JP2006111952A - 成膜装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 より小型な構成でワークの姿勢を変化させること。
【解決手段】 真空槽2内で基板Pの表面に成膜を行うものであって、自転運動する自転車11と、基板Pを保持する基板保持部12と、該基板保持部12を自転車11に連動可能に連結する連結部材13とを有する自転機構3と、該自転機構3を揺動可能に支持する支持機構4と、自転車11と接触する案内面を有する案内部材5とを備え、連結部材13が、自転車11が案内面に接触しうる所定の2点からの距離が異なる点で、自転車11に連結されている成膜装置1を提供する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、真空槽内で基板表面に膜を成膜する成膜装置に関するものである。
従来、真空槽内で基板表面に膜を成膜する装置の中には、真空槽内に回転軸を配置し、回転軸の片端に摩擦車を設けると共に他端に被蒸着ワークを取り付け、摩擦車を真空槽内の円形走路上を走行させることで、回転軸を摩擦車の走行方向に公転させ、同時に回転軸が回転することから他端に取り付けられた被蒸着ワークが自転公転するようにしたものがあった。
しかし、被蒸着ワークが球状等で蒸発源に対するワークの姿勢が一定の場合、蒸着物質の入射角度が同一ワーク内で異なるため、均一な膜厚分布が得られないという問題があった。
そのような課題を解決するために、摩擦車が走行する走路を凹凸状の連続曲線からなる高低差をもつ環状走路とすることで、蒸発源に対するワークの姿勢を変化させ、均一な成膜を可能とする技術が特許文献1に記載されている。
特開平10−287976号公報
しかしながら、被蒸着ワークの曲率が大きくなると、蒸発源に対するワークの姿勢をより大幅に変化させる必要がある。この場合、上記特許文献1記載の従来の装置では、摩擦車が走行する凹凸の変化をより大きくせねばならない。従って、環状走路を大型化、ひいては真空槽や装置全体をも大型化する必要性があった。
この発明は、上記従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、より小型な構成でワークの姿勢を変化させることができる成膜装置を提供することである。
上記の目的を達成するために、この発明は以下の手段を提供している。
請求項1に係る発明は、真空槽内で基板表面に成膜を行う成膜装置であって、自転運動する自転車と、前記基板を保持する基板保持部と、該基板保持部を自転車に連動可能に連結する連結部材とを有する自転機構と、該自転機構を揺動可能に支持する支持機構と、前記自転車と接触する案内面を有する案内部材とを備え、前記連結部材が、前記自転車が前記案内面に接触しうる所定の2点からの距離が異なる点で、自転車に連結されている成膜装置を提供する。
この発明に係る成膜装置においては、連結部材が、自転車が案内面に接触しうる所定の2点からの距離が異なる点で自転車に連結しているので、自転車の自転に伴って、連結部材と自転車との連結点と、自転車と案内面との接触点との距離が変化する。また、自転機構は、支持機構により支持されているので、連結部材は上記距離が変化すると、支持機構による支持部(支持ポイント)を支点として揺動運動する。
これにより、基板保持部には、支持部(支持ポイント)を支点とした揺動運動が発生する。従って、基板保持部に保持された基板(ワーク)にも支持部(支持ポイント)を支点とした揺動運動をさせることができる。よって、小型な構成で基板の姿勢を変化させることができる。
請求項2に係る発明は、請求項1記載の成膜装置において、前記自転車が、円又は楕円である成膜装置を提供する。
この発明に係る成膜装置においては、自転車が円又は楕円であるので、自転車を案内面と接触した状態で自転運動させることができる。
請求項3に係る発明は、請求項2記載の成膜装置において、前記所定の2点からの距離が異なる点が、前記円又は楕円の中心から偏心した点である成膜装置を提供する。
この発明に係る成膜装置においては、連結部材を円形又は楕円の自転車の中心から偏心した位置に取り付けることで、自転車が案内面に接触しうる所定の2点からの距離が異なる点で連結部材を自転車に連結することができる。
請求項4に係る発明は、請求項1記載の成膜装置において、前記自転機構を、前記真空槽内において所定の軸を中心に公転運動させる公転機構を備えている成膜装置を提供する。
この発明に係る成膜装置においては、公転機構による公転運動をさらに加えることができるので、真空槽内において基板に、より複雑な運動を行わせることができる。
請求項5に係る発明は、請求項1記載の成膜装置において、前記案内面が、平面である成膜装置を提供する。
この発明に係る成膜装置においては、案内面が平面であるので、自転車が同一平面上を回転する。
本発明に係る成膜装置によれば、基板保持部に保持された基板(ワーク)に支持部(支持ポイント)を支点とした揺動運動をさせることができるので、より小型な構成で基板の姿勢を変化させることができる。
以下、本発明に係る成膜装置の第1実施形態について、図1から図5を参照して説明する。
本実施形態の成膜装置1は、図1に示すように、真空槽2内で基板Pの表面に成膜を行うものであって、自転機構3と、該自転機構3を揺動可能に支持する支持アーム(支持機構)4と、後述する自転車11と接触する案内面を有する案内部材5とを備えている。
上記真空槽2内には、膜材料10、上記自転機構3及び上記案内部材5が配置されている。自転機構3は、支持ポイント(支持部)である点Aにおいて上記支持アーム4に揺動運動可能に支持されている。
また、自転機構3は、図2に示すように、自転運動可能な自転車11と、成膜対象物である基板Pを保持する基板保持部12と、該基板保持部12を自転車11に運動可能に連結している連結部材13とから構成されている。
上記案内部材5は、図1に示すように、真空槽2内に固定され、自転車11と接触する案内面を有している。このとき、自転機構3の重心と点Aとの相対位置関係によっては、自転車11を案内部材5に押圧する押圧手段が必要になる場合があるが、ここでは仮に相対位置関係が適切であるとして説明を省略する。
更に、連結部材13は、自転車11が案内部材5の案内面に接触しうる部分のうち、所定の2点からの距離が異なる点Lで、自転車11に連結している。
即ち、自転車11の自転により、自転車11と案内面との接触点から、自転車11と連結部材13との連結点である連結点Lへの距離が変動するように構成されている。この連結点Lは、次のように設定することができる。例えば、自転車11が円形である場合は、図3に示すように、自転車11の中心を避けて(中心から偏心させて)連結点Lを設定する。このように構成することにより、自転車11が案内部材5の案内面に接触しうる部分のうち所定の2点(M、N)から連結点Lへの距離が異なることになる。
こうように構成された成膜装置1により、基板Pに成膜を行う場合について以下に説明する。
まず、基板保持部12に成膜対象物となる基板Pを取り付ける。ここで、基板Pの例としては、図4に示すように、例えば、(a)方形平板、(b)円形平板、(c)凸面基板、(d)凹面基板、(e)角柱等があるが、これらに限定されるものではない。
次に、真空槽2を密閉し、図示しないポンプ等の手段を用いて所定の圧力まで真空槽2内を減圧して、成膜を開始する。本実施形態では、膜材料10を電子銃等の手段で加熱し、基板Pに向けて蒸発させる真空蒸着により成膜を行うこととする。
蒸着が開始すると、自転機構3は、モータやギア等からなる図示しない動力機構により、自転運動を開始する。ここで、連結部材13は、自転車11が案内部材5の案内面に接触しうる部分のうち所定の2点からの距離が異なる点Lで、自転車11と連結している。よって、自転車11の自転により、自転車11と案内面との接触点から自転車11と連結部材13との連結点である連結点Lへの距離が変動する。従って、連結部と自転車11とが連結する点Lは、図5に示すように点Aを支点として上下方向に揺動されることになる。
即ち、連結部及び基板保持部12を介して、基板保持部12に保持された基板Pにも、点Aを支点とした揺動運動をさせることができる。これにより、小型な装置構成でワークの姿勢を変化させることができる。
次に、上記第1実施形態の第1の変形例を、図6を参照して説明する。
本変形例は、第1実施形態に比べて、円形状の自転車11の径を増加させ、また、連結点Lの中心からの偏心量を増加させている。このように構成することで、自転車11が案内面との接触する点から連結点Lへの距離の変動幅を増加させることができる。
なお、本変形例では、変動幅の増加は、円形状の自転車11の径を増加させることと、連結点Lの中心からの偏心量を増加させることとを同時に行っているが、少なくとも一方を行えば、変動幅を増加させることが可能である。
このような構成にすることで、簡単な構成でさらに大きな揺動範囲を得ることができ、より複雑な形状の成膜対象物に対しても成膜を行うことができる。なお、自転車11の回転方向における案内部材5の幅は、自転車11の幅及び傾きによる接触位置のズレを考慮して十分な大きさを有していることが望ましい。
次に、上記第1実施形態の第2の変形例を、図7を参照して説明する。
本変形例は、案内部材5に対する点Aの高さが、第1実施形態に比べて低い位置になるように構成している。このとき、自転機構3は、図7に示すように、下向きを中心とした揺動範囲を有することになる。即ち、案内部材5と支点Aとの相対的な高さを変化させることで、形状に応じた所望の揺動範囲を与えることができる。
なお、これについては、最初から所定の相対的な高さ関係を持つように装置を構成しても良いし、案内部材5と支持アーム4との少なくとも一方に相対高さ調整のための機構を設けるようにしても良い。
次に、上記第1実施形態の第3の変形例を、図8を参照して説明する。
本変形例は、自転車11と基板保持部12とが、支持点Aに対して同じ側に位置するように構成されている。これにより、基板P及び基板保持部12の質量を、自転車11と案内部材5とを接触させるために利用することができるので、上述したような自転機構3の重心と点Aとの相対位置関係を適切に設定したり、押圧手段を付加したりする必要性が無くなる。
次に、上記第1実施形態の第4の変形例を、図9及び図10を参照して説明する。
本変形例は、第1実施形態における自転車11の形状を楕円にしたものである。図9では、連結点Lを楕円の中心に設定しているが、実際にはどの点に設定しても、自転車11が案内部材5の案内面に接触しうる部分のうちの所定の2点(M’、N’)から、連結点Lへの距離を異ならせることができる。
従って、図10に示すように、基板Pを揺動させることが可能となる。また、特に、図9に示すように、連結点Lを楕円の中心に設定した場合には、1回の自転で2回の揺動を行うことができる。
次に、本発明に係る成膜装置1の第2実施形態を、図5、図11及び図12を参照して説明する。なお、この第2実施形態においては、第1実施形態における構成要素と同一の部分については、同一の符号を付しその説明を省略する。
本実施形態の成膜装置20においては、図11に示すように、自転機構3が支持アーム4を介して公転機構21に連結されており、公転機構21によって自転機構3を、真空槽2内において軸X(所定の軸)を中心に(軸に)公転運動させることができる。
また、本実施形態においては、案内部材5は、図12に示すように、真空槽2内に固定され、軸Xを中心とした環状部材となっている。この案内部材5は、自転車11と接触することで自転機構3の公転運動を案内すると共に、該公転運動に伴って生じる摩擦により、自転車11を回転させることができる案内面を有している。
このように構成された成膜装置20により基板Pに成膜を行う場合について、以下に説明する。
まず、基板保持部12に成膜対象物となる基板Pを取り付ける。次に、真空槽2を密閉し、図示しないポンプ等の手段を用いて所定の圧力まで真空槽2内を減圧して、成膜を開始する。本実施形態では、膜材料10を電子銃等の手段で加熱し、基板Pに向けて蒸発させる真空蒸着により成膜を行うこととする。
蒸着が開始すると、公転機構21により支持アーム4が軸Xを中心として回転する。自転機構3は、支持アーム4と接続されているので、支持アーム4の回転に伴って、軸Xを中心とした公転運動を開始する。更に、自転機構3の自転車11が、案内部材5との摩擦により回転運動(自転運動)するので、連結部材13及び基板保持部12も公転運動とは異なる第2の回転運動を開始することとなる。
ここで、連結部材13は、第1実施形態と同様に、自転車11が案内部材5の案内面に接触しうる部分のうち所定の2点(M、N)から距離が異なる点Lで自転車11と連結しているので、連結部と自転車11とが連結する点Lは、図5に示すように点Aを支点として上下方向に揺動させることになる。即ち、連結部、基板保持部12及び該基板保持部12に保持された基板Pも、点Aを支点とした揺動運動することになる。
従って、基板Pは、真空槽2内で公転運動、自転運動及び揺動運動をすることになるので、さらに複雑な揺動運動をすることになる。従って、複雑形状の基板Pにも、所望の成膜を行うことが可能になる。
なお、自転車11の自転は、案内面との摩擦によるものでなくても構わない。
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記各実施形態では、成膜方法を真空蒸着方法として説明を行ったが、所定の場所から膜材料10を発散させ、基板P上に堆積させる様々な成膜装置、例えば、スパッタリング方法や、噴霧により基板P上をコーティングする塗装装置等にも利用できる。
また、成膜対象物となる基板Pの形状を特に限定するものではないが、蒸発源からの距離が被成膜面内で異なる面を持つもの、複雑な形状の表面上に略均一に成膜を行うことが要求されるレンズやプリズム等の光学部品に成膜を行う場合に、本発明が有効であることは言うまでもない。
また、本実施形態は、以下のような変形を加えることが可能である。
例えば、基板保持部12が複数の基板Pを保持できるようになっていても構わないし、自転機構3が真空槽2内に複数設けられていても構わない。また、自転車11の形状は、摩擦面と接触させた状態で回転させることが容易である円や楕円に類する形状や、ギア等による嵌合駆動系であることが望ましい。また、案内部材5の案内面は、軸Xと垂直に交わっていなくても構わない。更に、膜材料10は、軸Xに対して偏心した位置にあっても本発明の効果を妨げることはない。
本発明に係る成膜装置の第1実施形態の構成図である。 図1に示す成膜装置の自転機構の構成図である。 図1に示す成膜装置の自転車と連結部材との関係を示す図である。 図1に示す成膜装置で使用される基板の一例を示す図であって、(a)は方形平板、(b)は円形平板、(c)は凸面基板、(d)は凹面基板、(e)は角柱の場合である。 図1に示す成膜装置により、基板を点Aを支点として揺動運動させている状態を示す図であって、(a)は自転車が案内面と所定の2点のうち点Nで接触している状態、(b)は点Mで接触している状態を示す図である。 本発明に係る成膜装置の第1実施形態の第1の変形例を示す図であって、図1に示す成膜装置に比べて自転車及び偏心量が増加している成膜装置により、基板を点Aを支点として揺動運動させている状態を示すものであり、(a)は自転車が案内面と所定の2点のうち点Nで接触している状態、(b)は点Mで接触している状態を示す図である。 本発明に係る成膜装置の第1施形態の第2の変形例を示す図であって、図1に示す成膜装置に比べて点Aの高さが低い成膜装置により、基板を点Aを支点として揺動運動させている状態を示すものであり、(a)は自転車が案内面と所定の2点のうち点Nで接触している状態、(b)は点Mで接触している状態を示す図である。 本発明に係る成膜装置の第1施形態の第3の変形例を示す図であって、図1に示す成膜装置に比べて自転車と基板保持部とが同一側に位置している成膜装置により、基板を点Aを支点として揺動運動させている状態を示す図である。 本発明に係る成膜装置の第1実施形態の第4変形例を示す図であって、自転車と連結部材との関係を示す図である。 図9に示す成膜装置により、基板を点Aを支点として揺動運動させている状態を示す図であって、(a)は自転車が案内面と所定の2点のうち点N’で接触している状態、(b)は点M’で接触している状態を示す図である。 本発明に係る成膜装置の第2実施形態の構成図である。 図11に示す断面矢視B−B図である。
符号の説明
P 基板
M、N、M’、N’ 所定の2点
X 所定の軸
1、20 成膜装置
2 真空槽
3 自転機構
4 支持アーム(支持機構)
5 案内部材
11 自転車
12 基板保持部
13 連結部材
21 公転機構




Claims (5)

  1. 真空槽内で基板表面に成膜を行う成膜装置であって、
    自転運動する自転車と、前記基板を保持する基板保持部と、該基板保持部を自転車に連動可能に連結する連結部材とを有する自転機構と、
    該自転機構を揺動可能に支持する支持機構と、
    前記自転車と接触する案内面を有する案内部材とを備え、
    前記連結部材は、前記自転車が前記案内面に接触しうる所定の2点からの距離が異なる点で、自転車に連結されていることを特徴とする成膜装置。
  2. 請求項1記載の成膜装置において、
    前記自転車は、円又は楕円であることを特徴とする成膜装置。
  3. 請求項2記載の成膜装置において、
    前記所定の2点からの距離が異なる点は、前記円又は楕円の中心から偏心した点であることを特徴とする成膜装置。
  4. 請求項1記載の成膜装置において、
    前記自転機構を、前記真空槽内において所定の軸を中心に公転運動させる公転機構を備えていることを特徴とする成膜装置。
  5. 請求項1記載の成膜装置において、
    前記案内面は、平面であることを特徴とする成膜装置。

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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