JPH10505073A - 置換されたピリミジン(チ)オン類 - Google Patents

置換されたピリミジン(チ)オン類

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JPH10505073A
JPH10505073A JP8509158A JP50915896A JPH10505073A JP H10505073 A JPH10505073 A JP H10505073A JP 8509158 A JP8509158 A JP 8509158A JP 50915896 A JP50915896 A JP 50915896A JP H10505073 A JPH10505073 A JP H10505073A
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アンドレー,ローラント
ドリユウズ,マーク・ウイルヘルム
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ドリンガー,マルクス
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バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
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    • A01N43/48Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • A01N43/541,3-Diazines; Hydrogenated 1,3-diazines
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Abstract

(57)【要約】 本発明はQ、R1、R2、R3、R4及びR5が本明細書に記載の意味を有する一般式(I)の新規な置換されたピリミジン(チ)オン、これら化合物の製造方法及びその除草剤としての使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 置換されたピリミジン(チ)オン類 本発明は新規なピリミジン(チ)オン[pyrimidin(ethi)ones]、その製造方 法及びその除草剤としての使用に関する。 可能性のある除草剤としての置換ピリミジノン類は既に1つの特許出願の技術 内容を形成するが、これらのものは従来その重要性が認識されていなかった。( ヨーロッパ特許出願公開第568041号参照)。 一般式(I) 式中、Qは酸素または硫黄を表わし、 R1は水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、アルキルまたはハロゲノアルキル を表わし、 R2はシアノまたはチオカルバモイルを表わし、 R3は基 −A1−A2−A3 を表わし、ここに A1は単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基 −N−A4−を表わし、ここにA4は水素、ヒドロキシル、アミノ、アルキル、ア ルコキシ、アリール、アルキルカルボニル、 アルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、アリールカルボニルまたはアリー ルスルホニルを表わすか、或いは A1はまたそれぞれ随時置換されていてもよいアルカンジイル、アルケンジ イル、アザアルケンジイル、アルキンジイル、シクロアルカンジイル、シクロア ルケンジイルまたはアレーンジイルを表わし、 A2は単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基 −N−A4−を表わし、ここにA4は水素、アルキル、アリール、アルキルカルボ ニル、アルキルスルホニルまたはアリールスルホニルを表わし、 A2はまたそれぞれ随時置換されていてもよいアルカンジイル、アルケンジ イル、アザアルケンジイル、アルキンジイル、シクロアルカンジイル、シクロア ルケンジイルまたはアレーンジイルを表わし、そして A3は水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、イソシアノ、チ オシアナト、ニトロ、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、スルホ 、クロロスルホニル、ハロゲン或いはそれぞれ随時置換されていてもよいアルキ ル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、 アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ジアルコキシ(チ オ)ホスホリル、アルケニル、アルケニルオキシ、アルケニルアミノ、アルキリ デンアミノ、アルケニルオキシカルボニル、アルキニル、アルキニルオキシ、ア ルキニルアミノ、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキル、シクロアルキ ルオキシ、シクロアルキルアルキル、シクロアルキルアルコキシ、シクロアルキ リデンアミノ、シクロア ルキルオキシカルボニル、シクロアルキルアルコキシカルボニル、アリール、ア リールオキシ、アリールアルキル、アリールアルコキシ、アリールオキシカルボ ニル、アリールアルコキシカルボニル、複素環、複素環式アルキル、複素環式ア ルコキシまたは複素環式アルコキシカルボニルを表わし、 R4は水素、ハロゲン、アルキルまたはハロゲノアルキルを表わし、そして R5はアルキルまたはハロゲノアルキルを表わすか、或いはR4と一緒になっ てアルカンジイルを表わす、 の新規な置換されたピリミジン(チ)オンが見い出された。 一般式(I)の新規な置換されたピリミジン(チ)オンは式(II) 式中、R1、R2及びR3は上記の意味を有し、そして Xはハロゲンを表わす、 のハロゲノアレーンを必要に応じて酸受容体及び必要に応じて希釈剤の存在下で 一般式(III) 式中、Q、R4及びR5は上記の意味を有する、 のピリミジン(チ)オンと反応させ、そして随時生じる一般式(I)の化合物に おいて、Q、R1、R2、R3、R4及びR5で定義される基を常法で上記の基の定 義の範囲内で更に化学的修飾に付すことにより得られる。 一般式(I)の新規な置換されたピリミジン(チ)オンは強く、かつ選択的な 除草活性に特徴がある。 定義において、炭化水素鎖例えばアルキル、アルカンジイル、アルケニルまた はアルキニル、またヘテロ原子に結合する場合のアルコキシ、アルキルチオまた はアルキルアミノは各々の場合に直鎖状もしくは分枝鎖状である。 ハロゲンは一般にフッ素、塩素、臭素またはヨウ素、好ましくはフッ素、塩素 または臭素、殊にフッ素または塩素を表わす。 本発明は好ましくは Qが酸素または硫黄を表わし、 R1が水素、シアノ、ニトロ、フッ素、塩素、臭素または炭素原子1〜4個を 有する随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよいアルキルを表わし、 R2がシアノまたはチオカルバモイルを表わし、 R3が基 −A1−A2−A3 を表わし、ここに A1が単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基− N−A4−を表わし、ここにA4が水素、ヒドロキシル、アミノ、C1〜C4−アル キル、C1〜C4−アルコキシ、フェニル、C1〜C4−ア ルキルカルボニル、C1〜C4−アルコキシカルボニル、C1〜C4−アルキルスル ホニル、フェニルカルボニルまたはフェニルスルホニルを表わすか、或いは A1がまたそれぞれ随時フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよいC1〜 C6−アルカンジイル、C2〜C6−アルケンジイル、C2〜C6−アザアルケンジ イル、C2〜C6−アルキンジイル、C3〜C6−シクロアルカンジイル、C3〜C6 −シクロアルケンジイルまたはフェニレンを表わし、 A2が単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基− N−A4−を表わし、ここにA4が水素、ヒドロキシル、C1〜C4−アルキル、C1 〜C4−アルコキシ、フェニル、C1〜C4−アルキルスルホニルまたはフェニル スルホニルを表わし、 A2がまたそれぞれ随時フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよいC1〜 C6−アルカンジイル、C2〜C6−アルケンジイル、C2〜C6−アザアルケンジ イル、C2〜C6−アルキンジイル、C3〜C6−シクロアルカンジイル、C3〜C6 −シクロアルケンジイルまたはフェニレンを表わし、 A3が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、イソシアノ、チオ シアナト、ニトロ、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、スルホ、 クロロスルホニル、ハロゲン或いは各々の場合にアルキル基中に炭素原子1〜6 個を有し、それぞれ随時ハロゲンまたはC1〜C4−アルコキシで置換されていて もよいアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル スルホニル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルコキシカルボニルまたは ジアルコキシ(チ オ)ホスホリルを表わし、 A3がまた各々の場合にアルケニル、アルキリデンまたはアルキニル基中に炭 素原子2〜6個を有し、それぞれ随時ハロゲンで置換されていてもよいアルケニ ル、アルケニルオキシ、アルケニルアミノ、アルキリデンアミノ、アルケニルオ キシカルボニル、アルキニル、アルキニルオキシ、アルキニルアミノまたはアル キニルオキシカルボニルを表わし、 A3がまた各々の場合にシクロアルキル基中に炭素原子3〜6個及び随時アル キル基中に炭素原子1〜4個を有し、それぞれ随時ハロゲン、シアノ、カルボキ シル、C1〜C4−アルキル及び/またはC1〜C4−アルコキシ−カルボニルで置 換されていてもよいシクロアルキル、シクロアルキルオキシ、シクロアルキルア ルキル、シクロアルキルアルコキシ、シクロアルキリデンアミノ、シクロアルキ ルオキシカルボニルまたはシクロアルキルアルコキシカルボニルを表わし、 A3がまたそれぞれ随時ニトロ、シアノ、カルボキシル、ハロゲン、C1〜C4 −アルキル、C1〜C4−ハロゲノアルキル、C1〜C4−アルキルオキシ、C1〜 C4−ハロゲノアルキルオキシ及び/またはC1〜C4アルコキシカルボニルで置 換されていてもよいフェニル、フェニルオキシ、フェニル−C1〜C4−アルキル 、フェニル−C1〜C4−アルコキシ、フェニルオキシカルボニルまたはフェニル −C1〜C4−アルコキシカルボニル、(それぞれ随時完全にか、または部分的に 水素化されていてもよい)ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル 、フリル、チエニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾ リル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、トリア ジニル、ピラゾリル−C1〜C4−アルキル、フリル−C1〜C4− アルキル、チエニル−C1〜C4−アルキル、オキサゾリル−C1〜C4−アルキル 、イソキサゾール−C1〜C4−アルキル、チアゾール−C1〜C4−アルキル、ピ リジニル−C1〜C4−アルキル、ピリミジニル−C1〜C4−アルキル、ピラゾリ ルメトキシ、フリルメトキシ、またはパーヒドロピラニルメトキシもしくはピリ ジルメトキシを表わし、 R4が水素、フッ素、塩素または臭素、或いは炭素原子1〜4個を有し、随時 フッ素及び/または塩素置換されていてもよいアルキルを表わし、そして R5が炭素原子1〜4個を有し、随時フッ素及び/または塩素で置換されてい てもよいアルキルを表わすか、或いはR4と一緒になってC3〜C4−アルカンジ イルを表わす式(I)の化合物に関する。 本発明は殊に R1が水素、フッ素または塩素を表わし、 R2がシアノまたはチオカルバモイルを表わし、 R3が基 −A1−A2−A3 を表わし、ここに A1が単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基− N−A4−を表わし、ここにA4が水素、ヒドロキシル、メチル、エチル、n−も しくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、メチ ルスルホニルまたはエチルスルホニルを表わすか、或いは A1がまたメチレン、エタン−1,1−ジイル、エタン−1,2−ジイル、プロ パン−1,1−ジイル、プロパン−1,2−ジイル、プロパン− 1,3−ジイル、エテン−1,2−ジイル、プロペン−1,2−ジイル、プロペン −1,3−ジイル、エチン−1,2−ジイル、プロピン−1,2−ジイルまたはプ ロピン−1,3−ジイルを表わし、 A2が単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基− N−A4−を表わし、ここにA4が水素、ヒドロキシル、メチル、エチル、n−も しくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、メチ ルスルホニル、エチルスルホニル、n−もしくはi−プロピルスルホニルまたは フェニルスルホニルを表わすか、或いは A2がまたメチレン、エタン−1,1−ジイル、エタン−1,2−ジイル、プロ パン−1,1−ジイル、プロパン−1,2−ジイル、プロパン−1,3−ジイル、 エテン−1,2−ジイル、プロペン−1,2−ジイル、プロペン−1,3−ジイル 、エチン−1,2−ジイル、プロピン−1,2−ジイルまたはプロピン−1,3− ジイルを表わし、 A3が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、イソシアノ、チオ シアナト、ニトロ、カルボキシル、カルバモイル、スルホ、フッ素、塩素、臭素 、或いは随時フッ素、塩素、メトキシまたはエトキシで置換されていてもよいメ チル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、i−、s−もしくはt−ブチ ル、n−、i−、s−もしくはt−ペンチル、メトキシ、エトキシ、n−もしく はi−プロポキシ、n−、i−、s−もしくはt−ブトキシ、n−、i−、s− もしくはt−ペンチルオキシ、メチルチオ、エチルチオ、n−もしくはi−プロ ピルチオ、n−、i−、s−もしくはt−ブチルチオ、メチルスルホニル、エチ ルスルホニル、n−もしくはi−プロピルスルホニル、メチルスルホニル、 エチルスルホニル、n−もしくはi−プロピルスルホニル、メチルアミノ、エチ ルアミノ、n−もしくはi−プロピルアミノ、n−もしくはi−プロピルアミノ 、n−、i−、s−もしくはt−ブチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ ノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−もしくはi−プロポキシカ ルボニル、ジメトキシホスホリル、ジエトキシホスホリル、ジプロポキシホスホ リルまたはジイソプロポキシホスホリルを表わし、 A3がまたそれぞれ随時フッ素または塩素で置換されていてもよいプロペニル 、ブテニル、プロペニルオキシ、ブテニルオキシ、プロペニルアミノ、ブテニル アミノ、プロピリデンアミノ、ブチリデンアミノ、プロペニルオキシカルボニル 、ブテニルオキシカルボニル、プロピニル、ブチニル、プロピニルオキシ、ブチ ニルオキシ、プロピニルアミノ、ブチニルアミノ、プロピニルオキシカルボニル またはブチニルオキシカルボニルを表わし、 A3がまたそれぞれ随時フッ素、塩素、シアノ、カルボキシル、メチル、エチ ル、n−もしくはi−プロピル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニル で置換されていてもよいシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク ロヘキシル、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキ シ、シクロヘキシルオキシ、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シク ロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロプロピルメトキシ、シクロブ チルメトキシ、シクロペンチルメトキシ、シクロヘキシルメトキシ、シクロペン チリデンアミノ、シクロヘキシリデンアミノ、シクロペンチルオキシカルボニル 、シクロヘキシルカルボニル、シクロペンチルメトキシカルボニルまたは シクロヘキシルメトキシカルボニルを表わすか、或いは A3がまたそれぞれ随時ニトロ、シアノ、カルボキシル、フッ素、塩素、臭素 、メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、トリフルオロメチル、メトキシ 、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロ メトキシ、メトキシカルボニル及び/またはエトキシカルボニルで置換されてい てもよいフェニル、フェニルオキシ、ベンジル、フェニルエチル、ベンジルオキ シ、フェニルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、(それぞれ随時完 全にか、または部分的に水素化されていてもよい)ピロリル、ピラゾリル、イミ ダゾリル、トリアゾリル、フリル、チエニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、 チアゾリル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ピリジニル 、ピリミジニル、トリアジニル、ピラゾリルメチル、フリルメチル、チエニルメ チル、オキサゾリルメチル、イソキサゾルメチル、チアゾルメチル、ピリジニル メチル、ピリミジニルメチル、ピラゾリルメトキシ、フリルメトキシまたはピリ ジルメトキシを表わし、 R4が水素、フッ素、塩素、臭素或いはそれぞれ随時フッ素及び/または塩素 で置換されていてもよいメチルまたはエチルを表わし、そして R5がそれぞれ随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよいメチルま たはエチルを表わす式(I)の化合物に関する。 上の一般的な基の定義または好適な範囲において挙げられるものは式(I)の 最終生成物及びまた対応する方法で製造に対して各々の場合に必要とされる出発 物質または中間体の両方に有効である。これらの基の定義はこれら自身の間、即 ち与えられる好適な範囲でも任意に組み合わせ得る。 例えば出発物質として5−クロロ−6−トリフルオロメチル−ピリミジン−4 −オン及び4,5−ジフルオロ−2−メトキシ−ベンゾニトリルを用いる場合、 本発明による方法における反応の経路は次式により説明し得る: 一般式(I)の化合物を製造するために本発明による方法において出発物質と して用いるハロゲノアレーンは一般に式(II)により定義される。式(II)にお いて、R1、R2及びR3は好ましくは、または殊にR1、R2及びR3に対して好適 または殊に好適なものとして式(I)の化合物の記載に関連して既に上に示され た意味を有し;xは好ましくはフッ素、塩素または臭素、殊にフッ素または塩素 を表わす。 式(II)の出発物質は公知であり、そして/または公知の方法により製造し得 る(ヨーロッパ特許出願公開第431,373号、同第441,004号、同第5 97,360号参照)。 一般式(I)の化合物を製造するために本発明による方法に出発物質として更 に用いられるピリミジン(チ)オンは一般に式(III)により定義される。式(I II)において、Q、R4及びR5は好ましくは、または殊にQ、R4及びR5に対し て好適または殊に好適なものとして式(I)の化合物の記載に関連して既に上に 示された意味を有する。 式(III)の出発物質は公知であり、そして/または公知の方法により 製造し得る(ヨーロッパ特許出願公開第357,201号、同第595,977号 、製造実施例参照)。 本発明による方法は好ましくは適当な酸受容体の存在下で行う。適当な酸受容 体は全ての通常の無機または有機塩基である。これらのものは例えばアルカリ金 属またはアルカリ土金属水素化物、水酸化物、アミド、アルコラート、酢酸塩、 炭酸塩または炭酸水素塩例えば水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリ ウムまたは水素化カルシウム、リチウムアミド、ナトリウムアミドまたはカリウ ムアミド、ナトリウムメチラートまたはカリウムメチラート、ナトリウムエチラ ートまたはカリウムエチラート、ナトリウムプロピラートまたはカリウムプロピ ラート、アルミニウムイソプロピラート、ナトリウムt−ブチラートまたはカリ ウムt−ブチラート、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム、水酸化アンモニ ウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムまたは酢酸カルシウム、酢酸アンモニウム 、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムまたは炭酸カルシウム、炭酸アンモニウム、炭 酸水素ナトリウムまたは炭酸水素カリウム、並びにまた塩基性有機窒素化合物例 えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルア ミン、エチル−ジイソプロピルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン 、ジシクロヘキシルアミン、エチル−ジシクロヘキシルアミン、N,N−ジメチ ルアニリン、N,N−ジメチル−ベンジルアミン、ピリジン、2−メチル−、3 −メチル−及び4−メチル−ピリジン、2,4−ジメチル−、2,6−ジメチル− 、3,4−ジメチル−及び3,5−ジメチル−ピリジン、5−エチル−2−メチル −ピリジン、N−メチルピペリジン、N,N−ジメチルアミノピリジン、ジアザ ビシクロオクタン(DABCO)、ジアザビシク ロノネン(DBN)またはジアザビシクロウンデセン(DBU)である。 本発明による方法を行うために適する希釈剤は通常の有機溶媒である。これら のものは殊に脂肪族、脂環式または芳香族の、随時ハロゲン化されていてもよい 炭化水素例えばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジ クロロベンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、 クロロホルム、四塩化炭素;エーテル例えばジエチルエーテル、ジイソプロピル エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはエチレングリコールジメチル エーテルもしくはエチレングリコールジエチルエーテル;ケトン例えばアセトン 、ブタノンまたはメチルイソブチルケトン;ニトリル例えばアセトニトリル、プ ロピオニトリルまたはベンゾニトリル;アミド例えばN,N−ジメチルホルムア ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアニリド、N−メチル ピロリドンまたはヘキサメチルリン酸トリアミド;エステル例えば酢酸メチルま たは酢酸エチル、スルホキシド例えばジメチルスルホキシド、アルコール例えば メタノール、エタノール、n−もしくはi−プロパノール、エチレングリコール モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリ コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、その水 との混合物または純水である。 本発明による方法の実施において、反応温度は比較的広い範囲にわたって変え 得る。一般に、−20乃至150℃間の温度、好ましくは−10乃至120℃間 の温度、殊に0乃至100℃間の温度を用いる。 本発明による方法は一般に大気圧下で行う。しかしながらまた、昇圧または減 圧下、一般に0.1乃至10バール間で操作することができる。 本発明による方法を行うために各々の場合に必要とされる出発物質は一般にほ ぼ等モル量で用いる。しかしながらまた、各々の場合に用いられる2つの成分の 1つを比較的大過剰に用いることができる。反応は一般に適当な希釈剤中で行い 、そして反応混合物を各々の場合に必要とされる温度で数時間撹拌する。本発明 による方法において、処理は各々の場合に常法により行う(製造実施例参照)。 本発明による活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、広葉樹の破壊剤及び、ことに殺 雑草剤として使用することができる。雑草とは、最も広い意味において、植物を 望まない場所に生長するすべての植物を意味する。本発明による物質は、本質的 に使用量に依存して完全除草剤または選択的除草剤として作用する。 本発明による活性化合物は、例えば、次の植物に関連して使用することができ る:次の属の双子葉雑草 :カラシ属(Sinapis)、マメグンバイナズナ属(Leipidium )、ヤエムグラ属(Galium)、ハコベ属(Stellaria)、シカギク属(Matricari a)、カミツレモドキ属(Anthemis)、ガリンソガ属(Galinsoga)、アカザ属( Chenopodium)、イラクサ属(Urtica)、キオン属(Senecio)、ヒユ属(Amaran thus)、スベリヒユ属(Portulaca)、オナモミ属(Xanthium)、ヒルガオ属(C onvolvulus)、サツマイモ属(Ipomoea)、タデ属(Polygonum)、セスバニア属 (Sesbania)、オナモミ属(Ambrosia)、アザミ属(Cirsium)、ヒレアザミ属 (Carduus)、ノゲシ属(Sonchus)、ナス属(Solanum)、イヌガラシ属(Rorip pa)、キカシグサ属(Rotala)、アゼナ属(Lindernia)、ラミウム属(Lamium )、クワガタソウ属(Veronica)、イチビ属(Abutilon)、エ メクス属(Emex)、チヨウセンアサガオ属(Datura)、スミレ属(Viola)、チ シマオドリコ属(Galeopsis)、ケシ属(Papaver)、センタウレア属(Centaure a)、ツメクサ属(Trifolium)、キツネノボタン属(Ranunculus)及びタンポポ 属(Taraxacum)。次の属の双子葉栽培植物 :ワタ属(Gossypium)、ダイズ属(Glycine)、フダン ソウ属(Beta)、ニンジン属(Daucus)、インゲンマメ属(Phaseolus)、エン ドウ属(Pisum)、ナス属(Solanum)、アマ属(Linum)、サツマイモ属(Ipomo ea)、ソラマメ属(Vicia)、タバコ属(Nicotiana)、トマト属(Lycopersicon )、ラッカセイ属(Arachis)、アブラナ属(Brassica)、アキノノゲシ属(Lac tuca)、キュウリ属(Cucumis)及びウリ属(Cucurbita)。次の属の単子葉雑草 :ヒエ属(Echinochloa)、エノコログサ属(Setaria)、キ ビ属(Panicum)、メヒシバ属(Digitaria)、アワガリエ属(Phleum)、スズメ ノカタビラ属(Poa)、ウシノケグサ属(Festuca)、オヒシバ属(Eleusine)、 ブラキアリア属(Brachiaria)、ドクムギ属(Lolium)、スズメノチヤヒキ属( Bromus)、カラスムギ属(Avena)、カヤツリグサ属(Cyperus)、モロコシ属( Sorghum)、カモジグサ属(Agropyron)、シノドン属(Cynodon)、ミズアオイ 属(Monochoria)、テンツキ属(Fimbristylis)、オモダカ属(Sagittaria)、 ハリイ属(Eleocharis)、ホタルイ属(Scirpus)、パスパルム属(Paspalum) 、カモノハシ属(Ischaemum)、スフエノクレア属(Sphenoclea)、ダクチロク テニウム属(Dactyloctenium)、ヌカボ属(Agrostis)、スズメノテッポウ属( Alopecurus)及びアペラ属(Apera)。次の属の単子葉栽培植物 :イネ属(Oryza)、トウモロコシ属(Zea)、 コムギ属(Triticum)、オオムギ属(Hordeum)、カラスムギ属(Avena)、ライム ギ属(Secale)、モロコシ属(Sorghum)、キビ属(Panicum)、サトウキビ属( Saccharum)、アナナス属(Ananas)、クサスギカズラ属(Asparagus)およびネ ギ属(Allium)。 しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれらの属にまったく限定さ れず、同じ方法で他の植物に及ぶ。 化合物は、濃度に依存して、例えば工業地域及び鉄道線路上、樹木が存在する か或いは存在しない道路及び広場上の雑草の完全防除に適する。同等に、化合物 は多年生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果樹園、ブドウ園、かんきつ類の木 立、クルミの果樹園、バナナの植林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植 林、油ヤシの植林、カカオの植林、小果樹の植え付け及びホップの栽培植物の中 の雑草の防除に、そして1年生栽培植物中の雑草の選択的防除に使用することが できる。 本発明による式(I)の化合物は発芽前及び発芽後法の両方により単子葉及び 双子葉の栽培植物における単子葉の雑草の選択的防除に殊に適している。 本活性化合物は普通の組成物例えば、溶液、乳液、水和剤、懸濁剤、粉末、泡 沫剤、塗布剤、可溶性粉末、顆粒、懸濁乳化濃厚剤、活性化合物を含浸させた天 然及び合成物質、並びに重合物中の極く細かいカプセルに変えることができる。 これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化合物を伸展剤、即ち液体 溶媒及び/または固体の担体と随時表面活性剤、即ち乳化剤及び/または分散剤 及び/または発泡剤と混合して製造される。 また伸展剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶媒を 用いることもできる。液体溶媒として、主に、芳香族炭化水素例えばキシレン、 トルエンもしくはアルキルナフタレン、塩素化された芳香族もしくは塩素化され た脂肪族炭化水素例えばクロロベンゼン、クロロエチレンもしくは塩化メチレン 、脂肪族炭化水素例えばシクロヘキサン、またはパラフィン例えば鉱油留分、鉱 油及び植物油、アルコール例えばブタノールもしくはグリコール並びにそのエー テル及びエステル、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ チルケトンもしくはシクロヘキサノン、強い有極性溶媒例えばジメチルホルムア ミド及びジメチルスルホキシド並びに水が適している。 固体の担体として、例えばアンモニウム塩及び粉砕した天然鉱物、例えばカオ リン、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタパルジャイト、モントモリロナイ ト、またはケイソウ土並びに粉砕した合成鉱物例えば高度に分散性ケイ酸、アル ミナ及びシリケートが適している;粒剤に対する固体の担体として、粉砕し且つ 分別した天然岩、例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石並びに無機及 び有機のひきわり合成顆粒及び有機物質の顆粒例えばおがくず、やしがら、トウ モロコシ穂軸及びタバコの茎が適している;乳化剤及び/または発泡剤として非 イオン性及び陰イオン性乳化剤例えばポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポ リオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル例えばアルキルアリールポリグリコ ールエーテル、アルキルスルホネート、アルキルスルフェート、アリールスルホ ネート並びにアルブミン加水分解生成物が適している;分散剤として、例えばリ グニンスルファイト廃液及びメチルセルロースが適している。 接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉状、粒状またはラ テックス状の天然及び合成重合体例えばアラビアゴム、ポリビニルアルコール及 びポリビニルアセテート並びに天然リン脂質例えばセファリン及びレシチン、及 び合成リン脂質を組成物に用いることができる。更に添加剤は鉱油及び植物油で あることができる。 着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及びプルシアンブルー並び に有機染料例えばアリザリン染料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、及び 微量の栄養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリブテン及び亜鉛 の塩を用いることができる。 調製物は一般に活性化合物0.1乃至95重量%間、好ましくは0.5乃至90 重量%間を含有する。 また本発明による活性化合物は、そのまま或いはその調製物の形態において、 公知の除草剤との混合物として雑草を防除するために用いることができ、仕上げ た配合物または槽混合が可能である。 混合物に適する除草剤は公知の除草剤例えばアニリド例えばジフルフェニカン 及びプロパニル;アリールカルボン酸例えばジクロロピコリン酸、ジカンバ及び ピコロラム;アリールオキシアルカン酸例えば2,4−D、2,4−DB、2,4 −DP、フルロキシピル、MCPA、MCPP及びトリクロピル;アリールオキ シ−フェノキシ−アルカン酸エステル例えばジクロホップ−メチル、フェノキサ プロップ−エチル、フルアジホップ−ブチル、ハロキシホップ−メチル及びキザ ロホップ−エチル;アジノン例えばクロリダゾン及びノルフルラゾン;カルバメ ート例えばクロルプロファム、デスメジファム、フェンメジファム及びプロファ ム、クロロアセトアニリド例えばアラクロル、アセトクロル、ブタクロル、メタ ザクロル、メトラクロル、プレチラクロル及びプロパクロル;ジニト ロアニリン例えばオリザリン、ペンジメタリン及びトリフルラリン;ジフェニル エステル例えばアシフルオルフェン、ビフェノックス、フルオログリコフェン、 ホメサフェン、ハロサフェン、ラクトフェン及びオキシフルオルフェン;ウレア 例えばクロルトルロン、ジウロン、フルオメツロン、イソプロツロン、リヌロン 及びメタベンズチアズロン;ヒドロキシルアミン例えばアロキシジム、クレトジ ム、シクロキシジム、セトキシジム及びトラルコキシジム;イミダゾリノン例え ばイマゼタピル、イマザメタベンズ、イマザピル及びイマザキン;ニトリル例え ばブロモキシニル、ジクロベニル及びイオキシニル;オキシアセトアミド例えば メフェナセット;スルホニルウレア例えばアミドスルフロン、ベンスルフロン− メチル、クロリムロン−エチル、クロルスルフロン、シノスルフロン、メトスル フロン−メチル、ニコスルフロン、プリミスルフロン、ピラゾスルフロン−エチ ル、チフェンスルフロン−メチル、トリアスルフロン及びトリベヌロン−メチル ;チオカルバメート例えばブチレート、シクロエート、ジ−アレート、EPTC 、エスプロカルブ、モリネート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ及びトリ− アレート;トリアジン例えばアトラジン、シアナジン、シマジン、シメトリン、 ターブトリン及びターブチラジン;トリアジノン例えばヘキサジノン、メタミト ロン及びメトリブジン;他のもの例えばアミノトリアゾール、ベンフレセート、 ベンタゾン、シンメチリン、クロマゾン、クロピラリド、ジフェンゾクアット、 ジチオピル、エトフメセート、フルオロクロリドン、グルホシネート、グリホセ ート、イソキサベン、ピリデート、キンクロラック、キンメラック、スルホセー ト及びトリジファンがある。 他の公知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤(fungicides)、殺虫 剤(insecticides)、殺ダニ剤(acaricides)、殺線虫剤(nematicides)、小 鳥忌避剤、植物栄養剤及び土壌改良剤との混合物が可能である。 除草剤として使用する場合、本活性化合物はそのままで、その配合物の形態ま たはその配合物から更に希釈して調製した使用形態、例えば調製済液剤、懸濁剤 、乳剤、粉剤、塗布剤及び粒剤の形態で使用することができる。これらのものは 普通の方法で、例えば液剤散布(watering)、スプレー、アトマイジング(atom ising)または粒剤散布(scattering)によって施用される。 本発明による活性化合物は植物の発芽の前または後に施用することができる。 またこれらのものは種子をまく前に土壌中に混入することができる。 本活性化合物の使用量は実質的な範囲内で変えることができる。この量は本質 的に所望の効果の特質に依存する。一般に、施用量は土壌表面1ヘクタール当り 活性化合物5g乃至5kg間、好ましくは10g乃至2kg/ha間である。 本発明による活性化合物の製造及び使用は次の実施例から知ることができる。 [実施例]製造実施例 実施例1 6−トリフルオロメチル−ピリミジン−4−オン3.0g(18.3ミリモル) 、炭酸カリウム2.5g(18.3ミリモル)及びジメチルスルホキシド50ml の混合物を20℃で15時間撹拌した。次に2,4,5−トリフルオロ−ベンゾニ トリル2.9g(18.3ミリモル)を加え、そして混合物を60℃で8時間撹拌 した。混合物を減圧下で濃縮した後、残渣を水と混合し、そして結晶性生成物を 濾過により単離した。 融点95℃の3−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル)−6−トリ フルオロメチル−ピリミジン−4−オン2.7g(理論値の49%)が得られた 。 実施例2 3−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル)−6−トリフルオロメチ ル−ピリミジン−4−オン(実施例1参照)4.3g(14.3ミリモル)、エタ ンスルホンアミド1.6g(14.3ミリモル)、炭酸カリウム2.0g(14.3 ミリモル)及びジメチルスルホキシド50mlの混合物を60℃で6時間撹拌し 、次に減圧下で濃縮した。残渣を水中に取り入れ、そして酸性にした後に塩化メ チレンと共に振盪した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾過した。濾 液を濃縮し、そして残渣として得られた粗製生成物をカラムクロマトグラフィー (シリカゲル、酢酸エチル/クロロホルム、1:1容量)により精製した。 融点170℃の3−(4−シアノ−5−エチルスルホニルアミノ−2−フルオ ロ−フェニル)−6−トリフルオロメチル−ピリミジン−4−オン100mg( 理論値の2%)が得られた。 また例えば下の表1に示す式(I)の化合物を製造するために実施例1及び2 並びに本発明による方法の一般的記載の方法を用いることができる: 式(III)の出発物質: 実施例(III−1) 酢酸ホルムアミジン30g(288ミリモル)、トリフルオロ酢酸エチル35 .4g(192ミリモル)、炭酸ナトリウム24.5g(230ミリモル)及びメ タノール250mlの混合物を60℃で20時間撹拌し;冷却後、次に混合物の pH値を濃塩酸56gの添加により約3に調整し、そして結晶性生成物を濾過に より単離した。 融点157℃の6−トリフルオロメチル−ピリミジン−4−オン22.8g( 理論値の48%)を得た。 実施例A 発芽前試験 溶 媒:アセトン5重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル1重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合物1重量部を上記量の 溶媒と混合し、上記量の乳化剤を加え、そしてこの濃厚物を水で希釈して所望の 濃度にした。 試験植物の種子を通常の土壌中にまき、24時間後、活性化合物の調製物を液 剤散布した。単位面積当りの水の量を一定に保持することが適当である。調製物 中の活性化合物の濃度は重要ではなく、単位面積当り施用した活性化合物の量の みが決めてとなる。3週間後、植物に対する 損傷の程度を、未処理対照植物の発育と比較して、%損傷として評価した。数字 は次を表わす: 0%=作用なし(未処理対照と同様) 100%=全て撲滅 この試験において、例えば製造実施例2により得られた化合物は15g/ha の量で施用した場合、作物例えば小麦及び大豆(0%)により極めて良好に許容 され、そしてイチビ属(90%)、ヒユ属(80%)、オナモミ属(100%) 、ガリンゾガ属(100%)、ナス属(80%)及びスミレ属(80%)の雑草 に対して強い活性を示した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AU,BB,BG,BR,BY,CA, CN,CZ,FI,HU,JP,KR,KZ,LK,M X,NO,NZ,PL,RO,RU,SK,UA,US (72)発明者 ザンテル,ハンス−ヨアヒム ドイツ連邦共和国デー−51371レーフエル クーゼン・グリユンシユトラーセ9アー (72)発明者 ドリンガー,マルクス ドイツ連邦共和国デー−51381レーフエル クーゼン・ブルシヤイダーシユトラーセ 154ベー

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.一般式(I) 式中、Qは酸素または硫黄を表わし、 R1は水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、アルキルまたはハロゲノアルキル を表わし、 R2はシアノまたはチオカルバモイルを表わし、 R3は基 −A1−A2−A3 を表わし、ここに A1は単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基 −N−A4−を表わし、ここにA4は水素、ヒドロキシル、アミノ、アルキル、ア ルコキシ、アリール、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルス ルホニル、アリールカルボニルまたはアリールスルホニルを表わすか、或いは A1はまたそれぞれ随時置換されていてもよいアルカンジイル、アルケンジ イル、アザアルケンジイル、アルキンジイル、シクロアルカンジイル、シクロア ルケンジイルまたはアレーンジイルを表わし、 A2は単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基 −N−A4−を表わし、ここにA4は水素、アルキル、アリ ール、アルキルカルボニル、アルキルスルホニルまたはアリールスルホニルを表 わし、 A2はまたそれぞれ随時置換されていてもよいアルカンジイル、アルケンジ イル、アザアルケンジイル、アルキンジイル、シクロアルカンジイル、シクロア ルケンジイルまたはアレーンジイルを表わし、そして A3は水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、イソシアノ、チ オシアナト、ニトロ、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、スルホ 、クロロスルホニル、ハロゲン或いはそれぞれ随時置換されていてもよいアルキ ル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、 アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルコキシカルボニル、ジアルコキシ(チ オ)ホスホリル、アルケニル、アルケニルオキシ、アルケニルアミノ、アルキリ デンアミノ、アルケニルオキシカルボニル、アルキニル、アルキニルオキシ、ア ルキニルアミノ、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキル、シクロアルキ ルオキシ、シクロアルキルアルキル、シクロアルキルアルコキシ、シクロアルキ リデンアミノ、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルキルアルコキシカ ルボニル、アリール、アリールオキシ、アリールアルキル、アリールアルコキシ 、アリールオキシカルボニル、アリールアルコキシカルボニル、複素環、複素環 式アルキル、複素環式アルコキシまたは複素環式アルコキシカルボニルを表わし 、 R4は水素、ハロゲン、アルキルまたはハロゲノアルキルを表わし、そして R5はアルキルまたはハロゲノアルキルを表わすか、或いはR4と一緒になっ てアルカンジイルを表わす、 の置換されたピリミジン(チ)オン。 2.Qが酸素または硫黄を表わし、 R1が水素、シアノ、ニトロ、フッ素、塩素、臭素または炭素原子1〜4個を 有する随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよいアルキルを表わし、 R2がシアノまたはチオカルバモイルを表わし、 R3が基 −A1−A2−A3 を表わし、ここに A1が単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基− N−A4−を表わし、ここにA4が水素、ヒドロキシル、アミノ、C1〜C4−アル キル、C1〜C4−アルコキシ、フェニル、C1〜C4−アルキルカルボニル、C1 〜C4−アルコキシカルボニル、C1〜C4−アルキルスルホニル、フェニルカル ボニルまたはフェニルスルホニルを表わすか、或いは A1がまたそれぞれ随時フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよいC1〜 C6−アルカンジイル、C2〜C6−アルケンジイル、C2〜C6−アザアルケンジ イル、C2〜C6−アルキンジイル、C3〜C6−シクロアルカンジイル、C3〜C6 −シクロアルケンジイルまたはフェニレンを表わし、 A2が単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基− N−A4−を表わし、ここにA4が水素、ヒドロキシル、C1〜 C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、フェニル、C1〜C4−アルキルスルホ ニルまたはフェニルスルホニルを表わし、 A2がまたそれぞれ随時フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよいC1〜 C6−アルカンジイル、C2〜C6−アルケンジイル、C2〜C6−アザアルケンジ イル、C2〜C6−アルキンジイル、C3〜C6−シクロアルカンジイル、C3〜C6 −シクロアルケンジイルまたはフェニレンを表わし、 A3が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、イソシアノ、チオ シアナト、ニトロ、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、スルホ、 クロロスルホニル、ハロゲン或いは各々の場合にアルキル基中に炭素原子1〜6 個を有し、それぞれ随時ハロゲンまたはC1〜C4−アルコキシで置換されていて もよいアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル スルホニル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルコキシカルボニルまたは ジアルコキシ(チオ)ホスホリルを表わし、 A3がまた各々の場合にアルケニル、アルキリデンまたはアルキニル基中に炭 素原子2〜6個を有し、それぞれ随時ハロゲンで置換されていてもよいアルケニ ル、アルケニルオキシ、アルケニルアミノ、アルキリデンアミノ、アルケニルオ キシカルボニル、アルキニル、アルキニルオキシ、アルキニルアミノまたはアル キニルオキシカルボニルを表わし、 A3がまた各々の場合にシクロアルキル基中に炭素原子3〜6個及び随時アル キル基中に炭素原子1〜4個を有し、それぞれ随時ハロゲン、シアノ、カルボキ シル、C1〜C4−アルキル及び/またはC1〜C4−アルコキシ−カルボニルで置 換されていてもよいシクロアルキル、シクロ アルキルオキシ、シクロアルキルアルキル、シクロアルキルアルコキシ、シクロ アルキリデンアミノ、シクロアルキルオキシカルボニルまたはシクロアルキルア ルコキシカルボニルを表わし、 A3がまたそれぞれ随時ニトロ、シアノ、カルボキシル、ハロゲン、C1〜C4 −アルキル、C1〜C4−ハロゲノアルキル、C1〜C4−アルキルオキシ、C1〜 C4−ハロゲノアルキルオキシ及び/またはC1〜C4−アルコキシカルボニルで 置換されていてもよいフェニル、フェニルオキシ、フェニル−C1〜C4−アルキ ル、フェニル−C1〜C4−アルコキシ、フェニルオキシカルボニルまたはフェニ ル−C1〜C4−アルコキシカルボニル、(それぞれ随時完全にか、または部分的 に水素化されていてもよい)ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリ ル、フリル、チエニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチア ゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、トリ アジニル、ピラゾリル−C1〜C4−アルキル、フリル−C1〜C4−アルキル、チ エニル−C1〜C4−アルキル、オキサゾリル−C1〜C4−アルキル、イソキサゾ ール−C1〜C4−アルキル、チアゾール−C1〜C4−アルキル、ピリジニル−C1 〜C4−アルキル、ピリミジニル−C1〜C4−アルキル、ピラゾリルメトキシ、 フリルメトキシ、またはパーヒドロピラニルメトキシもしくはピリジルメトキシ を表わし、 R4が水素、フッ素、塩素または臭素、或いは炭素原子1〜4個を有し、随時 フッ素及び/または塩素で置換されていてもよいアルキルを表わし、そして R5が炭素原子1〜4個を有し、随時フッ素及び/または塩素で置換されてい てもよいアルキルを表わすか、或いはR4と一緒になってC3〜 C4−アルカンジイルを表わすことを特徴とする、請求の範囲第1項記載の一般 式(I)の置換されたピリミジン(チ)オン。 3.R1が水素、フッ素または塩素を表わし、 R2がシアノまたはチオカルバモイルを表わし、 R3が基 −A1−A2−A3 を表わし、ここに A1が単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基− N−A4−を表わし、ここにA4が水素、ヒドロキシル、メチル、エチル、n−も しくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、メチ ルスルホニルまたはエチルスルホニルを表わすか、或いは A1がまたメチレン、エタン−1,1−ジイル、エタン−1,2−ジイル、プロ パン−1,1−ジイル、プロパン−1,2−ジイル、プロパン−1,3−ジイル、 エテン−1,2−ジイル、プロペン−1,2−ジイル、プロペン−1,3−ジイル 、エチン−1,2−ジイル、プロピン−1,2−ジイルまたはプロピン−1,3− ジイルを表わし、 A2が単結合、或いは酸素、硫黄、−SO−、−SO2−、−CO−または基− N−A4−を表わし、ここにA4が水素、ヒドロキシル、メチル、エチル、n−も しくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、メチ ルスルホニル、エチルスルホニル、n−もしくはi−プロピルスルホニルまたは フェニルスルホニルを表わすか、或いは A2がまたメチレン、エタン−1,1−ジイル、エタン−1,2−ジイ ル、プロパン−1,1−ジイル、プロパン−1,2−ジイル、プロパン−1,3− ジイル、エテン−1,2−ジイル、プロペン−1,2−ジイル、プロペン−1,3 −ジイル、エチン−1,2−ジイル、プロピン−1,2−ジイルまたはプロピン− 1,3−ジイルを表わし、 A3が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、イソシアノ、チオ シアナト、ニトロ、カルボキシル、カルバモイル、スルホ、フッ素、塩素、臭素 、或いは随時フッ素、塩素、メトキシまたはエトキシで置換されていてもよいメ チル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、i−、s−もしくはt−ブチ ル、n−、i−、s−もしくはt−ペンチル、メトキシ、エトキシ、n−もしく はi−プロポキシ、n−、i−、s−もしくはt−ブトキシ、n−、i−、s− もしくはt−ペンチルオキシ、メチルチオ、エチルチオ、n−もしくはi−プロ ピルチオ、n−、i−、s−もしくはt−ブチルチオ、メチルスルホニル、エチ ルスルホニル、n−もしくはi−プロピルスルホニル、メチルスルホニル、エチ ルスルホニル、n−もしくはi−プロピルスルホニル、メチルアミノ、エチルア ミノ、n−もしくはi−プロピルアミノ、n−もしくはi−プロピルアミノ、n −、i−、s−もしくはt−ブチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、 メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−もしくはi−プロポキシカルボ ニル、ジメトキシホスホリル、ジエトキシホスホリル、ジプロポキシホスホリル またはジイソプロポキシホスホリルを表わし、 A3がまたそれぞれ随時フッ素または塩素で置換されていてもよいプロペニル 、ブテニル、プロペニルオキシ、ブテニルオキシ、プロペニルアミノ、ブテニル アミノ、プロピリデンアミノ、ブチリデンアミノ、プ ロペニルオキシカルボニル、ブテニルオキシカルボニル、プロピニル、ブチニル 、プロピニルオキシ、ブチニルオキシ、プロピニルアミノ、ブチニルアミノ、プ ロピニルオキシカルボニルまたはブチニルオキシカルボニルを表わし、 A3がまたそれぞれ随時フッ素、塩素、シアノ、カルボキシル、メチル、エチ ル、n−もしくはi−プロピル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニル で置換されていてもよいシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク ロヘキシル、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキ シ、シクロヘキシルオキシ、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シク ロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロプロピルメトキシ、シクロブ チルメトキシ、シクロペンチルメトキシ、シクロヘキシルメトキシ、シクロペン チリデンアミノ、シクロヘキシリデンアミノ、シクロペンチルオキシカルボニル 、シクロヘキシルカルボニル、シクロペンチルメトキシカルボニルまたはシクロ ヘキシルメトキシカルボニルを表わすか、或いは A3がまたそれぞれ随時ニトロ、シアノ、カルボキシル、フッ素、塩素、臭素 、メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、トリフルオロメチル、メトキシ 、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロ メトキシ、メトキシカルボニル及び/またはエトキシカルボニルで置換されてい てもよいフェニル、フェニルオキシ、ベンジル、フェニルエチル、ベンジルオキ シ、フェニルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、(それぞれ随時完 全にか、または部分的に水素化されていてもよい)ピロリル、ピラゾリル、イミ ダゾリル、トリアゾリル、フリル、チエニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、 チ アゾリル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ピリジニル、 ピリミジニル、トリアジニル、ピラゾリルメチル、フリルメチル、チエニルメチ ル、オキサゾリルメチル、イソキサゾルメチル、チアゾルメチル、ピリジニルメ チル、ピリミジニルメチル、ピラゾリルメトキシ、フリルメトキシまたはピリジ ルメトキシを表わし、 R4が水素、フッ素、塩素、臭素或いはそれぞれ随時フッ素及び/または塩素 で置換されていてもよいメチルまたはエチルを表わし、そして R5がそれぞれ随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよいメチルま たはエチルを表わすことを特徴とする、請求の範囲第1項記載の一般式(I)の 置換されたピリミジン(チ)オン。 4.一般式(I) 式中、Q、R1、R2、R3、R4及びR5は請求の範囲第1項記載の意味を有 する、 の置換されたピリミジン(チ)オンを製造する際に、式(II) 式中、R1、R2及びR3は請求の範囲第1項記載の意味を有し、そ して Xはハロゲンを表わす、 のハロゲノアレーンを必要に応じて酸受容体の存在下で一般式(III) 式中、Q、R4及びR5は請求の範囲第1項記載の意味を有する、のピリミジ ン(チ)オンと反応させ、そして必要に応じて、生じる一般式(I)の化合物に おいて、Q、R1、R2、R3、R4及びR5で定義される基を常法で上記の基の定 義の範囲内で更に化学的修飾に付すことを特徴とする、一般式(I)の置換され たピリミジン(エチ)オンの製造方法。 5.請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の一般式(I)の置換されたピリ ミジン(チ)オンを植物及び/またはその生育地上に作用させることを特徴とす る、望ましくない植物の防除方法。 6.望ましくない植物の防除のための請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載 の一般式(I)の置換されたピリミジン(チ)オンの使用。 7.請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の一般式(I)の置換されたピリ ミジン(チ)オンを増量剤及び/または表面活性剤と混合することを特徴とする 、除草性組成物の製造方法。 8.請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の式 (I)の置換されたピリミジン(チ)オンを少なくとも1種含むことを特徴とす る、除草性組成物。
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