JPS63300524A - ウエ−ハカセット搬送用保持機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体ウェーハを保持するウェーハカセット
の搬送にあたシ、特にウェーハのゴミ付着に対する防止
対策を施したウェーハカセットの搬送用保持機構に関す
る。

〔従来の技術〕

半導体製造工程において、ウェーハは第４図に示すウェ
ーハカセット（以下、単にカセットという）に入れて搬
送される。図に示すように、カセットは対向する両内壁
面にくし形の溝を対向して設け、この２つの溝の間にウ
ェーハを１個ごと分離し工収納する。カセットの上面、
下面、正面は開口していて、ウェーハは裏面がカセット
の正面を向く様に上面より収納する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記カセットの溝は、ウェーハの厚さよシ大きくとって
、ウェーハ挿入時にクリアランスがあるようにして、ウ
ェーハ挿入時の損傷を防止している。しかし、カセット
を搬送するときには、このクリアランスがある九め搬送
時の振動によυウェーハと溝部とが互いに衝突しあって
、衝突した所で少しかけ小さいゴミが発生し、ウェーハ
に付着する欠点が６つ次。

カセットの取扱いはクリーンルームで行なわれ、嘔らに
ウェーハの清浄関金保つためカセットをボックスに入れ
保管して搬送している。個々の半導体製造設備内におい
ても清浄な空気のダウンフローを作ってウェーハの清浄
度を保っているものもある。しかし半導体製造設備にカ
セットをセットする時は、作業者あるいは自動機によシ
ボックスからカセットを取り出し裸のまま保持、セット
するので、いかくクリーンルームとはいえ、人による影
響９機械による影響によシウエーハへのゴミの付着はま
ぬがれないのが現状であった。

本発明の目的は、上記の欠点を除去するために、カセッ
トの保持・搬送・受渡しにおいて、ウェーハのゴミ付着
を最大限少なくする手段を具備した搬送用保持機構を提
供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明のカセット搬送用保持機構は、ウェーハが床面に
対して垂直あるいは水平位置になるように、カセットを
、搬送レールに対して保持してから、前記カセットをそ
の位置から一定角度傾斜嘔せ搬送する手段と、前記カセ
ットの位置に応じそれぞれ上部あるいは側部にフィルタ
付送風機を設け、前記カセット内のウェーハ面上に清浄
空気流を流す手段とを有す・るようにしたものでおる。

本発明では、カセットを保持した搬送機構本体を搬送レ
ール上で移動し、搬送を行なうが、そのときウェーハが
床面に垂直になるように、カセットを搬送レールに対し
て保持してから、カセットを垂直方向に対して一定角度
傾斜嘔せる。これによってウェーハが溝部で傾いて、ク
リアランスによるガタがなくなる。また搬送中に上部に
設けた送風機から流出する清浄空気がウェーハ表面を流
れるので、搬送中ゴミが付着することがない。上記の説
明は、カセットを垂直に保持した場合であるが、カセッ
トを水平にし、しかも一定角度水平から傾斜式せるよう
にした場合も同様である。このとき送風機は側部に設け
、横方向から清浄空気を流す。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例につき、図面を参照して説明する
。搬送方向をＸ軸、床面に対して平行で搬送方向に垂直
な方向をＹ軸、床面に垂直な方向１−２軸として、各図
にその向きを示す。

第１図、第２図はカセットを垂直に、すなわちウェーハ
を床面に対し垂直とする実施例の概略説明図である。第
１図（ＩＬ）は搬送状態を上方からみた平面図、第１図
（ｂ）は正面図である。ただし第１図（ＳＬ）ではカセ
ット把持部分を明らかにするためその部分を透視して図
示している。１はウェーハ、２はウェーハ１を収納して
いるカセットであ夛、３はカセット２を搬送方向（Ｘ方
向）に対してウェーハが平行で、床面に対し垂直方向（
２方向）Ｋなるよう保持するので、床面に対し垂直方向
（２方向）になるよう保持するハンド、４は搬送機構本
体、５は搬送レール、６ｔｉカセット受取り台、７は搬
送先、例えば半導体製造設備のカセット載置台である。

さらに８はカセット２ｔ−搬送時に於てウェーハ１ｔ−
垂直方向よシ適宜傾斜（傾斜角０＝５〜１０°）嘔せる
カセット傾斜保持機構、９＃ｉ清浄な空気の流れを確保
するためのフィルタ付送風機である。

以下、カセット搬送につき説明する。第１図において、
カセット受取シ台６にカセット２がセットされると、搬
送機構本体４の昇降機構によって、ハンド３が下降し、
カセット２を把握保持する。その後昇降機構によって再
びハンド３が上昇し、定位置にセットされる。次に傾斜
保持機構８によシ、ウェーハ１を垂直方向よシ傾斜する
ように、カセット２をθだけ傾ける。

これによってカセット２が搬送レール５によって搬送さ
れるときに、ウェーハ１はカセット２の溝部内でガタつ
かず保持される。また、第２図に示すように、カセット
ｚ内のウェーハ１に対し常に清浄な空気流が流れこむよ
うにして、カセット２が半導体製造設備のカセット載置
台７の位置に搬送され、カセット２を垂直位置に直して
から搬送機構本体４の昇降機構によって、ハンド３が下
降し、カセット２をカセット載置台７に載置する。

上記実施例で、傾斜の向きは、第２図に示すようにする
。傾斜によってウェー／＼１がカセット２の溝部で一定
の姿勢になシ、またウエーノ１１は裏面が接触している
ので、表面が損傷することがない。さらに清浄空気がウ
ェーハ１の表面を流れるので、常に清浄環境に囲まれて
いる。

次に１カセツトを水平に、すなわちウエーノ・１を床面
に対し平行にする第２実施例につき説明する。この実施
例では、第３図に示すように、先ずカセット２の正面を
略々床面に平行にセットシ、その後水平の位置からθ＝
５〜１００傾斜させる。このときフィルタ付送風機９は
側部に配置し、清浄空気流が水平方向に流れるようにす
る。その他の点は、前記の第１実施例と同様である。

〔発明の効果〕

以上、説明したように、本発明の搬送用保持機構は、半
導体ウェーハ用のカセットをウェーハの向きを床面に対
し、垂直あるいは水平の位置から適宜傾斜させて搬送機
構に取シつけるものである。この傾斜によって、カセッ
トの溝部にウェーハが安定な状態に保持さｎる。したが
ってカセット搬送の際に生ずる振動に対し、ウェーハの
ガタつくことを防ぎ、ゴミの発生およびウェーハへの付
着を抑える効果がある。また、搬送時に、ウェーハ表面
に平行に清浄空気が流れるようにして、空気の流れの抵
抗を最小にして、ウェーハ表面の流量を大にし、ゴミの
付着を防ぐとともに、周囲の環境からの悪影響を最大限
抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は、本発明の実施例として、ウェーハを
床面に対して垂直方向に搬送する場合の概略説明図、第
３図はウェーハを水平方向に搬送する場合のカセット−
フィルタ付送風機の関係位置を示す図、第４図はカセッ
ト斜視図である。 ｌ・・・ウェーハ、　　　　２・・・カセット、３・・
・ハンド、　　　　　４・・・搬送機構本体、５・・・
搬送レール、 ８・・・カセット傾斜保持機構、 ９・・・フィルタ付送風機。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 対向内壁面に設けたくし形溝の間にウェーハを保持する
   タイプのカセットの、搬送用保持機構において、ウェー
   ハが床面に対して垂直あるいは水平位置になるように前
   記カセットを、搬送レールに対して保持してから、前記
   カセットをその位置から一定角度傾斜させ搬送する手段
   と、前記カセットの位置に応じそれぞれ上部あるいは側
   部にフィルタ付送風機を設け、前記カセット内のウェー
   ハ面上に清浄空気流を流す手段とを有することを特徴と
   するウェーハカセット搬送用保持機構。