JPH1055755A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法Info
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- JPH1055755A JPH1055755A JP9116562A JP11656297A JPH1055755A JP H1055755 A JPH1055755 A JP H1055755A JP 9116562 A JP9116562 A JP 9116562A JP 11656297 A JP11656297 A JP 11656297A JP H1055755 A JPH1055755 A JP H1055755A
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- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/241—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases the vessel being for a flat panel display
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- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J17/00—Gas-filled discharge tubes with solid cathode
- H01J17/38—Cold-cathode tubes
- H01J17/48—Cold-cathode tubes with more than one cathode or anode, e.g. sequence-discharge tube, counting tube, dekatron
- H01J17/49—Display panels, e.g. with crossed electrodes, e.g. making use of direct current
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- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/18—Assembling together the component parts of electrode systems
- H01J9/185—Assembling together the component parts of electrode systems of flat panel display devices, e.g. by using spacers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 隔壁と陽極が一体化されたプラズマディスプ
レイパネルおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 透明絶縁基板上にストライプ形態で配列
された多数の第1透明電極パターンを形成する段階;前
記各第1透明電極パターンをエッチングして中央部に所
定幅と深さの溝を有する第2透明電極パターンを形成す
る段階;前記溝の上部に赤、緑、青の蛍光体を形成する
段階;犠牲層を全面に所定厚さで塗布する段階;前記第
2透明電極パターンの配列方向と直交し、前記塗布され
た犠牲層の両側端の所定間隔を有する位置に前記透明絶
縁基板の表面が露出される貫通穴を形成する段階;前記
貫通穴と前記犠牲層の全面に電極物質を前記貫通穴が十
分に埋め立てられる程度の所定厚さで蒸着する段階;蒸
着された電極物質をエッチングして前記第2透明電極パ
ターンと垂直にして、前記貫通穴に埋め立てられた電極
物質と一体化された電極パターンを形成する段階;およ
び犠牲層を除去する段階を含むことを特徴とする。
レイパネルおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 透明絶縁基板上にストライプ形態で配列
された多数の第1透明電極パターンを形成する段階;前
記各第1透明電極パターンをエッチングして中央部に所
定幅と深さの溝を有する第2透明電極パターンを形成す
る段階;前記溝の上部に赤、緑、青の蛍光体を形成する
段階;犠牲層を全面に所定厚さで塗布する段階;前記第
2透明電極パターンの配列方向と直交し、前記塗布され
た犠牲層の両側端の所定間隔を有する位置に前記透明絶
縁基板の表面が露出される貫通穴を形成する段階;前記
貫通穴と前記犠牲層の全面に電極物質を前記貫通穴が十
分に埋め立てられる程度の所定厚さで蒸着する段階;蒸
着された電極物質をエッチングして前記第2透明電極パ
ターンと垂直にして、前記貫通穴に埋め立てられた電極
物質と一体化された電極パターンを形成する段階;およ
び犠牲層を除去する段階を含むことを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネルおよびその製造方法に関し、特に、両極と隔壁
(Barrier rib)が一体化されたプラズマデ
ィスプレイパネルおよびその製造方法に関する。
イパネルおよびその製造方法に関し、特に、両極と隔壁
(Barrier rib)が一体化されたプラズマデ
ィスプレイパネルおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図1は、従来のプラズマディスプレイパ
ネルの断面図である。図1を参照すれば、気体放電を用
いた画像を表示するようになったプラズマディスプレイ
パネルは外部端部分が密封され、多量の気体が内部に含
まれた一対の平板パネルである前面基板1と後面基板2
を備えている。相互所定間隔を維持する前面基板1と後
面基板2の各内面にはストライプ(Stripe)構造
の陽極3と陰極4が相互直交されるように配列形成さ
れ、陽極3の間には画素を定義し、共に画素間のクロス
トーク(Crosstalk)を防止する隔壁(Bar
rier rib)5が提供されている。
ネルの断面図である。図1を参照すれば、気体放電を用
いた画像を表示するようになったプラズマディスプレイ
パネルは外部端部分が密封され、多量の気体が内部に含
まれた一対の平板パネルである前面基板1と後面基板2
を備えている。相互所定間隔を維持する前面基板1と後
面基板2の各内面にはストライプ(Stripe)構造
の陽極3と陰極4が相互直交されるように配列形成さ
れ、陽極3の間には画素を定義し、共に画素間のクロス
トーク(Crosstalk)を防止する隔壁(Bar
rier rib)5が提供されている。
【0003】このような構造のプラズマディスプレイパ
ネルの解像度は、前面基板1と後面基板2間の内部構造
や、これに充填されるガスの種類、陰極の形状および材
質、前面基板1に接触される隔壁面の平坦度等によって
その特性が決められる。
ネルの解像度は、前面基板1と後面基板2間の内部構造
や、これに充填されるガスの種類、陰極の形状および材
質、前面基板1に接触される隔壁面の平坦度等によって
その特性が決められる。
【0004】特に、画像を表示する際の放電セル間の光
拡散によるカラーの滲みを防止する隔壁を形成する場合
において、前記隔壁面の平坦さが求められる。
拡散によるカラーの滲みを防止する隔壁を形成する場合
において、前記隔壁面の平坦さが求められる。
【0005】このような隔壁を形成させるための方法と
しては、スクリーン印刷法(転写方法)と現在開発中の
サンドブラスティング方法がある。
しては、スクリーン印刷法(転写方法)と現在開発中の
サンドブラスティング方法がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】スクリーン印刷法は基
板上にマスクをあてて、粘液状態の隔壁物質を塗布した
後、焼成して隔壁を形成する。この際、隔壁の高さを調
節するために数回印刷することもある。しかしながら、
スクリーン印刷法としてはマスクを構成する網(メッシ
ュ)の曲がり性質によって広い面積に亘り高い精密度の
隔壁形成が難しいという問題点がある。
板上にマスクをあてて、粘液状態の隔壁物質を塗布した
後、焼成して隔壁を形成する。この際、隔壁の高さを調
節するために数回印刷することもある。しかしながら、
スクリーン印刷法としてはマスクを構成する網(メッシ
ュ)の曲がり性質によって広い面積に亘り高い精密度の
隔壁形成が難しいという問題点がある。
【0007】また、この転写方法は隔壁を形成するため
のマスクパターンを形成した状態でそのパターン部分に
隔壁用物質を継続転写することによって隔壁を形成する
方法であり、この方法は解像度の限界によってエス ブ
イ ジー エイ(SVGA)級高鮮明テレビジョン(H
D TV:High Definition Tele
vision)に適用するには困難である問題点があ
る。
のマスクパターンを形成した状態でそのパターン部分に
隔壁用物質を継続転写することによって隔壁を形成する
方法であり、この方法は解像度の限界によってエス ブ
イ ジー エイ(SVGA)級高鮮明テレビジョン(H
D TV:High Definition Tele
vision)に適用するには困難である問題点があ
る。
【0008】サンドブラスター(Sand Blast
er、サンドブラスティング方法)方式は基板上に均一
に隔壁物質を塗布した後、サンドブラスターで隔壁にな
る部分を除いた部分を削り落とす方法である。この方法
は隔壁でない部分の除去時、隔壁部分が共に削られない
ように露光法でパターンを形成した保護層を予めコーテ
ィングしなければならない。しかし、この方法は、砂の
ように硬くて小さい粒を強く衝突させて必要でない部分
を削り落とす際、保護層を介して隔壁面が機械的なダメ
ージを受けるようになり均一な隔壁を形成することに難
しさを有する。従って、この方法では電極や保護層等が
損傷を受けず隔壁は容易に削られるように、電極物質と
感光膜物質を開発しなければならない問題点を有する。
er、サンドブラスティング方法)方式は基板上に均一
に隔壁物質を塗布した後、サンドブラスターで隔壁にな
る部分を除いた部分を削り落とす方法である。この方法
は隔壁でない部分の除去時、隔壁部分が共に削られない
ように露光法でパターンを形成した保護層を予めコーテ
ィングしなければならない。しかし、この方法は、砂の
ように硬くて小さい粒を強く衝突させて必要でない部分
を削り落とす際、保護層を介して隔壁面が機械的なダメ
ージを受けるようになり均一な隔壁を形成することに難
しさを有する。従って、この方法では電極や保護層等が
損傷を受けず隔壁は容易に削られるように、電極物質と
感光膜物質を開発しなければならない問題点を有する。
【0009】本発明は前記した問題点を解決するために
なされたもので、本発明の目的は、隔壁の曲がるのを防
止すると同時に、稠密で均一な隔壁を形成することの出
来るプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を
提供することにある。
なされたもので、本発明の目的は、隔壁の曲がるのを防
止すると同時に、稠密で均一な隔壁を形成することの出
来るプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を
提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレイパネルの製造方法は、先ず、透明絶縁基板上にス
トライプ形態に配列された多数の第1透明電極パターン
を形成する。その後、第1透明電極パターンをエッチン
グして中央部に所定幅の溝を有する第2透明電極パター
ンを形成する。溝の上部に赤、緑、青の蛍光体を形成し
た後、犠牲層を全面に所定厚さで塗布し、第2透明電極
パターンの配列方向と直交して、塗布された犠牲層の両
側端の所定間隔を有する位置に透明絶縁基板の表面が露
出される貫通穴を形成する。貫通穴が十分に埋め立てら
れた程度の所定厚さで貫通穴と犠牲層の全面に電極物質
を蒸着する。蒸着された電極物質をエッチングして透明
電極パターンと垂直に、貫通穴に埋め立てられた電極物
質と一体化された電極パターンを形成して、犠牲層を湿
式エッチングして除去させる。
プレイパネルの製造方法は、先ず、透明絶縁基板上にス
トライプ形態に配列された多数の第1透明電極パターン
を形成する。その後、第1透明電極パターンをエッチン
グして中央部に所定幅の溝を有する第2透明電極パター
ンを形成する。溝の上部に赤、緑、青の蛍光体を形成し
た後、犠牲層を全面に所定厚さで塗布し、第2透明電極
パターンの配列方向と直交して、塗布された犠牲層の両
側端の所定間隔を有する位置に透明絶縁基板の表面が露
出される貫通穴を形成する。貫通穴が十分に埋め立てら
れた程度の所定厚さで貫通穴と犠牲層の全面に電極物質
を蒸着する。蒸着された電極物質をエッチングして透明
電極パターンと垂直に、貫通穴に埋め立てられた電極物
質と一体化された電極パターンを形成して、犠牲層を湿
式エッチングして除去させる。
【0011】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルでは、一側透明絶縁基板上に形成された陽極用透明電
極は、多数のストライプ形状で配列され、その各々の中
央部に所定幅と深さの溝を有し、各溝の両側壁が隔壁と
して作用する。各々の溝内には蛍光体が備えられ、陽極
用透明電極と直交する陰極用電極は所定間隔をおいてス
トライプ形状で配列され、透明絶縁基板の隔壁の端部分
に位置した隔壁の所定部分に形成された支持手段によっ
て支持される。
ルでは、一側透明絶縁基板上に形成された陽極用透明電
極は、多数のストライプ形状で配列され、その各々の中
央部に所定幅と深さの溝を有し、各溝の両側壁が隔壁と
して作用する。各々の溝内には蛍光体が備えられ、陽極
用透明電極と直交する陰極用電極は所定間隔をおいてス
トライプ形状で配列され、透明絶縁基板の隔壁の端部分
に位置した隔壁の所定部分に形成された支持手段によっ
て支持される。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参照して本
発明の好ましい実施の形態例を説明する。
発明の好ましい実施の形態例を説明する。
【0013】図2は本発明の実施の一形態によるプラズ
マディスプレイパネルの製造方法を説明するための工程
の流れ図である。
マディスプレイパネルの製造方法を説明するための工程
の流れ図である。
【0014】図2(A)を参照すれば、プラズマディス
プレイパネルを形成するために準備された上下透明ガラ
ス基板中一つの透明ガラス基板10上にインジューム錫
酸化物(Indium Tin Oxide:ITO)
の透明電極と第1感光膜(PMMA)を所定厚さで塗布
する。以後、通常の写真エッチング工程を通じて第1感
光膜の所定部分を露光、現象して第1感光膜マスクパタ
ーン14を形成する。透明電極の露出された部分を乾式
異方性エッチング法を用いてガラス基板10の表面が表
れるまでエッチングして除去することによって、第1透
明電極パターン12を形成する。
プレイパネルを形成するために準備された上下透明ガラ
ス基板中一つの透明ガラス基板10上にインジューム錫
酸化物(Indium Tin Oxide:ITO)
の透明電極と第1感光膜(PMMA)を所定厚さで塗布
する。以後、通常の写真エッチング工程を通じて第1感
光膜の所定部分を露光、現象して第1感光膜マスクパタ
ーン14を形成する。透明電極の露出された部分を乾式
異方性エッチング法を用いてガラス基板10の表面が表
れるまでエッチングして除去することによって、第1透
明電極パターン12を形成する。
【0015】その後、第1感光膜マスクパターン14を
除去して、第1透明電極パターン12の間を十分に埋め
立てる程度の所定の厚さで第2感光膜を塗布する。以
後、通常の写真エッチング工程を通じて透明電極12上
の所定部分に被せられた第2感光膜を除去して第2感光
膜マスクパターン16を形成した後、露出された透明電
極をプラズマを用いた乾式異方性エッチング法で所定の
深さまでエッチングして内部に溝18−1、18−2、
18−3を備えた第2透明電極パターン12’を形成す
る。透明電極のエッチング後の断面構造を図2(B)に
示した。
除去して、第1透明電極パターン12の間を十分に埋め
立てる程度の所定の厚さで第2感光膜を塗布する。以
後、通常の写真エッチング工程を通じて透明電極12上
の所定部分に被せられた第2感光膜を除去して第2感光
膜マスクパターン16を形成した後、露出された透明電
極をプラズマを用いた乾式異方性エッチング法で所定の
深さまでエッチングして内部に溝18−1、18−2、
18−3を備えた第2透明電極パターン12’を形成す
る。透明電極のエッチング後の断面構造を図2(B)に
示した。
【0016】図2(C)を参照し、第2感光膜マスクパ
ターン16を除去する。ここで形成された第2透明電極
パターン12’の溝18−1、18−2、18−3の下
部面12aは縦電極(陽極)の役割をし、端部分12b
は隔壁の役割をする。
ターン16を除去する。ここで形成された第2透明電極
パターン12’の溝18−1、18−2、18−3の下
部面12aは縦電極(陽極)の役割をし、端部分12b
は隔壁の役割をする。
【0017】以後、前記のように形成された第2透明電
極パターン12’を用いてカラープラズマディスプレイ
のセルを形成するための工程を進行する。即ち、第2透
明電極パターン12´を含む全面に赤色の蛍光体を塗布
した後、前記言及した通常の写真エッチング工程を通じ
て図面上の左側縦電極12a上の予定領域に赤色の蛍光
体20−1を形成する。同一な方法で、中央にある縦電
極12a上の予定された領域には緑色の蛍光体20−
2、右側の予定領域には青色の蛍光体20−3を順次的
に形成する。
極パターン12’を用いてカラープラズマディスプレイ
のセルを形成するための工程を進行する。即ち、第2透
明電極パターン12´を含む全面に赤色の蛍光体を塗布
した後、前記言及した通常の写真エッチング工程を通じ
て図面上の左側縦電極12a上の予定領域に赤色の蛍光
体20−1を形成する。同一な方法で、中央にある縦電
極12a上の予定された領域には緑色の蛍光体20−
2、右側の予定領域には青色の蛍光体20−3を順次的
に形成する。
【0018】図2(D)を参照し、隔壁12bと後続工
程で形成された横電極(陰極)によって定義される各セ
ルに放電空間を確保するために、ポリイミド(Poly
imide)の犠牲層22を全面に所定厚さで塗布し、
透明ガラス基板10の表面が露出される深さまで“a ”
部分をエッチングさせる。ここで、a部分は形成される
べき縦電極(陰極;透明横電極と直交する)と透明基板
10との接触がなされる箇所として、前記縦電極が通る
経路の両側端下部分に位置する。
程で形成された横電極(陰極)によって定義される各セ
ルに放電空間を確保するために、ポリイミド(Poly
imide)の犠牲層22を全面に所定厚さで塗布し、
透明ガラス基板10の表面が露出される深さまで“a ”
部分をエッチングさせる。ここで、a部分は形成される
べき縦電極(陰極;透明横電極と直交する)と透明基板
10との接触がなされる箇所として、前記縦電極が通る
経路の両側端下部分に位置する。
【0019】図2(E)を参照し、アルミニウムのよう
な電極物質を犠牲層22とその貫通穴(a部分)上部に
蒸着する。以後、通常の写真エッチング法を用いて蒸着
された電極物質をパターン化することによって、下部に
形成された透明縦電極12aと直交するストライプ形状
の横電極24を形成する。以後、犠牲層22を湿式エッ
チングして除去することによって、縦電極と横電極の間
にガス放電のための空間が形成される。
な電極物質を犠牲層22とその貫通穴(a部分)上部に
蒸着する。以後、通常の写真エッチング法を用いて蒸着
された電極物質をパターン化することによって、下部に
形成された透明縦電極12aと直交するストライプ形状
の横電極24を形成する。以後、犠牲層22を湿式エッ
チングして除去することによって、縦電極と横電極の間
にガス放電のための空間が形成される。
【0020】図3は、前記過程で横電極が形成された状
態の構造を拡大した平面図である。図3を参照すれば、
透明電極自体の2次パターン化過程を通じて同一な物質
でなる隔壁と縦電極が定義され、赤、緑、青の蛍光体2
0−1,20−2,20−3は定義された縦電極の上部
面に位置し、横電極は直交方向に所定間隔をおいてスト
ライプ形態で位置することによって、横電極24と縦電
極12aの間に気体放電のための空間を確保する構造を
有する。
態の構造を拡大した平面図である。図3を参照すれば、
透明電極自体の2次パターン化過程を通じて同一な物質
でなる隔壁と縦電極が定義され、赤、緑、青の蛍光体2
0−1,20−2,20−3は定義された縦電極の上部
面に位置し、横電極は直交方向に所定間隔をおいてスト
ライプ形態で位置することによって、横電極24と縦電
極12aの間に気体放電のための空間を確保する構造を
有する。
【0021】一方、図面に提示されてはいないが、前記
過程で形成された下部パネル上に他の透明基板(図示せ
ず)を上げて隔壁面上に覆い、上下ガラス基板を結合す
る。
過程で形成された下部パネル上に他の透明基板(図示せ
ず)を上げて隔壁面上に覆い、上下ガラス基板を結合す
る。
【0022】前記透明電極は隔壁としての機能を有し、
既存のスクリーン印刷法に比べて隔壁が曲がらず、また
サンドブラスター法に比べて損傷を最小化できる。
既存のスクリーン印刷法に比べて隔壁が曲がらず、また
サンドブラスター法に比べて損傷を最小化できる。
【0023】以上、本発明の実施の一形態について説明
し図示したが、これに限定されるものではなく、当業者
にとって容易である修正と変形を含むことはいうまでも
ない。
し図示したが、これに限定されるものではなく、当業者
にとって容易である修正と変形を含むことはいうまでも
ない。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
透明縦電極を写真エッチング工程を通じて隔壁と陽極の
二つの部分で形成することによって、隔壁面の不均一に
よる放電セル間のクロストークをなくすことが出来、セ
ルピッチサイズを減らすことが出来、表示画面の解像度
を向上させ、製造された製品の品質を向上できる効果が
ある。
透明縦電極を写真エッチング工程を通じて隔壁と陽極の
二つの部分で形成することによって、隔壁面の不均一に
よる放電セル間のクロストークをなくすことが出来、セ
ルピッチサイズを減らすことが出来、表示画面の解像度
を向上させ、製造された製品の品質を向上できる効果が
ある。
【図1】一般的なプラズマディスプレイパネルの概略的
な断面図である。
な断面図である。
【図2】(A)〜(E)は、本発明のプラズマディスプ
レイパネルの製造方法の一実施の形態を説明するための
各工程での断面図である。
レイパネルの製造方法の一実施の形態を説明するための
各工程での断面図である。
【図3】図2で示した各工程によって形成されたプラズ
マディスプレイパネルの平面図である。
マディスプレイパネルの平面図である。
10:透明ガラス基板 12:第1透明電極パターン 12a:透明縦電極(陽極) 12b:隔壁 12´:第2透明電極パターン 14:第1感光膜マスクパターン 16:第2感光膜マスクパターン 18−1、18−2、18−3:溝 20−1:赤色蛍光体 20−2:緑色蛍光体 20−3:青色蛍光体 22:犠牲層 24:横電極(陰極)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金 鎭 滿 大韓民国 京畿道 利川 大月面 巳東里 441−1 現代アパート 102棟 702号 (72)発明者 卞 得 壽 大韓民国 ソウル 江東区 明逸洞 55番 地 現代アパート 14棟 903号
Claims (9)
- 【請求項1】 透明絶縁基板上にストライプ形態で配列
された多数の第1透明電極パターンを形成する段階;前
記各第1透明電極パターンをエッチングして中央部に所
定幅と深さの溝を有する第2透明電極パターンを形成す
る段階;前記溝の上部に赤、緑、青の蛍光体を形成する
段階;犠牲層を全面に所定厚さで塗布する段階;前記第
2透明電極パターンの配列方向と直交し、前記塗布され
た犠牲層の両側端の所定間隔を有する位置に前記透明絶
縁基板の表面が露出される貫通穴を形成する段階;前記
貫通穴と前記犠牲層の全面に電極物質を前記貫通穴が十
分に埋め立てられる程度の所定厚さで蒸着する段階;蒸
着された電極物質をエッチングして前記第2透明電極パ
ターンと垂直にして、前記貫通穴に埋め立てられた電極
物質と一体化された電極パターンを形成する段階;およ
び犠牲層を除去する段階を含むことを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項2】 前記第1透明電極パターンを形成する段
階は、前記透明絶縁基板上に透明電極層と感光膜を順次
的に形成し、写真エッチング工程を通じて第1感光膜パ
ターンを形成する段階;乾式エッチング法で露出された
透明電極を除去する段階;そして第1感光膜パターンを
除去する段階を含むことを特徴とする請求項1記載のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項3】 前記第2透明電極パターンを形成する段
階は前記第1透明電極パターンの間を十分に埋め立てる
程度の厚さで感光膜を塗布する段階;前記第1透明電極
パターンの中央部分が露出される第2感光膜パターンを
形成する段階;乾式エッチング法で露出された第1透明
電極層を所定深さでエッチングして溝を形成する段階;
そして第2感光膜パターンを除去する段階を含むことを
特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法。 - 【請求項4】 前記透明電極のエッチングはプラズマを
用いた乾式エッチング法であることを特徴とする請求項
1記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項5】 前記犠牲層はポリイミドであることを特
徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。 - 【請求項6】 前記透明電極はインジューム錫酸化物
(ITO)であることを特徴とする請求項1記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項7】 透明絶縁基板と、該透明絶縁基板上に形
成されて、多数のストライプ形状に配列され、その各々
の中央部に所定幅と深さの溝を有し、前記各溝の両側壁
が隔壁として作用する透明電極と;前記各々の溝内にそ
れぞれ形成された蛍光体;および前記透明電極と直交す
るように所定間隔を隔ててストライプ形態で配列され、
前記透明絶縁基板の隔壁の端部分に位置した隔壁の所定
部分に形成された支持手段によって支持される横電極を
含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項8】 前記横電極と前記支持手段は同一の材料
を含むことを特徴とする請求項7記載のプラズマディス
プレイパネル。 - 【請求項9】 前記材料はアルミニウムであることを特
徴とする請求項8記載のプラズマディスプレイパネル。
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- 1997-05-06 CN CN97109784A patent/CN1104735C/zh not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20040224 |