JPH10502602A - ウェーハ用コンベヤカセット - Google Patents

ウェーハ用コンベヤカセット

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JPH10502602A
JPH10502602A JP8505024A JP50502496A JPH10502602A JP H10502602 A JPH10502602 A JP H10502602A JP 8505024 A JP8505024 A JP 8505024A JP 50502496 A JP50502496 A JP 50502496A JP H10502602 A JPH10502602 A JP H10502602A
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wafer
wafers
separating
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ホーン、ジョージ・ダブリュ
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ミドルセックス・ジェネラル・インダストリーズ・インコーポレイテッド
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Abstract

(57)【要約】 汚染のないコンベヤの被動ローラ(6)上に直接置くために構成され配列された、集積回路ウェーハもしくは記憶ディスクのカセット(2)もしくは貯蔵箱。該カセットは、ローラに騎乗するための傾斜した平らな表面(10)を有する。傾斜は、カセットが走行するときに、装荷したウェーハがそれらの個々のポケットの側部に対し寄りかかるのに十分である。寄りかかりにより、カセットを物理的に移動させることに関連した振動によるウェーハの損傷を軽減する。

Description

【発明の詳細な説明】 ウェーハ用コンベヤカセット 発明の分野 本発明は、1つの処理位置から別の処理位置へ被動ローラコンベヤシステムに より移動する集積回路ウェーハに関するものである。特に、本発明は、かかる集 積回路ウェーハを保持するためのカセットに関し、該カセットは被動ローラ上に 直接乗っている。 発明の背景 集積回路の製造プロセスにおいては、内部に又は表面に集積回路が組み込まれ た基板からなるシリコン(又は他の材料)からなるウェーハの少量のバッチを( 手動により又は自動的に)搬送する必要がある。典型的には、完成集積回路を製 造するときに、産業界では、カセット内の又は封止された或いは封止されていな い貯蔵容器内の25ウェーハのバッチを一度に1つの工程から別の工程に移動さ せている(以後、カセット及び貯蔵容器をまとめてカセットという)。このよう にして、コンピュータ用ディスクの産業界では、ディスク用カセットを用いてバ ッチ方式でディスク基板を移動している。ここで、ウェーハとは、集積回路用ウ ェーハ、ディスク基板、及びカセットに入れて搬送するのに適するその他のかか るアイテムを含むものである。 産業界においては工程間の搬送はしばしば手動で行われるが、本出願人による CLEAN−DRIVE(登録商標)コンベヤのようなクリーンなコンベヤ装置 の出現で、前述したカセットが処理位置間を自動的に移動できるようになった。 しかし、その使用は、カセット自体をコンベヤ上に直接乗せるのには適しておら ず、カセットをコンベヤシステム上に乗るパレットに装荷する必要性があるため に、制限されている。パレットの使用は、空のパレットを戻す必要性のため、ま た、パレットを清掃し、保持し、貯蔵する必要性のため、コストの増大を伴う。 パレットの使用の別の制限要因は、ウェーハがほぼ垂直方向に一般に立っている ことである。カセットは、ウェーハ同士がぶつかるのを防止するために、各ウェ ーハに対するポケットを備えて構成されている。コンベヤシステムに固有の振動 やその移動方向の変化により、ウェーハがポケット内で飛び上がり、同ウェーハ が損傷する可能性がある。 本発明の目的は、コンベヤの被動ローラ上に直接乗るカセットを提供すること により、パレットを使用する必要がない集積回路ウェーハもしくはディスクカセ ット、即ち貯蔵箱を提供することである。 本発明の別の目的は、コンベヤによるカセットの移動に関連した振動によりウ ェーハに生じる可能性がある損傷を減らすカセットを提供することである。 本発明の更に別の目的は、ウェーハに対する汚染を少なくするカセットを提供 することである。 また、本発明の他の目的は、各ウェーハ処理工程の停止時に決まったように取 り扱われることである。 発明の概要 上述の目的は、コンベヤローラ上を移動するカセットによって達成される。こ こで、該カセットは、ウェーハを保持するための室を備え、また、該カセットは 、同カセット上に構成されると共に、コンベヤの駆動ローラ上に乗るように配列 された2つの平らな表面を更に備え、各平らな表面は、その長手方向をカセット の移動の方向と実質的に整列せしめておれ、そして各平らな表面は、カセットが コンベヤに沿って移動しているときに、室に収容された装荷ウェーハが傾くよう な角度で傾斜している。 好適な実施形態においては、2つの平らな表面は、カセット上に設けられた2 つの平行な棒として形成されていて、該棒は、カセットの移動の方向と整列して おり、そして各棒がコンベヤ装置の駆動ローラ上に乗るように配列され構成され た平らな底面を有する。該底面は、カセットがコンベヤに沿って移動していると きに、室に収容された装荷ウェーハもしくはディスクが傾くような角度で傾斜し ている。 本発明に従って構成されたカセットの利点は、カセット及び収容されたウェー ハが1つの位置から別の位置へ傾いて搬送されるが、該カセットが所定位置に達 したときには、同カセットが既存の工具において直立した非傾斜の態様でセット されることである。例えば、カセットがその底面で乗るときには、カセット及び 収容されたウェーハは傾いていない。 カセット上の傾斜して騎乗する棒の別の利点は、騎乗棒は、搬送のためのみに 用いられ、カセットがウェーハの処理のため所定位置に停止している間は接触し ないという事実から得られる。かかる停止時の騎乗棒の不使用もしくは非接触に よって、騎乗棒は、種々の停止の際に工具その他の表面から汚染物を拾うことが なくなる。騎乗棒が汚染物を拾うことがないため、該汚染物が、停止の際に工具 その他の表面から騎乗棒に移動し、そこからウェーハ自体にすることがない。こ のようにして、傾斜した騎乗棒はウェーハのよりクリーンな搬送を可能とし、従 って、取扱ウェーハのよりクリーンな総合的処理を可能とする。 好適な実施形態においては、平らな表面の傾きの角度は、約1°から約10° の範囲に及ぶが、最も有効な角度は約5°である。 他の目的、特徴及び利点は、添付図面に関してなされる好適な実施形態につい ての以下の詳細な説明から明らかであろう。 図面の簡単な説明 図1は、ローラコンベヤ上に乗っている本発明のカセットの概要図である。 図2は、本発明に従って構成されたカセットの側面図である。 図3A及び図3Bは、図2の箱の異なる実施形態の正面図である。 好適な実施形態の詳細な説明 図1は、1バッチ分の集積回路ウェーハ4のカセット2のための搬送装置を示 している。この搬送装置は、カセットを移動させる駆動ローラ6上に支持されて いる。図示のように好ましい運動の方向は、矢印5で示されているが、カセット は、どちらの方向に走行してもよい。カセットは、ローラ上に支持されている場 合、垂直から約5°の角度βで傾斜している。この位置においては、ウェーハも 約5°の角度で傾斜している。このようなカセットにおいて、各ウェーハは、個 々のポケット7内に挿入され、該ポケットが各ウェーハを他のものから分離する 。5°の傾斜によって、ウェーハがポケット分離体9に寄り掛かることが可能と なり、コンベヤからの振動によるウェーハの損傷を軽減する。損傷は、ウェーハ が加速されたポケット分離体から離れ、その後にウェーハが落下して戻り分離体 にぶつかるときに生ずる。その結果としての当接により、ウェーハから微細な又 は大きな断片が叩き出される。非常に小さな断片でさえも失ったウェーハは損傷 品であり、また、小さな断片は他のウェーハに損傷を生じさせるかも知れない。 多少明らかではない点があるが、まさに重要なことは、ウェーハがカセットの分 離体を打つときに結果として生ずる当接により微少な又は大きな断片が分離体か ら叩き出されることである。これらの断片がその後他のウェーハを損傷させる可 能性がある。 更に図1を参照すると、カセットの各側に沿って横棒8があり、この横棒は、 ローラ上に乗る平らな底面10を有する。図2は、垂設されたカセットを示して おり、そこには、5°傾斜した横棒8の底面が明らかにされている。 図2の正面図である図3Aにおいて、カセットのどちらの側にもある横棒8が 見える。該横棒は、カセットが走行する方向に整列している。ウェーハ4はカセ ットの内部に示されている。既存のカセットにかかる横棒を取り付けることによ り同カセットを改変してもよく、そのように改変したカセットはローラコンベヤ 上に直接置くことが可能である。しかし、図3Bに示すように、他の好適な実施 形態を利用しうる。図3Bに示す実施形態では、ローラに係合する傾斜ローラ表 面が、カセットの外側にある横棒というよりは、カセットの本体の中に打ち込ま れ入っている。 当業者にとって明らかなように、その他の実施形態、改良、詳細及び使用法が 、前述した開示の意味及び精神と矛盾することなく且つこの特許の範囲内で可能 であり、同特許の範囲は、均等の原則を含め、特許法に従って解釈される以下の 請求項によってのみ制限される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. ローラコンベヤ装置上を長手方向に移動するカセットであって、該カセ ットは、集積回路ウェーハもしくはディスク基板を保持するための室と、装荷し た前記ウェーハを互いに分離するための手段とを備え、該分離するための手段は 、前記長手方向に対しほぼ直交する垂直方向を画定しており、前記カセットは、 同カセット上に構成されると共に、前記ローラコンベヤ装置の駆動ローラ上に乗 るように配列された2つの平らな表面を更に備え、各平らな表面は、前記長手方 向に延びると共に、前記カセットの移動の方向と実質的に整列しており、各平ら な表面は、前記カセットがコンベヤに沿って移動しているときに、前記室に収容 された装荷ウェーハもしくはディスクが前記分離するための手段に対して傾くよ うな角度で、前記長手方向に関して傾斜するカセット。 2. ローラコンベヤ装置上を長手方向に移動するカセットであって、該カセ ットは、集積回路ウェーハもしくはディスク基板を保持するための室と、装荷し た前記ウェーハを互いに分離するための手段とを備え、該分離するための手段は 、前記長手方向に対しほぼ直交する垂直方向を画定しており、前記カセットは、 同カセット上に構成された2つの平行な棒を備え、該棒は、前記カセットの移動 の長手方向に実質的に整列すると共に、前記ローラコンベヤ装置の駆動ローラ上 に乗るように配列され構成された平らな底面を有しており、該底面は、前記カセ ットがコンベヤに沿って移動しているときに、前記室に収容された装荷ウェーハ もしくはディスクが前記分離するための手段に対して傾くような角度で、前記長 手方向に関して傾斜するカセット。 3. 前記棒の角度は、約1°から約10°であり、前記底面は、同一平面上 にある請求項2記載のカセット。 4. 前記角度は、約5°であり、前記底面は、同一平面上にある請求項1記 載のカセット。 5. 前記角度は、約1°から約10°である請求項1記載のカセット。 6. 前記分離するための手段は、1ウェーハについて1ポケットの個々のポ ケットを形成する壁体からなる請求項1記載のカセット。
JP8505024A 1994-07-13 1995-06-20 ウェーハ用コンベヤカセット Pending JPH10502602A (ja)

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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3291108B2 (ja) * 1994-02-10 2002-06-10 富士通株式会社 基板処理方法及び装置
US6540466B2 (en) * 1996-12-11 2003-04-01 Applied Materials, Inc. Compact apparatus and method for storing and loading semiconductor wafer carriers
US6098786A (en) * 1997-10-03 2000-08-08 Shuttleworth, Inc. Slippable roller conveyor for a cleanroom
US6223886B1 (en) 1998-06-24 2001-05-01 Asyst Technologies, Inc. Integrated roller transport pod and asynchronous conveyor
US6533101B2 (en) 1998-06-24 2003-03-18 Asyst Technologies, Inc. Integrated transport carrier and conveyor system
HUP0102860A3 (en) 1998-07-31 2003-08-28 Shuttleworth Inc Huntington Low electrostatic discharge conveyor and method of its operation
US6435330B1 (en) 1998-12-18 2002-08-20 Asyai Technologies, Inc. In/out load port transfer mechanism
US6308818B1 (en) 1999-08-02 2001-10-30 Asyst Technologies, Inc. Transport system with integrated transport carrier and directors
US6196391B1 (en) * 2000-01-20 2001-03-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd Electrostatic discharge-free container for insulating articles
US20110005950A1 (en) * 2009-07-09 2011-01-13 Jerry Russell Freed Transport Case For Large Plasma/LCD/LED Flat Screen Displays And Other Like Items
US9111980B2 (en) * 2012-09-04 2015-08-18 Applied Materials, Inc. Gas exhaust for high volume, low cost system for epitaxial silicon deposition
TW201522182A (zh) 2013-10-22 2015-06-16 密德薩克斯通用工業公司 用於潔淨環境之大體積輸送機輸送
DE102018207826A1 (de) * 2018-05-18 2019-11-21 Kuka Deutschland Gmbh Handhabung, insbesondere, Transport von Gütern, insbesondere Wafern, durch einen Roboter

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4311427A (en) * 1979-12-21 1982-01-19 Varian Associates, Inc. Wafer transfer system
US4515104A (en) * 1983-05-13 1985-05-07 Asq Boats, Inc. Contiguous wafer boat
JPS6037723A (ja) * 1983-08-10 1985-02-27 Nec Corp 半導体装置の製造方法
JPS60105222A (ja) * 1983-11-14 1985-06-10 Tekunisuko:Kk 組立式支持具
JPS60142513A (ja) * 1983-12-29 1985-07-27 Tekunisuko:Kk 組立式支持具
JPS62195144A (ja) * 1986-02-21 1987-08-27 Nec Kyushu Ltd 半導体基板収納箱
JPS631042A (ja) * 1986-06-20 1988-01-06 Toshiba Corp ウエハの搬送方法および装置
US4960298A (en) * 1988-12-20 1990-10-02 Texas Instruments Incorporated Semiconductor wafer pick-up device
US5248033A (en) * 1991-05-14 1993-09-28 Fluoroware, Inc. Hinged tilt box with inclined portion
US5350069A (en) * 1993-08-31 1994-09-27 Agwu David E Cleaning and storage device
US5348151A (en) * 1993-12-20 1994-09-20 Empak, Inc. Low profile disk carrier

Also Published As

Publication number Publication date
US5452801A (en) 1995-09-26
ATE240789T1 (de) 2003-06-15
WO1996002328A1 (en) 1996-02-01
EP0769986B1 (en) 2003-05-21
DE69530846D1 (de) 2003-06-26
DE69530846T2 (de) 2004-03-11
EP0769986A1 (en) 1997-05-02
EP0769986A4 (en) 2000-01-19

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