CN116770236A - 一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机 - Google Patents
一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116770236A CN116770236A CN202311025721.3A CN202311025721A CN116770236A CN 116770236 A CN116770236 A CN 116770236A CN 202311025721 A CN202311025721 A CN 202311025721A CN 116770236 A CN116770236 A CN 116770236A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coating
- fixedly connected
- cabinet
- gear
- optical lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 121
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 121
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 62
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 66
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 62
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 46
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 16
- 230000007306 turnover Effects 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 54
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 19
- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 70
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 52
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 52
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 11
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
本发明提供一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,涉及真空镀膜技术领域。该光学镜片镀膜用的真空镀膜机,包括镀膜柜,所述镀膜柜的内下壁中部固定连接有调节蒸发机构,所述镀膜柜的内左侧中部固定连接有下料机构,所述镀膜柜的内下壁中部右侧前端固定连接有盖板机构所述镀膜柜的内上部固定安装有旋转镀膜支架机构。通过带动光学镜片进行多维转动,使光学镜片在镀膜柜的内部进行镀膜时镀膜更加均匀,提高了光学镜片的镀膜效果,通过调节蒸发机构和下料机构配合,实现了多次少量的供料,避免一次性加热过多镀膜用的膜料造成膜料的浪费,且避免了大量的膜料在蒸发盒的内部造成上下受热不均匀,导致加热融化能源损耗率较大的问题。
Description
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域,具体为一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机。
背景技术
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法,包括真空电阻加热蒸发,电子枪加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等很多种。为了改变一些光学镜片的物理性质,一般也会使用真空镀膜机对光学镜片进行镀膜操作。
现有技术中,对光学镜片进行真空镀膜时,蒸发器产生的蒸汽离子在罩体的汇聚作用下逐渐附着在光学镜片的表面,在现有的真空镀膜机中,其镀膜支架虽能进行旋转,但是,蒸汽离子在镀膜柜内部不同位置分布的均匀度不一样,而现有的镀膜支架无法将装配在光学镜片槽内的光学镜片进行位置调节,导致镀膜时容易出现镀膜支架中部和边缘的光学镜片镀膜的厚度不均匀,而且,镀膜机的蒸发器为一次加料,镀膜膜料在开始时蒸发速度较慢,中期蒸发速度较快,导致光学镜片表面镀膜不均匀,且在中期蒸发速度快时,会造成镀膜膜料一定的浪费。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明提供了一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,解决了上述背景技术中提出的问题。
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,包括镀膜柜,所述镀膜柜的内下壁中部固定连接有调节蒸发机构,所述镀膜柜的内左侧中部固定连接有下料机构,所述镀膜柜的内下壁中部右侧前端固定连接有盖板机构,所述镀膜柜的后侧中部上下端均连通有真空泵,所述真空泵的后端均通过导管与控制柜的后端连通,所述镀膜柜和控制柜的下端均固定连接在移动底座的上端,所述镀膜柜的内上部固定安装有旋转镀膜支架机构。
优选的,所述调节蒸发机构包括支架盖,所述支架盖的内顶部转动连接有转盘,所述转盘的内底壁外周均匀分布有蒸发盒,所述转盘的下端转动连接在电机架的上端,所述电机架的内顶壁中部固定连接有减速电机,所述减速电机的上端驱动端固定连接有半齿轮,所述半齿轮的前端啮合连接有从动齿轮一,所述从动齿轮一的前端啮合连接有内外齿环,右侧所述蒸发盒的下端设置有电阻加热器一,右侧前端所述蒸发盒的下端设置有电阻加热器二。
优选的,所述支架盖和电机架以及电阻加热器一和电阻加热器二的下端均固定连接在镀膜柜的内下端中部,所述内外齿环的下端固定连接在转盘的内底壁中部,所述从动齿轮一的上端通过转杆转动连接在支架盖的上端中部前侧开口内。
优选的,所述下料机构包括储料仓,所述储料仓的上端通过铰链转动连接有仓盖,所述储料仓的下端中部开口内固定连接有下料管一,所述下料管一的下端固定连接在调节下料仓的左端中部开口内,所述调节下料仓的内中部转动连接有下料板,所述下料板的中部固定连接有驱动轴,所述驱动轴的下端外周转动连接有驱动齿轮一,所述调节下料仓的下端前侧开口内固定连接有下料管二。
优选的,所述储料仓的左端固定连接在镀膜柜的内左侧中部,所述驱动齿轮一的后端啮合连接在内外齿环的前端,所述驱动轴的中部外周通过轴承转动连接在支架盖的上端中部前侧开口内,所述下料管二的下端外周固定连接在支架盖的上端前侧开口内。
优选的,所述盖板机构包括摆缸,所述摆缸的下端固定连接在镀膜柜的内底壁前侧右端,所述摆缸的上端驱动端固定连接有连杆,所述连杆的后端下侧固定连接有圆盖板,所述圆盖板的下端位于右侧蒸发盒的上端。
优选的,所述旋转镀膜支架机构包括伺服电机,所述伺服电机的下端驱动端贯穿三角板的中部并固定连接有驱动齿轮二,所述驱动齿轮二的外周均啮合连接有从动齿轮二,所述从动齿轮二的外周均与内齿环的内周啮合连接,所述内齿环的外周固定连接有驱动仓,所述驱动仓的上端外周转动连接在限位座的内周,所述驱动仓的下端外周均匀分布有弧形杆,所述弧形杆的中部均转动连接有转轴,所述转轴的下端均固定连接在外齿盘的上端中部,所述外齿盘的内部均卡合连接有镀膜架,所述镀膜架的下端均匀分布有光学镜片夹口,所述外齿盘相靠近的一侧均与弧形齿盘的外周啮合连接,所述弧形杆的下端均固定连接在限位圈的上端外周。
优选的,所述伺服电机的下端固定连接在镀膜柜的上端中部,所述三角板和限位座的上端固定连接在镀膜柜的内顶壁中部,所述驱动齿轮二的下端固定连接在弧形齿盘的上端中部,所述弧形齿盘的上端转动连接在驱动仓的下端,所述限位圈的外周转动连接在镀膜柜的内中部。
本发明提供了一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机。具备以下有益效果:
本发明通过调节蒸发机构和下料机构配合,在蒸发盒间歇转动至电阻加热器二上端前,先通过电阻加热器一对蒸发盒内部的镀膜用膜料进行融化,再转动至电阻加热器二上端进行蒸发镀膜,实现了多次少量进行蒸发镀膜,避免了因前期镀膜用膜料蒸发速度慢,中期蒸发速度快而导致光学镜片下端因前中期的镀膜厚度不均匀的情况发生,并进一步降低了因镀膜厚度不均匀而影响光学镜片的透光率问题发生的概率。
本发明通过半齿轮间歇式转动,进而通过从动齿轮一、内外齿环带动驱动齿轮一和驱动轴以及下料板在调节下料仓的内部进行间歇式转动,对蒸发盒内部进行间歇式供料,实现了多次少量的供料,避免一次性加热过多镀膜用的膜料造成膜料的浪费。
本发明通过少量的膜料加热融化速度快,节省了镀膜时加热大量膜料的加热时间,提高了镀膜的效率,并且避免了大量的膜料在蒸发盒的内部造成上下受热不均匀,导致加热融化能源损耗率较大的问题。
本发明通过启动伺服电机,通过驱动齿轮二带动从动齿轮二转动,进而通过内齿环带动驱动仓转动,再而通过弧形杆、转轴和限位圈,带动镀膜架绕弧形齿盘进行公转,并同时通过驱动齿轮二带动弧形齿盘转动,进而通过外齿盘带动镀膜架进行自转,最终带动镀膜架下端的光学镜片夹口内部所有的光学镜片进行多维转动,使光学镜片在镀膜柜的内部进行镀膜时镀膜更加均匀,提高了光学镜片的镀膜效果。
附图说明
图1为本发明的关闭状态立体示意图其一;
图2为本发明的关闭状态立体示意图其二;
图3为本发明的打开状态立体示意图其一;
图4为本发明的打开状态立体示意图其二;
图5为本发明的旋转镀膜支架机构立体示意图;
图6为本发明的旋转镀膜支架机构爆炸立体示意图;
图7为本发明的镀膜蒸发组件立体示意图;
图8为本发明的镀膜蒸发组件爆炸立体示意图。
其中,1、镀膜柜;2、调节蒸发机构;21、支架盖;22、转盘;23、蒸发盒;24、电机架;25、减速电机;26、半齿轮;27、从动齿轮一;28、内外齿环;29、电阻加热器一;210、电阻加热器二;3、下料机构;31、储料仓;32、仓盖;33、下料管一;34、调节下料仓;35、下料板;36、驱动轴;37、驱动齿轮一;38、下料管二;4、盖板机构;41、摆缸;42、连杆;43、圆盖板;5、旋转镀膜支架机构;51、伺服电机;52、三角板;53、驱动齿轮二;54、从动齿轮二;55、内齿环;56、驱动仓;57、限位座;58、弧形杆;59、转轴;510、外齿盘;511、镀膜架;512、光学镜片夹口;513、弧形齿盘;514、限位圈;6、控制柜;7、真空泵;8、导管;9、移动底座。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例
如图1-8所示,本发明实施例提供一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,包括镀膜柜1,镀膜柜1的内下壁中部固定连接有调节蒸发机构2,镀膜柜1的内左侧中部固定连接有下料机构3,镀膜柜1的内下壁中部右侧前端固定连接有盖板机构4,镀膜柜1的后侧中部上下端均连通有真空泵7,真空泵7的后端均通过导管8与控制柜6的后端连通,镀膜柜1和控制柜6的下端均固定连接在移动底座9的上端,镀膜柜1的内上部固定安装有旋转镀膜支架机构5。
调节蒸发机构2包括支架盖21,支架盖21的内顶部转动连接有转盘22,转盘22的内底壁外周均匀分布有蒸发盒23,转盘22的下端转动连接在电机架24的上端,电机架24的内顶壁中部固定连接有减速电机25,减速电机25的上端驱动端固定连接有半齿轮26,半齿轮26的前端啮合连接有从动齿轮一27,从动齿轮一27的前端啮合连接有内外齿环28,右侧蒸发盒23的下端设置有电阻加热器一29,右侧前端蒸发盒23的下端设置有电阻加热器二210。
支架盖21和电机架24以及电阻加热器一29和电阻加热器二210的下端均固定连接在镀膜柜1的内下端中部,内外齿环28的下端固定连接在转盘22的内底壁中部,从动齿轮一27的上端通过转杆转动连接在支架盖21的上端中部前侧开口内。
下料机构3包括储料仓31,储料仓31的上端通过铰链转动连接有仓盖32,储料仓31的下端中部开口内固定连接有下料管一33,下料管一33的下端固定连接在调节下料仓34的左端中部开口内,调节下料仓34的内中部转动连接有下料板35,下料板35的中部固定连接有驱动轴36,驱动轴36的下端外周转动连接有驱动齿轮一37,调节下料仓34的下端前侧开口内固定连接有下料管二38。
储料仓31的左端固定连接在镀膜柜1的内左侧中部,驱动齿轮一37的后端啮合连接在内外齿环28的前端,驱动轴36的中部外周通过轴承转动连接在支架盖21的上端中部前侧开口内,下料管二38的下端外周固定连接在支架盖21的上端前侧开口内。
将光学镜片放置在镀膜架511下端的光学镜片夹口512内,再将镀膜架511放置在外齿盘510内部,打开仓盖32,向储料仓31的内部添加镀膜用的膜料,储料仓31内部镀膜用的膜料通过下料管一33下落至调节下料仓34内部下料板35和一侧开口内,关闭镀膜柜1前端的柜门,启动真空泵7,将镀膜柜1的内部抽至真空状态,启动减速电机25、电阻加热器一29以及电阻加热器二210,通过半齿轮26间歇带动从动齿轮一27转动,进而带动转盘22内部的蒸发盒23间歇式向右转动,并同时通过内外齿环28带动驱动轴36间歇转动,再通过下料板35间歇转动,进而将镀膜用的膜料间歇式通过下料管二38注入前侧的蒸发盒23内部,当装有镀膜用的膜料向右转动至电阻加热器二210的上方时,电阻加热器二210对镀膜用的膜料进行初步的加热融化,当装有融化后镀膜用的膜料蒸发盒23转动至电阻加热器二210的上端后,电阻加热器二210对融化后镀膜用的膜料继续加热至蒸发,在镀膜柜1的内部上升,附着在光学镜片夹口512内部的光学镜片下表面,形成镀膜层,通过调节蒸发机构2和下料机构3配合,在蒸发盒23间歇转动至电阻加热器二210上端前,先通过电阻加热器一29对蒸发盒23内部的镀膜用膜料进行融化,再转动至电阻加热器二210上端进行蒸发镀膜,实现了多次少量进行蒸发镀膜,避免了因前期镀膜用膜料蒸发速度慢,中期蒸发速度快而导致光学镜片下端因前中期的镀膜厚度不均匀的情况发生,并进一步降低了因镀膜厚度不均匀而影响光学镜片的透光率问题发生的概率,并通过半齿轮26间歇式转动,进而通过从动齿轮一27、内外齿环28带动驱动齿轮一37和驱动轴36以及下料板35在调节下料仓34的内部进行间歇式转动,对蒸发盒23内部进行间歇式供料,实现了多次少量的供料,避免一次性加热过多镀膜用的膜料造成膜料的浪费,且少量的膜料加热融化速度快,节省了镀膜时加热大量膜料的加热时间,提高了镀膜的效率,并且避免了大量的膜料在蒸发盒23的内部造成上下受热不均匀,导致加热融化能源损耗率较大的问题。
盖板机构4包括摆缸41,摆缸41的下端固定连接在镀膜柜1的内底壁前侧右端,摆缸41的上端驱动端固定连接有连杆42,连杆42的后端下侧固定连接有圆盖板43,圆盖板43的下端位于右侧蒸发盒23的上端。
旋转镀膜支架机构5包括伺服电机51,伺服电机51的下端驱动端贯穿三角板52的中部并固定连接有驱动齿轮二53,驱动齿轮二53的外周均啮合连接有从动齿轮二54,从动齿轮二54的外周均与内齿环55的内周啮合连接,内齿环55的外周固定连接有驱动仓56,驱动仓56的上端外周转动连接在限位座57的内周,驱动仓56的下端外周均匀分布有弧形杆58,弧形杆58的中部均转动连接有转轴59,转轴59的下端均固定连接在外齿盘510的上端中部,外齿盘510的内部均卡合连接有镀膜架511,镀膜架511的下端均匀分布有光学镜片夹口512,外齿盘510相靠近的一侧均与弧形齿盘513的外周啮合连接,弧形杆58的下端均固定连接在限位圈514的上端外周。
伺服电机51的下端固定连接在镀膜柜1的上端中部,三角板52和限位座57的上端固定连接在镀膜柜1的内顶壁中部,驱动齿轮二53的下端固定连接在弧形齿盘513的上端中部,弧形齿盘513的上端转动连接在驱动仓56的下端,限位圈514的外周转动连接在镀膜柜1的内中部。
当调节蒸发机构2和下料机构3对镀膜用膜料进行加热蒸发时,启动伺服电机51,通过驱动齿轮二53带动从动齿轮二54转动,进而通过内齿环55带动驱动仓56转动,再而通过弧形杆58、转轴59和限位圈514,带动镀膜架511绕弧形齿盘513进行公转,并同时通过驱动齿轮二53带动弧形齿盘513转动,进而通过外齿盘510带动镀膜架511进行自转,最终带动镀膜架511下端的光学镜片夹口512内部所有的光学镜片进行多维转动,使光学镜片在镀膜柜1的内部进行镀膜时镀膜更加均匀,提高了光学镜片的镀膜效果,镀膜完成后,关闭减速电机25、电阻加热器一29和电阻加热器二210,并启动摆缸41,通过连杆42带动圆盖板43运动至右侧蒸发盒23的上端,阻止镀膜用的膜料继续蒸发,并关闭伺服电机51,使光学镜片不再转动,通过真空泵7使镀膜柜1的内部恢复至正常气压,即可打开镀膜柜1,取出镀膜架511,完成光学镜片的镀膜。
工作原理:首先,将光学镜片放置在镀膜架511下端的光学镜片夹口512内,再将镀膜架511放置在外齿盘510内部,打开仓盖32,向储料仓31的内部添加镀膜用的膜料,储料仓31内部镀膜用的膜料通过下料管一33下落至调节下料仓34内部下料板35和一侧开口内,关闭镀膜柜1前端的柜门,启动真空泵7,将镀膜柜1的内部抽至真空状态,启动减速电机25、电阻加热器一29以及电阻加热器二210,通过半齿轮26间歇带动从动齿轮一27转动,进而带动转盘22内部的蒸发盒23间歇式向右转动,并同时通过内外齿环28带动驱动轴36间歇转动,再通过下料板35间歇转动,进而将镀膜用的膜料间歇式通过下料管二38注入前侧的蒸发盒23内部,当装有镀膜用的膜料向右转动至电阻加热器二210的上方时,电阻加热器二210对镀膜用的膜料进行初步的加热融化,当装有融化后镀膜用的膜料蒸发盒23转动至电阻加热器二210的上端后,电阻加热器二210对融化后镀膜用的膜料继续加热至蒸发,在镀膜柜1的内部上升,附着在光学镜片夹口512内部的光学镜片下表面,形成镀膜层,通过调节蒸发机构2和下料机构3配合,在蒸发盒23间歇转动至电阻加热器二210上端前,先通过电阻加热器一29对蒸发盒23内部的镀膜用膜料进行融化,再转动至电阻加热器二210上端进行蒸发镀膜,实现了多次少量进行蒸发镀膜,避免了因前期镀膜用膜料蒸发速度慢,中期蒸发速度快而导致光学镜片下端因前中期的镀膜厚度不均匀的情况发生,并进一步降低了因镀膜厚度不均匀而影响光学镜片的透光率问题发生的概率,并通过半齿轮26间歇式转动,进而通过从动齿轮一27、内外齿环28带动驱动齿轮一37和驱动轴36以及下料板35在调节下料仓34的内部进行间歇式转动,对蒸发盒23内部进行间歇式供料,实现了多次少量的供料,避免一次性加热过多镀膜用的膜料造成膜料的浪费,且少量的膜料加热融化速度快,节省了镀膜时加热大量膜料的加热时间,提高了镀膜的效率,并且避免了大量的膜料在蒸发盒23的内部造成上下受热不均匀,导致加热融化能源损耗率较大的问题,当调节蒸发机构2和下料机构3对镀膜用膜料进行加热蒸发时,启动伺服电机51,通过驱动齿轮二53带动从动齿轮二54转动,进而通过内齿环55带动驱动仓56转动,再而通过弧形杆58、转轴59和限位圈514,带动镀膜架511绕弧形齿盘513进行公转,并同时通过驱动齿轮二53带动弧形齿盘513转动,进而通过外齿盘510带动镀膜架511进行自转,最终带动镀膜架511下端的光学镜片夹口512内部所有的光学镜片进行多维转动,使光学镜片在镀膜柜1的内部进行镀膜时镀膜更加均匀,提高了光学镜片的镀膜效果,镀膜完成后,关闭减速电机25、电阻加热器一29和电阻加热器二210,并启动摆缸41,通过连杆42带动圆盖板43运动至右侧蒸发盒23的上端,阻止镀膜用的膜料继续蒸发,并关闭伺服电机51,使光学镜片不再转动,通过真空泵7使镀膜柜1的内部恢复至正常气压,即可打开镀膜柜1,取出镀膜架511,完成光学镜片的镀膜。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (8)
1.一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,包括镀膜柜(1),其特征在于:所述镀膜柜(1)的内下壁中部固定连接有调节蒸发机构(2),所述镀膜柜(1)的内左侧中部固定连接有下料机构(3),所述镀膜柜(1)的内下壁中部右侧前端固定连接有盖板机构(4),所述镀膜柜(1)的后侧中部上下端均连通有真空泵(7),所述真空泵(7)的后端均通过导管(8)与控制柜(6)的后端连通,所述镀膜柜(1)和控制柜(6)的下端均固定连接在移动底座(9)的上端,所述镀膜柜(1)的内上部固定安装有旋转镀膜支架机构(5)。
2.根据权利要求1所述的一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,其特征在于:所述调节蒸发机构(2)包括支架盖(21),所述支架盖(21)的内顶部转动连接有转盘(22),所述转盘(22)的内底壁外周均匀分布有蒸发盒(23),所述转盘(22)的下端转动连接在电机架(24)的上端,所述电机架(24)的内顶壁中部固定连接有减速电机(25),所述减速电机(25)的上端驱动端固定连接有半齿轮(26),所述半齿轮(26)的前端啮合连接有从动齿轮一(27),所述从动齿轮一(27)的前端啮合连接有内外齿环(28),右侧所述蒸发盒(23)的下端设置有电阻加热器一(29),右侧前端所述蒸发盒(23)的下端设置有电阻加热器二(210)。
3.根据权利要求2所述的一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,其特征在于:所述支架盖(21)和电机架(24)以及电阻加热器一(29)和电阻加热器二(210)的下端均固定连接在镀膜柜(1)的内下端中部,所述内外齿环(28)的下端固定连接在转盘(22)的内底壁中部,所述从动齿轮一(27)的上端通过转杆转动连接在支架盖(21)的上端中部前侧开口内。
4.根据权利要求1所述的一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,其特征在于:所述下料机构(3)包括储料仓(31),所述储料仓(31)的上端通过铰链转动连接有仓盖(32),所述储料仓(31)的下端中部开口内固定连接有下料管一(33),所述下料管一(33)的下端固定连接在调节下料仓(34)的左端中部开口内,所述调节下料仓(34)的内中部转动连接有下料板(35),所述下料板(35)的中部固定连接有驱动轴(36),所述驱动轴(36)的下端外周转动连接有驱动齿轮一(37),所述调节下料仓(34)的下端前侧开口内固定连接有下料管二(38)。
5.根据权利要求4所述的一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,其特征在于:所述储料仓(31)的左端固定连接在镀膜柜(1)的内左侧中部,所述驱动齿轮一(37)的后端啮合连接在内外齿环(28)的前端,所述驱动轴(36)的中部外周通过轴承转动连接在支架盖(21)的上端中部前侧开口内,所述下料管二(38)的下端外周固定连接在支架盖(21)的上端前侧开口内。
6.根据权利要求1所述的一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,其特征在于:所述盖板机构(4)包括摆缸(41),所述摆缸(41)的下端固定连接在镀膜柜(1)的内底壁前侧右端,所述摆缸(41)的上端驱动端固定连接有连杆(42),所述连杆(42)的后端下侧固定连接有圆盖板(43),所述圆盖板(43)的下端位于右侧蒸发盒(23)的上端。
7.根据权利要求1所述的一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,其特征在于:所述旋转镀膜支架机构(5)包括伺服电机(51),所述伺服电机(51)的下端驱动端贯穿三角板(52)的中部并固定连接有驱动齿轮二(53),所述驱动齿轮二(53)的外周均啮合连接有从动齿轮二(54),所述从动齿轮二(54)的外周均与内齿环(55)的内周啮合连接,所述内齿环(55)的外周固定连接有驱动仓(56),所述驱动仓(56)的上端外周转动连接在限位座(57)的内周,所述驱动仓(56)的下端外周均匀分布有弧形杆(58),所述弧形杆(58)的中部均转动连接有转轴(59),所述转轴(59)的下端均固定连接在外齿盘(510)的上端中部,所述外齿盘(510)的内部均卡合连接有镀膜架(511),所述镀膜架(511)的下端均匀分布有光学镜片夹口(512),所述外齿盘(510)相靠近的一侧均与弧形齿盘(513)的外周啮合连接,所述弧形杆(58)的下端均固定连接在限位圈(514)的上端外周。
8.根据权利要求7所述的一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机,其特征在于:所述伺服电机(51)的下端固定连接在镀膜柜(1)的上端中部,所述三角板(52)和限位座(57)的上端固定连接在镀膜柜(1)的内顶壁中部,所述驱动齿轮二(53)的下端固定连接在弧形齿盘(513)的上端中部,所述弧形齿盘(513)的上端转动连接在驱动仓(56)的下端,所述限位圈(514)的外周转动连接在镀膜柜(1)的内中部。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202311025721.3A CN116770236A (zh) | 2023-08-15 | 2023-08-15 | 一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202311025721.3A CN116770236A (zh) | 2023-08-15 | 2023-08-15 | 一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116770236A true CN116770236A (zh) | 2023-09-19 |
Family
ID=88008349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202311025721.3A Pending CN116770236A (zh) | 2023-08-15 | 2023-08-15 | 一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116770236A (zh) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0572964U (ja) * | 1992-03-17 | 1993-10-05 | ホーヤ株式会社 | 蒸着装置 |
JP2006045581A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-02-16 | Nec Kansai Ltd | 真空蒸着装置およびその装置を用いた真空蒸着方法 |
CN102108486A (zh) * | 2009-12-28 | 2011-06-29 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜机 |
CN108070825A (zh) * | 2016-11-07 | 2018-05-25 | 卡尔蔡司光学国际有限公司 | 真空蒸镀装置和真空涂覆方法 |
CN113909063A (zh) * | 2021-09-22 | 2022-01-11 | 上饶市桐宇光电科技有限公司 | 一种光学镜片加工用镀膜装置 |
CN115786867A (zh) * | 2023-02-08 | 2023-03-14 | 江苏浩纳光电股份有限公司 | 一种光学镜片真空镀膜设备及使用方法 |
-
2023
- 2023-08-15 CN CN202311025721.3A patent/CN116770236A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0572964U (ja) * | 1992-03-17 | 1993-10-05 | ホーヤ株式会社 | 蒸着装置 |
JP2006045581A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-02-16 | Nec Kansai Ltd | 真空蒸着装置およびその装置を用いた真空蒸着方法 |
CN102108486A (zh) * | 2009-12-28 | 2011-06-29 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜机 |
CN108070825A (zh) * | 2016-11-07 | 2018-05-25 | 卡尔蔡司光学国际有限公司 | 真空蒸镀装置和真空涂覆方法 |
CN113909063A (zh) * | 2021-09-22 | 2022-01-11 | 上饶市桐宇光电科技有限公司 | 一种光学镜片加工用镀膜装置 |
CN115786867A (zh) * | 2023-02-08 | 2023-03-14 | 江苏浩纳光电股份有限公司 | 一种光学镜片真空镀膜设备及使用方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105543792A (zh) | 磁控溅射装置及磁控溅射方法 | |
CN208201099U (zh) | 一种蒸镀用修正装置 | |
CN101634012B (zh) | 一种用于表面防护的离子束辅助磁控溅射沉积方法 | |
CN116770236A (zh) | 一种光学镜片镀膜用的真空镀膜机 | |
CN113186499A (zh) | 高能脉冲电弧蒸发源 | |
CN111647867A (zh) | 一种真空镀膜机磁控溅射控制机构 | |
CN209276623U (zh) | 一种全方位镀膜装置 | |
CN103866241B (zh) | 一种离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置 | |
CN216378359U (zh) | 可调节角度的电子枪蒸发镀膜机 | |
CN102108486B (zh) | 镀膜机 | |
CN210886215U (zh) | 一种多工位式连续式真空镀膜设备 | |
CN220812606U (zh) | 一种真空镀膜机的翻转机构 | |
CN217809637U (zh) | 一种高效的物理气相薄膜沉积设备 | |
CN202181344U (zh) | 真空镀膜装置 | |
CN216274350U (zh) | 一种镀膜机用升降式基片台 | |
CN213172553U (zh) | 一种真空镀膜机的传动系统 | |
CN204369970U (zh) | 一种可磁控溅射真空蒸镀系统 | |
CN113265622A (zh) | 一种真空蒸镀机的修正板系统 | |
CN108277468B (zh) | 一种带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法 | |
CN219342272U (zh) | 一种空间便于调节的真空镀膜机 | |
CN115287616B (zh) | 一种大面积13c同位素靶的制备方法 | |
CN213113466U (zh) | 一种高真空碘化铯物理气相沉积镀膜设备 | |
CN221051982U (zh) | 一种使工件均匀受热的真空镀膜设备 | |
CN217077773U (zh) | 一种双离子束共溅射纳米膜装置 | |
CN218842319U (zh) | 一种多工位连续式真空镀膜设备 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |