JPH1068065A - 光学基体上に反射防止膜を蒸着する方法 - Google Patents
光学基体上に反射防止膜を蒸着する方法Info
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Abstract
蒸着器である蒸着源を何度も加熱することにより、蒸着
材料が分解したり、亜酸化物が形成したり、それから生
じる屈折率の変化を与える難点を排除する、排気可能な
真空容器内の交換可能な蒸着源の上または下にある支持
手段に取り付けたプラスチックの眼鏡のガラスのような
光学基体の表面に反射膜を蒸着する方法を提供する。 【解決手段】 蒸着過程の間毎に反射防止膜を発生させ
るため、支持手段に取り付けた基体の蒸着源に対向する
面を先ず蒸着し、次いで、蒸着源の動作を止めることな
く、支持手段を基体と共に急速に反転させ、つまり裏返
して、基体の蒸着源に対向する面も同じように蒸着し、
その後、新し蒸着過程の間に基体面に他の反射防止膜を
付けるため蒸着源を周期的に入れ替える。
Description
容器内の交換可能な蒸着源の上または下にある支持手段
に取り付けたプラスチックの眼鏡のガラスのような光学
基体の表面に反射膜を蒸着する方法に関する。
少なくとも一種の表面層を蒸着するこのような周知の全
ての方法では、予め与えられた数のこのような基体が通
常多数の層を蒸着した後、基体表面が交換可能な蒸着源
の作用に曝される面から外れ、もう一度同じ数の基体表
面がこの面に導入され、この面が以後一度あるいは数度
蒸着される。換言すれば、最初、基体の片側の表面に個
々の反射防止膜を順次蒸着し、次いで基体を反転させ
て、つまり裏返して他方の基板面を蒸着する。
何故なら、蒸着工程毎に蒸着源の電源を止めて、冷却し
た後に、新しい反射防止膜のために新しい蒸着源を使用
する必要がある。これは、反転させた基体の表面に蒸着
する場合に何時ももう一度繰り返し行われる。更に、例
えば電子ビーム蒸着器あるいは抵抗加熱による熱蒸着器
である蒸着源を何度も加熱することにより、蒸着材料が
分解したり、亜酸化物が形成したり、それから生じる屈
折率の変化を与える恐れが生じる。
に述べた難点を排除する冒頭の述べた種類の方法を提供
することにある。
により、排気可能な真空容器内の交換可能な蒸着源の上
または下にある支持手段に取り付けたプラスチックの眼
鏡のガラスのような光学基体の表面に反射膜を蒸着する
方法にあって、蒸着過程の間毎に反射防止膜を発生させ
るため、支持手段に取り付けた基体の蒸着源に対向する
面を先ず蒸着し、次いで、蒸着源の動作を止めることな
く、支持手段を基体と共に急速に反転させ、つまり裏返
して基体の蒸着源に対向する面も同じように蒸着し、そ
の後、新し蒸着過程の間に基体面に他の反射防止膜を付
けるため蒸着源を周期的に入れ替えることによって解決
されている。
求の範囲の従属請求項に記載されている。
入替えは半分に低減するので、加熱回数も半分になる。
これは蒸着材料が分解したり、亜酸化物が形成したり、
それから生じる屈折率の変化を与える恐れを著しく低減
する。好ましくは、全ての基体を同時に、しかも蒸着ビ
ームを止めることなく反転させる、つまり裏返す。
ダーで基体が遅く反転すると、反転時間内で蒸着ビーム
が一時的に旋回するシャッターに向かい、反転している
支持手段が基体と共に蒸着ビームに対して遮される。
の発明の方法をより詳しく説明する。図１に例示的に示
す光学基体、例えばここではプラスチックの眼鏡のガラ
ス１０上に反射防止膜を蒸着する真空成膜装置には、真
空ポンプ２で排気される真空容器１がある。
持板２３の周りに多数（ここでは二つしか示していな
い）配置された反転ホルダー２１を備えたこの発明によ
る反転ホルダー装置３がある。これ等の反転ホルダー２
１は時折 180°ほど回転する回転軸２２に支持されてい
る。反転ホルダー２１の各々には両側に膜を付ける基体
を挟持する、あるいは片側に膜を付ける二つの基体を挟
持する手段（いずれも図示せず）がある。
ある。この蒸着源はここでは加熱フィラメント１５付き
の所謂電子ビーム銃を備えている。熱によりフィラメン
トから出た電子は集束装置１６内でビーム状に集束す
る。例えばこの電子ビームは負の高圧の印加するタンス
グテン陰極から発生し、成形されたウェーネルト・シリ
ンダで予備集束されている。この電子ビームは偏向磁石
手段１３により蒸着材料の存在する坩堝１７に向けて偏
向される。
装置部品、例えばシャッター１４等を駆動ないしは操作
するため、外から真空室に達する操作部品（図示せず）
を備えた装置が必要である。このような真空成膜装置の
構造と機能は既に周知であるから、構造に関する詳しい
説明は省略する。ここで重要なことは、先ず反転ホルダ
ー２１あるいは回転軸２２に全ての反転ホルダーを同時
に回転させる回転手段が嵌まり点にある。これには、反
転手段が支持板２３から大きく突出した歯車リム２５を
有し、この歯車リム２５にそれぞれ一つの駆動歯車２４
が嵌まる。この駆動歯車２４は反転ホルダー２１の回転
軸２２と、一時的に回転する他の相手の歯車リム２６と
動作連結している。
駆動歯車リム２４により 180°回転するまで、適当な時
点で相手の歯車リム２６を歯車リム２５に対して回転さ
せることができる。これは、数分の１秒で行われ、蒸着
ビーム９９を止める必要のないほど早く行われる。その
ような装置で出来ることは、この発明により反射防止膜
を発生させる蒸着過程内でその都度、最初に支持手段上
に取り付けた基体の蒸着源に対向する面を蒸着し、次い
で、蒸着源を止めることなく、支持手段を基体と共に急
速に反転させ、基体の蒸着源に対向する面も同じように
蒸着し、その後、新しい蒸着過程の間に基体面に他の反
射防止膜を付けるため、蒸着源の周期的な入替えが行わ
れる点にある。
を半分に低減でき、それ故に加熱回数も同じように低減
できる。これは蒸着材料が分解したり、亜酸化物が形成
したり、それから生じる屈折率の変化を与える恐れを著
しく低減する。全ての基体を同時に、しかも蒸着ビーム
９９を止めることなく反転すると好ましい。これに反し
て、例えば図２のドーム状の反転ホルダーで基体がゆっ
くりと反転する場合には、基体１０を伴うドーム（プラ
ネタリウムとも言う）３３の反転時間の間に、反転装置
１９におり蒸着ビームが一時的に旋回可能なシャッター
１４に向き、そのため反転した支持手段が基体と共に蒸
着ビーム９９に対して遮蔽される。
より、基体に真空蒸着で反射防止膜を付ける場合、蒸着
材料が分解したり、亜酸化物が形成したり、それから生
じる屈折率の変化を与える恐れを著しく低減する。
する真空成膜装置の模式縦断面図、
図。
Claims (3)
- 【請求項１】 排気可能な真空容器内の交換可能な蒸着
源の上または下にある支持手段に取り付けたプラスチッ
クの眼鏡のガラスのような光学基体の表面に反射膜を蒸
着する方法において、 蒸着過程の間毎に反射防止膜を発生させるため、支持手
段に取り付けた基体の蒸着源に対向する面を先ず蒸着
し、次いで、蒸着源の動作を止めることなく、支持手段
を基体と共に急速に反転させ、基体の蒸着源に対向する
面も同じように蒸着し、その後、新し蒸着過程の間に基
体面に他の反射防止膜を付けるため蒸着源を周期的に入
れ替えることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 全ての基体は同時に、しかも蒸着ビーム
を中断することなく反転させることを特徴とする請求項
１に記載の方法。 - 【請求項３】 反転時間の間に蒸着ビームを一時的に旋
回可能なシャッターに向け、反転した支持手段を基体と
共に蒸着ビームに対して遮蔽することを特徴とする請求
項１に記載の方法。
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