JP3291108B2 - 基板処理方法及び装置 - Google Patents

基板処理方法及び装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板処理方法及び装置に
係り、特に複数の基板を同時に処理槽へ搬送して処理す
る基板処理方法及び装置に関する。
【０００２】半導体装置を製造する際には、基板として
用いられるウエハを薬品前処理装置で洗浄すること等が
行われる。複数のウエハを同時に洗浄するため、所謂バ
ッチ式薬品前処理装置が通常使用されるが、ウエハの大
口径化に伴い薬品処理槽が大型化し、この結果薬品前処
理装置自体の大型化が進んでいる。複数の基板に対して
同時に、洗浄に限らず所定の処理を施す他の処理装置で
も、同様に処理装置の大型化が進んでいる。
【０００３】
【従来の技術】図１８は、従来の処理装置の一例を説明
する図である。同図（Ａ）は、従来装置においてウエハ
が薬品槽に搬送された状態の正面図を示し、同図（Ｂ）
は、ウエハが薬品槽へ搬送される状態又は薬品槽から外
部へ搬送される状態の正面図を示す。ここでは、説明の
便宜上、処理装置がウエハの洗浄を行う薬品前処理装置
であるものとして説明する。
【０００４】この第１の従来装置では、複数のウエハ５
００が洗浄用キャリア５０１内に収納された状態で搬送
される。搬送ロボット５０２は、アーム５０２Ａにより
洗浄キャリア５０１を図１８（Ｂ）に示す如く保持し
て、同図中矢印Ｙ１方向へ移動することにより、洗浄キ
ャリア５０１をウエハ５００と共に薬品槽５０３へ搬送
する。その後、アーム５０２Ａは同図（Ａ）に破線で示
すように矢印方向へ回動することにより、洗浄キャリア
５０１を薬品槽５０３内のキャリア支持部５０４上に載
置する。ウエハ５００の洗浄後には、アーム５０２Ａが
同図（Ａ）に破線で示す位置から実線で示す位置まで回
動することにより、洗浄キャリア５０１を保持する。ア
ーム５０２Ａにより保持された洗浄キャリア５０１は、
同図（Ｂ）中矢印Ｙ２方向へ移動することにより、洗浄
キャリア５０１をウエハ５００と共に薬品槽５０３から
外部へ搬送する。
【０００５】この様な処理装置では、ウエハ５００の大
口径化に伴い、洗浄キャリア５０１自体も大口径化し、
処理装置全体が大型化してしまう。
【０００６】他方、洗浄キャリア５０１の材質は、洗浄
処理の妨げにならないように選定されなければならず、
通常はフッ素系樹脂や石英が用いられる。しかし、これ
らの材料には夫々長所と短所がある。どちらの材料にも
共通の短所は、（１）ウエハ５００を洗浄キャリア５０
１内に収納して搬送するため、洗浄キャリア５０１から
ウエハ５００への汚染が避けられないこと、（２）洗浄
キャリア５０１を使用するためにウエハ５００の露出が
少なく薬品処理時間及び水洗処理時間がその分余計にか
かること、（３）洗浄キャリア５０１を使用するために
薬品槽５０３からウエハ５００を取り出す際の薬品の薬
品槽５０３外への持ち出しが避けられず、薬品の使用量
が増大してしまうこと等が挙げられる。
【０００７】そこで、上記の如き洗浄キャリアを用いた
場合の問題を解決するために、所謂キャリアレスタイプ
の処理装置が特開平４−４９６１９号公報や特開平５−
３６６６８号公報等に提案されている。
【０００８】図１９は、従来の処理装置の他の例を説明
する図である。同図（Ａ）は、従来装置においてウエハ
が薬品槽に搬送された状態の正面図を示し、同図（Ｂ）
は、ウエハが薬品槽へ搬送される状態又は薬品槽から外
部へ搬送される状態を破線で、又、ウエハが薬品槽に搬
送された状態を実線で、夫々側面図で示す。ここでは、
説明の便宜上、処理装置がウエハの洗浄を行う薬品前処
理装置であるものとして説明する。又、図１９中、図１
８と実質的に同じ部分には同一符号を付し、その説明は
省略する。
【０００９】この第２の従来装置では、搬送ロボット５
０２のアーム５０２Ａに複数の保持部５０２Ｂが設けら
れている。保持部５０２Ｂには、保持するウエハ５００
の数に応じた溝が形成されており、ウエハ５００の搬送
時には各ウエハ５００が保持部５０２Ｂのみにより保持
される。薬品槽５０３内に搬送されたウエハ５００は、
薬品槽５０３内に設けられたウエハ支持部５０５により
支持される。このウエハ支持部５０５にも、支持するウ
エハ５００の数に応じた溝が形成されており、これらの
溝によりウエハ５００が支持されウエハ５００のピッチ
が一定に保たれる。
【００１０】図１９に示す第２の従来装置では、ウエハ
５００のみが搬送ロボット５０２のアーム５０２Ａによ
り搬送される構成をとっているので、図１８に示した第
１の従来装置に比べると、洗浄キャリアを使用しないの
で洗浄キャリアからウエハ５００への汚染が避けられ、
洗浄キャリアを使用しないのでウエハ５００の露出が良
好で薬品処理時間及び水洗処理時間が余計にかからず、
洗浄キャリアを使用しないので薬品槽５０３からウエハ
５００を取り出す際の薬品の薬品槽５０３外への持ち出
しが避けられ、薬品の使用量が増大することもない。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図１９に示す
第２の従来装置では、複数のばらばらのウエハ５００を
搬送ロボット５０２のアーム５０２Ａにより保持すると
共に、薬品槽５０３内では、ばらばらのウエハ５００を
ウエハ支持部５０５により支持する必要がある。つま
り、アーム５０２Ａの保持部５０２Ｂには、各ウエハ５
００を略直立させると共に、ウエハ５００のピッチを一
定に保つために、ウエハ５００の端部を保持する複数の
溝を精度良く設ける必要があった。又、薬品槽５０３内
のウエハ支持部５０５にも、各ウエハ５００を略直立さ
せると共に、ウエハ５００のピッチを一定に保つため
に、ウエハ５００の端部を保持する複数の溝を精度良く
設ける必要があった。このため、上記保持部５０２Ｂ及
びウエハ支持部５０５が安価に製造できなかった。
【００１２】例えば直径が６インチで厚さが０．６ミリ
のウエハ５００の場合、アーム５０２Ａの保持部５０２
Ｂ及びウエハ支持部５０５に設けられる溝の幅は約０．
８ミリである。このため、搬送ロボット５０２によりウ
エハ５００を薬品槽５０３内へ搬送したり薬品槽５０３
外へ搬送する際には、ウエハ５００のキャッチミスやチ
ッピング等のウエハ５００へのダメージを生じない様
に、極めて高精度の位置制御が要求されるという問題点
があった。又、この様な高精度の位置制御を行っても、
搬送の信頼性は洗浄キャリアを用いる第１の従来装置に
比べるとかなり劣り、経時変化と共に処理装置の各部が
劣化すると、搬送の信頼性は未知数であり、万一の被害
は第１の従来装置より大きい。
【００１３】更に、ウエハ５００はアーム５０２Ａの保
持部５０２Ｂの溝及びウエハ支持部５０５の溝により保
持及び支持される構成を用いているため、ウエハ５００
の端面とこれらの溝との接触によるパーティクルの発生
という問題もあった。
【００１４】そこで、特に搬送の信頼性及び搬送ロボッ
ト５０２に要求される位置精度等を考慮すると、やはり
第１の従来装置の方が好ましいが、第１の従来装置には
上記の問題に加えて、ウエハ５００を用いた製品の歩留
りを左右するパーティクルの発生、即ち、発塵の問題が
あった。
【００１５】つまり、洗浄キャリア５０１の材質がフッ
素系樹脂であろうと石英であろうと、洗浄キャリア５０
１は大略ウエハ５００の荷重を支える機能を有する部分
と、ウエハ５００の傾きを押える機能を有する部分とか
らなる。ウエハ５００の端面は、人間の目には滑らかに
見えるが、顕微鏡で２０００倍に拡大して見ると、かな
りの凹凸を有することが確認されている。又、洗浄キャ
リア５０１に使用されるフッ素系樹脂や石英は、ウエハ
５００の材質であるシリコンよりも柔らかい材質である
ため、使用回数を経る毎に、洗浄キャリア５０１がウエ
ハ５００の端面にある凹凸により削られて劣化してしま
う。具体的には、洗浄キャリア５０１のウエハ５００を
支持する部分では、上記劣化により微小な傷やひびが発
生することが確認されている。
【００１６】この様な洗浄キャリア５０１の傷やひびが
パーティクルの発生箇所となり、洗浄キャリア５０１の
使用回数に伴いパーティクルによるウエハ５００の汚染
が増加することも確認されている。これは、洗浄キャリ
ア５０１から発生したパーティクルが薬品槽５０３内で
液面に浮かび、洗浄キャリア５０１の薬品槽５０３内及
び薬品槽５０３外への搬送時にウエハ５００の表面に付
着するからである。
【００１７】そこで、本発明者は、ある程度使用した洗
浄キャリア５０１を調べて、溝の劣化部分を分析した。
【００１８】図２０は調べた洗浄キャリア５００の一例
を示し、同図（Ａ）は上面の要部を示し、同図（Ｂ）は
正面から見た縦断面を示す。同図中、Ｘ１で示す部分
は、ウエハ５００の傾きを押える機能を有する部分であ
る。図２１（Ａ）の断面図に示すように、この部分Ｘ１
では、ウエハ５００の端面５００Ａが洗浄キャリア５０
１の内壁奥部と直接接触することはなく、溝を形成して
いる内壁はウエハ５００の傾きを押えているだけなの
で、この部分Ｘ１でのパーティクルの発生は殆どない。
他方、Ｘ２で示す部分は、ウエハ５００の荷重を支える
機能を有する部分である。図２１（Ｂ）の断面図に示す
ように、この部分Ｘ２では、ウエハ５００の端面５００
Ａが洗浄キャリア５０１の内壁奥部と直接接触してい
る。この部分Ｘ２は、実質的にウエハ５００の荷重を全
て支えているので、ウエハ５００の端面５００Ａと洗浄
キャリア５０１の内壁の接触による内壁の劣化は著し
く、パーティクルが多く発生する。
【００１９】図２２は調べた洗浄キャリア５００の他の
例を示し、同図（Ａ）は上面の要部を示し、同図（Ｂ）
は正面から見た縦断面を示す。同図中、Ｘ３で示す部分
は、ウエハ５００の傾きを押える機能を有する部分であ
る。図２３（Ａ）の断面図に示すように、この部分Ｘ３
では、ウエハ５００の端面５００Ａが洗浄キャリア５０
１の内壁奥部と直接接触することはなく、溝を形成して
いる内壁はウエハ５００の傾きを押えているだけなの
で、この部分Ｘ３でのパーティクルの発生は殆どない。
他方、Ｘ４で示す部分は、ウエハ５００の荷重を支える
機能を有する部分である。図２３（Ｂ）の断面図に示す
ように、この部分Ｘ４では、ウエハ５００の端面５００
Ａが洗浄キャリア５０１の内壁奥部と直接接触してい
る。この部分Ｘ４は、実質的にウエハ５００の荷重を全
て支えているので、ウエハ５００の端面５００Ａと洗浄
キャリア５０１の内壁の接触による内壁の劣化は著し
く、パーティクルが多く発生する。
【００２０】従って、第１及び第２の従来装置には夫々
長所短所があり、洗浄キャリア５０１を使用することに
よるパーティクルの発生及びウエハ５００の汚染、或
は、搬送ロボット５０２によりウエハ５００を搬送する
際にウエハ５００のキャッチミスを生じない様に極めて
高精度の位置制御が要求されるという問題点があった。
【００２１】本発明は、パーティクルの発生を抑制する
と共に、基板の搬送時にあまり高精度の位置制御を必要
としない基板処理方法及び装置を実現しようとする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、請求項１
記載の、少なくとも下側に複数の基板１０が摺り抜け可
能な開口を有すると共に、該複数の基板１０の傾きを押
える機能を有するキャリア１１内に該基板１０を収納す
る第１の工程と、該基板１０の荷重を支える機能及び該
キャリア１１の荷重を支える機能を有する搬送手段１
２，１２Ａにより該基板１０及び該キャリア１１を処理
室１３へ搬送する第２の工程と、該処理室１３内で該基
板１０に対して所定の処理を施す第３の工程とを含む基
板処理方法により達成できる。
【００２３】請求項２記載の発明では、前記第２の工程
は、前記基板１０及び前記キャリア１１を、前記処理室
１３内で該基板１０及び該キャリア１１の荷重を支える
機能を有する支持部１４に載置する。
【００２４】請求項３記載の発明では、前記第２の工程
は、前記基板１０の面が重力の作用方向Ｙ１と平行な状
態から多少ずれた状態で搬送されるように、該基板１０
及び前記キャリア１１を積極的に傾けた状態で搬送す
る。
【００２５】請求項４記載の発明では、前記第２の工程
は、前記基板１０及びキャリア１１を傾けたままの状態
で、前記処理室１３内で該基板１０及び該キャリア１１
の荷重を支える機能を有する支持部１４に載置する。
【００２６】請求項５記載の発明では、前記第２の工程
は、前記基板１０の面が重力の作用方向Ｙ１と平行な状
態から２度〜３度ずれるように、該基板１０及び前記キ
ャリア１１を積極的に傾けた状態で搬送又は前記処理室
１３内の支持部１４に載置する。
【００２７】請求項６記載の発明では、前記第２の工程
は、前記基板１０及び前記キャリア１１を別々の箇所で
支えて搬送を行う。
【００２８】請求項７記載の発明では、前記第２の工程
は、前記基板１０及び前記キャリア１１を同じ箇所で同
時に支えて搬送を行う。
【００２９】上記の課題は、請求項８記載の、少なくと
も下側に複数の基板１０が摺り抜け可能な開口を有する
と共に、該複数の基板１０の傾きを押える機能を有する
キャリア１１内に収納された状態で、該基板１０の荷重
を支えると共に該キャリア１１の荷重を支えて該基板１
０及び該キャリア１１を搬送する搬送手段１２，１２Ａ
と、該搬送手段１２，１２Ａにより搬送されて来る該基
板１０及び該キャリア１１を支持して、該基板１０に対
して所定の処理を施す処理室１３とを備えた基板処理装
置によっても達成できる。
【００３０】請求項９記載の発明では、前記処理室１３
は、前記基板１０及び前記キャリア１１を、該基板１０
及び該キャリア１１の荷重を支える機能を有する支持部
１４を有する。
【００３１】請求項１０記載の発明では、前記搬送手段
１２，１２Ａは、前記基板１０の面が重力の作用方向Ｙ
１と平行な状態から多少ずれた状態で搬送されるよう
に、該基板１０及び前記キャリア１１を積極的に傾けた
状態で搬送する。
【００３２】請求項１１記載の発明では、前記処理室１
３は、前記基板１０及びキャリア１１を傾けたままの状
態で、該基板１０及び該キャリア１１の荷重を支える機
能を有する支持部１４を有する。
【００３３】請求項１２記載の発明では、前記搬送手段
１２，１２Ａは、前記基板１０の面が重力の作用方向Ｙ
１と平行な状態から２度〜３度ずれるように、該基板１
０及び前記キャリア１１を積極的に傾けた状態で搬送す
る。
【００３４】請求項１３記載の発明では、前記搬送手段
１２，１２Ａは、前記基板１０の荷重を支える部分に、
該基板１０が前記キャリア１１内で収納されているピッ
チより狭いピッチを有する鋸刃状部分１２ー１Ａを有す
る。
【００３５】請求項１４記載の発明では、前記処理室１
３内の前記支持部１４は、前記基板１０の荷重を支える
部分に、該基板１０が前記キャリア１１内で収納されて
いるピッチより狭いピッチを有する鋸刃状部分１４ー１
Ａを有する。
【００３６】請求項１５記載の発明では、前記搬送手段
１２，１２Ａは、前記基板１０及び前記キャリア１１を
別々の箇所で支えて搬送を行う。
【００３７】請求項１６記載の発明では、前記搬送手段
１２，１２Ａは、前記基板１０及び前記キャリア１１を
同じ箇所で同時に支えて搬送を行う。
【００３８】上記の課題は、請求項１７記載の、少なく
とも下側に複数の基板１０が摺り抜け可能な開口を有す
ると共に、該複数の基板１０の傾きを押える機能を有す
るキャリア１１内に該基板１０を収納する第１の工程
と、該基板１０の荷重を支える機能及び該キャリア１１
の荷重を支える機能を有する搬送手段１２，１２Ａによ
り該基板１０及び該キャリア１１を搬送する第２の工程
とを含む基板搬送方法によっても達成できる。
【００３９】
【作用】請求項１記載の発明では、第１の従来装置と比
べると、パーティクルの発生を大幅に抑制でき、キャリ
アの寿命も長くでき、処理室からの薬品等の外部への持
ち出しが少なく、処理時間を短縮することができる。
又、第２の従来装置と比べると、基板の搬送の信頼性が
大幅に向上し、搬送手段の構造を簡単に、且つ、安価に
製造でき、搬送手段にあまり高精度の位置制御等は要求
されない。
【００４０】請求項２記載の発明では、処理室内での基
板及びキャリアの支持構造を簡単に、且つ、安価に製造
でき、この支持構造にあまり高精度の要求はない。
【００４１】請求項３記載の発明では、基板の搬送時に
基板が不用意に動くことが確実に防止できる。
【００４２】請求項４記載の発明では、処理室内での基
板の処理時に基板が不用意に動くことが確実に防止でき
る。
【００４３】請求項５記載の発明では、基板の搬送時に
基板が不用意に動くことが確実に防止できると共に、キ
ャリア内の限られたスペースに多くの基板を収納でき
る。
【００４４】請求項６記載の発明では、キャリア及び搬
送手段の設計の自由度が増す。
【００４５】請求項７記載の発明では、特に搬送手段の
構成が簡単となるので、ごみや液が搬送手段に溜りにく
い。
【００４６】請求項８記載の発明では、第１の従来装置
と比べると、パーティクルの発生を大幅に抑制でき、キ
ャリアの寿命も長くでき、処理室からの薬品等の外部へ
の持ち出しが少なく、処理時間を短縮することができ
る。又、第２の従来装置と比べると、基板の搬送の信頼
性が大幅に向上し、搬送手段の構造を簡単に、且つ、安
価に製造でき、搬送手段にあまり高精度の位置制御等は
要求されない。
【００４７】請求項９記載の発明では、処理室内での基
板及びキャリアの支持構造を簡単に、且つ、安価に製造
でき、この支持構造にあまり高精度の要求はない。
【００４８】請求項１０記載の発明では、基板の搬送時
に基板が不用意に動くことが確実に防止できる。
【００４９】請求項１１記載の発明では、処理室内での
基板の処理時に基板が不用意に動くことが確実に防止で
きる。
【００５０】請求項１２記載の発明では、基板の搬送時
に基板が不用意に動くことが確実に防止できると共に、
キャリア内の限られたスペースに多くの基板を収納でき
る。
【００５１】請求項１３記載の発明では、基板の搬送時
に基板が不用意に動くことが確実に防止できる。
【００５２】請求項１４記載の発明では、処理室内での
基板の処理時に基板が不用意に動くことが確実に防止で
きる。
【００５３】請求項１５記載の発明では、キャリア及び
搬送手段の設計の自由度が増す。
【００５４】請求項１６記載の発明では、特に搬送手段
の構成が簡単となるので、ごみや液が搬送手段に溜りに
くい。
【００５５】請求項１７記載の発明では、第１の従来装
置と比べると、パーティクルの発生を大幅に抑制でき、
キャリアの寿命も長くでき、処理室からの薬品等の外部
への持ち出しが少なく、処理時間を短縮することができ
る。又、第２の従来装置と比べると、基板の搬送の信頼
性が大幅に向上し、搬送手段の構造を簡単に、且つ、安
価に製造でき、搬送手段にあまり高精度の位置制御等は
要求されない。
【００５６】
【実施例】図１〜図３は、本発明になる基板処理装置の
第１実施例を説明する図である。図１（Ａ）は、第１実
施例においてウエハが薬品槽に搬送された状態の正面図
を示し、同図（Ｂ）は、これに対応する側面図である。
図２（Ａ）は、第１実施例においてウエハが薬品槽へ搬
送される状態又は薬品槽から外部へ搬送される状態の正
面図を示し、同図（Ｂ）は、これに対応する側面図を示
す。又、図３（Ａ）は、第１実施例においてウエハが薬
品槽内で支持される状態を示す正面図であり、同図
（Ｂ）は、これに対応する側面図である。ここでは、説
明の便宜上、本発明がウエハの洗浄を行う薬品前処理装
置に適用された場合について説明する。
【００５７】この第１実施例では、複数のウエハ１０が
キャリア１１内に収納された状態で搬送される。しか
し、このキャリア１１は、ウエハ１０の傾きのみを押え
る構成となっており、キャリア１１単体ではウエハ１０
の荷重を支える機能はない。従って、各ウエハ１０は、
支えられていないとキャリア１１を摺り抜けてしまう。
又、キャリア１１はウエハ１０の傾きのみを押える機能
を有すれば良いので、ウエハ１０全体を覆うような構成
ではなく、ウエハ１０の傾きを押えるに充分な形状であ
れば良い。本実施例では、キャリア１１はウエハ１０の
中心部分のみを覆っており、両端に形成された複数の溝
又はスロットによりウエハ１０の傾きを押えている。
【００５８】キャリア１１の溝又はスロット部分の構成
については、詳細に後述する。
【００５９】搬送ロボット１２は、アーム１２Ａにより
ウエハ１０及びキャリア１１を図２（Ａ），（Ｂ）に示
す如く保持して、同図中矢印Ｙ１方向へ移動することに
より、ウエハ１０をキャリア１１と共に薬品槽１３へ搬
送する。この時、アーム１２Ａは、先端のウエハ保持部
１２−１によりウエハ１０を保持してその荷重を支え
る。又、アーム１２Ａのキャリアストッパ１２−２は、
キャリア１１がウエハ１０の搬送中に落ちないように支
えている。これにより、ウエハ１０及びキャリア１１の
搬送時の位置ずれが、アーム１２Ａのウエハ保持部１２
−１及びキャリアストッパ１２−２により防止される。
尚、ウエハ１０の傾きはキャリア１１により押えられて
いるので、アーム１２Ａのウエハ保持部１２−１は、単
にウエハ１０を支えれば良く、上記第２の従来装置のよ
うにウエハ１０を支える部分に溝を設ける必要はない。
このため、搬送ロボット１２に要求される位置精度は上
記第１の従来装置と同様の精度で良く、第２の従来装置
のような高精度は要求されない。本実施例では、アーム
１２Ａのウエハ保持部１２−１は、一対の棒状部材から
なる。
【００６０】その後、アーム１２Ａは図１（Ａ）に破線
で示すように矢印方向へ回動することにより、ウエハ１
０及びキャリア１１を薬品槽１３内の支持部１４上に載
置する。この状態では、図３（Ａ），（Ｂ）に示すよう
に、ウエハ１０は支持部１４のウエハ支持部１４−１に
より支持され、キャリア１１は支持部１４のキャリア支
持部１４−２により支持される。ウエハ支持部１４−１
は、単にウエハ１０の荷重を支えれば良く、上記第２の
従来装置のようにウエハ１０を支える部分に溝を設ける
必要はない。このため、搬送ロボット１２に要求される
位置精度は上記第１の従来装置と同様の精度で良く、第
２の従来装置のような高精度は要求されない。又、キャ
リア支持部１４−２は、本実施例では図３（Ｂ）に示す
ようにテーパを有するが、単に載置されたキャリア１１
の荷重を支える構成であれば良い。従って、キャリア１
１用の複雑な支持構造や高い搬送位置精度は要求され
ず、キャリア１１がそれ自体の荷重により支持部１４上
に位置決めされれば良い。
【００６１】ウエハ１０の洗浄後には、アーム１２Ａが
図１（Ａ）に破線で示す位置から実線で示す位置まで回
動することにより、ウエハ１０及びキャリア１１を保持
する。アーム１２Ａにより保持されたウエハ１０及びキ
ャリア１１は、図１及び図２中矢印Ｙ２方向へ移動する
ことにより、ウエハ１０をキャリア１１と共に薬品槽１
３から外部へ搬送する。
【００６２】図１及び図２における搬送ロボット１２自
体及びアーム１２Ａの駆動系等は、例えば図１８及び１
９と共に説明したのと同様の公知の構成を使用できるの
で、その詳細な説明は省略する。
【００６３】本実施例では、キャリア１１にはウエハ１
０の荷重を支える部分がなく、ウエハ１０を支持するた
めの溝もないので、上記第１の従来装置のように、ウエ
ハ１０の端面が直接キャリア１１の内壁と接触して削る
こともない。このため、第１の従来例で問題となってい
たパーティクルの発生を抑制することができる。又、ウ
エハ１０の傾きはキャリア１１により押えられるので、
上記第２の従来装置と異なり、搬送ロボット１２側にも
薬品槽１３側にも、ウエハ１０の傾きを押えるための溝
を形成する必要がない。この結果、処理装置の構成が簡
単となり、処理装置自体が安価になると共に、ウエハ１
０を搬送する際に極めて高精度の位置制御を必要とする
ことなくウエハ１０のキャッチミスを防止し得る。又、
ウエハ保持部１２−１及びウエハ支持部１４−１には溝
がないので、ウエハ１０の端部と溝との接触によるパー
ティクルの発生もない。
【００６４】他方、キャリア１１は第１の従来装置の洗
浄キャリア５０１と比べると、比較的小さい。従って、
キャリア１１を使用することによる薬品槽１３の増大は
殆どなく、又、薬品槽１３からの薬品の持ち出しも上記
第２の従来装置の場合と実質的に変わらず、ウエハ１０
の処理時間も上記第２の従来装置の場合と実質的に同じ
である。更に、キャリア１１にはウエハ１０の端面と直
接接触する部分がないので、キャリア１１自体の寿命も
長い。これに加えて、キャリア１１、ウエハ保持部１２
−１やウエハ支持部１４−１等の構成が簡単であるた
め、これらが劣化した場合の定期交換も簡単な作業で済
む。
【００６５】尚、本実施例では、キャリア１１は例えば
フッ素系樹脂、石英、テフロン等の材質からなり、キャ
リア１１の表面のみがこれらの如き材質から形成されて
いても良い。
【００６６】搬送ロボット１２のアーム１２Ａやそのウ
エハ保持部１２−１、薬品槽１３内の支持部１４やその
ウエハ支持部１４−１等の少なくとも表面の材質は、特
に限定されないが、一例として薬品槽１３内で用いられ
る薬品による劣化が生じることなく、且つ、パーティク
ルの発生を抑制し得るプラスチックや上記キャリア１１
に用いられる材料等を使用すれば良い。
【００６７】図４は、本発明になる基板処理装置の第２
実施例を説明する図である。図４（Ａ）は、第２実施例
においてウエハが搬送される状態の正面図を示し、同図
（Ｂ）は、これに対応する側面図である。図４中、図１
〜図３と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略
する。又、以後の実施例の説明では、説明の便宜上、本
発明がウエハの洗浄を行う薬品前処理装置に適用された
場合について説明する。
【００６８】第２実施例では、キャリア１１の側壁に段
差部１１Ａが設けられている。従って、アーム１２Ａの
キャリア保持部１２ー２は、上記第１実施例ではキャリ
ア１１の底部を保持するが、本実施例ではキャリア１１
の側部を保持する。
【００６９】図５は、本発明になる基板処理装置の第３
実施例を説明する図である。図５（Ａ）は、第３実施例
においてウエハが搬送される状態の正面図を示し、同図
（Ｂ）は、これに対応する側面図である。図５中、図１
〜図３と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略
する。
【００７０】第３実施例では、アーム１２Ａの先端に共
通保持部１２ー３が設けられている。上記第１及び第２
実施例ではアーム１２Ａの別々の部分でウエハ１０及び
キャリア１１を保持するが、本実施例では共通保持部１
２ー３によりウエハ１０及びキャリア１１を同時に保持
する。
【００７１】又、本実施例では、アーム１２Ａの先端に
内側へ曲ったＬ字状部分がなく、真っ直ぐな形状を有す
る。又、キャリア１１を保持するための突起等もない。
搬送ロボット１２のアーム１２Ａは通常複数の薬品槽及
び水洗槽を通るので、このようなシンプルな形状は塵や
液がアーム１２Ａ部分に溜りにくく好都合である。
【００７２】図６は、本発明になる基板処理装置の第４
実施例を説明する図である。図６（Ａ）は、第４実施例
においてウエハが搬送される状態の正面図を示し、同図
（Ｂ）は、これに対応する側面図である。図６中、図５
と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略する。
【００７３】第４実施例では、キャリア１１の底部に凹
部１１Ｂが設けられている。アーム１２Ａの先端に設け
られた共通保持部１２ー３は、この凹部１１Ｂと係合す
ることにより、ウエハ１０及びキャリア１１を同時に保
持する。従って、搬送ロボット１２が急停止した場合等
に、ウエハ１０及びキャリア１１の落下を確実に防止で
きる。
【００７４】図７は、本発明になる基板処理装置の第５
実施例を説明する図である。図７（Ａ）は、第５実施例
においてウエハが搬送される状態の正面図を示し、同図
（Ｂ）は、これに対応する側面図である。図７中、図１
〜図３と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略
する。
【００７５】第５実施例では、アーム１２Ａの先端のウ
エハ保持部１２ー１に、図７（Ｂ）に一部拡大して示す
ように、鋸刃状部分１２ー１Ａが設けられている。この
鋸刃状部分１２ー１Ａの凹部又は凸部のピッチは、キャ
リア１１内でのウエハ１０のピッチより狭く設定されて
いる。尚、鋸刃状部分１２ー１Ａは、螺旋状に形成され
た凹凸部分であっても良い。
【００７６】キャリア１１内のウエハ１０は、キャリア
１１の溝又はスロットの開き角度によってはウエハ１０
の最上部同士又は最下部同士が接触する可能性がある。
この様な接触があると、洗浄むらや乾燥むら等を起こし
易い。これらの不都合は、ウエハ１０の傾き角度が所定
の角度以上となると起こるが、キャリア１１の溝をあま
り深くしたり溝の幅を狭めたりしても、かえって洗浄む
らや乾燥むら等の原因となる。そこで、本実施例では、
キャリア１１の溝を深くしたり溝の幅を狭めたりせず
に、ウエハ保持部１２ー１に鋸刃状部分１２ー１Ａを設
けた。これにより、ウエハ１０の端部が不用意にずれた
りすることが防止できる。又、ウエハ１０のずれを防止
できるので、パーティクルの発生も効果的に抑制でき
る。
【００７７】図８は、本発明になる基板処理装置の第６
実施例を説明する図である。図８（Ａ）は、第６実施例
においてウエハが薬品槽内へ搬送された状態の正面図を
示し、同図（Ｂ）は、これに対応する側面図である。図
８中、図３と同一部分には同一符号を付し、その説明は
省略する。
【００７８】第６実施例では、薬品槽１３内の支持部１
４のウエハ支持部１４ー１に、図８（Ｂ）に一部拡大し
て示すように、鋸刃状部分１４ー１Ａが設けられてい
る。この鋸刃状部分１４ー１Ａの凹部又は凸部のピッチ
は、キャリア１１内でのウエハ１０のピッチより狭く設
定されている。尚、鋸刃状部分１４ー１Ａは、螺旋状に
形成された凹凸部分であっても良い。
【００７９】本実施例では、キャリア１１の溝を深くし
たり溝の幅を狭めたりせずに、ウエハ支持部１４ー１に
鋸刃状部分１４ー１Ａを設けた。これにより、上記第５
実施例と同様の原理で、薬品槽１３内においてウエハ１
０の端部が不用意にずれたりすることが防止できる。
又、ウエハ１０のずれを防止できるので、パーティクル
の発生も効果的に抑制できる。
【００８０】図９及び図１０は、本発明になる基板処理
装置の第７実施例を説明する図である。図９（Ａ）は、
第７実施例においてウエハが搬送される状態の正面図を
示し、同図（Ｂ）は、これに対応する側面図である。
又、図１０は、第７実施例においてウエハが薬品槽内へ
搬送された状態を示す正面図である。図９及び図１０
中、図１〜図３と同一部分には同一符号を付し、その説
明は省略する。
【００８１】第７実施例では、搬送ロボット１２のアー
ム１２Ａの延在方向が、重力の作用方向（Ｙ１）からず
らして取付られている。即ち、図９（Ｂ）において、ア
ーム１２Ａにより保持されたキャリア１１が図中右上が
りとなるように、アーム１２Ａが例えばＹ１方向から２
度〜３度ずらして取付られている。このため、ウエハ１
０は、ウエハ１０の面が重力の作用方向（Ｙ１）と平行
な状態から多少ずれた状態で搬送されるので、搬送中に
不用意に動くことがない。
【００８２】他方、図１０に示す如く、本実施例では薬
品槽１３内の支持部１４も傾斜しているので、ウエハ１
０及びキャリア１１を上記と同様な角度（２度〜３度）
傾斜したままの状態で支持できる。このため、薬品槽１
３での処理中にウエハ１０が不用意に動くことがない。
【００８３】キャリア１１内のウエハ１０は、キャリア
１１の溝の開き角度によってはウエハ１０の最上部同士
又は最下部同士が接触する可能性がある。この様な接触
があると、洗浄むらや乾燥むら等を起こし易い。これら
の不都合は、ウエハ１０の傾き角度が所定の角度以上と
なると起こるが、キャリア１１の溝をあまり深くしたり
溝の幅を狭めたりしても、かえって洗浄むらや乾燥むら
等の原因となる。そこで、本実施例では、キャリア１１
の溝を深くしたり溝の幅を狭めたりせずに、ウエハ１０
及びキャリア１１を傾けて搬送する構成としている。こ
れにより、ウエハ１０の端部が不用意にずれたりするこ
とが防止できる。又、ウエハ１０のずれを防止できるの
で、パーティクルの発生も効果的に抑制できる。
【００８４】次に、キャリア１１の各実施例について図
１１〜図１４と共に説明する。図１１〜図１４中、図１
〜図３と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略
する。
【００８５】図１１に示すキャリア１１は、同図（Ａ）
の上面図に示す如く両端に設けられた溝（又はスロッ
ト）１１ー１により各ウエハ１０の傾きを押えている。
溝１１ー１は、各ウエハ１０に対してキャリア１１の上
下に１つずつ、且つ、左右に設けられている。又、同図
（Ｂ）及び（Ｃ）に示すように、キャリア１１の中央部
分は開口部１１ー２となっている。このように、キャリ
ア１１の絶体面積を減少させると、その分ウエハ１０と
キャリア１１との接触面積が減少するので、パーティク
ルの発生を抑制することができる。更に、パーティクル
が発生しても、パーティクルは開口部１１ー２から容易
に流出できるので、キャリア１１内に留まることがな
く、ウエハ１０に付着する可能性も低くできる。
【００８６】図１２に示すキャリア１１は、同図（Ａ）
の上面図に示す如く両端に設けられた溝１１ー１により
各ウエハ１０の傾きを押えている。溝１１ー１は、各ウ
エハ１０に対してキャリア１１の左右に１つずつ設けら
れている。又、同図（Ｂ）及び（Ｃ）に示すように、キ
ャリア１１は大略枠型の形状を有する。このように、キ
ャリア１１を枠型の形状とすると、薬品槽１３内での乱
流の発生を抑制する効果が生じ、その分パーティクルの
発生を抑制することができる。つまり、通常の薬品槽や
水洗槽内では、液体の流れを下から上への層流としてい
るが、槽内の中央部分以外では、乱流が生じ易く、パー
ティクルのウエハ１０への再付着の可能性がある。しか
し、キャリア１１が枠型の形状を有すると、キャリア１
１内を層流に保ち易く、その結果パーティクルの発生を
抑制できる。
【００８７】図１３に示すキャリア１１は、同図（Ａ）
の上面図に示す如く両端に設けられた溝１１ー１により
各ウエハ１０の傾きを押えている。溝１１ー１は、各ウ
エハ１０に対してキャリア１１の左右に１つずつ設けら
れている。又、同図（Ｂ）及び（Ｃ）に示すように、キ
ャリア１１は図１２の場合と同様に大略枠型の形状を有
する。しかし、キャリア１１の溝１１ー１のピッチは、
図１２の場合の半分となっている。図１４（Ａ）は図１
２のキャリア１１の溝１１ー１のピッチを示し、同図
（Ｂ）は図１３のキャリア１１の溝１１ー１のピッチを
示す。これにより、図１３のキャリア１１には、図１２
のキャリア１１の２倍の数のウエハ１０を収納できるの
で、処理速度も２倍にできる。
【００８８】第１の従来装置では、このようにウエハの
ピッチを半分にすると、その分パーティクルの発生が増
加してしまった。又、第２の従来装置では、ウエハのピ
ッチを半分にすると、元々極めて高精度の位置制御が要
求されるので、この様な狭いピッチのウエハを搬送する
ことは実質的に不可能であった。
【００８９】しかし、本実施例では、例えば直径が６イ
ンチで厚さが０．６ミリのウエハ１０に対して、図１２
では溝１１ー１の最大幅が１．５ミリでキャリア１１内
のウエハ１０が４．７６ミリのピッチで配列されるとす
ると、図１３ではウエハ１０のピッチを半分の２．３８
ミリにして溝１１ー１の最大幅をこれに応じて適切に調
整すれば、パーティクルの発生の問題も、高精度の位置
制御の要求の問題も生じることなく、図１２のキャリア
１１の２倍の数のウエハ１０を収納できる。
【００９０】尚、上記各実施例では、搬送ロボットのア
ームは、ウエハ及びキャリアを２点で保持する構成とな
っているが、２点以上で保持する構成としても良いこと
は言うまでもない。
【００９１】又、基板に処理を施す処理槽は薬品槽に限
らず、基板に対して任意の処理を行う処理室であれば良
い。従って、処理室は、洗浄槽やスピンドライヤ等の乾
燥装置であっても良い。
【００９２】更に、搬送ロボット１２のアーム１２Ａ
は、搬送時にウエハ１０とキャリア１１とを保持する
が、キャリア１１は少なくともＹ１方向への移動を規制
されていれば良いので、アーム１２Ａは必ずしもキャリ
ア１１を完全にロックする構成である必要はない。
【００９３】又、上記実施例では、処理を施される基板
はウエハであるが、基板はウエハに限定されるものでは
なく、レチクルやマスク等が処理の対象となる基板であ
っても良い。更に、基板の形状も実施例のウエハの如き
大略円形である必要はなく、大略四辺形等の他の任意の
形状を有するものであっても良いことは、言うまでもな
い。
【００９４】尚、キャリアの形状は、例えば図１１に示
す如き中空状のものに限定されるものではない。例え
ば、キャリアは上面図上大略コの字形であっても良く、
又、基板のキャリア内へのセットが多少複雑になるが、
上方が一部又は全部塞がれた形状であっても良い。要
は、キャリアは、キャリアの少なくとも下側が開口して
おり、主に基板の傾きを押さえる機能を有すれば良い。
【００９５】本発明者は、図２２と共に説明したような
第１の従来装置を用いた場合と、図１〜図３と共に説明
したような本発明になる基板処理装置とで、シリコンウ
エハに同じ所定の処理を施して、０．２ミクロン以上の
パーティクルの増加数を実験により調べてみたところ、
本発明によればパーティクルの増加数が第１の従来装置
の約１／７程度に抑制することができることを確認でき
た。
【００９６】上記所定の処理は、（１）過酸化水素＋硫
酸処理、（２）水洗処理、（３）ＨＦ処理（１００：１
０ ８０秒）、（４）水洗処理、（５）硝酸処理、
（６）水洗処理、（７）乾燥処理からなる一連の工程を
含み、第１の従来装置では図２２に示す洗浄キャリア５
０１の変形で、図１５に示す石英の洗浄キャリア５０１
を用いた。図１５に示す洗浄キャリア５０１は、ウエハ
５００を丸印で示した左右と下の３点で支持する。
【００９７】又、同時に処理される複数のウエハの状態
を観察したところ、図１６に示す結果が得られた。同図
（Ａ）は、第１の従来装置で２回目の上記所定の処理を
行った際に得られた、洗浄キャリア５０１の一番端のス
ロットに保持されたウエハ５００に付着したパーティク
ルの状態を示し、パーティクルの増加数は６７５個であ
った。同図（Ｂ）は、第１の従来装置で２回目の上記所
定の処理を行った際に得られた、洗浄キャリア５０１の
中程の１２番目のスロットに保持されたウエハ５００に
付着したパーティクルの状態を示し、パーティクルの増
加数は９９１個であった。
【００９８】これに対して、図１６（Ｃ）は、本発明装
置で２回目の上記所定の処理を行った際に得られた、キ
ャリア１１の一番端のスロットに保持されたウエハ１０
に付着したパーティクルの状態を示し、パーティクルの
増加数は２２３個あった。同図（Ｄ）は、本発明装置で
２回目の上記所定の処理を行った際に得られた、キャリ
ア１１の中程の１２番目のスロットに保持されたウエハ
１０に付着したパーティクルの状態を示し、パーティク
ルの増加数は１４２個であった。これにより、本発明で
は、パーティクルの増加数を大幅に抑制することができ
ることが確認できた。
【００９９】図１７は、上記実験結果を示すもので、同
図中、「黒い丸印」は第１の従来装置による１回目の所
定の処理の結果、「黒い三角印」は第１の従来装置によ
る２回目の所定の処理の結果、「白い丸印」は本発明装
置による１回目の所定の処理の結果、「白い三角印」は
本発明装置による２回目の所定の処理の結果、「白い四
角印」は本発明装置による３回目の所定の処理の結果を
示す。又、同図中、「１枚目」、「２枚目」、「１２枚
目」、「１３枚目」とは、キャリア１１の端から何番目
のスロットに支持されたウエハ１０であるかを示す。
【０１００】これらの実験結果から、第１の従来装置で
はパーティクルの増加数が平均で１１０９個であった
が、本発明装置によればパーティクルの増加数が平均で
１６３個となり、第１の従来装置の場合の約１／７とな
った。
【０１０１】以上、本発明を実施例により説明したが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではなく、数
々の改良及び変形が本発明の範囲内で可能であること
は、言うまでもない。
【０１０２】
【発明の効果】請求項１記載の発明では、第１の従来装
置と比べると、パーティクルの発生を大幅に抑制でき、
キャリアの寿命も長くでき、処理室からの薬品等の外部
への持ち出しが少なく、処理時間を短縮することができ
る。又、第２の従来装置と比べると、基板の搬送の信頼
性が大幅に向上し、搬送手段の構造を簡単に、且つ、安
価に製造でき、搬送手段にあまり高精度の位置制御等は
要求されない。
【０１０３】請求項２記載の発明では、処理室内での基
板及びキャリアの支持構造を簡単に、且つ、安価に製造
でき、この支持構造にあまり高精度の要求はない。
【０１０４】請求項３記載の発明では、基板の搬送時に
基板が不用意に動くことが確実に防止できる。
【０１０５】請求項４記載の発明では、処理室内での基
板の処理時に基板が不用意に動くことが確実に防止でき
る。
【０１０６】請求項５記載の発明では、基板の搬送時に
基板が不用意に動くことが確実に防止できると共に、キ
ャリア内の限られたスペースに多くの基板を収納でき
る。
【０１０７】請求項６記載の発明では、キャリア及び搬
送手段の設計の自由度が増す。
【０１０８】請求項７記載の発明では、特に搬送手段の
構成が簡単となるので、ごみや液が搬送手段に溜りにく
い。
【０１０９】請求項８記載の発明では、第１の従来装置
と比べると、パーティクルの発生を大幅に抑制でき、キ
ャリアの寿命も長くでき、処理室からの薬品等の外部へ
の持ち出しが少なく、処理時間を短縮することができ
る。又、第２の従来装置と比べると、基板の搬送の信頼
性が大幅に向上し、搬送手段の構造を簡単に、且つ、安
価に製造でき、搬送手段にあまり高精度の位置制御等は
要求されない。
【０１１０】請求項９記載の発明では、処理室内での基
板及びキャリアの支持構造を簡単に、且つ、安価に製造
でき、この支持構造にあまり高精度の要求はない。
【０１１１】請求項１０記載の発明では、基板の搬送時
に基板が不用意に動くことが確実に防止できる。
【０１１２】請求項１１記載の発明では、処理室内での
基板の処理時に基板が不用意に動くことが確実に防止で
きる。
【０１１３】請求項１２記載の発明では、基板の搬送時
に基板が不用意に動くことが確実に防止できると共に、
キャリア内の限られたスペースに多くの基板を収納でき
る。
【０１１４】請求項１３記載の発明では、基板の搬送時
に基板が不用意に動くことが確実に防止できる。
【０１１５】請求項１４記載の発明では、処理室内での
基板の処理時に基板が不用意に動くことが確実に防止で
きる。
【０１１６】請求項１５記載の発明では、キャリア及び
搬送手段の設計の自由度が増す。
【０１１７】請求項１６記載の発明では、特に搬送手段
の構成が簡単となるので、ごみや液が搬送手段に溜りに
くい。
【０１１８】請求項１７記載の発明では、第１の従来装
置と比べると、パーティクルの発生を大幅に抑制でき、
キャリアの寿命も長くでき、処理室からの薬品等の外部
への持ち出しが少なく、処理時間を短縮することができ
る。又、第２の従来装置と比べると、基板の搬送の信頼
性が大幅に向上し、搬送手段の構造を簡単に、且つ、安
価に製造でき、搬送手段にあまり高精度の位置制御等は
要求されない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明になる基板処理装置の第１実施例を説明
する図である。
【図２】第１実施例におけるウエハの搬送を説明する図
である。
【図３】第１実施例における薬品槽でのウエハの支持を
説明する図である。
【図４】本発明になる基板処理装置の第２実施例を説明
する図である。
【図５】本発明になる基板処理装置の第３実施例を説明
する図である。
【図６】本発明になる基板処理装置の第４実施例を説明
する図である。
【図７】本発明になる基板処理装置の第５実施例を説明
する図である。
【図８】本発明になる基板処理装置の第６実施例を説明
する図である。
【図９】本発明になる基板処理装置の第７実施例を説明
する図である。
【図１０】本発明になる基板処理装置の第７実施例を説
明する図である。
【図１１】キャリアの実施例を説明する図である。
【図１２】キャリアの実施例を説明する図である。
【図１３】キャリアの実施例を説明する図である。
【図１４】キャリアの実施例を説明する図である。
【図１５】従来装置で用いる洗浄キャリアの変形を示す
図である。
【図１６】従来装置と本発明装置を用いた実験結果を示
す図である。
【図１７】実験結果を説明する図である。
【図１８】従来装置の一例を説明する図である。
【図１９】従来装置の他の例を説明する図である。
【図２０】洗浄キャリアを示す図である。
【図２１】パーティクルの発生を説明する図である。
【図２２】洗浄キャリアを示す図である。
【図２３】パーティクルの発生を説明する図である。
【符号の説明】
１０ ウエハ １１ キャリア １１ー１ 溝 １２ 搬送ロボット １２Ａ アーム １２ー１ ウエハ保持部 １２ー１Ａ 鋸刃状部分 １２ー２ キャリア保持部 １２ー３ 保持部 １３ 薬品槽 １４ 支持部 １４ー１Ａ 鋸刃状部分 １４ー１ ウエハ支持部 １４ー２ キャリア支持部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 H01L 21/68

Claims (17)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 少なくとも下側に複数の基板（１０）が
    摺り抜け可能な開口を有すると共に、該複数の基板（１
    ０）の傾きを押える機能を有するキャリア（１１）内に
    該基板（１０）を収納する第１の工程と、 該基板（１０）の荷重を支える機能及び該キャリア（１
    １）の荷重を支える機能を有する搬送手段（１２，１２
    Ａ）により該基板（１０）及び該キャリア（１１）を処
    理室（１３）へ搬送する第２の工程と、 該処理室（１３）内で該基板（１０）に対して所定の処
    理を施す第３の工程とを含む、基板処理方法。
  2. 【請求項２】 前記第２の工程は、前記基板（１０）及
    び前記キャリア（１１）を、前記処理室（１３）内で該
    基板（１０）及び該キャリア（１１）の荷重を支える機
    能を有する支持部（１４）に載置する、請求項１記載の
    基板処理方法。
  3. 【請求項３】 前記第２の工程は、前記基板（１０）の
    面が重力の作用方向（Ｙ１）と平行な状態から多少ずれ
    た状態で搬送されるように、該基板（１０）及び前記キ
    ャリア（１１）を積極的に傾けた状態で搬送する、請求
    項１又は２記載の基板処理方法。
  4. 【請求項４】 前記第２の工程は、前記基板（１０）及
    びキャリア（１１）を傾けたままの状態で、前記処理室
    （１３）内で該基板（１０）及び該キャリア（１１）の
    荷重を支える機能を有する支持部（１４）に載置する、
    請求項３記載の基板処理方法。
  5. 【請求項５】 前記第２の工程は、前記基板（１０）の
    面が重力の作用方向（Ｙ１）と平行な状態から２度〜３
    度ずれるように、該基板（１０）及び前記キャリア（１
    １）を積極的に傾けた状態で搬送又は前記処理室（１
    ３）内の支持部（１４）に載置する、請求項３又は４記
    載の基板処理方法。
  6. 【請求項６】 前記第２の工程は、前記基板（１０）及
    び前記キャリア（１１）を別々の箇所で支えて搬送を行
    う、請求項１〜５のうちいずれか１項記載の基板処理方
    法。
  7. 【請求項７】 前記第２の工程は、前記基板（１０）及
    び前記キャリア（１１）を同じ箇所で同時に支えて搬送
    を行う、請求項１〜５のうちいずれか１項記載の基板処
    理方法。
  8. 【請求項８】 少なくとも下側に複数の基板（１０）が
    摺り抜け可能な開口を有すると共に、該複数の基板（１
    ０）の傾きを押える機能を有するキャリア（１１）内に
    収納された状態で、該基板（１０）の荷重を支えると共
    に該キャリア（１１）の荷重を支えて該基板（１０）及
    び該キャリア（１１）を搬送する搬送手段（１２，１２
    Ａ）と、 該搬送手段（１２，１２Ａ）により搬送されて来る該基
    板（１０）及び該キャリア（１１）を支持して、該基板
    （１０）に対して所定の処理を施す処理室（１３）とを
    備えた、基板処理装置。
  9. 【請求項９】 前記処理室（１３）は、前記基板（１
    ０）及び前記キャリア（１１）を、該基板（１０）及び
    該キャリア（１１）の荷重を支える機能を有する支持部
    （１４）を有する、請求項８記載の基板処理装置。
  10. 【請求項１０】 前記搬送手段（１２，１２Ａ）は、前
    記基板（１０）の面が重力の作用方向（Ｙ１）と平行な
    状態から多少ずれた状態で搬送されるように、該基板
    （１０）及び前記キャリア（１１）を積極的に傾けた状
    態で搬送する、請求項８又は９記載の基板処理装置。
  11. 【請求項１１】 前記処理室（１３）は、前記基板（１
    ０）及びキャリア（１１）を傾けたままの状態で、該基
    板（１０）及び該キャリア（１１）の荷重を支える機能
    を有する支持部（１４）を有する、請求項１０記載の基
    板処理装置。
  12. 【請求項１２】 前記搬送手段（１２，１２Ａ）は、前
    記基板（１０）の面が重力の作用方向（Ｙ１）と平行な
    状態から２度〜３度ずれるように、該基板（１０）及び
    前記キャリア（１１）を積極的に傾けた状態で搬送す
    る、請求項１０又は１１記載の基板処理装置。
  13. 【請求項１３】 前記搬送手段（１２，１２Ａ）は、前
    記基板（１０）の荷重を支える部分に、該基板（１０）
    が前記キャリア（１１）内で収納されているピッチより
    狭いピッチを有する鋸刃状部分（１２ー１Ａ）を有す
    る、請求項８〜１１のうちいずれか１項記載の基板処理
    装置。
  14. 【請求項１４】 前記処理室（１３）内の前記支持部
    （１４）は、前記基板（１０）の荷重を支える部分に、
    該基板（１０）が前記キャリア（１１）内で収納されて
    いるピッチより狭いピッチを有する鋸刃状部分（１４ー
    １Ａ）を有する、請求項９又は１１記載の基板処理装
    置。
  15. 【請求項１５】 前記搬送手段（１２，１２Ａ）は、前
    記基板（１０）及び前記キャリア（１１）を別々の箇所
    で支えて搬送を行う、請求項８〜１４のうちいずれか１
    項記載の基板処理装置。
  16. 【請求項１６】 前記搬送手段（１２，１２Ａ）は、前
    記基板（１０）及び前記キャリア（１１）を同じ箇所で
    同時に支えて搬送を行う、請求項８〜１４のうちいずれ
    か１項記載の基板処理装置。
  17. 【請求項１７】 少なくとも下側に複数の基板（１０）
    が摺り抜け可能な開口を有すると共に、該複数の基板
    （１０）の傾きを押える機能を有するキャリア（１１）
    内に該基板（１０）を収納する第１の工程と、 該基板（１０）の荷重を支える機能及び該キャリア（１
    １）の荷重を支える機能を有する搬送手段（１２，１２
    Ａ）により該基板（１０）及び該キャリア（１１）を搬
    送する第２の工程とを含む、基板搬送方法。
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