JPH11233584A - 基板搬送処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置の小型化、スループットの向上及び製品
歩留まりの向上を図る。 【解決手段】 ウエハ搬入・搬出部２と処理部３との間
で複数のウエハＷを受け渡すインターフェース部４に配
設される姿勢変換装置３０と、処理部３とインターフェ
ース部４とでウエハＷを搬送するウエハ搬送チャック５
１と、姿勢変換装置３０とウエハ搬送チャック５１との
間に位置して複数のウエハＷを垂直状態に所定の間隔を
おいて整列保持するピッチチェンジャ２０とを具備す
る。ピッチチェンジャ２０は、ウエハＷを保持する複数
の保持溝２１ａ，２１ｂを列設した一対の側部保持部材
２２ａ，２３ａ；２２ｂ，２３ｂと一対の下部保持部材
２４ａ，２５ａ；２４ｂ，２５ｂとからなる第１の保持
部２１Ａと第２の保持部２１Ｂとを具備し、第１の保持
部２１Ａと第２の保持部２１Ｂとを相対的に昇降可能に
形成して、第１の保持部２１Ａと第２の保持部２１Ｂの
いずれか一方の保持部で複数のウエハＷを所定間隔をお
いて保持する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体ウ
エハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理用の基板を連続的
に搬送して適宜処理する基板搬送処理装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体製造装置の製造工程にお
いては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス等の被処理用の
基板（以下にウエハ等という）を薬液やリンス液（洗浄
液）等の処理液が貯留された処理槽や乾燥部に順次搬送
して洗浄や乾燥等の処理を行う基板処理装置が広く採用
されている。

【０００３】このような基板処理装置において、複数枚
例えば５０枚のウエハ等を効率良く洗浄等するには、ウ
エハ等の搬入・搬出部と、処理部との間にウエハ受渡し
部を配設し、ウエハ受渡し部に配設されたウエハ受渡し
装置等によって複数枚例えば５０枚のウエハ等を所定間
隔に垂直に配列して搬送すると共に、各処理ユニットに
搬入し、処理ユニットから搬出する方法が好適とされて
いる。

【０００４】ところで、この種の基板処理装置において
は、未処理のウエハ等と処理済みのウエハ等を同一の受
渡し装置によって保持すると、未処理のウエハ等に付着
していたパーティクル等の汚染物質がウエハ受渡し装置
のウエハ保持部を介して処理済みのウエハ等に付着し
て、ウエハ等が汚染されるという問題があった。この問
題を解決するには、２つのウエハ受渡し装置によって未
処理のウエハ等の保持と、処理済みのウエハ等の保持を
別個に行わせることが考えられるが、このように２台の
受渡し装置を設けることは、装置の大型化につながる。

【０００５】上記問題を解決するために、従来では、ウ
エハ受渡し装置のウエハ保持部を、それぞれウエハ等を
垂直状態で保持する２個の保持部材からなる第１の保持
部と、３個の保持部材からなる第２の保持部とで構成
し、これら第１の保持部と第２の保持部とを相対的に昇
降可能に切換え可能に形成し、上昇位置にある一方の保
持部によりウエハ等を保持し得るように構成したものが
知られている（特開平６−１６３６７０号公報参照）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の装置においては、第１の保持部にてウエハ等を
保持する場合は、ウエハ等の両側部の内方側の２箇所を
保持する状態となり、第２の保持部にてウエハ等を保持
する場合は、ウエハ等の下部中央と両側部の３箇所を保
持する状態となるため、未処理のウエハ等と処理済みの
ウエハ等を保持する状態が異なる。このように、同一の
ウエハ受渡し装置において、ウエハ等の保持状態が異な
ると、ウエハ等の保持の安定性が損なわれ、特に第１の
保持部のようにウエハ等の両側部の内方側の２箇所を保
持する場合は、移動動作時にウエハ等ががたついたり隣
接するウエハ等同士が接触してパーティクル等が発生
し、製品歩留まりが低下するという問題がある。この問
題を解決する手段として、保持部材の幅を広げることが
考えられるが、保持部材の幅を広げることは、ウエハ等
との接触面積を増大することとなり、その分ウエハ等と
の接触によってパーティクルが発生する虞れがある。

【０００７】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、装置全体を小型にしてスループットの向上を図れる
ようにし、かつ未処理の基板と処理済みの基板を同じ保
持状態で保持して、基板の保持の安定化を図ると共に、
製品歩留まりの向上を図れるようにした基板搬送処理装
置を提供することを目的とするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の基板搬送処理装置は、基板搬入・搬出部
と、基板に適宜処理を施す基板処理部と、上記基板搬入
・搬出部と基板処理部との間で複数の上記基板を受け渡
す基板受渡し部と、上記基板受渡し部に配設されて複数
の基板を垂直状態に整列保持する基板保持手段と、上記
基板処理部と基板受渡し部とで上記基板を搬送する基板
搬送手段と、上記基板保持手段と基板搬送手段との間に
位置して複数の上記基板を垂直状態に所定の間隔をおい
て整列保持する基板間隔保持手段とを具備する基板処理
装置において、 上記基板間隔保持手段は、それぞれ上
記基板を保持する複数の保持溝を列設した一対の側部保
持部材と一対の下部保持部材とからなる第１の保持部と
第２の保持部とを具備し、上記第１の保持部と第２の保
持部とを相対的に昇降可能に形成して、第１の保持部と
第２の保持部のいずれか一方の保持部で上記複数の基板
を所定間隔をおいて保持するように形成してなる、こと
を特徴とする。

【０００９】この発明において、上記第１の保持部及び
第２の保持部は、基板の左右対称位置を保持する方が好
ましい（請求項２）。また、第１の保持部及び第２の保
持部における側部保持部材にて基板を支持し、下部保持
部材にて基板の倒れを防止する方が好ましい（請求項
３）。この場合、側部保持部材に列設される保持溝を、
断面略Ｖ字状に形成し、下部保持部材に列設される保持
溝を、断面略Ｙ字状に形成することができる（請求項
４）。

【００１０】また、上記第１の保持部と第２の保持部と
を相対的に昇降可能に形成するものであれば、その構造
は任意のものであっても差し支えないが、好ましくは第
１の保持部と第２の保持部の側部保持部材及び下部保持
部材を、それぞれ別の保持体に装着し、保持体の少なく
とも一方を昇降手段によて昇降可能に形成する方がよい
（請求項５）。

【００１１】また、上記第１の保持部及び第２の保持部
を、水平方向において方向変換可能に形成する方が好ま
しく（請求項６）、更に好ましくは、上記基板間隔保持
手段を、水平及び垂直方向に移動可能に形成する方がよ
い（請求項７）。

【００１２】上記のように構成されるこの発明の基板搬
送処理装置によれば、未処理の基板と処理済みの基板と
を第１の保持部と第２の保持部とで切換え保持すること
ができ、しかも、第１の保持部と第２の保持部による保
持状態を略同一状態にすることができるので、複数の基
板を所定間隔に安定した状態で保持することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄処理システムに適用した場合について説
明する。

【００１４】図１はこの発明の基板搬送処理装置を適用
した洗浄処理システムの一例を示す概略平面図、図２は
その概略側面図である。

【００１５】上記洗浄処理システムは、被処理用の基板
である半導体ウエハＷ（以下にウエハという）を水平状
態に収納する容器例えばキャリア１を搬入、搬出するた
めの搬入・搬出部２と、ウエハＷを薬液、洗浄液等の液
処理すると共に乾燥処理する処理部３と、搬入・搬出部
２と処理部３との間に位置してウエハＷの受渡し、位置
調整、姿勢変換及び間隔調整等を行うウエハの受渡し部
例えばインターフェース部４とで主に構成されている。

【００１６】上記搬入・搬出部２は、洗浄処理システム
の一側端部にはキャリア搬入部５ａとキャリア搬出部５
ｂが併設されると共に、ウエハ搬出入部６が設けられて
いる。この場合、キャリア搬入部５ａとウエハ搬出入部
６との間には図示しない搬送機構が配設されており、こ
の搬送機構によってキャリア１がキャリア搬入部５ａか
らウエハ搬出入部６へ搬送されるように構成されてい
る。

【００１７】また、キャリア搬出部５ｂとウエハ搬出入
部６には、それぞれキャリアリフタ（図示せず）が配設
され、このキャリアリフタによって空のキャリア１を搬
入・搬出部２上方に設けられたキャリア待機部７への受
け渡し及びキャリア待機部７からの受け取りを行うこと
ができるように構成されている。この場合、キャリア待
機部７には、水平方向（Ｘ，Ｙ方向）及び垂直方向（Ｚ
方向）に移動可能なキャリア搬送ロボット（図示せず）
が配設されており、このキャリア搬送ロボットによって
ウエハ搬出入部６から搬送された空のキャリア１を整列
すると共に、キャリア搬出部５ｂへ搬出し得るようにな
っている。また、キャリア待機部７には、空キャリアだ
けでなく、ウエハＷが収納された状態のキャリア１を待
機させておくことも可能である。

【００１８】上記キャリア１は、図３及び図４に示すよ
うに、一側に開口部１ａを有し内壁に複数枚例えば２５
枚のウエハＷを適宜間隔をおいて水平状態に保持する保
持溝（図示せず）を有する容器本体１ｂと、この容器本
体１ｂの開口部１ａを開閉する蓋体１ｃとで構成されて
おり、蓋体１ｃ内に組み込まれた係脱機構１ｄを後述す
る蓋開閉装置８によって操作することにより、蓋体１ｃ
が開閉されるように構成されている。

【００１９】上記ウエハ搬出入部６は、上記インターフ
ェース部４に開口しており、その開口部には蓋開閉装置
８が配設されている。この蓋開閉装置８によってキャリ
ア１の蓋体１ｃが開放あるいは閉塞されるようになって
いる。したがって、ウエハ搬出入部６に搬送された未処
理のウエハＷを収納するキャリア１の蓋体１ｃを蓋開閉
装置８によって取り外してキャリア１内のウエハＷを搬
出可能にし、全てのウエハＷが搬出された後、再び蓋開
閉装置８によって蓋体１ｃを閉塞することができる。ま
た、キャリア待機部７からウエハ搬出入部６に搬送され
た空のキャリア１の蓋体１ｃを蓋開閉装置８によって取
り外してキャリア１内へのウエハＷを搬入可能にし、全
てのウエハＷが搬入された後、再び蓋開閉装置８によっ
て蓋体１ｃを閉塞することができる。なお、ウエハ搬出
入部６の開口部近傍には、キャリア１内に収納されたウ
エハＷの枚数を検出するマッピングセンサ９が配設され
ている。

【００２０】上記インターフェース部４には、複数枚例
えば２５枚のウエハＷを水平状態に保持すると共に、ウ
エハ搬出入部６のキャリア１との間で、水平状態でウエ
ハＷを受け渡すウエハ搬送アーム１０と、複数枚例えば
５２枚のウエハＷを所定間隔をおいて垂直状態に保持す
る間隔調整手段例えばピッチチェンジャ２０と、ウエハ
搬送アーム１０とピッチチェンジャ２０との間に位置し
て、複数枚例えば２６枚のウエハＷを水平状態と垂直状
態とに変換する保持手段例えば姿勢変換装置３０と、垂
直状態に姿勢変換されたウエハＷに設けられたノッチ
（図示せず）を検出する位置検出手段例えばノッチアラ
イナ４０が配設されている。また、インターフェース部
４には、処理部３と連なる搬送路５０が設けられてお
り、この搬送路５０にウエハ（基板）搬送手段例えばウ
エハ搬送チャック５１が移動自在に配設されている。

【００２１】この場合、上記ウエハ搬送アーム１０は、
ウエハ受渡し部７のキャリア１から複数枚のウエハＷを
取り出して搬送すると共に、キャリア１内に複数枚のウ
エハＷを収納する２つの保持部例えばアーム体１１，１
２を併設してなる。これらアーム体１１，１２は、水平
方向（Ｘ，Ｙ方向），垂直方向（Ｚ方向）及び回転（θ
方向）可能な駆動台１３の上部に搭載されてそれぞれ独
立してウエハＷを水平状態に保持すると共に、ウエハ搬
出入部６に載置されたキャリア１と姿勢変換装置３０と
の間でウエハＷの受渡しを行うように構成されている。
したがって、一方のアーム体１１によって未処理のウエ
ハＷを保持し、他方のアーム体１２によって処理済みの
ウエハＷを保持することができる。

【００２２】上記姿勢変換装置３０は、図５ないし図９
に示すように、ウエハＷを挾持する略矩形状の一対の保
持体３１ａ，３１ｂを具備しており、かつ各保持体３１
ａ，３１ｂの対向する辺部に、それぞれ独立して複数の
ウエハＷを保持する複数例えば２６個の保持溝３２Ａ，
３２Ｂが適宜間隔をおいて２組設けられている。この場
合、保持溝３２Ａ，３２Ｂは、図１０に示すように、開
口側が拡開された略Ｙ字断面に形成されて、ウエハＷを
保持する際になるべくウエハＷと接触しないように考慮
されている。更に、図１１に示すように、保持溝３２
Ａ，３２Ｂは、その底部が円弧状に形成されると共に、
各組の保持溝３２Ａ，３２Ｂの底部の曲率半径が、例え
ば３００ｍｍウエハＷの中心から０．５ｍｍ偏倚した中
心点から１５０ｍｍに設定されている。したがって、ウ
エハＷを水平状態で保持する際に保持溝３２Ａ，３２Ｂ
の底部とウエハＷとの間に若干の隙間が生じるようにな
っている。

【００２３】また、各保持溝３２Ａ，３２Ｂには排気孔
３３が設けられており、排気孔３３には排気管３３ａを
介して排気手段例えば真空ポンプ等の排気装置３４が接
続されている（図１０及び図１１参照）。このように各
保持溝３２Ａ，３２Ｂに排気孔３３を設けると共に、排
気装置３４に接続することにより、保持体３１ａ，３１
ｂにてウエハＷを挾持（保持）した際に保持溝３２Ａ，
３２Ｂに付着するパーティクルを、排気装置３４の駆動
によって吸引し、排気管３３ａを介して外部に排出する
ことができる。

【００２４】また、両保持体３１ａ，３１ｂは、回転手
段例えばサーボモータ３５に着脱可能に連結する回転ア
ーム３６に取り付けられて、サーボモータ３５の駆動に
よって両保持体３１ａ，３１ｂが同時に垂直方向に回転
し得るように構成されている。また、保持体３１ａ，３
１ｂの一方例えばサーボモータ側の保持体３１ａは他方
の保持体３１ｂに向かって進退移動可能に形成されると
共に、移動手段例えばエアーシリンダ３７によって進退
移動されるように構成されている。なお、保持体３１
ａ，３１ｂの回転支持部３８、サーボモータ３５及びエ
アーシリンダ３７は、架台３９上に配設されている。

【００２５】上記ノッチアライナ４０は、図８に示すよ
うに、姿勢変換装置３０の下部側方から姿勢変換装置３
０の下方へ移動すると共に、姿勢変換装置３０の下方位
置から昇降可能な支持体４１の上面に、一対のガイドロ
ーラ４２，４３と、両ガイドローラ４２，４３間に位置
する駆動ローラ４４と、一方のガイドローラ例えばガイ
ドローラ４２の近傍に配設される図示しないノッチセン
サとを具備してなり、両ガイドローラ４２，４３と駆動
ローラ４４とでウエハＷを垂直に保持した状態で、駆動
ローラ４４を駆動してウエハＷを垂直方向に回転すると
共に、ノッチセンサによる検出によって各ウエハＷのノ
ッチを同一位置に揃えるすなわち位置決めが行われる。
このようにして位置決めされたウエハＷは再び姿勢変換
装置３０に搬送されて垂直状態に挾持（保持）される。

【００２６】一方、上記ピッチチェンジャ２０は、図１
２ないし図１５に示すように、ウエハＷの両側部を保持
する複数例えば５２個の保持溝２１ａを有する互いに平
行な一対の側部保持部２２，２３と、ウエハＷの下部を
保持する複数例えば５２個の保持溝２１ｂを有する互い
に平行な一対の下部保持部２４，２５とを有する第１の
保持部２１Ａ及び第２の保持部２１Ｂと、これら第１の
保持部２１Ａと第２の保持部２１Ｂを保持する保持体例
えば保持テーブル２６と、この保持テーブル２６の水平
方向の向きを変換する方向変換用モータ２７と、保持テ
ーブル２６及び方向変換用モータ２７を搭載した基台６
０を垂直方向（Ｚ方向）に移動する垂直移動機構２８
と、基台６０及び垂直移動機構２８を取り付けた摺動板
６１を水平のＹ方向に移動する水平移動機構２９とを具
備してなる。

【００２７】この場合、上記保持テーブル２６は、方向
変換用モータ２７に連結される回転板２７ａに固定され
る固定テーブル２６ａと、回転板２７ａ上に固設された
保持切換用エアーシリンダ２６ｃによって昇降可能な可
動テーブル２６ｂとで構成されている。また、上記第１
の保持部２１Ａと第２の保持部２１Ｂを形成する側部保
持部２２，２３と下部保持部２４，２５は、それぞれ固
定テーブル２６ａに固定されて可動テーブル２６ｂの上
方に延在する側部保持部材２２ａ，２３ａ及び下部保持
部材２４ａ，２５ａと、可動テーブル２６ｂに固定され
て固定テーブル２６ａの上方に延在する側部保持部材２
２ｂ，２３ｂ及び下部保持部材２４ｂ，２５ｂとで構成
されており、側部保持部材２２ａ，２３ａと下部保持部
材２４ａ，２５ａとで第１の保持部２１Ａが構成され、
また側部保持部材２２ｂ，２３ｂと下部保持部材２４
ｂ，２５ｂとで第２の保持部２１Ｂが構成されている。

【００２８】また、保持切換用エアーシリンダ２６ｃの
駆動によって可動テーブル２６ｂが下方位置にあるとき
は、固定テーブル２６ａに固定された第１の保持部２１
Ａすなわち側部保持部材２２ａ，２３ａと下部保持部材
２４ａ，２５ａによってウエハＷを垂直状態に保持し、
また保持切換用エアーシリンダ２６ｃの駆動によって可
動テーブル２６ｂが上昇位置にあるときは、第２の保持
部２１Ｂすなわち側部保持部材２２ｂ，２３ｂと下部保
持部材２４ｂ，２５ｂとでウエハＷを垂直状態に保持し
得るように構成されている。

【００２９】なおこの場合、固定テーブル２６ａに装着
される一対の側部保持部材２２ａ，２３ａと一対の下部
保持部材２４ａ，２５ａとによるウエハＷの保持状態
と、可動テーブル２６ｂに装着される一対の側部保持部
材２２ｂ，２３ｂと一対の下部保持部材２４ｂ，２５ｂ
とによるウエハＷの保持状態とは、図１５（ａ），
（ｂ）に示すように、ウエハＷの中心線に対して左右対
称な状態で保持される。また、側部保持部材２２ａ，２
３ａ；２２ｂ，２３ｂに列設される保持溝２１ａは、図
１６（ａ）に示すように、断面略Ｖ字状に形成されて、
ウエハＷを支持し得るように形成されており、下部保持
部材２４ａ，２５ａ；２４ｂ，２５ｂに列設される保持
溝２１ｂは、図１６（ｂ）に示すように、断面略Ｙ字状
に形成されて、ウエハＷの倒れを防止し得るように形成
されている。したがって、未処理のウエハＷと処理済み
のウエハＷを、略同一状態で保持することができると共
に、所定の間隔をおいて安定させた状態で保持すること
ができる。なお、ピッチチェンジャ２０で保持されるウ
エハＷの水平のＸ方向は基本的には一定であるが、万
一、精度公差上のずれがある場合はＸ方向を移動するウ
エハ搬送チャック５１によって吸収することができる。
また、Ｚ方向においては、未処理のウエハＷの保持時と
処理済みのウエハＷの保持時とでずれが生じるが、ピッ
チチェンジャ２０が具備する垂直移動機構２８によって
吸収することができる。

【００３０】なお、側部保持部２２，２３すなわち側部
保持部材２２ａ，２３ａ；２２ｂ，２３ｂと下部保持部
２４，２５すなわち下部保持部材２４ａ，２５ａ；２４
ｂ，２５ｂに形成される５２個の保持溝２１ａ，２１ｂ
のピッチは上記姿勢変換装置３０の保持体３１に設けら
れた２６個の保持溝３２Ａ，３２Ｂのピッチの半分に設
定されている。また、上記側部保持部材２２ａ，２３
ａ；２２ｂ，２３ｂ及び下部保持部材２４ａ，２５ａ；
２４ｂ，２５ｂは、それぞれ固定テーブル２６ａ又は可
動テーブル２６ｂに片持ち状態に固定されているため、
ある程度の強度を有する必要がある。そのため、ここで
は、例えばステンレス鋼製心棒の表面に例えばポリエー
テルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）製合成樹脂を被着して
各保持部材を形成している。

【００３１】上記垂直移動機構２８は、垂直に配置され
た正逆回転可能なモータ２８ａによって回転されるねじ
軸２８ｂと、このねじ軸２８ｂとの間に多数のボール
（図示せず）を介在して螺合するナット２８ｃとからな
るボールねじにて構成されている。なお、基台６０はね
じ軸２８ａと平行に配設される一対のガイドレール２８
ｄ上を摺動する摺動子２８ｅを具備している。また、上
記水平移動機構２９は、水平に配置された正逆回転可能
なモータ２９ａによって回転されるねじ軸２９ｂと、こ
のねじ軸２９ｂとの間に多数のボール（図示せず）を介
在して螺合するナット２９ｃとからなるボールねじにて
構成されている。このように構成される移動機構すなわ
ちボールねじ２９のナット２９ｃを上記摺動板６１に固
定すると共に、摺動板６１に取り付けられた摺動子２９
ｄをねじ軸２９ｂと平行に配設されたガイドレール２９
ｅに摺動可能に係合させ、モータ２９ａを駆動すること
により、摺動板６１に取り付けられた基台６０及び保持
テーブル２６等をＹ方向に移動するように構成されてい
る。

【００３２】このように構成することにより、ピッチチ
ェンジャ２０を上記姿勢変換装置３０の下方とウエハ搬
送チャック５１の下方へ移動することができ、また姿勢
変換装置３０又はウエハ搬送チャック５１に対して昇降
移動させて姿勢変換装置３０又はウエハ搬送チャック５
１との間でウエハＷを受け渡しすることができる。

【００３３】一方、上記処理部３には、ウエハＷに付着
するパーティクルや有機物汚染を除去する第１の処理ユ
ニット５２と、ウエハＷに付着する金属汚染を除去する
第２の処理ユニット５３と、ウエハＷに付着する化学酸
化膜を除去すると共に乾燥処理する洗浄・乾燥処理ユニ
ット５４及びチャック洗浄ユニット５５が直線状に配列
されており、これら各ユニット５２〜５５と対向する位
置に設けられた搬送路５０に、Ｘ，Ｙ方向（水平方
向）、Ｚ方向（垂直方向）及び回転（θ）可能なウエハ
搬送チャック（ウエハ搬送手段）が配設されている。な
お、チャック洗浄ユニット５５は、必ずしも洗浄・乾燥
処理ユニット５４とインターフェース部４との間に配設
する必要はなく、例えば第２の処理ユニット５３と洗浄
・乾燥処理ユニット５４との間に配設してもよく、ある
いは第１の処理ユニット５２に隣接して配設してもよ
い。

【００３４】この場合、ウエハ搬送チャック５１は、図
１、図１２及び図１３に示すように、搬送路５０に設け
られたガイドレール（図示せず）に沿って移動する昇降
可能な駆動台５１ａと、この駆動台５１ａから突設され
る下部保持アーム５１ｂ及び下部保持アーム５１ｂに対
して円弧状に移動可能な一対の側部保持アーム５１ｃと
で構成されている。

【００３５】次に、上記洗浄処理ユニットのウエハＷの
搬送及び処理工程について説明する。まず、オペレータ
あるいは搬送ロボットによって未処理のウエハＷを収納
したキャリア１をキャリア搬入部５ａに載置すると、図
示しない搬送機構が移動してキャリア１がウエハ搬出入
部６に搬入される。ウエハ搬出入部６に搬入されたキャ
リア１は蓋開閉装置８によって蓋体１ｃが開放された状
態でインターフェース部４に向かって待機する。このと
きマッピングセンサ９が作動してキャリア１内に収納さ
れているウエハＷの枚数を検出する。

【００３６】マッピングセンサ９によってキャリア１内
のウエハＷの枚数が検出された後、インターフェース部
４内に配設されたウエハ搬送アーム１０（具体的にはア
ーム体１１）がキャリア１内に進入してキャリア１内に
収納された複数枚例えば２５枚のウエハＷを取り出し、
取出したウエハＷを姿勢変換装置３０に搬送すると共
に、開いた状態で待機する一対の保持体３１ａ，３１ｂ
間にウエハＷを移動する。すると、エアーシリンダ３７
が駆動して、一方の保持体３１ａが他方の保持体３１ｂ
側に移動してウエハ搬送アーム１０によって保持されて
いるウエハＷを保持体３１ａ，３１ｂによって挾持する
と共に、保持溝３２Ａによって保持する。このとき、ウ
エハＷは保持溝３２Ａの底部との間に僅かな隙間をおい
て保持される（図１１（ａ）参照）。ウエハＷが姿勢変
換装置３０によって保持された後、ウエハ搬送アーム１
０は姿勢変換装置３０から後退する。なお、ウエハＷが
取り出された空のキャリア１は図示しないキャリアリフ
タによってインターフェース部４上方のキャリア待機部
７に搬送される。

【００３７】ウエハＷを水平状態で保持した後、サーボ
モータ３５が駆動して両保持体３１ａ，３１ｂが９０度
回転されてウエハＷの姿勢が垂直状態に変換される（図
９参照）。このとき、ウエハＷは保持溝３２Ａ内を移動
して保持溝３２Ａの底部に当接する（図１０参照）。ま
たこの際、排気装置３４の駆動により排気孔３３を介し
て保持溝３２Ａ内が吸引されるので、保持溝３２Ａに付
着するパーティクルを除去することができる。

【００３８】姿勢変換装置３０によってウエハＷを垂直
状態に姿勢変換した後、姿勢変換装置３０の下方にノッ
チアライナ４０が移動し、そして上昇してガイドローラ
４２，４３及び駆動ローラ４４上にウエハＷを保持した
状態で両保持体３１ａ，３１ｂが開いてウエハＷをノッ
チアライナ４０に受け渡す。ノッチアライナ４０にて保
持された複数枚のウエハＷは、ノッチアライナ４０によ
って各ウエハＷのノッチの位置が揃えられて位置決めが
行われる。位置決めされたウエハＷは再び姿勢変換装置
３０の保持体３１に受け取られる。ウエハＷを姿勢変換
装置３０に受け渡したノッチアライナ４０は元の待機位
置に後退する。

【００３９】次に、姿勢変換装置３０の下方にピッチチ
ェンジャ２０が移動した後、上昇してピッチチェンジャ
２０に設けられた側部保持部２２，２３と下部保持部２
４，２５｛例えば第１の保持部２１Ａすなわち側部保持
部材２２ａ，２３ａと下部保持部材２４ａ，２５ａ｝に
よって複数枚のウエハＷを垂直状態のまま保持すると共
に、ウエハＷ間のピッチを調整する（図７参照）。ウエ
ハＷを受け取ってピッチを調整した後、ピッチチェンジ
ャ２０は待機側に移動上昇し、上方に待機するウエハ搬
送チャック５１にウエハＷを受け渡す。このとき、上昇
したピッチチェンジャ２０の両下部保持部２４，２５間
にウエハ搬送チャック５１の下部保持アーム５１ｂが進
入した後、ピッチチェンジャ２０が下降すると同時に、
両側から側部保持アーム５１ｃがウエハＷを挾持してウ
エハＷを保持する。

【００４０】なお、ウエハＷをピッチチェンジャ２０に
受け渡した後、サーボモータ３５が駆動して保持体３１
ａ，３１ｂが、最初の状態から１８０度回転して、未処
理のウエハＷを保持した保持溝３２Ａとは別の対向する
辺部の保持溝３２Ｂが下方に位置した状態で待機する。

【００４１】ウエハＷを受け取ったウエハ搬送チャック
５１は、受け取ったウエハＷをまず第１の処理ユニット
５２に搬送する。第１の処理ユニット５２に搬送された
ウエハＷは、薬液例えばＡＰＭ溶液（アンモニア，過酸
化水素水及び純水の混合溶液）によってパーティクルや
有機物汚染が除去された後、洗浄液例えば純水によって
洗浄される。このようにして一次洗浄されたウエハＷは
再びウエハ搬送チャック５１に受け取られて第２の処理
ユニット５３に搬送されて薬液例えばＨＰＭ溶液（塩
酸，過酸化水素水及び純水の混合溶液）によって金属汚
染が除去された後、純水によって洗浄される。このよう
にして洗浄処理されたウエハＷは再びウエハ搬送チャッ
ク５１に受け取られて洗浄・乾燥処理ユニット５４に搬
送され、洗浄・乾燥処理ユニット５４内においてフッ化
水素酸によって化学酸化膜が除去された後、乾燥蒸気例
えばイソピルアルコール（ＩＰＡ）ガスが接触されて乾
燥される。

【００４２】乾燥処理されたウエハＷは再びウエハ搬送
チャック５１によって受け取られた後、ピッチチェンジ
ャ２０に受け渡される。このとき、保持切換用エアーシ
リンダ２６ｃが駆動して第２の保持部２１Ｂすなわち側
部保持部材２２ｂ，２３ｂと下部保持部材２４ｂ，２５
ｂが上昇した状態で、ピッチチェンジャ２０が上昇して
ウエハＷを保持すると同時に、ウエハ搬送チャック５１
の側部保持アーム５１ｃが外方へ開いてウエハＷをピッ
チチェンジャ２０に受け渡す。このように、ウエハＷを
未処理のウエハＷを保持した第１の保持部２１Ａ（側部
保持部材２２ａ，２３ａと下部保持部材２４ａ，２５
ａ）とは別の第２の保持部２１Ｂ（側部保持部材２２
ｂ，２３ｂと下部保持部材２４ｂ，２５ｂ）とで保持す
ることにより、処理済みのウエハＷが既に保持した部分
に付着するパーティクル等によって汚染されるのを防止
することができる。

【００４３】ウエハ搬送チャック５１からウエハＷを受
け取ったピッチチェンジャ２０は、下降した後に姿勢変
換装置３０の下方へ移動した後、上昇して、ウエハＷを
開いた状態の保持体３１ａ，３１ｂ間に移動する。する
と、エアーシリンダ３７が駆動して一方の保持体３１ａ
が他方の保持体３１ｂ側に向かって移動して保持体３１
ａ，３１ｂ間にウエハＷを挾持すると共に、未処理のウ
エハＷを保持した保持溝３２Ａとは別の保持溝３２Ｂに
よって保持する（図１１（ｂ）参照）。したがって、未
処理のウエハＷを保持した保持溝３２Ａに付着するパー
ティクル等が処理済みのウエハＷに付着する心配がな
い。ウエハＷが姿勢変換装置３０によって保持された
後、ピッチチェンジャ２０は姿勢変換装置３０から後退
する。

【００４４】ピッチチェンジャ２０からウエハＷを受け
取った後、サーボモータ３５が駆動して保持体３１ａ，
３１ｂが９０度回転されて、ウエハＷを垂直状態から水
平状態に姿勢変換する（図５参照）。この状態で、他方
のウエハ搬送アーム１０すなわち未処理のウエハＷを保
持したアーム体１１とは別のアーム体１２が姿勢変換装
置３０側に移動し、水平状態に保持された各ウエハＷの
間に侵入してウエハＷを保持する。アーム体１２によっ
てウエハＷが保持されるのを確認して、エアーシリンダ
３７が駆動して両保持体３１ａ，３１ｂが開いてウエハ
Ｗをウエハ搬送アーム１０のアーム体１２に受け渡す。

【００４５】ウエハＷを受け取った後、ウエハ搬送アー
ム１０はウエハ受け渡し部６に移動して、ウエハ搬出入
部６で待機する空のキャリア１内にウエハＷを収納す
る。その後、蓋開閉装置８によってキャリア１の蓋体１
ｃが閉塞されて、ウエキャリア１はウエハ搬出入部６か
らキャリア搬出部５ｂに搬送される。

【００４６】なお、処理部３において、洗浄処理後のウ
エハＷを洗浄・乾燥処理ユニット５４に搬送したウエハ
搬送チャック５１には薬液や洗浄液等が付着しているの
で、次の未処理のウエハＷを受け取る前に、チャック洗
浄ユニット５５に移動して、ウエハ搬送チャック５１の
アーム５１ｂ，５１ｃ部を洗浄すると共に乾燥して、次
のウエハＷの搬送に供される。

【００４７】なお、図示しないが、上記搬入・搬出部２
と処理部３とインターフェース部４上に、例えばＨＥＰ
Ａフィルタ，ＵＬＰＡフィルタ等のファンフィルタユニ
ットを設けることにより、より清浄度の高い装置が提供
できる。

【００４８】上記実施形態では、キャリア１内に収納さ
れた２５枚のウエハＷを同時に取り出して、姿勢変換、
ノッチ合せ、ピッチ調整した後、適宜洗浄処理を施す場
合について説明したが、以下にウエハＷを所定枚数ごと
に分割して搬送する場合について、図１７ないし図２０
を参照して説明する。

【００４９】図１７はウエハ搬送アーム１０から姿勢変
換装置３０へ未処理のウエハＷを受け渡す状態（ａ）及
び姿勢変換装置３０からピッチチェンジャ２０へ未処理
のウエハＷを受け渡す状態（ｂ）を示す概略構成図であ
り、図１８はピッチチェンジャ２０から姿勢変換装置３
０へ処理済みのウエハＷを受け渡す状態（ａ）及び姿勢
変換装置３０からウエハ搬送アーム１０へ処理済みのウ
エハＷを受け渡す状態（ｂ）を示す概略構成図である。
ここで、姿勢変換装置３０は保持体３１ａ，３１ｂを代
表して示されており、この保持体３１ａ，３１ｂ（以下
に符号３１で代表する）には、未処理のウエハＷを保持
する保持溝３２Ａと処理済みのウエハＷを保持する保持
溝３２Ｂを、それぞれ２つの領域Ａ，ＣとＢ，Ｄの計４
つの領域に区別してあり、１つの領域には１３個の保持
溝が設けられている。

【００５０】◎次に、１３枚仕様のウエハＷの搬送形態
の具体例について説明する。

【００５１】まず、１３枚のウエハＷをウエハ搬送ア
ーム１０（具体的にはアーム体１１）で水平状態に保持
して、姿勢変換装置３０すなわち保持体３１の領域Ｃに
よってウエハＷを水平状態で受け取った後、保持体３１
を９０度回転してウエハＷを垂直状態に姿勢変換する。
その後ノッチアライナ４０でノッチ合せを行って再び保
持体３１でウエハＷを垂直に保持した状態で、ピッチチ
ェンジャ２０の基端部側の例えば第１の保持部２１Ａの
１つおきの保持溝にて１３枚のウエハＷを例えば１０ｍ
ｍピッチで保持する（図１９（ａ）参照）。

【００５２】次に、再び保持体３１の領域Ｃが水平状
態で次の１３枚のウエハＷをウエハ搬送アーム１０から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ２０が５ｍｍ移動し
て既に１３枚のウエハＷを保持した第１の保持部２１Ａ
の保持溝間の保持溝を位置させ、その状態で上昇して保
持体３１から１３枚のウエハＷを受け取って２６枚のウ
エハＷを５ｍｍピッチにピッチ調整する（図１９（ｂ）
参照）。

【００５３】次に、再び保持体３１の領域Ｃが水平状
態で次の１３枚のウエハＷをウエハ搬送アーム１０から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ２０の第１の保持部
２１Ａの先端部側の保持溝を位置させて上昇して先端部
の保持溝の１つおきの保持溝にて１３枚のウエハＷを例
えば１０ｍｍピッチで保持する（図１９（ｃ）参照）。

【００５４】次に、再び保持体３１の領域Ｃが水平状
態で次の１３枚のウエハＷをウエハ搬送アーム１０から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ２０が５ｍｍ移動し
て既に１３枚のウエハＷを保持した第１の保持部２１Ａ
の先端部側の保持溝間の保持溝を位置させて上昇して保
持体３１から１３枚のウエハＷを受け取って５２枚のウ
エハＷを５ｍｍピッチにピッチ調整する（図１９（ｄ）
参照）。このようにして、５２枚のウエハＷのピッチ調
整を行う。そして、ピッチ調整された５２枚のウエハＷ
をウエハ搬送チャック５１によって受け取って処理部３
の各処理ユニット５２〜５４に搬送して適宜処理を施
す。

【００５５】処理が施された５２枚の処理済みのウエハ
Ｗは、上記手順と逆の動作によって１３枚ずつからのキ
ャリア１内に搬送されるのであるが、この際、ピッチチ
ェンジャ２０の第２の保持部２１Ｂで処理済みのウエハ
Ｗを保持すると共に、保持体３１の保持溝を未処理のウ
エハＷを保持した領域Ｃと対角線状の別の領域Ｂを使用
する点が異なる。すなわち、昇降用エアーシリンダ６ｃ
を駆動して、第２の保持部２１Ｂ（側部保持部材２２
ｂ，２３ｂと下部保持部材２４ｂ，２５ｂ）を上昇させ
て、この第２の保持部２１ＢにてウエハＷをウエハ搬送
チャック５１から受け取り、また、図１８（ａ）に示す
ように、保持体の領域Ｂを垂直状態に待機した状態でピ
ッチチェンジャ２０から１３枚の処理済みのウエハＷを
受け取った後、図１８（ｂ）に示すように、保持体３１
を９０度回転して１３枚のウエハＷを水平状態に姿勢変
換した後、ウエハ搬送アーム１０（具体的にはアーム体
１２）にウエハＷを受渡してからのキャリア１内に収納
する。ウエハＷをウエハ搬送アーム１０に受け渡した
後、保持体３１は再び９０度回転して領域Ｂを垂直状態
にして待機させ、上記と同様にピッチチェンジャ２０か
ら１３枚の処理済みのウエハＷを受け取る。以下、同様
の動作を繰り返して５２枚の処理済みのウエハＷをから
のキャリア１内に収納して処理を完了する。

【００５６】上記のように、２６枚のウエハＷをピッチ
チェンジャ２０の基端部側に保持した後に、残りの２６
枚のウエハをピッチチェンジャ２０の先端部側に保持さ
せるようにすることにより、ピッチチェンジャ２０の移
動量を少なくすることができると共に、受渡し動作の迅
速化を図ることができる。また、保持体３１の対角線上
の領域ＣとＢを使用して未処理のウエハＷと処理済みの
ウエハＷを保持すると共に、姿勢変換することにより、
両領域Ｃ，Ｂが上下位置に重なることがないので、処理
済みのウエハＷが領域Ｃに付着したパーティクル等によ
って汚染されるのを防止することができる。つまり、処
理済みのウエハＷを保持体３１の領域Ｂで受け取る際、
未処理のウエハＷを保持した領域Ｃは対角線上に位置す
るので、領域Ｃに付着したパーティクルは領域Ｂに落下
する心配がなく、処理済みのウエハＷを安全に保持して
姿勢変換することができる。また、未処理のウエハＷを
ピッチチェンジャ２０の第１の保持部２１Ａで保持し、
処理済みのウエハＷをピッチチェンジャ２０の第２の保
持部２１Ｂで保持することにより、処理済みのウエハＷ
が既に保持した部分に付着するパーティクル等によって
汚染されるのを防止することができる。

【００５７】◎次に、ウエハＷの鏡面同士を対向配置し
た状態で処理を施す場合の１３仕様の搬送形態について
説明する。なお、ウエハＷを水平状態で保持する場合
は、一般に鏡面は上面側に向くように保持されている。

【００５８】まず、１３枚のウエハＷをウエハ搬送ア
ーム１０（具体的にはアーム体１１）で水平状態に保持
して、姿勢変換装置３０すなわち保持体３１の領域Ｃに
よってウエハＷを水平状態で受け取った後、保持体３１
を９０度回転してウエハＷを垂直状態に姿勢変換する。
その後ノッチアライナ４０でノッチ合せを行って再び保
持体３１でウエハＷを垂直に保持した状態で、ピッチチ
ェンジャ２０の基端部側の第１の保持部２１Ａの１つお
きの保持溝にて１３枚のウエハＷを例えば１０ｍｍピッ
チで保持する（図２０（ａ）参照）。なお、ウエハＷは
水平状態に保持される場合は、鏡面（イ）は上面側に位
置し、裏面（ロ）は下面側に位置する。また、ウエハＷ
が垂直状態に保持される場合は、図において鏡面（イ）
は左向きに、裏面（ロ）は右向きに位置する。

【００５９】次に、再び保持体３１の領域Ｃが水平状
態で次の１３枚のウエハＷをウエハ搬送アーム１０から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ２０が移動して第１
の保持部２１Ａの先端部側の保持溝を位置させ、その状
態で上昇して第１の保持部２１Ａの先端部側の保持部の
１つおきの保持溝にて保持体３１から１３枚のウエハＷ
を受け取って２６枚のウエハＷを１０ｍｍピッチにピッ
チ調整する（図２０（ｂ）参照）。

【００６０】次に、再び保持体３１の領域Ｃが水平状
態で次の１３枚のウエハＷをウエハ搬送アーム１０から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行う。この際、ピッチチェンジャ２０は、最初の
状態から１８０度回転して基端部側の既に１３枚のウエ
ハＷを保持した保持溝の間の保持溝を位置させ、その状
態で上昇して第１の保持部２１Ａの基端部側の保持溝に
て２６枚（全体では３９枚）のウエハＷを例えば５ｍｍ
ピッチで保持すると共に、ウエハＷの鏡面（イ）同士を
対向配置する（図２０（ｃ）参照）。

【００６１】次に、再び保持体３１の領域Ｃが水平状
態で次の１３枚のウエハＷをウエハ搬送アーム１０から
受け取り、上記と同様に垂直状態に姿勢変換し、ノッチ
合せを行った後、ピッチチェンジャ２０が移動して第１
の保持部２１Ａの先端部側の既に１３枚のウエハＷを保
持した第１の保持部２１Ａの保持溝の間の保持溝を位置
させ、その状態で上昇して保持体３１から１３枚のウエ
ハＷを受け取って５２枚のウエハＷを５ｍｍピッチにピ
ッチ調整すると共に、先端部側においても鏡面（イ）同
士を対向配置する（図２０（ｄ）参照）。このようにし
て、５２枚のウエハＷのピッチ調整を行うと共に、鏡面
（イ）同士を対向配置する。そして、ピッチ調整及び対
向配置された５２枚のウエハＷを、上記と同様にウエハ
搬送チャック５１によって受け取って処理部３の各処理
ユニット５２〜５４に搬送して適宜処理を施す。

【００６２】処理が施された５２枚の処理済みのウエハ
Ｗは、上記手順と逆の動作によって１３枚ずつ空のキャ
リア１内に搬送されるのであるが、この際、ピッチチェ
ンジャ２０の第２の保持部２１Ｂで処理済みのウエハＷ
を保持すると共に、上述した１３枚仕様の搬送形態と同
様に、保持体３１の保持溝を未処理のウエハＷを保持し
た領域Ｃと対角線状の別の領域Ｂを使用する点が異な
る。すなわち、昇降用エアーシリンダ６ｃを駆動して、
第２の保持部２１Ｂ（側部保持部材２２ｂ，２３ｂと下
部保持部材２４ｂ，２５ｂ）を上昇させて、この第２の
保持部２１ＢにてウエハＷをウエハ搬送チャック５１か
ら受け取り、また、図１８（ａ）に示すように、保持体
の領域Ｂを垂直状態に待機した状態でピッチチェンジャ
２０の先端部側の１３枚の処理済みのウエハＷを受け取
った後、図１８（ｂ）に示すように、保持体３１を９０
度回転して１３枚のウエハＷを鏡面（イ）が上面となる
ように水平状態に姿勢変換した後、ウエハ搬送アーム１
０（具体的にはアーム体１２）にウエハＷを受渡してか
らのキャリア１内に収納する。ウエハＷをウエハ搬送ア
ーム１０に受け渡した後、保持体３１は再び９０度回転
して領域Ｂを垂直状態にして待機させ、次にピッチチェ
ンジャ２０の基端部側の１３枚の処理済みのウエハＷを
受け取り、その後保持体３１が９０度回転してウエハＷ
の鏡面（イ）が上面になるように水平状態にする。

【００６３】次に、保持体３１は再び９０度回転して領
域Ｂを垂直状態にして待機する一方、ピッチチェンジャ
２０が１８０度回転して、先端部側の１３枚のウエハＷ
を位置させ、その状態で上昇して、ピッチチェンジャ２
０の先端部側の残りの処理済みの１３枚のウエハＷを保
持体３１に受け渡す。その後、保持体３１が９０度回転
してウエハＷの鏡面（イ）が上面になるように水平状態
にして、ウエハ搬送アーム１０に受け渡す。そして、保
持体３１は再び９０度回転して領域Ｂを垂直状態にして
待機させ、次にピッチチェンジャ２０の基端部側の残り
の１３枚の処理済みのウエハＷを受け取り、その後保持
体３１が９０度回転してウエハＷの鏡面（イ）が上面に
なるように水平状態にして、ウエハ搬送アーム１０に受
け渡して、空のキャリア１内に処理済みの５２枚のウエ
ハＷを収納して搬送処理は完了する。

【００６４】なお、上記実施形態では、ピッチチェンジ
ャ２０の第１の保持部２１Ａで未処理のウエハＷを保持
し、処理済みのウエハＷを第２の保持部２１Ｂにて保持
する場合について説明したが、逆にしてもよい。すなわ
ち、未処理のウエハＷを第２の保持部２１Ｂにて保持
し、処理済みのウエハＷを第１の保持部２１Ａにて保持
してもよい。なおこの場合、第２の保持部２１Ｂすなわ
ち側部保持部材２２ｂ，２３ｂと下部保持部材２４ｂ，
２５ｂを可動テーブル２６ｂに装着して昇降させている
が、第１の保持部２１Ａと第２の保持部２１Ｂの両方を
昇降可能にして相対的に昇降させるようにしてもよい。

【００６５】また、上記実施形態では、この発明の基板
搬送処理装置を半導体ウエハの洗浄処理システムに適用
した場合について説明したが、洗浄処理以外の処理シス
テムにも適用できることは勿論であり、また、半導体ウ
エハ以外のＬＣＤ用ガラス基板等にも適用できることは
勿論である。

【００６６】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明の基板
搬送処理装置によれば、未処理の基板と処理済みの基板
とを第１の保持部と第２の保持部とで切換え保持するこ
とができ、しかも、第１の保持部と第２の保持部による
保持状態を略同一状態にすることができるので、複数の
基板を所定間隔に安定した状態で保持することができ
る。したがって、装置の小型化が図れると共に、スルー
プットの向上及び製品歩留まりの向上を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の基板搬送処理装置を適用した洗浄処
理システムの一例を示す概略平面図である。

【図２】上記洗浄処理システムの概略側面図である。

【図３】この発明におけるキャリアの一例を示す斜視図
である。

【図４】上記キャリアの横断面図である。

【図５】この発明における姿勢変換装置とピッチチェン
ジャを示す概略側面図である。

【図６】上記姿勢変換装置の概略平面図である。

【図７】図６の側面図である。

【図８】この発明における姿勢変換装置、ウエハ搬送ア
ーム、ノッチアライナー及びピッチチェンジャを示す斜
視図である。

【図９】上記姿勢変換装置の垂直保持状態を示す概略断
面図である。

【図１０】この発明における姿勢変換装置の保持溝の拡
大断面図である。

【図１１】上記姿勢変換装置によって未処理のウエハを
保持した状態の概略平面図（ａ）及び処理済みのウエハ
を保持した状態の概略平面図（ｂ）である。

【図１２】この発明におけるピッチチェンジャを示す概
略側面図である。

【図１３】図１２の側面図である。

【図１４】上記ピッチチェンジャの要部を示す斜視図で
ある。

【図１５】上記ピッチチェンジャの第１の保持部にて未
処理のウエハを保持した状態の側面図（ａ）、第２の保
持部にて処理済みのウエハを保持した状態の側面図
（ｂ）及びピッチチェンジャの平面図（ｃ）である。

【図１６】この発明における側部保持部材に列設される
保持溝の拡大断面図（ａ）及び下部保持不部材に列設さ
れる保持溝の拡大断面図（ｂ）である。

【図１７】この発明における保持体による未処理のウエ
ハをウエハ搬送アームからピッチチェンジャに受け渡す
状態を示す概略構成図である。

【図１８】上記保持体による処理済みのウエハをピッチ
チェンジャからウエハ搬送アームに受け渡す状態を示す
概略構成図である。

【図１９】１３枚仕様のウエハをピッチチェンジャに搬
送する手順を示す説明図である。

【図２０】１３枚仕様のウエハを鏡面を対向させてピッ
チチェンジャに搬送する手順を示す説明図である。

【符号の説明】

Ｗ 半導体ウエハ（基板） １ キャリア（容器） ３ 処理部 ４ インターフェース部 ５ａ キャリア搬入部 ５ｂ キャリア搬出部 ６ ウエハ受渡し部 １０ ウエハ搬送アーム ２０ ピッチチェンジャ（基板間隔調整手段） ２１Ａ 第１の保持部 ２１Ｂ 第２の保持部 ２１ａ，２１ｂ 保持溝 ２２，２３ 側部保持部 ２２ａ，２２ｂ，２３ａ，２３ｂ 側部保持部材 ２４，２５ 下部保持部 ２４ａ，２４ｂ，２５ａ，２５ｂ 下部保持部材 ２６ 保持テーブル（保持体） ２６ａ 固定テーブル ２６ｂ 可動テーブル ２６ｃ 保持切換用エアーシリンダ ２７ 方向変換用モータ ２８ 垂直移動機構 ２９ 水平移動機構 ３０ 姿勢変換装置（基板保持手段） ５１ ウエハ搬送チャック（基板搬送手段）

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板搬入・搬出部と、基板に適宜処理を
   施す基板処理部と、上記基板搬入・搬出部と基板処理部
   との間で複数の上記基板を受け渡す基板受渡し部と、上
   記基板受渡し部に配設されて複数の基板を垂直状態に整
   列保持する基板保持手段と、上記基板処理部と基板受渡
   し部とで上記基板を搬送する基板搬送手段と、上記基板
   保持手段と基板搬送手段との間に位置して複数の上記基
   板を垂直状態に所定の間隔をおいて整列保持する基板間
   隔保持手段とを具備する基板処理装置において、 上記基板間隔保持手段は、それぞれ上記基板を保持する
   複数の保持溝を列設した一対の側部保持部材と一対の下
   部保持部材とからなる第１の保持部と第２の保持部とを
   具備し、 上記第１の保持部と第２の保持部とを相対的に昇降可能
   に形成して、第１の保持部と第２の保持部のいずれか一
   方の保持部で上記複数の基板を所定間隔をおいて保持す
   るように形成してなる、ことを特徴とする基板搬送処理
   装置。
2. 【請求項２】 上記第１の保持部及び第２の保持部が、
   基板の左右対称位置を保持する、ことを特徴とする請求
   項１記載の基板搬送処理装置。
3. 【請求項３】 上記第１の保持部及び第２の保持部にお
   ける側部保持部材にて基板を支持し、下部保持部材にて
   上記基板の倒れ防止を行うようにした、ことを特徴とす
   る請求項１又は２記載の基板搬送処理装置。
4. 【請求項４】 上記第１の保持部及び第２の保持部にお
   ける側部保持部材に列設される保持溝を、断面略Ｖ字状
   に形成し、下部保持部材に列設される保持溝を、断面略
   Ｙ字状に形成してなる、ことを特徴とする請求項２又は
   ３記載の基板搬送処理装置。
5. 【請求項５】 上記第１の保持部と第２の保持部の側部
   保持部材及び下部保持部材を、それぞれ別の保持体に装
   着し、上記保持体の少なくとも一方を昇降手段によて昇
   降可能に形成してなる、ことを特徴とする請求項１又は
   ２記載の基板搬送処理装置。
6. 【請求項６】 上記第１の保持部及び第２の保持部を、
   水平方向において方向変換可能に形成してなる、ことを
   特徴とする請求項１、２又は５記載の基板搬送処理装
   置。
7. 【請求項７】 上記基板間隔保持手段を、水平及び垂直
   方向に移動可能に形成してなる、ことを特徴とする請求
   項１ないし６のいずれかに記載の基板搬送処理装置。