JP2008056952A - 斜方蒸着装置、斜方蒸着方法及び液晶装置の製造方法 - Google Patents
斜方蒸着装置、斜方蒸着方法及び液晶装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008056952A JP2008056952A JP2006232024A JP2006232024A JP2008056952A JP 2008056952 A JP2008056952 A JP 2008056952A JP 2006232024 A JP2006232024 A JP 2006232024A JP 2006232024 A JP2006232024 A JP 2006232024A JP 2008056952 A JP2008056952 A JP 2008056952A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- substrate
- vapor
- oblique
- film thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Abstract
【課題】広がりのある被蒸着物の基板に対して斜方蒸着する場合、簡単な装置により必要な基板表面の膜厚・蒸着角特性を有する斜方蒸着膜を基板面全体にわたって形成すること、特に膜厚を均一な状態で蒸着する。
【解決手段】基板2を蒸着源1に対して、基板面の法線が基板2の中心と蒸着源1の中心を結ぶ基準線に対し規定の角度をなすように傾斜させ、基板表面に蒸着を行う斜方蒸着装置である。基準線と交差し蒸着物質の蒸気が流通可能な蒸気流通面4に流通密度制御手段を設け、蒸気流通面4の各位置を通過する蒸気流は、蒸着源1から基板2までの距離が近いほど流通密度が小さく、遠いほど流通密度が大きくなるように制御される。流通密度制御手段は、蒸気流通面4において回転する膜厚調整板51である。
【選択図】図2
【解決手段】基板2を蒸着源1に対して、基板面の法線が基板2の中心と蒸着源1の中心を結ぶ基準線に対し規定の角度をなすように傾斜させ、基板表面に蒸着を行う斜方蒸着装置である。基準線と交差し蒸着物質の蒸気が流通可能な蒸気流通面4に流通密度制御手段を設け、蒸気流通面4の各位置を通過する蒸気流は、蒸着源1から基板2までの距離が近いほど流通密度が小さく、遠いほど流通密度が大きくなるように制御される。流通密度制御手段は、蒸気流通面4において回転する膜厚調整板51である。
【選択図】図2
Description
本発明は、基板表面に液晶配向膜等の斜方蒸着膜を形成するのに好適な斜方蒸着装置、該斜方蒸着装置を使用した斜方蒸着方法、及び該斜方蒸着方法にて形成した無機配向膜を有する液晶装置の製造方法に関する。
画像表示を行う液晶装置の製造において、基板表面に液晶配向膜等の蒸着膜が形成されている。基板等の被蒸着物の表面に蒸着膜を形成する方法として斜方蒸着法がある。斜方蒸着法は、蒸着物質を被蒸着物の表面に対し斜めに導入することで、被蒸着物の表面に所定方向に配向した蒸着物質の柱状構造物(カラム)を形成することが可能な蒸着方法である。具体的には、特許文献1に記載されているような所定の蒸着装置を用いて行われる。
特開平08−136932号公報
しかしながら、上記特許文献1に開示されている斜方蒸着法においては、被蒸着物である基板上の位置によって蒸着角θ及び膜厚Tが異なるという問題がある。
本発明の目的は、広がりのある被蒸着物の基板に対して斜方蒸着する場合、簡単な装置により必要な基板表面の膜厚・蒸着角特性を有する斜方蒸着膜を基板面全体にわたって形成すること、特に膜厚を均一な状態で蒸着することにある。
上記課題を解決するため、本発明は、蒸着源と基板の間に、蒸着源から基板までの距離に応じて蒸気の流通密度に変化を与える流通密度制御手段を設置したものである。
本発明の斜方蒸着装置は、基板を蒸着源に対して、基板面の法線が前記基板の中心と前記蒸着源の中心を結ぶ基準線に対し規定の角度をなすように傾斜させ、基板表面に蒸着を行う斜方蒸着装置において、前記基準線と交差し蒸着物質の蒸気が流通可能な蒸気流通面に流通密度制御手段を設け、前記蒸気流通面の各位置を通過する蒸気流は、前記蒸着源から前記基板までの距離が近いほど流通密度が小さく、遠いほど流通密度が大きくなるように制御されることを特徴とする。
本発明により、蒸着源と基板との距離が基板の表面における位置によって著しく異なる斜方蒸着において、装置を巨大化させず簡単な装置により基板表面に均一な膜厚の斜方蒸着膜を形成することができる。
本発明の斜方蒸着装置を液晶装置の基板表面に無機配向膜を蒸着する場合に応用すれば、配向膜の配向特性である膜厚の不均一に起因する液晶の配向不良が生じにくい。さらに、このような液晶装置を表示装置として使用した場合、液晶の配向不良に起因するコントラストの低下が少ない高品位の画像を表示することができる。
以下、本発明の斜方蒸着装置、斜方蒸着方法、及び液晶装置の製造方法について、図面を参照しつつその実施形態を説明する。
本発明は、斜方蒸着においてプレチルト角の変動要因である蒸着角と膜厚のうち、膜厚という他方の要因を固定したものである。一方の要因である蒸着角に関しては、液晶装置において、これを一定にしなくても一対の基板の相対的な配置により実質的に蒸着角のばらつきの影響を除くことができる。まず、その理由を説明する。
互いに対向する一対の基板間に液晶層が挟持され、各基板の液晶層側の表面に反射電極もしくは透明電極を有し、その表面に無機配向膜が形成された構成の液晶装置を形成する場合である。
図9は、本発明の解決すべき課題を説明するための蒸着装置の概念図、図10は、本発明の解決すべき課題を説明するための液晶装置の概念図である。
31は蒸着源、32は被蒸着物である基板、33はカラム、34はVA液晶分子であり、蒸着角θ、膜厚T、成長角α、プレチルト角βとしている。
10−3〜10−6Pa(パスカル)程度の真空中で蒸着源を抵抗あるいは電子ビームによって加熱し蒸着物質を蒸発させる。蒸着源の中心と基板の中心とを結ぶ基準線に対し基板面の法線のなす角が規定の角度θとなるようにセットされた基板に蒸着する。角度θは蒸着角である。これにより、基板表面に基板面の法線となす角α(成長角)のカラムを形成することが可能である。
このような斜方蒸着法を、例えば液晶の無機配向膜を形成するのに用いた場合、液晶分子を所定の角度β(プレチルト角)だけ傾斜させることが可能となる。例えば、蒸着物質としてSiO2を用いた場合、蒸着角θが55°〜75°の範囲で蒸着すると、成長角αは30°〜40°となり、このような膜を垂直配向(VA)液晶の配向膜として使用した場合、プレチルト角βは0°〜30°程度となる。
図11は、本発明の解決すべき課題を説明するための蒸着装置の蒸着角、膜厚を説明する図である。
図11に示すように基板の中心における蒸着角がθの場合、広がりのある基板において基板上の蒸着源から遠い場所では蒸着角はθ+θ1に、基板上の蒸着源に近い場所では蒸着角はθ−θ2になることを見出した。これは、基板が点源に近い蒸着源と角度θに傾いた状態で蒸着され、基板の端面ほど蒸着源からの広がり角が大きくなるためである。
また、膜厚についても、基板の中心における膜厚がTの場合、基板上の蒸着源から遠い場所では、膜厚はT−T1に、基板上の蒸着源に近い場所では、膜厚はT+T2になることを見出した。これは、蒸着レートが蒸着距離の2乗に反比例するため、基板上の蒸着源から遠い場所では蒸着レートが遅くなり、基板上の蒸着源に近い場所では蒸着レートが速くなるためである。このように蒸着角や膜厚が基板の位置によって異なる場合、カラムの成長角や膜厚も位置によって異なるものとなる。このような蒸着膜を液晶の無機配向膜として用いた場合には、液晶分子のプレチルト角も基板面上の位置により異なってくる場合があることを見出した。
具体的には、基板上の蒸着源から遠い場所では蒸着角が大きくなることでプレチルト角は大きくなる場合があり、膜厚が薄くなることでプレチルト角は小さくなる場合があることを見出した。また、基板上の蒸着源に近い場所では、蒸着角が小さくなることでプレチルト角は小さくなる場合があり、膜厚が厚くなることでプレチルト角は大きくなる場合があることを見出した。膜厚と蒸着角は、互いに逆の方向にプレチルト角を変動させる複合要因となり、その結果、液晶層の電気光学的特性が位置によって変化する。液晶装置を製造した場合には表示画面全体にわたって一様なコントラストが得られなくなる場合があることを見出した。
この問題は蒸着角と膜厚というプレチルト角に対する二つの複合要因が複雑に作用するためであり、どちらか一方を固定することができれば問題は簡素化される。
一方の要因である蒸着角に関し、蒸着源が点源に近い蒸着装置において蒸着角を一定にすることが提案されている。蒸着源と基板等の被蒸着物との距離を長くすることで、被蒸着物の位置による蒸着源とのなす角度の差を相対的に小さくするという方法がある。それ以外に、有効蒸着領域をスリット等で狭め、被蒸着物を有効蒸着領域内で走査させる方法もある。しかし、装置の巨大化・複雑化、蒸着レートの低下など、いずれも量産装置としては課題が残されている。
そこで、他方の要因である膜厚に関し、基板上の被蒸着物の位置によらず均一な膜厚の斜方蒸着膜を得ることができれば、被蒸着物の位置による膜厚のばらつきが原因のプレチルト角の変動が回避されることを見出した。
図12は、一対の基板を貼り合わせた液晶装置の概念図、図13は、液晶装置の蒸着角依存自己補正のグラフである。
図12のように互いに対向する基板32に形成されたカラム33の配向を互いに向き合うように貼り合わせる。膜厚が一定の場合、基板32中心付近は蒸着角θで形成された成長角αのカラム同士が向き合うことで液晶はプレチルト角βになる。基板の両端付近は蒸着角θ+θ1、θ−θ2で形成された成長角α+α1、α−α2のカラム同士が向き合うことになる。これにより、プレチルト角は、蒸着角θ+θ1で形成された成長角α+α1同士が向き合った場合のプレチルト角β+β1と、蒸着角θ−θ2で形成された成長角α−α2同士が向き合った場合のプレチルト角β−β2の平均値付近に収束する。
具体的には、図13のように基板32中心からの距離によらずプレチルト角はβに近い値に自己補正される。このように、互いに対向する基板に形成されたカラムの配向を互いに向き合うように貼り合わせることにより、プレチルト角に対する二つの変動要因である膜厚と蒸着角のうち、蒸着角の影響は緩和可能である。
したがって、被蒸着物の位置によらず均一な膜厚の斜方蒸着膜を得ることができれば、被蒸着物の位置による膜厚のばらつきが原因のプレチルト角の変動が回避される。そして、上述のような一対の基板の配置により、一様な画像コントラストを有する液晶装置の実現につながる。
次に、各実施形態に共通の概要について説明する。
前述したように、斜方蒸着の場合、広がりのある被蒸着物の基板を蒸着源に対して一定角度傾けた状態で蒸着するため、基板の位置によって蒸着源との距離が著しく異なる。このため、蒸着源からの流通密度が一定だと逆に基板の位置による膜厚のばらつきが大きくなってしまう。そこで、流通密度制御手段により、蒸着源と基板との間に設定された蒸気流通面の各位置を通過する蒸気流の流通密度を、蒸着源から基板までの距離に応じて制御する。すなわち蒸着源から基板までの距離が近いほど流通密度を小さく、蒸着源から基板までの距離が遠いほど流通密度を大きくするように制御する。それにより、基板の位置によらず均一な膜厚の斜方蒸着膜を得る。
そして、得られた斜方蒸着膜を無機配向膜として使用した液晶装置の製造において、互いに対向する基板に形成されたカラムの配向を互いに向き合うように貼り合わせることで、基板の位置による膜厚・蒸着角のばらつきが原因のプレチルト角の変動が回避される。
(蒸着装置)
図1は、各実施形態、特に実施形態1,2に共通の蒸着装置の構造を示す概念図である。実施形態3〜5では、基板と基板支持部の代わりに基板を複数固定した基板ホルダとなる。
図1は、各実施形態、特に実施形態1,2に共通の蒸着装置の構造を示す概念図である。実施形態3〜5では、基板と基板支持部の代わりに基板を複数固定した基板ホルダとなる。
蒸着装置10は、蒸着室6と蒸着室6を真空にするための真空ポンプ7を備え、蒸着室6内において、蒸着物質の蒸気を生じさせる蒸着源1と、被蒸着物の基板2とを備えている。基板2は、基板支持部3により支持され、基板面の法線が基板2の中心と蒸着源1の中心とを結ぶ基準線に対し規定の角度(蒸着角θ)傾斜させている。蒸着源1と基板2との間で基準線と交差し、蒸着物質の蒸気が流通する蒸気流通面4において、蒸気流通面4を通過する単位時間・単位面積あたりの蒸気の流通密度を制御することが可能な流通密度制御手段5がある。
(蒸着方法)
この場合の蒸着方法は、まず基板支持部3に基板2を規定の角度(蒸着角θ)でセットし、次に真空ポンプ7を作動させ蒸着室6内部を真空にし、さらに加熱装置(図示略)によって蒸着源1を加熱し蒸着源1から蒸気を生じせしめる。蒸着源1から基板2に向かう蒸気は、蒸気流通面4において流通密度制御手段5により、蒸着源1と基板2の距離が近い領域に到達する蒸気流は流通密度を小さく、蒸着源1と基板2の距離が遠い領域に到達する蒸気流は流通密度を大きく制御される。基板2の位置によらず一定の膜厚の斜方蒸着膜を形成する。
この場合の蒸着方法は、まず基板支持部3に基板2を規定の角度(蒸着角θ)でセットし、次に真空ポンプ7を作動させ蒸着室6内部を真空にし、さらに加熱装置(図示略)によって蒸着源1を加熱し蒸着源1から蒸気を生じせしめる。蒸着源1から基板2に向かう蒸気は、蒸気流通面4において流通密度制御手段5により、蒸着源1と基板2の距離が近い領域に到達する蒸気流は流通密度を小さく、蒸着源1と基板2の距離が遠い領域に到達する蒸気流は流通密度を大きく制御される。基板2の位置によらず一定の膜厚の斜方蒸着膜を形成する。
(実施形態1)
図2は、実施形態1の蒸着装置の構造を示す図である。
図2は、実施形態1の蒸着装置の構造を示す図である。
図1の概念図における流通密度制御手段5の具体的な構造である膜厚調整板51を示している。膜厚調整板51は回転軸81を中心に回転する。
図3は、膜厚調整板の具体的な構造を示す。図3(a)は遮蔽部のフィンの数が2個の例、図3(b)は3個の例を示している。
回転軸81に近いほど非遮蔽部(開口部)12に対する遮蔽部13の割合が小さく、回転軸81から遠いほど非遮蔽部12に対する遮蔽部13の割合が大きく形成されている。図2における蒸着源1と基板2の距離が遠いほど単位時間・単位面積あたりに蒸気流通面4を通過する蒸気の流通密度を大きく、距離が近いほど単位時間・単位面積あたりに蒸気流通面4を通過する蒸気の流通密度を小さく制御することが可能である。図3における遮蔽部のフィンの数は図では2もしくは3個だが、その形状・数は限定されるものではない。また、非遮蔽部12は、径方向に連続的に流通密度を減少させるように変化しているが、径方向に段階的に変化させてもよい。
(実施形態2)
図4は、実施形態2の蒸着装置の構造を示す図である。
図4は、実施形態2の蒸着装置の構造を示す図である。
図1の概念図における流通密度制御手段5の具体的な構造である膜厚調整板52はを示している。膜厚調整板52は回転軸82を中心に回転する。
図5は、膜厚調整板の具体的な構造を示す。図5(a)は遮蔽部のフィンの数が2個の例、図5(b)は3個の例である。
回転軸82に近いほど非遮蔽部23に対する遮蔽部22の割合が大きく、回転軸82から遠いほど非遮蔽部23に対する遮蔽部22の割合が小さく形成されている。図4における蒸着源1と基板2の距離が遠いほど単位時間・単位面積あたりに蒸気流通面4を通過する蒸気の流通密度を大きく、距離が近いほど単位時間・単位面積あたりに蒸気流通面4を通過する蒸気の流通密度を小さく制御することが可能である。図5における遮蔽部のフィンの数は図では2もしくは3個だが、その形状・数は限定されるものではない。また、非遮蔽部23は、径方向に連続的に流通密度を増加させるように変化しているが、径方向に段階的に変化させてもよい。
(実施形態3)
図6は、実施形態3の蒸着装置の構造を示す図である。図6(a)は上面図、図6(b)は側面図である。
図6は、実施形態3の蒸着装置の構造を示す図である。図6(a)は上面図、図6(b)は側面図である。
流通密度制御手段である膜厚調整板53は蒸着室に固定されており、複数の基板2は基板ホルダ111に中心から放射状に保持される。基板ホルダ111は回転軸91を中心に回転し、各基板2において規定の角度(蒸着角θ)は一定に保たれる。基板ホルダ111には回転軸91に近くなるほど蒸着源1と基板2との距離が遠くなり、回転軸91から遠くなるほど蒸着源1と基板2との距離が近くなるように基板2がセットされている。膜厚調整板53は、回転軸91に近いほど遮蔽率が小さくなり回転軸91から遠いほど遮蔽率が大きくなるように形成されている。基板ホルダ111及び膜厚調整板53の形状・数は限定されるものではない。また、膜厚調整板53は、その非遮蔽部が一方向(回転軸91の方向)に連続的に蒸気流通密度を増加させるように変化しているが、一方向に段階的に変化させてもよい。
(実施形態4)
図7は、実施形態4の蒸着装置の構造を示す図である。図7(a)は上面図、図7(b)は側面図である。
図7は、実施形態4の蒸着装置の構造を示す図である。図7(a)は上面図、図7(b)は側面図である。
流通密度制御手段である膜厚調整板54は蒸着室に固定されており、複数の基板2は基板ホルダ112に中心から放射状に保持される。基板ホルダ112は回転軸92を中心に回転し、各基板2において規定の角度(蒸着角θ)は一定に保たれる。基板ホルダ112には回転軸92に近くなるほど蒸着源1と基板2との距離が近くなり、回転軸92から遠くなるほど蒸着源1と基板2との距離が遠くなるように基板2がセットされている。膜厚調整板54は、回転軸92に近いほど遮蔽率が大きくなり回転軸92から遠いほど遮蔽率が小さくなるように形成されている。基板ホルダ112及び膜厚調整板54の形状・数は限定されるものではない。また、膜厚調整板54は、その非遮蔽部が一方向(回転軸92の方向)に連続的に流通密度を減少させるように変化しているが、一方向に段階的に変化させてもよい。
(実施形態5)
図8は、実施形態5の蒸着装置の構造を示す図である。に示す。図8(a)は上面図、図8(b)は側面図である。
図8は、実施形態5の蒸着装置の構造を示す図である。に示す。図8(a)は上面図、図8(b)は側面図である。
流通密度制御手段である膜厚調整板55以外は、実施形態4と同様である。
膜厚調整板55は回転軸83を中心に回転する。膜厚調整板55は、回転軸83に近いほど遮蔽率が小さくなり回転軸83から遠いほど遮蔽率が大きくなるように形成されている。基板ホルダ及び膜厚調整板の形状・数は限定されるものではない。また、膜厚調整板55は、その非遮蔽部が径方向に連続的に流通密度を減少させるように変化しているが、径方向に段階的に変化させてもよい。
1…蒸着源
2…基板
3…基板支持部
4…蒸気流通面
5…流通密度制御手段
51,52,53…膜厚調整板
6…蒸着室
7…真空ポンプ
81,82,83…回転軸
91,92,93…回転軸
10…蒸着装置
111,112,113…基板ホルダ
12,22…遮蔽部
13,23…非遮蔽部
2…基板
3…基板支持部
4…蒸気流通面
5…流通密度制御手段
51,52,53…膜厚調整板
6…蒸着室
7…真空ポンプ
81,82,83…回転軸
91,92,93…回転軸
10…蒸着装置
111,112,113…基板ホルダ
12,22…遮蔽部
13,23…非遮蔽部
Claims (6)
- 基板を蒸着源に対して、基板面の法線が前記基板の中心と前記蒸着源の中心を結ぶ基準線に対し規定の角度をなすように傾斜させ、基板表面に蒸着を行う斜方蒸着装置において、
前記基準線と交差し蒸着物質の蒸気が流通可能な蒸気流通面に流通密度制御手段を設け、前記蒸気流通面の各位置を通過する蒸気流は、前記蒸着源から前記基板までの距離が近いほど流通密度が小さく、遠いほど流通密度が大きくなるように制御されることを特徴とする斜方蒸着装置。 - 前記基板を複数固定した基板ホルダを有し、前記基板ホルダは、前記複数の基板における前記規定の角度を保ちながら回転可能であることを特徴とする請求項1に記載の斜方蒸着装置。
- 前記流通密度制御手段は、前記蒸気流通面において固定された膜厚調整板であり、前記膜厚調整板は、一方向に連続的又は段階的に流通密度を変化させる非遮蔽部を有することを特徴とする請求項2に記載の斜方蒸着装置。
- 前記流通密度制御手段は、前記蒸気流通面において回転可能な膜厚調整板であり、前記膜厚調整板は、その径方向に連続的又は段階的に流通密度を変化させる非遮蔽部を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の斜方蒸着装置。
- 請求項1ないし4のいずれかに記載の斜方蒸着装置を用いた蒸着方法であって、前記基板に対し、前記蒸着源から前記蒸気流通面を介して蒸着物質を蒸着させることを特徴とする斜方蒸着方法。
- 互いに対向する一対の基板間に液晶層が挟持され、該一対の基板の液晶層側表面に反射電極又は透明電極を有し、前記反射電極又は前記透明電極の液晶層側の表面に無機配向膜が形成された液晶装置の製造方法であって、請求項5に記載の斜方蒸着方法によって前記基板の表面に前記無機配向膜を蒸着形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006232024A JP2008056952A (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | 斜方蒸着装置、斜方蒸着方法及び液晶装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006232024A JP2008056952A (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | 斜方蒸着装置、斜方蒸着方法及び液晶装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008056952A true JP2008056952A (ja) | 2008-03-13 |
Family
ID=39240050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006232024A Withdrawn JP2008056952A (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | 斜方蒸着装置、斜方蒸着方法及び液晶装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008056952A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008242030A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Citizen Holdings Co Ltd | 液晶パネルの製造方法 |
JP2010020111A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-01-28 | Canon Inc | 液晶装置およびその製造方法 |
JP2010242202A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-10-28 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置 |
WO2019037235A1 (zh) * | 2017-08-22 | 2019-02-28 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种蒸发源装置 |
CN116145087A (zh) * | 2023-02-28 | 2023-05-23 | 固安翌光科技有限公司 | 一种蒸镀装置 |
-
2006
- 2006-08-29 JP JP2006232024A patent/JP2008056952A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008242030A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Citizen Holdings Co Ltd | 液晶パネルの製造方法 |
JP2010020111A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-01-28 | Canon Inc | 液晶装置およびその製造方法 |
JP2010242202A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-10-28 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置 |
WO2019037235A1 (zh) * | 2017-08-22 | 2019-02-28 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种蒸发源装置 |
CN116145087A (zh) * | 2023-02-28 | 2023-05-23 | 固安翌光科技有限公司 | 一种蒸镀装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9863034B2 (en) | Vacuum vapor deposition method | |
US9587306B2 (en) | Method for producing a directional layer by cathode sputtering, and device for implementing the method | |
JP2008056952A (ja) | 斜方蒸着装置、斜方蒸着方法及び液晶装置の製造方法 | |
JP4509943B2 (ja) | グラジエント式光学薄膜形成装置及びその治具 | |
WO2003062486A1 (en) | Linear or planar type evaporator for the controllable film thickness profile | |
JP2006052461A (ja) | マグネトロンスパッタリング装置、円筒陰極、及び薄い複合膜を基板上に成膜する方法 | |
WO2009018110A2 (en) | Oblique vacuum deposition for roll-roll coating of wire grid polarizer lines oriented in a down-web direction | |
JP4936333B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
KR101176160B1 (ko) | 무기배향막 균일 증착 방법 및 이를 이용한 액정표시장치 | |
JP2009003348A (ja) | 減光フィルタの成膜方法、減光フィルタの製造装置及びこれを用いた減光フィルタ並びに撮像光量絞り装置 | |
CN106661721B (zh) | 用于制造涂层的方法以及具有涂层的光电子半导体部件 | |
JP2007084880A (ja) | 蒸着装置及び位相差補償素子 | |
JP4963371B2 (ja) | 蒸着装置、蒸着方法および無機配向膜の形成方法 | |
WO2004042110A1 (ja) | 基板上への成膜方法 | |
JP2007100123A (ja) | 真空蒸着装置 | |
TWI576450B (zh) | 鍍膜裝置 | |
US20100136233A1 (en) | Oblique vacuum deposition for roll-roll coating of wire grid polarizer lines oriented in a down-web direction | |
TW202024375A (zh) | 用於選擇性電漿氣相沉積中的均勻性控制之方法與設備 | |
JP2009007651A (ja) | 減光フィルタの成膜方法、減光フィルタの製造装置及びこれを用いた減光フィルタ並びに撮像光量絞り装置 | |
JP6283332B2 (ja) | 蒸着ユニット及び真空コーティング装置 | |
KR102133510B1 (ko) | 박막 증착장치 | |
US20050238801A1 (en) | Method for fabricating an alignment layer for liquid crystal applications | |
KR102543415B1 (ko) | 시소운동이 적용된 기판장착장치 | |
KR20110081552A (ko) | 증착장치의 증발원 및 이의 배열구조 | |
JPH0524229B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080207 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20090324 |
|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20091110 |