の周期的な交換が行われる。
【０００７】この処置により、蒸着源の周期的な入替え
が半分に低減され、加熱もそのようにできる。これは、
蒸着材料が分解したり、亜酸化物を形成したり、それか
ら屈折率の変化が生じる恐れを著しく低減する。
が半分に低減され、加熱もそのようにできる。これは、
蒸着材料が分解したり、亜酸化物を形成したり、それか
ら屈折率の変化が生じる恐れを著しく低減する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】この発明の課題は、全
ての基体を同時に、しかも蒸着の流れを中断することな
く早く反転させることのできる、上に述べた種類の真空
被膜設備を提供することにある。
ての基体を同時に、しかも蒸着の流れを中断することな
く早く反転させることのできる、上に述べた種類の真空
被膜設備を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
により、排気可能な真空容器内の交換可能な蒸着源の上
または下にある支持手段に取り付けたプラスチックの眼
鏡のガラスのような光学基体の表面に反射膜を蒸着する
真空成膜装置にあって、前記支持手段が円形の支持板２
３の周りの半径方向に多数配置され、時折 180°回転す
る回転軸２２にそれぞれ支持された反転ホルダー２１を
有する反転ホルダー装置３で形成され、各反転ホルダー
２１が両側に被膜を付ける基体を挟持する手段あるいは
片側に被膜を付ける二つの基体を保持する手段を有し、
反転ホルダー２１あるいは回転軸２２に全ての反転ホル
ダーを同時に反転させるつまり裏返す反転手段が係合し
ていることによって解決されている。
により、排気可能な真空容器内の交換可能な蒸着源の上
または下にある支持手段に取り付けたプラスチックの眼
鏡のガラスのような光学基体の表面に反射膜を蒸着する
真空成膜装置にあって、前記支持手段が円形の支持板２
３の周りの半径方向に多数配置され、時折 180°回転す
る回転軸２２にそれぞれ支持された反転ホルダー２１を
有する反転ホルダー装置３で形成され、各反転ホルダー
２１が両側に被膜を付ける基体を挟持する手段あるいは
片側に被膜を付ける二つの基体を保持する手段を有し、
反転ホルダー２１あるいは回転軸２２に全ての反転ホル
ダーを同時に反転させるつまり裏返す反転手段が係合し
ていることによって解決されている。
【００１０】この発明による他の有利な構成は、特許請
求の範囲の従属請求項に記載されている。
求の範囲の従属請求項に記載されている。
【００１１】
【発明の実施の形態】この場合、この発明の有利な構成
は、反転手段が支持板から大きく飛び出した歯車リムを
有し、この歯車リムにそれぞれ一つの駆動歯車が嵌ま
り、この駆動歯車が反転ホルダーの回転軸および一時的
に回転できる他の相手の歯車リムに連結している点にあ
る。
は、反転手段が支持板から大きく飛び出した歯車リムを
有し、この歯車リムにそれぞれ一つの駆動歯車が嵌ま
り、この駆動歯車が反転ホルダーの回転軸および一時的
に回転できる他の相手の歯車リムに連結している点にあ
る。
【００１２】ここで重要なのは、少なくとも動作連結が
油圧あるいは空圧で行われ、この動作連結がコンピュー
タ制御部により制御されている点にある。この処置によ
り、反射防止膜を発生させる蒸着過程の間毎に、支持手
段上に挟持された基体の蒸着源に対向する面を蒸着し、
次いで、蒸着源を止めることなく、支持手段を基体と共
に急速に反転させ、この時に基体の蒸着源に対向する面
も同じように蒸着することができる。その後、新しい蒸
着過程内で他の反射防止膜を基体面に付けるため、蒸着
源を周期的に入替える。こうして、蒸着源の周期的な入
替えを半分に減らすことができ、加熱回数もそれだけ減
らせるので、蒸着材料が分解したり、亜酸化物が形成し
たり、それから生じる屈折率が変化する恐れを著しく低
減できる。
油圧あるいは空圧で行われ、この動作連結がコンピュー
タ制御部により制御されている点にある。この処置によ
り、反射防止膜を発生させる蒸着過程の間毎に、支持手
段上に挟持された基体の蒸着源に対向する面を蒸着し、
次いで、蒸着源を止めることなく、支持手段を基体と共
に急速に反転させ、この時に基体の蒸着源に対向する面
も同じように蒸着することができる。その後、新しい蒸
着過程内で他の反射防止膜を基体面に付けるため、蒸着
源を周期的に入替える。こうして、蒸着源の周期的な入
替えを半分に減らすことができ、加熱回数もそれだけ減
らせるので、蒸着材料が分解したり、亜酸化物が形成し
たり、それから生じる屈折率が変化する恐れを著しく低
減できる。
【００１３】
【実施例】以下、図面を参照して好適実施例に基づきこ
の発明をより詳しく説明する。図１に例示的に示す光学
基体、例えばここではプラスチックの眼鏡のガラス１０
上に反射防止膜を蒸着する真空成膜装置には、真空ポン
プ２で排気される真空容器１がある。
の発明をより詳しく説明する。図１に例示的に示す光学
基体、例えばここではプラスチックの眼鏡のガラス１０
上に反射防止膜を蒸着する真空成膜装置には、真空ポン
プ２で排気される真空容器１がある。
【００１４】この真空容器の上部空間領域には円形の支
持板２３の周りに多数（ここでは二つしか示していな
い）配置された反転ホルダー２１を備えたこの発明によ
る反転ホルダー装置３がある。これ等の反転ホルダー２
１は時折 180°ほど回転する回転軸２２に支持されてい
る。反転ホルダー２１の各々には両側に膜を付ける基体
を挟持する、あるいは片側に膜を付ける二つの基体を挟
持する手段（いずれも図示せず）がある。
持板２３の周りに多数（ここでは二つしか示していな
い）配置された反転ホルダー２１を備えたこの発明によ
る反転ホルダー装置３がある。これ等の反転ホルダー２
１は時折 180°ほど回転する回転軸２２に支持されてい
る。反転ホルダー２１の各々には両側に膜を付ける基体
を挟持する、あるいは片側に膜を付ける二つの基体を挟
持する手段（いずれも図示せず）がある。
【００１５】この発明による反転ホルダー装置３を以下
により詳しく説明する。真空容器１の下部領域には蒸着
源１００がある。この蒸着源はここでは加熱フィラメン
ト１５付きの所謂電子ビーム銃を備えている。熱により
フィラメントから出た電子は集束装置１６内でビーム状
に集束する。例えばこの電子ビームは負の高圧の印加す
るタンスグテン陰極から発生し、成形されたウェーネル
ト・シリンダで予備集束されている。この電子ビームは
偏向磁石手段１３により蒸着材料の存在する坩堝１７に
向けて偏向される。
により詳しく説明する。真空容器１の下部領域には蒸着
源１００がある。この蒸着源はここでは加熱フィラメン
ト１５付きの所謂電子ビーム銃を備えている。熱により
フィラメントから出た電子は集束装置１６内でビーム状
に集束する。例えばこの電子ビームは負の高圧の印加す
るタンスグテン陰極から発生し、成形されたウェーネル
ト・シリンダで予備集束されている。この電子ビームは
偏向磁石手段１３により蒸着材料の存在する坩堝１７に
向けて偏向される。
【００１６】排気された真空容器１内で移動させるべき
装置部品、例えばシャッター１４等を駆動ないしは操作
するため、外から真空室に達する操作部品（図示せず）
を備えた装置が必要である。このような真空成膜装置の
構造と機能は既に周知であるから、構造に関する詳しい
説明は省略する。ここで発明上重要なことは、先ず図２
から分かるような反転ホルダー装置３が円形支持板２３
の周りで半径方向に多数配置されている反転ホルダー２
１を有し、これ等の反転ホルダー２１が時折 180°ほど
回転する回転軸に支持されていて、各反転ホルダー２１
が両側に被膜を付ける基体を挟持する手段あるいは片側
に被膜を付ける二つの基体を保持する手段を有し、反転
ホルダー２１あるいは回転軸２２に全ての反転ホルダー
を同時に反転させる反転手段が係合している点にある。
装置部品、例えばシャッター１４等を駆動ないしは操作
するため、外から真空室に達する操作部品（図示せず）
を備えた装置が必要である。このような真空成膜装置の
構造と機能は既に周知であるから、構造に関する詳しい
説明は省略する。ここで発明上重要なことは、先ず図２
から分かるような反転ホルダー装置３が円形支持板２３
の周りで半径方向に多数配置されている反転ホルダー２
１を有し、これ等の反転ホルダー２１が時折 180°ほど
回転する回転軸に支持されていて、各反転ホルダー２１
が両側に被膜を付ける基体を挟持する手段あるいは片側
に被膜を付ける二つの基体を保持する手段を有し、反転
ホルダー２１あるいは回転軸２２に全ての反転ホルダー
を同時に反転させる反転手段が係合している点にある。
【００１７】この場合、反転手段は支持板２３から大幅
に突出した歯車リム２５を有し、この歯車リムにそれぞ
れ一つの駆動歯車２４が嵌まり、この駆動歯車が反転ホ
ルダー２１の回転軸２２および時として回転する他の相
手の歯車リム２６に動作連結している。従って、反転ホ
ルダー２１が基体と共に各駆動歯車リム２４により 180
°回転するまで、適当な時点で相手の歯車リム２６を歯
車リム２５に対して回転させることができる。これは、
数分の１秒で行われ、蒸着ビームを止める必要のないほ
ど早く行われる。
に突出した歯車リム２５を有し、この歯車リムにそれぞ
れ一つの駆動歯車２４が嵌まり、この駆動歯車が反転ホ
ルダー２１の回転軸２２および時として回転する他の相
手の歯車リム２６に動作連結している。従って、反転ホ
ルダー２１が基体と共に各駆動歯車リム２４により 180
°回転するまで、適当な時点で相手の歯車リム２６を歯
車リム２５に対して回転させることができる。これは、
数分の１秒で行われ、蒸着ビームを止める必要のないほ
ど早く行われる。
【００１８】上の説明から、このような装置に対して最
近の要請を全て満たす、光学基体に多数の反射膜を蒸着
する真空成膜装置が与えられる。上に説明した装置に付
いては、当然この発明の核心を逸脱することなしに一連
の改造が可能である。これは反転手段の構成や反転ホル
ダーあるいは基体を挟持する手段にも係わる。更に、動
作連結を油圧あるいは空圧で行い、これをコンピュータ
制御部で駆動することも多くのタイプが可能である。
近の要請を全て満たす、光学基体に多数の反射膜を蒸着
する真空成膜装置が与えられる。上に説明した装置に付
いては、当然この発明の核心を逸脱することなしに一連
の改造が可能である。これは反転手段の構成や反転ホル
ダーあるいは基体を挟持する手段にも係わる。更に、動
作連結を油圧あるいは空圧で行い、これをコンピュータ
制御部で駆動することも多くのタイプが可能である。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の真空成
膜装置により、全ての基体を同時に、しかも蒸着の流れ
を中断することなく早く反転させることのできる。その
ため、蒸着材料が分解したり、亜酸化物が形成したり、
それから生じる屈折率が変化する恐れを著しく低減でき
る。
膜装置により、全ての基体を同時に、しかも蒸着の流れ
を中断することなく早く反転させることのできる。その
ため、蒸着材料が分解したり、亜酸化物が形成したり、
それから生じる屈折率が変化する恐れを著しく低減でき
る。
【図１】 反転ホルダー装置上に多数の光学基体を蒸着
する真空成膜装置の模式縦断面図、
する真空成膜装置の模式縦断面図、
【図２】 図１の装置のこの発明による反転ホルダー装
置の拡大模式図。
置の拡大模式図。
１ 真空容器 ２ 真空ポンプ ３ 反転ホルダー装置 １０ 基体（眼鏡のガラス） １３ 偏向磁石手段 １４ シャッター １５ 加熱フィラメント １６ 集束装置 １７ 坩堝 ２１ 反転ホルダー ２２ 回転軸 ２３ 支持板 ２４ 駆動歯車 ２５ 歯車リム ２６ 相手の歯車リム １００ 蒸着源
Claims (3)
- 【請求項１】 排気可能な真空容器内の交換可能な蒸着
源の上または下にある支持手段に取り付けたプラスチッ
クの眼鏡のガラスのような光学基体の表面に反射膜を蒸
着する真空成膜装置において、 前記支持手段が円形の支持板（２３）の周りの半径方向
に多数配置され、時折180°回転する回転軸（２２）に
それぞれ支持された反転ホルダー（２１）を有する反転
ホルダー装置（３）で形成され、各反転ホルダー（２
１）が両側に被膜を付ける基体を挟持する手段あるいは
片側に被膜を付ける二つの基体を保持する手段を有し、
反転ホルダー（２１）あるいは回転軸（２２）に全ての
反転ホルダーを同時に反転させる反転手段が係合してい
ることを特徴とする真空成膜装置。 - 【請求項２】 反転手段は支持板（２３）から大きく突
出した歯車リム（２５）を有し、この歯車リム（２５）
には反転ホルダー（２１）の回転軸（２２）および時折
回転する他の相手の歯車リム（２６）に動作連結する駆
動歯車（２４）が嵌まっていることを特徴とする請求項
１に記載の真空成膜装置。 - 【請求項３】 動作連結は少なくとも油圧あるいは空圧
で行われ、この駆動連結はコンピュータ制御部により制
御されることを特徴とする請求項２に記載の真空成膜装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH19961198/96 | 1996-05-10 | ||
| CH01198/96A CH691306A5 (de) | 1996-05-10 | 1996-05-10 | Vakuum-Beschichtunsanlage zum Aufdampfen von Vergütungsschichten auf optische Substrate. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1068064A true JPH1068064A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=4204804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9117149A Pending JPH1068064A (ja) | 1996-05-10 | 1997-05-07 | 光学基体上に反射膜を蒸着する真空成膜装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0806493B1 (ja) |
| JP (1) | JPH1068064A (ja) |
| CN (1) | CN1130469C (ja) |
| CH (1) | CH691306A5 (ja) |
| DE (1) | DE59704351D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002097572A (ja) * | 2000-09-22 | 2002-04-02 | Olympus Optical Co Ltd | 基板ホルダー及び該基板ホルダーを用いた光学部品の製造方法 |
| JP2011063845A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-03-31 | Fujifilm Corp | ワーク反転ユニット |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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|---|---|
| EP0806493A3 (de) | 1997-11-26 |
| EP0806493A2 (de) | 1997-11-12 |
| CN1170774A (zh) | 1998-01-21 |
| CH691306A5 (de) | 2001-06-29 |
| EP0806493B1 (de) | 2001-08-22 |
| CN1130469C (zh) | 2003-12-10 |
| DE59704351D1 (de) | 2001-09-27 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
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|
| A02 | Decision of refusal |
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