JPH0479224A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH0479224A JPH0479224A JP19271090A JP19271090A JPH0479224A JP H0479224 A JPH0479224 A JP H0479224A JP 19271090 A JP19271090 A JP 19271090A JP 19271090 A JP19271090 A JP 19271090A JP H0479224 A JPH0479224 A JP H0479224A
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- JP
- Japan
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- pure water
- piping
- cleaning
- branch
- cleaning device
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 39
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 57
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 abstract description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は半導体装置などの製造工程などにおいて使用す
る純水洗浄装置の構造に関し洗浄に使用する純水の清浄
度を保ち洗浄効果を高めることを目的とする。
る純水洗浄装置の構造に関し洗浄に使用する純水の清浄
度を保ち洗浄効果を高めることを目的とする。
[従来の技術]
第2図に従来の方式による洗浄装置の純水配管の模式図
を示す。
を示す。
従来の方式によれば工場内の純水設備よりの主配管(1
)より供給用分岐管を設は洗浄装置(7)に必要な量の
純水の供給を受けさらに装置内で各使用ポイントに分岐
する形式を採ることが一般的である。
)より供給用分岐管を設は洗浄装置(7)に必要な量の
純水の供給を受けさらに装置内で各使用ポイントに分岐
する形式を採ることが一般的である。
図中(1)は工場内の純水設備よりの主配管を示しく2
)は主配管より装置までの分岐配管、(3)は装置内で
の純水配管を示す。
)は主配管より装置までの分岐配管、(3)は装置内で
の純水配管を示す。
(6)は洗浄槽よりのオーバーフロー又はドレイン配管
を示す。
を示す。
[発明が解決しようとする課題]
従来の技術による方法を採れば主配管よりの分岐部(9
)以降装置までの配管内及び装置内での配管の端末が行
き止まり状態となっていることにより配管中での純水の
滞留により純水内に微小なパーティクルの発生が見られ
洗浄効果を低下させる要因となっていた。
)以降装置までの配管内及び装置内での配管の端末が行
き止まり状態となっていることにより配管中での純水の
滞留により純水内に微小なパーティクルの発生が見られ
洗浄効果を低下させる要因となっていた。
また純水の滞留によりバクテリアの発生等品質面での悪
影響も指摘されているところである。
影響も指摘されているところである。
さらに上記悪影響を防ぐために常に大量の純水を流し配
管中のクリーン度を保とうとすれば純水の多量消費によ
るコスト増を招く。
管中のクリーン度を保とうとすれば純水の多量消費によ
るコスト増を招く。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
り純水の清浄度を保持し純水の多量消費を防ぐことを目
的とする。
り純水の清浄度を保持し純水の多量消費を防ぐことを目
的とする。
[課題を解決するための手段]
洗浄装置への分岐配管及び装置内配管中を常に多量の純
水が循環し、装置自体があたかも工場内の純水供給リタ
ーン配管の一部であるかのような構造を採り、さらに装
置内で使用する純水を採取する場合は循環配管経路より
最短の分岐で行う構造とすることにより純水の品質を保
持し洗浄効果を向上させると共に純水の消費量を押さえ
るものであり以下実施例に従い本発明の詳細について説
明を行う。
水が循環し、装置自体があたかも工場内の純水供給リタ
ーン配管の一部であるかのような構造を採り、さらに装
置内で使用する純水を採取する場合は循環配管経路より
最短の分岐で行う構造とすることにより純水の品質を保
持し洗浄効果を向上させると共に純水の消費量を押さえ
るものであり以下実施例に従い本発明の詳細について説
明を行う。
[実施例]
第1図に本発明の方式による配管方式を用いた洗浄機の
配管概念図を示す。
配管概念図を示す。
図中(1)で示される工場内純水配管より純水の供給を
受け(2)で示される装置内配管を経由して工場内純水
配管のリターン側配管(4)に未使用の純水が戻る形式
を採る。
受け(2)で示される装置内配管を経由して工場内純水
配管のリターン側配管(4)に未使用の純水が戻る形式
を採る。
洗浄装置(7)内で使用する純水については装置内配管
経路途中で最短分岐となる個所にバルブ(8)を設は当
該個所より純水を洗浄槽(5)内に放出し分岐配管内に
滞留させない構造とした。
経路途中で最短分岐となる個所にバルブ(8)を設は当
該個所より純水を洗浄槽(5)内に放出し分岐配管内に
滞留させない構造とした。
洗浄槽内で使用された純水についてはトレインバルブ(
6)より排&+される。
6)より排&+される。
第1図においては洗浄槽は1槽のみを記したが実際の洗
浄装置においては幾槽かの洗浄槽を有し実際の配管系統
も複雑となるが、基本的に装置内の純水循環経路途中か
ら最短で取水する構造を取る。
浄装置においては幾槽かの洗浄槽を有し実際の配管系統
も複雑となるが、基本的に装置内の純水循環経路途中か
ら最短で取水する構造を取る。
また取水バルブ(8)についても装置内配管(2)より
の突出部を極力短縮し純水の滞留を少なくする構造とし
た。
の突出部を極力短縮し純水の滞留を少なくする構造とし
た。
またバルブ、配管材料及び継ぎ手順についても極力バー
ティクルの発生しない物を使用するなどの配慮をした。
ティクルの発生しない物を使用するなどの配慮をした。
本実施例においては装置内配管の径は洗浄装置内で使用
する純水の量に依らず洗浄装置内を循環する純水の量に
依って決定されるため従来用いられてきた配管の径に対
して2〜5倍の流量が確保出来るものとする必要があっ
た。
する純水の量に依らず洗浄装置内を循環する純水の量に
依って決定されるため従来用いられてきた配管の径に対
して2〜5倍の流量が確保出来るものとする必要があっ
た。
[発明の効果]
上記実施例による洗浄装置を用いた洗浄方式によれば洗
浄槽5内に供給される純水内の浮遊微粒子の個数が従来
方式による場合に比較して二相以下に低下し洗浄効果を
向上することが出来た。
浄槽5内に供給される純水内の浮遊微粒子の個数が従来
方式による場合に比較して二相以下に低下し洗浄効果を
向上することが出来た。
また従来の方式による洗浄装置では洗浄槽内のクリーン
度を保つために常に多量の純水を流す必要があったが本
実施例による方式では使用時のみに純水を供給するため
に純水の使用量を大幅に節約することが可能となった。
度を保つために常に多量の純水を流す必要があったが本
実施例による方式では使用時のみに純水を供給するため
に純水の使用量を大幅に節約することが可能となった。
第1図は本発明の方式を採った洗浄装置の装置内外の配
管模式図を示す。 第2図は従来の方式による洗浄装置の装置内外の配管模
式図を示す。 1 純水装置よりの純水供給主配管 2 純水供給主配管より洗浄装置内への純水配管 洗浄装置内分岐配管 純水装置への純水リターン主配管 洗浄槽 ドレイン配管 洗浄装置 洗浄槽への純水供給コック 純水供給主配管より洗浄装置への分岐コック 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社
管模式図を示す。 第2図は従来の方式による洗浄装置の装置内外の配管模
式図を示す。 1 純水装置よりの純水供給主配管 2 純水供給主配管より洗浄装置内への純水配管 洗浄装置内分岐配管 純水装置への純水リターン主配管 洗浄槽 ドレイン配管 洗浄装置 洗浄槽への純水供給コック 純水供給主配管より洗浄装置への分岐コック 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- 純水を使用して洗浄を行う洗浄装置において、純水供給
及び装置間内の純水配管を循環方式とし洗浄装置内で使
用する純水の分岐を洗浄槽直前に設ける構造を有し洗浄
装置内配管において常に純水が流れることを特徴とする
洗浄装置
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19271090A JPH0479224A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19271090A JPH0479224A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0479224A true JPH0479224A (ja) | 1992-03-12 |
Family
ID=16295771
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19271090A Pending JPH0479224A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0479224A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5734944A (en) * | 1994-08-24 | 1998-03-31 | Bayer Corporation | Apparatus for rejuvenating developer in printing plate development |
US6710499B2 (en) | 2001-03-29 | 2004-03-23 | Denso Corporation | AC generator having air port in slip ring cover |
-
1990
- 1990-07-20 JP JP19271090A patent/JPH0479224A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5734944A (en) * | 1994-08-24 | 1998-03-31 | Bayer Corporation | Apparatus for rejuvenating developer in printing plate development |
US5811224A (en) * | 1994-08-24 | 1998-09-22 | Bayer Corporation | Process for rejuvenating developer in printing plate development |
US6710499B2 (en) | 2001-03-29 | 2004-03-23 | Denso Corporation | AC generator having air port in slip ring cover |
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