JPH10504662A - 版面現像において現像液を若返らせるための方法と装置 - Google Patents

版面現像において現像液を若返らせるための方法と装置

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JPH10504662A JP8508093A JP50809396A JPH10504662A JP H10504662 A JPH10504662 A JP H10504662A JP 8508093 A JP8508093 A JP 8508093A JP 50809396 A JP50809396 A JP 50809396A JP H10504662 A JPH10504662 A JP H10504662A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、版面製造操作において一定の現像液力価を維持する新規の方法を開示する。この方法は、従来の方法が許すより、より少ない現像液を用いてより多くの乾板の現像を可能にするとともに、液体廃棄物の生成量を減少させる。前記方法は、バッチ式および連続式の両方の乾板現像処理に適している。また、本発明は、上述した方法にふさわしい装置を開示する。

Description

【発明の詳細な説明】 版面現像において現像液を若返らせるための方法と装置 発明の分野 この発明は、新規の分離方法と、写真およびリトグラフの工業分野において一 般的な実用性を有した前記方法を実施する装置とを開示する。本方法および本装 置は、高分子量の分子および固体粒子の顕色浴からの連続的除外を許容する限外 濾過膜を新規な方法で使用することにより、実質的に一定の現像液力価を持つ現 像方法を達成する。さらに、本方法は、版面現像工程から水性の液体廃棄物を濃 縮された固体廃棄物として処理するメカニズムを達成する。 背景技術 露光済みの写真フィルムを処理するためにいくつかの処理ステップを行う写真 工業と同様に、平版印刷術は、版面を処理するために一般にいくつかのステップ を行う。そのようなステップは、現像、固着、水洗およびその他である。各ステ ップにおいては、処理溶液を使用する。そして、多量の乾板を処理するときには 、各処理溶液の性能を実質的に一定に保つことが習慣的に行われる。 版面の準備におけるキー・ステップは、画像を露光させた乾板の現像である。 通常行われる従来の現像ステップは、乾板を現像液に浸してすすぐタイプの操作 であり、一般に、絶えず変化する現像液力価に苦しんでいる。この問題を避ける ために、現像ステップにおいて消費された成分は周期的な補充によって典型的に 補われる。主に環境および経済的な理由のために工業分野においてなされた努力 は、水洗ステップにおける補給物である水洗水を含む補給物の使用を徹底的に減 らすことであった。水を不要とする現代的な自動プロセッサにおいても、かなり の量の廃棄溶液を排出する必要がある。したがって、現像液力価を実質的に一定 レベルに維持することができ、かつ廃物溶液の量を最小とすることができる新し い方法を識別することに対して持続的な関心がもたれている。 米国特許第5,015,560号に記載されている方法においては、写真工程 における処理溶液は、廃棄物を固体の形で生産するために液体を吸収することが できる樹脂により処理され、多糖類、澱粉誘導体およびビニール・ポリマーを含 んで開示された適当な樹脂が取り除かれる 交差濾過の限外濾過膜を用いる従来の方法においては、溶質、溶剤、および他 のより低分子量の原料中に懸濁した原料内に濃縮された動作流体は、きれいな液 のリザーバにしみ通る。きれいな液が動作流体として要求されるならば、バッチ プロセスが用いられ、動作リバーザは空にされてきれいなリバーザとして用いら れる。しかし、それはまだいくつかの欠点に苦しむ。バッチプロセスは、例えば 、ライン外に保持されたタンク移送ポンプ、および消耗検出方法を必要とする。 また、カートリッジの除去は、特殊な熟練を必要とするとともにライン外でなさ れなければならない。したがって、それは、システムが働いている(新しい重い 分子および他の廃棄されない原料を集めている)間に、システムをきれいに維持 し続けるために手動による処理若しくは複雑なロボット工程を必要とする。他の 不利な点は、版面プロセッサを含む多くの工程において、動作流体はゆっくりと 汚れるとともに突然にきれいになるので、手動による浄化を必要とする処理装置 における汚れ衝撃(dirt shocking)および部品の損傷に帰結する。 したがって、この発明の目的は、動作流体の力価および活性が工程を通して実 質的に一定であり、かつ水若しくは他の適当な化学物質を補充する必要性のない 現像システムを提供することにある。バッチ操作および連続操作の両方を受け入 れことができるように、本方法が十分に柔軟であることが望ましい。 この発明の他の目的は、現像浴における汚れた液が、固体粒子を排除するため に連続的に濾過メカニズムを通過する方法を提供することにある。 この発明のさらなる目的は、現像工程からの水性の液体廃棄物から濃縮された 固体廃棄物が排出される方法を提供することにある。 本発明の他の目的は、上述した、およびその他の目的をなしとげる適当な装置 を提供することにある。 本発明の他の目的および利点は、付随する記述および図面から明白になる。 発明の概要 本発明の一つ以上の目的は、写真およびリトグラフの工業分野、特に版面工業 分野における現像ステップの使用にふさわしい本発明の方法によってなしとげら れる。本方法は、本発明の方法なしで可能であるよりもより多くの乾板を現像す る際に、その現像活性が実質的に一定な活性を保有するように現像液を若返らせ る。 版面工業における使用の実例においては、本方法は、使い古した版面現像液を プロセッサ・タンクから一つ以上の限外濾過膜に通して、前記現像液の中の水分 および低分子量材料を、さらなる現像のためにプロセッサ・タンク内にしみ通っ て戻らせるとともに、色素、樹脂、廃石等の粒子と、樹脂、感光性の原料、他の ポリマー等の高分子量分子とを含む残りの部分は、汚い現像液レセプタクル内に 保有させる。このように濃縮された汚い現像液は、重合体の超吸収剤材料によっ て処理され、固形物に変換される。それから、この固形物は固体廃棄物として処 分される。本発明の方法は、前記フィルターを介しての現像液の処理が、使用の 間に前記現像装置(プロセッサ・タンク)を停止させ若しくは水抜きをすること なく連続的に実行できるように設計される。 前記方法は、適当な配管工事設備および各ステップを通過する液の流量を調節 することにより、柔軟であり、かつ乾板現像のバッチ処理若しくは連続処理に用 いることができる。したがって、例えば、連続操作に先行してプロセッサ・タン ク内における液面レベルを絶えずモニターし一定のレベルに維持する、間接的な 補充システムを前記装置に加えることができる。前記方法は十分に柔軟であり、 例えば、一定の流動度を維持している間に限外濾過器の汚れた側面側の圧力を一 定に維持する能力のような、他の改善を備えることができる。 前記発明の方法は、乾板処理装置を実質的に一定の現像液力価に維持する能力 を提供する。これは、クリーニング・サービスの要求を減少させる。前記限外濾 過膜の使用は、前記現像液を長持ちさせるとともに、現像液の消費量および液体 廃棄物を減少させる。同じく、汚い現像液を濃縮して吸収することは液体廃棄物 を削除する。さらに、1つ以上のフィルターを用いることは、システムは同時に 1つ以上のカートリッジ上で動作させ、システムをシャットダウンさせることな く流動度を増やして交換効率を増加させることを可能にする。 図面の簡単な説明 本発明は、本発明の連続的現像方法の工程系統図である図1を参照して詳細に 後述される。 実施例 本発明の方法は、本発明の方法なしで可能であるより多くの乾板を連続的に現 像する際に、現像活性およびその力価を一定に保有するように有利に現像液を若 返らせる。1つの実施例において、版面工業に適用できる本方法は、処理装置タ ンクに含まれる使い古した版面現像液を一つ以上の限外濾過膜に通し、現像液中 の水および低分子量材料をきれいな現像液のためのレセプタクルに透過させると ともに、高い分子量分子粒子から成る残余の部分は汚い現像液レセプタクルの中 に保有させる。本発明の方法は、図1に記載された本発明の装置に関連して以下 に記述されるが、このような記述は解説を目的とするものであり、本発明の方法 若しくは装置のいずれをも限定することを目的とするものでないことは理解され るべきである。 図1に図式的に示された装置10は、現像液力価が実質的に一定に保たれるよ うに版面現像液を若返らせる本発明の方法のためのものである。装置10は、ふ た32、キャッチ皿12および、タンク14のような適当な処理装置手段を含む 。版面の現像はタンク14内で行われ、汚れた現像液を発生させる。水抜きメカ ニズム16は、処理装置タンク14の側壁若しくはその底壁のいずれか、好まし くはその底壁を介して汚い現像液を保持するリバーザ装置18内に汚い現像液を 水抜きする。汚い現像液は、ポンピング・メカニズム20によって、リバーザ1 8から一つ以上の限外濾過手段、一般に22として描かれた限外濾過膜に移送さ れる。このポンピング・メカニズム20は、濾過膜の高圧側の側面に対する汚い 現像液の流動度を制御するために有利に用いられる。濾過膜によって、水および 低分子量材料を含むしみ通ったきれいな液体と、粒子および高い分子量材料を含 む残余の液体若しくは塊とに分離される。実施例に記載されたテストによって、 驚くべきことに、反復されたサイクルの後においても、この濾過膜をしみ通った 液体は、力価および活性において実質的に新鮮な現像液と等しいことが見いださ れた。 濾過膜をしみ通った液体が乾板のより多くの現像のために処理装置タンク14 に戻されるのに対して、残余の部分は汚い現像液リバーザ18に戻される。より 多くの汚い現像液は限外濾過器に流入し、これによりサイクルが維持される。処 理装置タンクの中の動作現像液液に濾過膜をしみ通った液体が絶えず補給される ので、処理装置タンクの中の現像液の力価は実質的に一定のままに保たれる。他 のすべての保護手段が故障しても現像液を保護するために、処理装置タンク14 および汚い現像液リバーザ18中の液の容積を含むことができるように、キャッ チ皿12は十分に大きいことが好ましい。 もう一つの実施例においては、新しい現像液を保持するタンク24を有するこ とによって上記の装置はさらに改善される。新しい現像液は、必要とされるとき はいつでも、ポンピング手段30および別個の管路を用いて処理装置タンク14 へ移送される。図1に示すように、濾過膜をしみ通った液が処理装置タンク14 に戻された時に、新しい現像液は濾過膜をしみ通った液と混ぜ合わされる。希望 する場合、限外濾過器からのしみ通った液体は別個にタンク内に含まれ、そこか ら単独であるいはタンク24からの新しい現像液と共に、処理装置タンクにポン プで移送される。したがって、例えば、処理装置タンク14からの現像液の蒸発 および漏れによって、限外濾過膜14をしみ通った液体の戻り量が水抜きメカニ ズム16による水抜き量を下回ったり、汚い現像液リバーザ18の中の流体レベ ルが低下したりすると、低いレベル検出器26は補充システムを作動させて新し い現像液を14を供給させる。このことは、水抜きメカニズム16を介しての水 抜き量を増加させ、汚い現像液リバーザ18の中の流体レベルの増加をもたらす ので、補充システムの作動を停止させる。 もう一つの実施例は、プロセッサ・タンク14から汚い現像液リザード18に 延びる、オーバーフロー配管28を有する。このオーバーフロー配管28は、図 1が示す14から18に延びるドレン管の代わりとすることもできるし、追加す ることもできる。このような構造は、タンク内の流体レベルがある最適レベル以 上となったときに、処理装置タンクから汚い現像液リバーザへの汚い液の継続的 なオーバーフローを許容する。このことは、現像操作の連続モードを許容しかつ 容易にする。 他の実施例は、残余の部分がフィルターから汚い現像液リバーザ18に戻され る経路の途中に、感圧性の絞り弁手段34を有する。このような絞り弁手段は、 残余の部分の流れの圧力を、流量にかかわりなく一定に維持する、 本発明の装置および方法は、有利には、限外濾過膜22における複数のフィル タ・カートリッジの使用を許容する。このことは,システムがしみ通った液体の 流量を増加させるために同時に1つ以上のカートリッジの上で動作すること、若 しくは1つのカートリッジにおける交換効率を増加させること、あるいはシステ ムを停止させることなくカートリッジを交換すること、を許容する。 リバーザ18の中身の粘度が限外濾過器を介しての能率的なポンプ移送にとっ てあまりに高くなったときには、リバーザ18の中身は、適当な超吸収体、例え ば多糖類、澱粉、ガム、ニュージャージー州Somervilleのヘキスト・ セラニーズ社から供給されるSANWETブランド超吸収体のような重合体の材 料等により処理され、固体廃棄物として十分に適当な固体の形に変換される。フ ィルターによる濾過の割合が実際的なレベルを下回ったときには、フィルターは 新しい現像液、水、酸で酸化させた水等の適当な液体により水洗されるが、ジア ゾニウム・タイプ感光性のコンパウンドが乾板を処理する際に使われる時には、 酸により酸化された塩基水により酸化された水が本発明を実施する際に非常に効 果的であることが見いだされた。 限外濾過カートリッジは、汚い現像液を効果的にしみ通った液体と残余の部分 とに分離することができる、どのような適当な材料からでも製造することができ る。選ばれた限外濾過器は、ニュージャージー州Somervilleのヘキス トセラニーズ社からNADIRおよびMOLSEPの商品名で入手可能な、ポリ エチレンテレフタレート支持体若しくはポリプロピレン支持体上の、分子量範囲 8,000〜10,000のポリエーテル・スルホンおよびポリスルホン濾過器 である。 版面の製法は、典型的にいくつかのステップを含むとともに従来良く知られて おり、例えば、米国特許第4,786,381号、および1993年9月29日 に出願された係属中の米国特許出願第08/128,991号に記載されている 。数種類の感光性のコンパウンドが、ネガおよびポジの両方のタイプの版面の製 造に使われる。例えば、米国特許第5,200,291号は、ネガ形のジアゾニ ウム感光性化合物、および乾板に画像を露光させた後にこのような化合物を現像 するために有効な現像液を開示している。本発明は、どのような材料にも実施す る ことができる。 次の実施例は、実施例として説明することだけを目的として用意されている。 本発明は、これにより限定されるものではない。 実施例 実施例1 試験台の建設:限外濾過(「UF」)モジュールが、50Kの名目上の分子量 でカットオフされ、ポリプロピレンで支えられた、ポリエーテル・スルホンの浸 透膜を有する2インチx6インチの螺旋カートリッジを用い、標準的な実験室の 実行方法に基づいて製造された。本カートリッジは、70psiの膜圧力および 12gpmの流量で使用された。 以下に、代表的な版面製造の操作から生じる汚い現像液を実質的に一定の力価 の現像液に若返らせて、より多くの乾板を現像するために用いることができるよ うにする本発明の方法および装置の使用を記載する。 実施例2 汚い現像液の生成:米国特許第4,592,992号に記載されている、本質 的に塩および界面活性剤の15%水溶液である版面現像液を、ネガ減少形の版面 を「現像する」(コーテングをすすぐ)ために用いた。これらの乾板は、米国特 許第4,661,432号および第4,840,867号に記載されており、本 質的に化学的にエッチングされたアルミニウム板を、およそ50%の樹脂、30 %の有機顔料および20%の感光性、オリゴメリック・フェニル・ジアゾニウム 塩からなる有機物コーティングで1ミクロンの厚みみコーティングしたもので、 画像が露光された複数の乾板の約5000平方フィート(80%がすすぎ可能範 囲)を、従来の乾板処理装置(本質的にソークおよびスクラブ形の機械)におい て10ガロンの現像液で現像した。これにより、濃い緑のエマルション懸濁から なる、乾板現像液としてもはや使うことができない約7ガロンの汚い現像液が生 成された。 実施例3 汚い現像液のバッチ処理による更新(若返り):実施例2によって生成された 約5ガロンの汚い現像液が、実施例1のUFモジュールにおいて10時間以上処 理された。これにより、現像液は、約1.5ガロンの黒色の濃い液体廃棄物(「 残余の部分」)に濃縮されるとともに、黄色の水溶液(しみ通った液体)である 3.5ガロンの更新された現像液が分離された。しみ通った液体は、以下に記載 された量的な乾板浸漬テストおよび量的な工程使用テストにより、その現像力価 がテストされた。 量的な浸漬テスト: ディップ・テストにおいては、100mlビーカー中の50mlのしみ通った 液体と、他の100mlビーカー中のオリジナルの現像液50mlとが、水浴に よって約30℃に保たれた。全く同じ手続において、現像液を汚すために用いら れた2インチx4インチの露光されていない乾板のテストサンプルは、正確に計 った期間の間ビーカーに浸され、引き出され、すぐに強制的に水がスプレーされ た。除去の程度が注目されるとともに、乾板のサンプルが正確に半分現像される まで浸漬期間が調節された。新しい現像液およびしみ通った液体の両方について 、乾板を半分現像するために正確に同一な浸漬時間(4秒)を必要とし、現像液 の力価が減少し若しくは増加しなかったことが証明された。 これに対して、新しい現像液およびしみ通った液体を水を用いて50%に希釈 したサンプルをテストしたところ、乾板を半分現像するのに15乃至20秒の浸 漬を必要とした。 使用テストの質的方法:約10ガロンのしみ通った液体が乾板を現像する乾板処 理装置に戻され、乾板は典型的な条件の下で現像された。新しい現像液としみ通 った液体との間に、何らの相違も見出されなかった。新しい現像液およびしみ通 った液体によって現像された乾板が印刷機上を並んで走行した。ロールアップ(r ollup)、スカム/洗浄溶解(scum/wash)、あるいは像の完全性(image integri ty)において何らの際も認められなかった。 実施例4 廃棄物の処理:実施例2の更新工程における約5ガロンの液体廃棄物濃縮物(残 余の部分)は、同じUFユニットを用いることによって、1.5ガロンに再濃縮 された。結果として生じた濃い、黒色の液体約50mlが、1gのSanwet IM‐3500 NC超吸収剤により処理され、固体廃棄物としての処分にふ さわしくされた。実施例2‐4は、新しい現像液の力価と実質的に同じくらい良 好な力価に使用済みの現像液を更新する、本発明の方法および装置がバッチ操作 に有効であることを示している。同様の成果は、連続モードの処理においても同 じく得ることができた。 実施例5 連続モード操作:操作の連続的モードは、以下に記載される。UFカートリッジ を用いた実験的装置が、図1にしたがってセットアップされる。ここで、汚い現 像液のコンテナには乾板処理装置タンクからオーバーフローによって汚い現像液 が送られるとともに、しみ通った液体が処理装置にフィードバックされる。現像 液の全容積は、新しい現像液を処理装置タンクにポンプで移送することによって 維持される。そして、処理装置タンクがオーバーフローすると、汚い現像液のレ ベルが予め設定されたレベルに上昇する。 したがって、例えば、連続的モードにおいては、10ガロンの現像液(処理装 置タンクの中の7ガロンおよび汚い現像液リバーザの中の3ガロン)が、絶えず UFカートリッジによってろ過されるとともに、5,000の平方フィートの乾 板を処理する。そして、新しい現像液が新しい現像液のタンクから自動的に処理 装置タンクに供給され、現像液は全体で10ガロンに保たれる。操作は、実施例 2‐4におけるそれに同様である。5,000平方フィートの乾板が処理された 後、処理装置には7ガロンのきれいな現像液が、汚い現像液リバーザには5ガロ ンが残り、3ガロンの追加の新しい現像液が消費される。 それから、本方法は、さらに5,000平方フィートの乾板に対して同様に実 施される。これにより、上述したように、新しい現像液の追加の3ガロンが消費 され、処理装置タンクに7ガロンおよび汚い現像液リバーザに3ガロンが残る。 処理装置あるいは濾過ユニットがクリーニングのためのシャットダウンを必要と するまで、本方法は継続する。この方法により、わずか約50ガロンの現像液に よって約50,000平方フィートの乾板を処理することができるので、同じ数 の乾板を処理するため約130ガロンの現像液を必要とするに従来の方法に比べ 、本質的に有利である。
【手続補正書】特許法第184条の8 【提出日】1996年7月9日 【補正内容】 請求の範囲 1. 現像液力価でリトグラフ乾板を連続的に現像する方法であって、 (a)新しい現像液を用いて適当な処理装置によって乾板を現像することにより 、固形物および液体を含む使用済みの現像液を生成し: (b)前記使用済みの現像液を適当なリバーザ容器に通過させ: (c)前記使用済みの現像液を一つ以上の限外濾過カートリッジを通過させて、 きれいなしみ通った液体および残余の部分を生成させ、ここで前記しみ通った液 体の現像液力価は前記新しい現像液のそれと等しくされ、 (d)前記ステップ(a)における前記処理装置に前記しみ通った液体を通過さ せるとともに、より多くの乾板を現像し: (e)前記残余の部分を前記(b)における前記リザーバ容器に戻し、ここで前 記ステップ(b)乃至(e)における流体の流量は、それぞれの容器における流 体のレベルが一定に保たれるように維持され: および (f)前記ステップ(a)乃至(e)の一回若しくはそれ以上の反復が、連続的 な乾板現像処理を構成することを特徴とする乾板の現像方法。 2. 前記残余の部分が超吸収体固体により処理されて、使い捨ての固形物に 変換されることを特徴とする請求項1に記載の方法。 3. 前記処理装置における前記流体のレベルが、適当な容器からの新しい現 像液の直接の流れによって一定に維持されることを特徴とする請求項1に記載の 方法。 4. 前記ステップ(d)における、前記しみ通った液体が、前記処理装置へ に流入する前に、新しい現像液により補充される、ことを特徴とする請求項1に 記載の方法。 5. 前記流体レベルの維持が、適当なレベル・インジケータを用いることに よって成し遂げられることを特徴とする請求項1に記載の方法。 6. 前記ステップ(c)が、1つの限外濾過カートリッジを含むことを特徴 とする請求項1に記載の方法。 7. 前記ステップ(c)が、複数の限外濾過カートリッジを含むことを特徴 とする請求項1に記載の方法。 8. 前記ステップ(c)における前記限外濾過カートリッジが、適当な支持 体上のポリエーテル・スルホン過器であることを特徴とする請求項1に記載の方 法。 9. 前記ステップ(c)における前記限外濾過カートリッジが、適当な支持 体上のポリエーテル・スルホン過器であることを特徴とする請求項1に記載の方 法。 10. 前記支持体が、ポリエチレンテレフタラートから成ることを特徴とす る請求項8または9に記載の方法。 11. 前記支持体が、ポリプロピレンから成ることを特徴とする請求項8ま たは9に記載の方法。 12. 前記超吸収剤が、デンプン多糖類、ガム質および重合体の超吸収剤か ら選ばれることを特徴とする請求項2に記載の方法。 13. 前記超吸収剤が重合体であることを特徴とする請求項12に記載の方 法。 14. 一定の現像液力価により平版捺染乾板を連続的方法で現像する装置で あって、 (a)版面を現像して使用済みの現像液を生じさせる処理装置手段と: (b)前記使用済みの現像液を適当な容器にポンプで移送する第1のポンピング 手段と; (c)前記使用済みの現像液をしみ通った液体と残余の部分とに分離する、一つ 以上の限外濾過手段と; (d)前記しみ通った液体を前記処理装置手段に移送する第2のポンピング手段 と; および (e)前記残余の部分を、前記(b)における前記容器へ移送する第3のポンピ ング手段と;を備え、前記ステップ(b)(d)(e)における前記ポンピング 手段が、それぞれの容器における流体のレベルを一定に維持するために協動する ことを特徴とする装置。 15. 新しい現像液を保持する手段をさらに備えることを特徴とする請求項 14に記載の装置。 16. 前記新しい現像液を前記処理装置手段にポンプで移送する手段をさら に備えることを特徴とする請求項15に記載の装置。 17. 前記しみ通った液体を前記処理装置手段にポンプで移送する前に、前 記新しい現像液を前記しみ通った液体と混ぜ合わせる手段をさらに備えることを 特徴とする請求項15に記載の装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 サリバン,デイビッド エム. アメリカ合衆国ニュージャージー州、ブリ ッジウォーター、ストニー、ブルック、ド ライブ、480

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 実質的に一定の現像液力価でリトグラフ乾板を現像する実質的に連続な 方法であって、 (a)新しい現像液を用いて適当な処理装置によって乾板を現像することにより 、固形物および液体を含む使用済みの現像液を生成し: (b)前記使用済みの現像液を適当なリバーザ容器に通過させ: (c)前記使用済みの現像液を一つ以上の限外濾過カートリッジを通過させて、 実質的に澄んだしみ通った液体および残余の部分を生成させ、ここで前記しみ通 った液体の現像液力価は前記新しい現像液のそれと実質的にと等しくされ、 (d)前記ステップ(a)における前記処理装置に前記しみ通った液体を通過さ せるとともに、より多くの乾板を現像し: (e)前記残余の部分を前記(b)における前記リザーバ容器に戻し、ここで前 記ステップ(b)乃至(e)における流体の流量は、それぞれの容器における流 体のレベルが実質的に一定にして保たれるように維持され: および (f)前記ステップ(a)乃至(e)の一回若しくはそれ以上の反復が、実質的 に連続的な乾板現像処理を構成することを特徴とする乾板の現像方法。 2. 前記残余の部分が超吸収体固体により処理されて、使い捨ての固形物に 変換されることを特徴とする請求項1に記載の方法。 3. 前記処理装置における前記流体のレベルが、適当な容器からの新しい現 像液の直接の流れによって一定に維持されることを特徴とする請求項1に記載の 方法。 4. 前記ステップ(d)における、前記しみ通った液体が、前記処理装置へ に流入する前に、新しい現像液により補充される、ことを特徴とする請求項1に 記載の方法。 5. 前記流体レベルの維持が、適当なレベル・インジケータを用いることに よって成し遂げられることを特徴とする請求項1に記載の方法。 6. 前記ステップ(c)が、1つの限外濾過カートリッジを含むことを特徴 とする請求項1に記載の方法。 7. 前記ステップ(c)が、複数の限外濾過カートリッジを含むことを特徴 とする請求項1に記載の方法。 8. 前記ステップ(c)における前記限外濾過カートリッジが、適当な支持 体上のポリエーテル・スルホン過器であることを特徴とする請求項1に記載の方 法。 9. 前記ステップ(c)における前記限外濾過カートリッジが、適当な支持 体上のポリエーテル・スルホン過器であることを特徴とする請求項1に記載の方 法。 10. 前記支持体が、ポリエチレンテレフタラートから成ることを特徴とす る請求項8または9に記載の方法。 11. 前記支持体が、ポリプロピレンから成ることを特徴とする請求項8ま たは9に記載の方法。 12. 前記超吸収剤が、デンプン多糖類、ガム質および重合体の超吸収剤か ら選ばれることを特徴とする請求項2に記載の方法。 13. 前記超吸収剤が重合体であることを特徴とする請求項12に記載の方 法。 14. 前記重合体の超吸収剤が、Sanwetブランドの超吸収剤であるこ とを特徴とする請求項13に記載の方法。 15. 実質的に一定の現像液力価により平版捺染乾板を実質的に連続的方法 で現像する装置であって、 (a)版面を現像して使用済みの現像液を生じさせる処理装置手段と: (b)前記使用済みの現像液を適当な容器にポンプで移送する第1のポンピング 手段と; (c)前記使用済みの現像液をしみ通った液体と残余の部分とに分離する、一つ 以上の限外濾過手段と; (d)前記しみ通った液体を前記処理装置手段に移送する第2のポンピング手段 と; および (e)前記残余の部分を、前記(b)における前記容器へ移送する第3のポンピ ング手段と;を備え、前記ステップ(b)(d)(e)における前記ポンピング 手段が、それぞれの容器における流体のレベルを一定に維持するために協動する ことを特徴とする装置。 16. 新しい現像液を保持する手段をさらに備えることを特徴とする請求項 15に記載の装置。 17. 前記新しい現像液を前記処理装置手段にポンプで移送する手段をさら に備えることを特徴とする請求項16に記載の装置。 18. 前記しみ通った液体を前記処理装置手段にポンプで移送する前に、前 記新しい現像液を前記しみ通った液体と混ぜ合わせる手段をさらに備えることを 特徴とする請求項16に記載の装置。
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0838045A4 (en) * 1995-07-13 1998-10-28 Polyfibron Technologies Inc PRODUCTION OF A PHOTOPOLYMER PRINT PLATE
FR2749947B1 (fr) * 1996-06-14 1998-08-28 Photomeca Egg Procede et dispositif pour la separation totale en continu d'un melange photopolymeres et eau par membrane et filtre, pour la confection de cliches souples utilisables en imprimerie
JP3435323B2 (ja) * 1997-09-30 2003-08-11 大日本スクリーン製造株式会社 印刷装置および印刷装置に使用する印刷版の現像処理方法
US6174646B1 (en) * 1997-10-21 2001-01-16 Konica Corporation Image forming method
DE69819035T2 (de) * 1997-12-22 2004-07-08 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Verfahren zum entwickeln einer lichtempfindlichen harzplatte, sowie ein entwicklungsgerät
EP0933684A1 (en) * 1998-01-22 1999-08-04 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Developing system of photosensitive resin plates and apparatus used therein
KR100419669B1 (ko) * 2001-06-12 2004-02-25 주식회사 퓨어엔비텍 인쇄회로기판 제조용 현상액 리사이클링 시스템
US6855487B2 (en) * 2001-10-26 2005-02-15 Kodak Polychrome Graphics, Llc Method and apparatus for refreshment and reuse of loaded developer
US6759185B2 (en) 2001-11-14 2004-07-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for reuse of loaded developer
US6908558B2 (en) * 2003-03-19 2005-06-21 David J. Stinson Fountain solution recycling system for commercial printers
WO2004095141A1 (en) * 2003-04-24 2004-11-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Method and apparatus for refreshment and reuse of loaded developer
US7078162B2 (en) * 2003-10-08 2006-07-18 Eastman Kodak Company Developer regenerators
US20050076801A1 (en) * 2003-10-08 2005-04-14 Miller Gary Roger Developer system
DE102004021508B4 (de) * 2004-04-30 2007-04-19 Technotrans Ag Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung des Feuchtmittels einer Druckmaschine
US7955462B2 (en) * 2007-05-25 2011-06-07 Robert Tubbs Method for accommodating the use of chemicals that contain low amounts of VOC in an existing device where chemicals that contained high levels of VOC had previously been used and resultant product
US8083947B2 (en) * 2009-02-24 2011-12-27 Eastman Kodak Company Polymer-containing solvent purifying process
CN102356454B (zh) * 2009-03-31 2014-03-26 栗田工业株式会社 蚀刻液的处理装置以及处理方法
IL309788A (en) * 2021-06-30 2024-02-01 Stratasys Ltd Treatment of waste obtained in the additive manufacturing process

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6297606A (ja) * 1985-10-24 1987-05-07 Showa Denko Kk 高分子水溶液の濃縮方法及び濃縮容器
JPS6331591A (ja) * 1986-07-23 1988-02-10 Sumitomo Heavy Ind Ltd フオトレジスト廃液処理方法
JPS63178888A (ja) * 1987-01-17 1988-07-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd フオトレジスト含有廃液の処理方法
JPS644653A (en) * 1987-06-26 1989-01-09 Lion Corp Polymeric absorbent composition
JPS6430605A (en) * 1987-07-28 1989-02-01 Daicel Chem Hollow yarn-type ultrafilter membrane cartridge filter
JPH02121124U (ja) * 1989-03-16 1990-10-01
JPH02121125U (ja) * 1989-03-17 1990-10-01
JPH0418563A (ja) * 1989-11-30 1992-01-22 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂版の現像方法および現像装置
JPH05131119A (ja) * 1991-05-06 1993-05-28 Rohm & Haas Co 白水からポリマー性ラテツクスを回収するための限外濾過法
JPH05142781A (ja) * 1991-11-19 1993-06-11 Konica Corp 感光材料の現像廃液の処理方法及び該処理方法に用いる自動現像機
JPH05337470A (ja) * 1992-06-04 1993-12-21 Konica Corp 非銀塩感光材料の現像廃液の処理方法
JPH06194824A (ja) * 1992-10-30 1994-07-15 Nippon Paint Co Ltd フレキソ製版工程における現像液循環方法及びその方法を実施するための装置
JPH06226057A (ja) * 1993-02-05 1994-08-16 Daicel Chem Ind Ltd 中空糸膜型エレメントおよび中空糸膜モジュール
JPH07168369A (ja) * 1993-12-15 1995-07-04 Mitsubishi Chem Corp 感光性平版印刷版用現像機
JPH07234516A (ja) * 1993-12-27 1995-09-05 Mitsubishi Chem Corp 感光性材料用現像液の再生方法及び感光性材料の現像装置

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3327721A (en) * 1965-05-28 1967-06-27 Keith L Carlson Etching apparatus
JPS518179A (en) * 1974-07-11 1976-01-22 Daicel Ltd Sentakutokaseikobunshimakuoyobisono seizoho
FR2331602A1 (fr) * 1975-11-14 1977-06-10 Rhone Poulenc Ind Compositions a base de polymeres du type polysulfone pour membranes d'osmose inverse
DE2963762D1 (en) * 1978-03-18 1982-11-11 Hoechst Ag Device for the development of printing plates with a tank for the developing liquid
US4213420A (en) * 1978-08-09 1980-07-22 Martino Peter V Apparatus for processing a particulating printing plate
SE7905806L (sv) * 1979-07-03 1981-01-04 Nordnero Ab Vattenbaserat rengoringssystem
DE3149976A1 (de) * 1981-12-17 1983-06-30 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Makroporoese asymmetrische hydrophile membran aus synthetischem polymerisat
US4577950A (en) * 1984-07-13 1986-03-25 Mackson Richard G Computer controlled replenishing system for automatic film processor
JPS61231548A (ja) * 1985-04-05 1986-10-15 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 写真廃液の処理方法及び写真自動現像機
US4714558A (en) * 1986-04-02 1987-12-22 The Barbee Co., Inc. Wastewater treatment system
KR950014323B1 (ko) * 1986-07-23 1995-11-24 스미도모쥬기가이고오교오 가부시기가이샤 포토레지스트 폐액의 처리방법
US4814082A (en) * 1986-10-20 1989-03-21 Memtec North America Corporation Ultrafiltration thin film membranes
DE3829752A1 (de) * 1988-09-01 1990-03-22 Akzo Gmbh Integrale asymmetrische polyaethersulfonmembran, verfahren zur herstellung und verwendung zur ultrafiltration und mikrofiltration
US5151183A (en) * 1989-05-18 1992-09-29 Allied-Signal Inc. Reduction of membrane fouling by surface fluorination
EP0430233B1 (en) * 1989-11-30 1998-04-22 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Process and apparatus for developing photopolymer plates
JPH0479224A (ja) * 1990-07-20 1992-03-12 Seiko Epson Corp 洗浄装置
JPH0479225A (ja) * 1990-07-20 1992-03-12 Seiko Epson Corp 洗浄システム
US5112491A (en) * 1991-03-01 1992-05-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Management of waste solution containing photoresist materials
US5237360A (en) * 1991-06-12 1993-08-17 Eastman Kodak Company Apparatus for processing photosensitive materials
US5279739A (en) * 1991-08-19 1994-01-18 Koch Membrane Systems, Inc. Durable filtration membrane having optimized molecular weight
US5479233A (en) * 1992-07-06 1995-12-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate processing apparatus
JPH06226245A (ja) * 1993-01-27 1994-08-16 Dr Ok Wack Chem Gmbh すすぎ浴剤に溶解している液剤の再生方法
US5400107A (en) * 1993-05-03 1995-03-21 Eastman Kodak Company Automatic replenishment, calibration and metering system for an automatic tray processor

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6297606A (ja) * 1985-10-24 1987-05-07 Showa Denko Kk 高分子水溶液の濃縮方法及び濃縮容器
JPS6331591A (ja) * 1986-07-23 1988-02-10 Sumitomo Heavy Ind Ltd フオトレジスト廃液処理方法
JPS63178888A (ja) * 1987-01-17 1988-07-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd フオトレジスト含有廃液の処理方法
JPS644653A (en) * 1987-06-26 1989-01-09 Lion Corp Polymeric absorbent composition
JPS6430605A (en) * 1987-07-28 1989-02-01 Daicel Chem Hollow yarn-type ultrafilter membrane cartridge filter
JPH02121124U (ja) * 1989-03-16 1990-10-01
JPH02121125U (ja) * 1989-03-17 1990-10-01
JPH0418563A (ja) * 1989-11-30 1992-01-22 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂版の現像方法および現像装置
JPH05131119A (ja) * 1991-05-06 1993-05-28 Rohm & Haas Co 白水からポリマー性ラテツクスを回収するための限外濾過法
JPH05142781A (ja) * 1991-11-19 1993-06-11 Konica Corp 感光材料の現像廃液の処理方法及び該処理方法に用いる自動現像機
JPH05337470A (ja) * 1992-06-04 1993-12-21 Konica Corp 非銀塩感光材料の現像廃液の処理方法
JPH06194824A (ja) * 1992-10-30 1994-07-15 Nippon Paint Co Ltd フレキソ製版工程における現像液循環方法及びその方法を実施するための装置
JPH06226057A (ja) * 1993-02-05 1994-08-16 Daicel Chem Ind Ltd 中空糸膜型エレメントおよび中空糸膜モジュール
JPH07168369A (ja) * 1993-12-15 1995-07-04 Mitsubishi Chem Corp 感光性平版印刷版用現像機
JPH07234516A (ja) * 1993-12-27 1995-09-05 Mitsubishi Chem Corp 感光性材料用現像液の再生方法及び感光性材料の現像装置

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