CN102108486B - 镀膜机 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种镀膜机，其包括坩埚、电子枪、坩埚转动装置及承载板。坩埚及电子枪设于承载板上，坩埚用于装载为光学元件镀膜的蒸镀材料，电子枪用于加热坩埚内的蒸镀材料，坩埚转动装置驱动坩埚转动。镀膜机还包括盖板及盖板偏移装置，盖板盖于坩埚上方，且与坩埚之间存在高度差，留有供电子枪射线射入的间隙，盖板偏移装置驱动盖板以遮盖或露出坩埚。本发明提供的镀膜机可以在用电子枪对蒸镀材料进行预融时，利用盖板偏移装置驱动盖板遮盖坩埚，防止蒸镀材料的溅射；当用电子枪对蒸镀材料进行蒸发时，利用盖板偏移装置驱动盖板露出坩埚，进行蒸发镀膜，从而可以在一台设备中实现预融及镀膜，以加快产品的生产流程。

Description

镀膜机

技术领域

本发明涉及一种用于镀膜的镀膜机。

背景技术

现有的真空离子镀膜机主要利用电子枪将坩埚内的蒸镀材料进行加热，并将蒸镀材料蒸发到光学元件表面形成光学膜。而现有的蒸镀材料一般呈颗粒状，由于颗粒体积小，重量轻，所以在加热的过程中，某些颗粒会被喷溅出去，没有完全融化的颗粒会在光学元件表面产生污点，影响光学元件的质量。为了减少这种现象，一般需要预先在一个真空的预融机内利用电子枪将粒状的蒸镀材料融化成一体，然后再装入真空离子镀膜机中进行镀膜。但是，这种镀膜方式需要利用两个设备，而且每次镀膜都需要在两个设备间进行操作，由此将导致制作流程的加长，不利于提高产品的生产效率。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种高效的镀膜机。

一种镀膜机，其包括坩埚、电子枪、坩埚转动装置及承载板。所述坩埚及电子枪设于所述承载板上，所述坩埚用于装载为光学元件镀膜的蒸镀材料，所述电子枪用于加热所述坩埚内的蒸镀材料，所述坩埚转动装置驱动所述坩埚转动。所述镀膜机还包括盖板及盖板偏移装置，所述盖板盖于所述坩埚上方，且与所述坩埚之间存在高度差，留有供电子枪射线射入的间隙，所述盖板偏移装置驱动盖板以遮盖或露出所述坩埚。

本发明提供的镀膜机可以在用电子枪对蒸镀材料进行预融时，利用盖板偏移装置驱动盖板遮盖坩埚，防止蒸镀材料的溅射；当用电子枪对蒸镀材料进行蒸发时，利用盖板偏移装置驱动盖板露出坩埚，进行蒸发镀膜，从而可以在一台设备中实现预融及镀膜，以加快产品的生产流程。

附图说明

图1为本发明提供的镀膜机的示意图。

图2为图1的镀膜机的加热系统的组装图。

图3为图1的镀膜机的加热系统的分解示意图。

图4为图1的镀膜机的坩埚及坩埚转动装置的示意图。

主要元件符号说明

螺丝                      8

待镀膜镜片                9

镀膜机                    100

加热系统                  10

升降装置                  11

升降基座                  110

伸长部                    111

承载板转动装置            12

电机转轴                  121

电机主体                  122

承载板                    13

第一台阶孔                131

第二台阶孔                132

坩埚                      14

坩埚侧壁                  141

盛料槽                    141a

埚底                      142

突块                      142a

电子枪                    15

盖板                      16

盖板偏移装置              17

盖板转轴                  170

盖板支撑杆                171

坩埚转动装置              18

座体                      180

转动部                    181

凹槽                      181a

承载系统                  20

转动轴                    21

基板承载架                22

基板              23

离子源            30

真空镀膜室        40

底部              401

顶部              402

具体实施方式

请参阅图1，为本发明提供的镀膜机100，所述镀膜机100包括加热系统10、承载系统20、离子源30及真空镀膜室40。

所述真空镀膜室40包括底部401及顶部402。所述离子源30固定在所述真空镀膜室40的底部401，所述离子源30用于为蒸发的蒸镀材料提供动能，使得蒸镀材料吸附的更紧实。所述承载系统20包括转动轴21、基板承载架22及基板23。所述转动轴21正对所述离子源30安装在所述真空镀膜室40的顶部402，所述基板承载架22与所述转动轴21固定连接。本实施方式中采用螺丝将所述基板承载架22连接于所述转动轴21上。所述基板承载架22上装有多块基板23，所述基板23用于承载待镀膜镜片9。

请一并参阅图2及图3，所述加热系统10包括升降装置11、承载板转动装置12、承载板13、坩埚14、电子枪15、盖板16、盖板偏移装置17及坩埚转动装置18。所述升降装置11固定在所述真空镀膜室40的底部401，所述升降装置11位于所述离子源30一侧。本实施方式中，所述升降装置11采用气压缸。当然，所述升降装置11也可以采用液压缸或其他动力装置例如马达等。所述升降装置11包括升降基座110及伸长部111。所述升降基座110固定于所述真空镀膜室40的底部401，所述伸长部111能够相对所述升降基座110做升降运动。所述承载板转动装置12固定于所述升降装置11的伸长部111上。本实施方式中，所述承载板转动装置12是步进电机，包括电机转轴121及电机主体122。所述电机主体122固定连接于所述伸长部111上。

所述承载板13转动连接于所述承载板转动装置12上。本实施方式中，所述承载板13是一矩形板，通过螺丝8固定在电机转轴121上。沿所述承载板13的长度方向的两端开设有第一台阶孔131及第二台阶孔132。所述第一台阶孔131、第二台阶孔132分别用于固定一坩埚14于其中。其中第一台阶孔131及第二台阶孔132能够通过所述承载板转动装置12转动所述承载板13来改变或交换其位置，使得位于第一台阶孔131或第二台阶孔132中的坩埚14能够位于可以对待镀膜镜片9进行镀膜的位置。

本实施方式中，所述坩埚14是圆盘状。所述坩埚14包括坩埚侧壁141及埚底142。所述坩埚侧壁141围成一个用于盛放蒸镀材料的盛料槽141a。所述埚底142加工有四个突块142a(参图4)。所述四个突块142a沿所述坩埚14的圆周方向排列。

所述两个电子枪15固定于所述承载板13的一侧，分别对应所述第一台阶孔131及第二台阶孔132，向收容于所述第一台阶孔131及第二台阶孔132内的坩埚14发射射线。

所述盖板16的直径大于所述坩埚14的直径。所述盖板16遮盖所述坩埚14，防止所述坩埚14内的镀膜材料蒸发到基板承载架22上。所述盖板16与对应坩埚14之间留有间隙h，使得位于承载板13侧边的电子枪15的射线L可以顺利的射入坩埚14内。所述盖板16固定于所述盖板偏移装置17上。所述盖板偏移装置17位于所述承载板13两端，且与所述第一台阶孔131及第二台阶孔132相对应。所述盖板偏移装置17转动盖板16以遮盖或露出坩埚14。所述盖板偏移装置17可以是将所述盖板16偏转到坩埚14一侧的机构，也可以是将所述盖板16平移到坩埚14一侧的机构。本实施方式中，所述盖板偏移装置17包括盖板转轴170及盖板支撑杆171。所述盖板转轴170竖直立于所述承载板13一侧，所述盖板支撑杆171水平延伸到所述坩埚14上方，所述盖板16固定于所述盖板支撑杆171上。当需要露出所述坩埚14时，所述盖板转轴170水平转动，平移所述盖板16，以露出所述坩埚14。当需要遮盖所述坩埚14时，所述盖板转轴170水平转动，将所述盖板16平移到所述坩埚14上方。

所述坩埚转动装置18驱动所述坩埚14转动，以使坩埚14内的蒸镀材料被电子枪15均匀加热。所述坩埚转动装置18可以固定在所述承载板13上，也可以与所述承载板13分开设置。本实施方式中，所述坩埚转动装置18与所述承载板13分开设置，所述坩埚转动装置18固定于所述真空镀膜室40的底部401，位于所述承载板13的下方。所述坩埚转动装置18包括座体180及转动部181。所述转动部181上开设有四个与所述坩埚14的四个突块142a相对应的凹槽181a。所述升降装置11改变所述承载板13的高度，以使所述坩埚14能够承靠到所述坩埚转动装置18的转动部181上，被所述坩埚转动装置18转动。

当该镀膜机100镀第一批待镀膜镜片9时，先在所述基板23上装满所述待镀膜镜片9，在所述两个坩埚14内装入蒸镀材料，再将所述真空镀膜室40抽成真空。所述升降装置11改变所述承载板13的高度使所述坩埚14承靠到所述坩埚转动装置18的转动部181上，被所述坩埚转动装置18转动。所述盖板偏移装置17转动盖板16遮盖所述坩埚14，所述电子枪15加热所述坩埚14，使所述两个坩埚14中的蒸镀材料融化，由于有盖板16，所以蒸镀材料不会溅射到待镀膜镜片9上。当蒸镀材料融化后，盖板偏移装置17将位于第一台阶孔131上方的盖板16移开，露出所述坩埚14，并改变对应电子枪15的功率，利用位于第一台阶孔131的坩埚14中的蒸镀材料进行镀膜。当然，也可以是先使用位于第一台阶孔131的坩埚14中的蒸镀材料进行镀膜

当镀膜完成后，安装第二批待镀膜镜片9时，将第一台阶孔131内的坩埚14重新装入新的蒸镀材料，再次镀膜时，所述升降装置11增加所述承载板13的高度使所述坩埚14脱离所述坩埚转动装置18的转动部181，所述承载板转动装置12转动所述承载板13，交换所述第一台阶孔131及第二台阶孔132的位置，再利用所述升降装置11降低所述承载板13的高度使所述坩埚14承靠到所述坩埚转动装置18的转动部181上，利用所述坩埚转动装置18转动转动所述坩埚14。所述盖板偏移装置17将第二台阶孔132上的盖板16移开，将第一台阶孔131上的坩埚14遮盖。利用第二阶孔173上的坩埚14镀膜，对第一台阶孔131上的坩埚14内的镀膜材料进行融化，从而可以一边镀膜一边融化，节省下一次镀膜融化材料的时间，进一步提高生产效率。

本发明提供的镀膜机可以在用电子枪对蒸镀材料进行预融时，利用盖板偏移装置驱动盖板遮盖坩埚，防止蒸镀材料的溅射；当用电子枪对蒸镀材料进行蒸发时，利用盖板偏移装置驱动盖板露出坩埚，进行蒸发镀膜，从而可以在一台设备中实现预融及镀膜，以加快产品的生产流程。

可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (6)

1.一种镀膜机，其包括

坩埚，所述坩埚设于所述承载板上，所述坩埚的数量为两个，两个所述坩埚分别位于所述承载板两端，所述坩埚用于装载为光学元件镀膜的蒸镀材料，所述坩埚的底部设置有四个突块；

电子枪，所述电子枪用于加热所述坩埚内的蒸镀材料；

盖板，所述盖板盖于所述坩埚上方，且与所述坩埚之间存在高度差，留有供电子枪射线射入的间隙；

盖板偏移装置，所述盖板偏移装置驱动盖板以遮盖或露出所述坩埚；

坩埚转动装置，所述坩埚转动装置的数量为两个，两个所述坩埚转动装置分别位于两个所述坩埚的下方，两个所述坩埚转动装置分别用于驱动所述两个坩埚转动，所述坩埚转动装置与所述承载板分开设置，所述坩埚转动装置上开设有四个与所述突块相对应的凹槽；

升降装置，所述升降装置能够改变所述承载板的高度，以使所述坩埚承靠或脱离所述坩埚转动装置；以及

承载板转动装置，所述承载板转动装置固定于所述升降装置上，所述承载板转动装置用于转动所述承载板，使所述两个坩埚中其中任意一个坩埚位于为光学元件镀膜的位置。

2.如权利要求1所述的镀膜机，其特征在于，所述电子枪、盖板及盖板偏移装置的数量均为两个，两个所述盖板分别位于所述两个坩埚上方，两个所述盖板偏移装置分别能够移动两个盖板以遮盖或露出两个所述坩埚。

3.如权利要求1所述的镀膜机，其特征在于，所述坩埚转动装置是转动马达。

4.如权利要求1所述的镀膜机，其特征在于，所述承载板转动装置是步进电机。

5.如权利要求1所述的镀膜机，其特征在于，所述盖板偏移装置用于平移所述盖板，以遮盖或露出坩埚。

6.如权利要求1所述的镀膜机，其特征在于，所述盖板偏移装置用于偏转所述盖板，以遮盖或露出坩埚。

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