JPH1049821A

JPH1049821A - 反対方位角のヘッド・ギャップを有する二重磁気ヘッドの製造プロセス

Info

Publication number: JPH1049821A
Application number: JP9099579A
Authority: JP
Inventors: Jean Baptiste Albertini; アルベルティニジャン−バティスト; Gerard Barrois; バルワジェラール; Pierre Gaud; ゴーピエール; Henri Sibuet; シビュエットアンリ
Original assignee: Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Current assignee: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Priority date: 1996-04-04
Filing date: 1997-04-03
Publication date: 1998-02-20
Also published as: DE69725915D1; FR2747226B1; DE69725915T2; US5842269A; FR2747226A1; EP0800160A1; EP0800160B1

Abstract

(57)【要約】【課題】方位角が反対の２つのヘッド・ギャップを有
する二重磁気ヘッドを作成する方法を提供する。【解決手段】第１（１００）および第２（１３）ヘッ
ドを、同じ傾斜角度および隣接窪み（１２０、１４０）
を付けて作成する。一方のヘッドを反転させた後、前記
ヘッドを窪みに嵌合させる。磁気記録に適用される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、方位角が反対のヘ
ッド・ギャップを有する二重磁気ヘッドを製造する方法
に関する。これは情報の磁気記録、特に量販市場または
専門家用のビデオ・レコーディング、コンピュータ・サ
イエンスの大容量メモリ、テープまたはディスクへのデ
ータの格納などに使用する。

【０００２】

【従来の技術】ビデオ・レコーディング、データのバッ
クアップ、またはコンピュータ・メモリ用の磁気記録支
持体または媒体は、情報が磁気領域の形で書き込まれた
無数のトラックを含む。

【０００３】情報の密度を増大させるために、単位長さ
当たりの情報数が増加しているばかりでなく、トラック
数も増加している。そのため、トラックの幅を狭くし、
それと同時に、トラックが連続するようになるまで、ト
ラックを分離するギャップを小さくしている。

【０００４】読取時のクロストーク問題を回避するた
め、情報を、隣接する２本のトラック上に、反対の傾斜
角で斜めに書き込む。この傾斜角は、方位角として知ら
れる。この場合、読取ギャップ・ヘッドは、方位角を持
たねばならず、その値は記録の傾斜に対応する。ヘッド
・ギャップの方位角は、非常に精密でなければならない
（たとえば新しいディジタル・ビデオ・カセットまたは
ＤＶＣの基準では２０±０．１５°）。

【０００５】図１は、２本のトラック１０ａおよび１０
ｂを有する記録媒体を示し、そのヘッド・ギャップを通
る書込方向（斜線で指示）は、トラックのトラック１０
ａでは＋ｉ、トラック１０ｂでは−ｉの一般的方向に対
する垂線との間で、方位角を形成される。

【０００６】図２は、それぞれ＋ｉおよび−ｉの方位角
を有するギャップ１４ａおよび１４ｂの２つの磁気ヘッ
ド１２ａおよび１２ｂを示す。このヘッドの変位方向を
Ｄとする。

【０００７】実際には、図２のように、反対方向の方位
角をとる２つのヘッドのグループが、通常は２つの並列
ヘッドの形をとることはなく、さもなければ、トラック
の読取部が連続しない。これは、図３のように、互いに
変位した２つのヘッドの形をとる。これによって、トラ
ックをよりぴったり配置することができる。この配置で
は、２つのヘッド１６ａ、１６ｂが、それぞれ総幅Ｌの
方位角付きのギャップを有し、２つのヘッド・ギャップ
は距離Ｔだけ分離されている。これで、各ヘッドが幅ｅ
の記録トラック上を移動することができ、前記トラック
は準連続である。これは、たとえばＬ＝７ミクロン、Ｔ
＝５５０ミクロン、およびｅ＝６．７ミクロンが可能で
ある。

【０００８】２つの磁気ヘッド１６ａ、１６ｂは、たと
えば磁気回路や導体コイルなど、図示されていない手段
を組み込む。これらの手段はすべて、図３で全体的に１
８の参照番号を付けた、反対の方位角を有する二重ヘッ
ドを形成する。その変位方向は、この場合も矢印Ｄの記
号が付いている。

【０００９】このような二重ヘッドを得るために、通常
は、反対方向に傾斜したヘッド・ギャップを有する２つ
の独立したヘッドを製造し、前記ヘッドを単一の支持体
上に取り付ける。方位角のある磁気ヘッドを、図４に例
証的な方法で示すが、ここには単結晶質基板２０と、非
磁気ギャップ２４で分離された２つの極部片２２₁ 、２
２₂ があり、非磁気ギャップは角度ｉだけ傾斜してい
る。この傾斜は、たとえば基板の単結晶質の性質を利用
し、基板の結晶面に非等方性のエッチングを実施するこ
とによって得られる。このプロセスは、フランス特許FR
-A-2 664 729（または国際特許WO-92/02015 ）に記載さ
れている。

【００１０】単一のヘッドを２個まとめて構成した二重
ヘッドのこの製造プロセスは、満足できるものではな
い。したがって、２個のヘッドがそれぞれ正確にトラッ
クと協同するよう、ギャップがそれぞれ所望の方位角に
なるよう２個のヘッドを正確に方向づけることは困難
で、２個のヘッドを互いに正確に配置することも困難で
ある。図３に関連して与えられた寸法、特に６．７ミク
ロンという幅は、その設定が極端に小さいことを示す。
これらの取付の困難すべてが、単一のヘッドの場合と比
較して、大幅に余分な費用を生じさせる。

【００１１】このような位置合わせの困難に、ヘッドが
占有するスペースに関連する問題が加わる。この問題の
ため、テープと各ヘッドとが良好に接触するよう、ヘッ
ド・ギャップをともに移動させることが困難である
（「良好な接触」領域が非常に局所的である）。また、
トラックの始点および終点でスペースを無駄にせずに
（空間的シフトの関係）、２本の隣接するトラックの読
み書きが単純化するよう、２個のヘッドを分離する距離
を最小にすると、利点がある。したがって、トラックの
始点および終点で情報格納におけるスペースの無駄を回
避するには、２個のヘッド間の空間的シフトを補償する
ため、一方のヘッドの書込みを他方と非同期化する必要
がある。したがって、記録操作の単純さと情報格納のコ
ンパクトさの間で妥協点を見いださなければならない。

【００１２】薄膜技術およびマイクロエレクトロニクス
を用いたヘッドは、たしかに興味ある利点を提供する
が、このような技術を用いて、２つの反対の方位角で同
じ基板を製造することは、まだ十分に解決されていない
問題である。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
薄膜技術およびマイクロエレクトロニクスを用いて、非
常に単純な取付とヘッドの位置および方向の自動設定と
をもたらす、二重磁気ヘッドの製造プロセスを提案する
ことである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明によると、同じ基
板または２個の独立した基板上に、まず薄膜技術を用い
て磁気ヘッドを作成し、各ヘッドを２つのグループに分
割する。各グループのヘッドは、特定の傾斜の付いたヘ
ッド・ギャップを有し、同一の方位角で書き込まれる。
さらに、２グループのそれぞれのヘッドの方位角は、反
対である。同じ基板を使用する場合、２グループのヘッ
ドを、先頭と末尾を突き合わせて配置することができ
る。つまり、特定のヘッドは、その極（つまり記録媒体
に面して配置するよう意図された面）を一方向へ向け、
他方はその極を他の方向へ向ける。この場合、傾斜した
ヘッド・ギャップは、２グループのヘッドの共通した基
準枠内で、同じ傾斜を有する。２個の基板を使用する場
合は、結晶学的軸が平行になるように後者を方向づける
と有利である。したがって、状況は単一の基板を使用す
る場合と同じである。いかなる場合も（基板を１個使用
しても、２個使用しても）、グループの各ヘッドに沿っ
て、他方グループのヘッドを受けることができる窪みを
設ける。グループから１個のヘッドを取り出し、それを
反転させて、他方グループのヘッドに沿ってこのために
設けられた窪みに入れることにより、二重ヘッド・アセ
ンブリが得られる。ヘッドを反転させると、そのヘッド
・ギャップの傾斜のサインが変化し、したがって回転し
ていないヘッドとは反対の方位角が生成され、したがっ
て反対の方位角を有する２個の並列ヘッドが得られる。
窪みの寸法および位置が分かれば、個々の窪みの中で、
２個のヘッドを自動的に互いに対して配置し、方向づけ
る。

【００１５】本発明は、１個の二重ヘッドを獲得したい
だけの場合にも、一括プロセスを実行するという、より
頻繁なケースにも適用することができる。

【００１６】特に、個別生産の場合、本発明のプロセス
は、基本的に、 − 第１基板上に、第１方位角をもたらすことができる
特定の傾斜角度の付いた第１ヘッド・ギャップを有する
第１磁気ヘッドを形成する操作と、 − 第２基板上に、任意で第１基板と一致させるが、第
１基板と反対の第２方位角をもたらすことができる傾斜
角度の付いた第２ヘッド・ギャップを有する第２磁気ヘ
ッドを形成する操作と、 − 第１ヘッドに沿って、第２ヘッドを受けることがで
きる第１窪みをエッチングし、第２ヘッドに沿って、第
１ヘッドを受けることができる第２窪みをエッチングす
る操作と、 − 一方のヘッドを反転させる操作と、 − 共通の基準枠内で傾斜角度が反対になり、反対の方
位角になるよう、第１ヘッドを第２窪みに、第２ヘッド
を第１窪みに入れる操作と、 − 得られたアセンブリを互いに接合する操作とを含む
ことを特徴とする。

【００１７】一括生産の場合、本発明のプロセスは、 − 第１基板上に、第１方位角をもたらすことができる
第１傾斜角度の付いた第１ヘッド・ギャップを有する第
１グループの第１磁気ヘッドの少なくとも１本のアレイ
を作製する操作と、 − 第２基板上に、任意で第１基板と一致させるが、第
１基板と反対の第２方位角をもたらすことができる第２
傾斜角度の付いた第２ヘッド・ギャップを有する第２グ
ループの第２磁気ヘッドの少なくとも１本のカウンタア
レイを作製する操作と、 − カウンタアレイの第２ヘッドを受けることができる
第１窪みを、第１ヘッドに沿って形成するよう、アレイ
の第１基板をエッチングする操作と、 − アレイの第１ヘッドを受けることができる第２窪み
を、第２ヘッドに沿って形成するよう、カウンタアレイ
の第２基板をエッチングする操作と、 − 共通の基準枠内で第１傾斜角度と第２傾斜角度とが
反対になり、第１方位角と第２方位角が反対になるよ
う、カウンタアレイを反転させてアレイに加え、カウン
タアレイの各第２ヘッドを、アレイの第１窪みの１つに
入れ、アレイの各第１ヘッドを、カウンタアレイの第２
窪みに入れる操作と、 − アレイとカウンタアレイとを互いに接合する操作
と、 − 第１ヘッドと第２隣接ヘッドとを形成したアセンブ
リを互いから分離し、反対の方位を有するヘッド・ギャ
ップが付いた二重ヘッドにする操作とを含むことを特徴
とする。

【００１８】アレイの第１ヘッドとカウンタアレイの第
２ヘッドとを、２本の平行な列に、先頭と末尾を合わせ
た食い違いの形で配置し、反転する段階の前は、第１お
よび第２傾斜角度が共通の基準枠内で等しいことが有利
である。この実施の形態は、アレイを作成するための第
１基板とカウンタアレイを作成するための第２基板と
が、一つの同じ基板である場合に、特に有利である。

【００１９】本発明によるこの一括生産プロセスは、ア
レイでの処理に基づく二重ヘッドにも、完全なプレート
または基板での処理に基づく二重ヘッドにも適してい
る。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明には、あらゆる磁気ヘッド
が適切であり得るが、コイルを１巻以上の平坦な螺旋巻
線で構成されたヘッドではなく、導体コイルがソレノイ
ド・タイプのヘッドを使用することが好ましい。その理
由は、後者の横方向の寸法が、前者より小さく、したが
って２個のヘッド同士をより近づけることが可能だから
である。

【００２１】図５および図６は、このようなソレノイド
・ヘッドの例を概略的に示す。図５は、非磁気ヘッド・
ギャップｇによって分離された２個の極部片５０₁ 、５
０₂、２個の横磁気部片５２₁ 、５２₂ 、および後部磁
束閉部片６０を有するヘッドの平面図である。導体コイ
ルは、２個の横部片５２₁ 、５２₂ の周囲に巻いた２本
の巻線５４₁ 、５４₂ によって構成される。

【００２２】図６は、ヘッド７０の全体図で、コイルへ
のアクセスを提供する電気接続手段がよりよく分かる。
その手段は、２本の導体ストリップ７２₁ 、７２₂ 、お
よび２個の接続部片７４₁ 、７４₂ で構成される。

【００２３】二重ヘッドの一括生産のプロセスを、１つ
のアレイおよび１つのカウンタアレイの特定の例で、図
７ないし図１０で概略的に示す。図７は、アレイＡおよ
びカウンタアレイＢを示す。アレイＡは、図６のヘッド
と等しい複数の第１ヘッド８０₁ および図６のそれと対
称の複数の第２ヘッド８０₂ を含む。さらに、アレイＡ
は、複数の第１空白位置９０₁ を、カウンタアレイＢ
は、複数の第２空白位置９０₂ を含む（前記位置は図７
の斜線部である）。

【００２４】図８に図示した実施の形態では、ヘッド８
０₁ と８０₂ とを、先頭と末尾で合わせ、ヘッドと位置
を食い違いの形で配置する。

【００２５】図８、図９および図１０は、空白位置に作
成した窪みとヘッドとの構造を、さらに詳細に示す。こ
れらの図は、個別プロセスにも一括プロセスにも適用す
ることができる。

【００２６】図８および図１０は、磁気回路、方位角付
きヘッド・ギャップおよびコイルによって構成されるア
センブリ１０２、さらに２個の接点部片１０４₁ 、１０
４₂を備えた第１ヘッド１００を示す。第１エッチング
窪み１２０は、前記ヘッドに沿って配置される。図１０
は、ヘッド１００が、たとえばシリコンの第１基板１５
０上に形成され、たとえばシリカの第１絶縁体１６０の
層によって覆われていることを、よりよく示す。絶縁層
１６０は、たとえば１０ミクロンの厚さを有することが
できる。第１窪み２０を得るには、エッチングを絶縁層
１６０にも基板１５０にも施し、後者の場合は、たとえ
ば１０ミクロンを超え、この特定の場合は深さ２０ミク
ロンの窪みを形成する。

【００２７】カウンタアレイＢ上に、磁気回路、第１ヘ
ッド１０２のヘッド・ギャップに等しい同位角付きヘッ
ド・ギャップ、および接点部片１３４₁ 、１３４₂ で構
成された同じ手段つまり第２ヘッド１３０が設けられ
る。第２窪み１４０は、第２ヘッド１３０に沿って配置
される。図９は、前記第２ヘッドが、第１ヘッドを支持
する基板１５０上に形成され、同じ絶縁層１６０で覆わ
れていることを示す。窪み１４０は、第１窪み１２０の
場合のように、絶縁層１６０および基板１０を１０ミク
ロン以上エッチングし、深さ２０ミクロンの窪みを設け
ることによって獲得される。したがって、この２つのサ
ブアセンブリのレリーフおよび窪みは補完的である。

【００２８】図９および図１０は、第２ヘッド１３０の
接続部を第１ヘッド１００の接続部と同じ面にできる特
別な実施の形態を示す。この実施形態では、カウンタア
レイはアレイより幅が小さい。前記接続部の移動を実行
するには、中間レベルのステップをアレイＡ上に作成
し、これが図８および図１０の基準１１０を担持する。
図示した実施の形態では、これは上位レベルより１０ミ
クロン下、つまり基板１５０の表面にある。前記ステッ
プ１１０上に、接点回復部片１１２₁ 、１１２₂が形成
され、その間隔は第２ヘッドの接続部片１３４₁ 、１３
４₂ の間隔（図９参照）に対応する。この接点回復部片
１１２₁ 、１１２₂ は、接続トラック１１３₁ 、１１３
₂ によって、第１ヘッドの部片１０４₁ 、１０４₂ に沿
って配置された接点部片１１４₁ 、１１４₂ に接続され
る。

【００２９】アレイＡの第１ヘッド１００を受け取るこ
とができる第２窪み１４０を、第２ヘッド１３０に沿っ
て形成するよう、カウンタアレイ上で第２基板１５０を
エッチングする。

【００３０】第２ヘッド１３０を反転させ、それを第１
窪み１２０に導入すると、部片１３４₁ 、１３４₂ は接
点回復部片１１２₁ 、１１２₂ と接触し、その結果、か
つては所定の位置にあった第２ヘッドの接続部片が、部
片１１４₁ 、１１４₂ に移動する。

【００３１】ステップ１１０は、溝１１４も含み、２個
の部品を互いに接合するのに使用する接着剤が過剰な場
合に、それを吸収することができる。接着剤は、導電性
接着剤でよく、それに導電性のボールを加えることがで
き、それは一緒に合わせる間に砕けて、部片１３４₁ 、
１３４₂ と１１２₁ 、１１２₂ との良好な電気的接触を
確保する。

【００３２】カウンタアレイＢを軸ｘｘ’を中心に角度
πだけ回転して反転させ（図７）、２つのアレイを一緒
に合わせると、図１１に示すアセンブリが獲得される。
方位ギャップｇ₁ がある第１ヘッド１０２が、基板１５
０上に配置されて絶縁層１６０に覆われ、さらに第２ヘ
ッド１４２および反対方向に方位角を付けたそのギャッ
プｇ₂ が、反転した基板１５０および反転した絶縁層１
６０を伴うのを見ることができる。２個の部品を互いに
合わせると、それは互いに補完的であるので、一体ヘッ
ドを形成する。

【００３３】次に、このようにして獲得したアセンブリ
を、一括処理（たとえば完全なプレートまたはアレイ）
の場合は、切断して一体の二重ヘッドを分離する。これ
で、各ヘッドは中心に二重ヘッドを閉じこめたシリコン
・ブロックを備えることになる。次に、所望の形状にす
るため、従来通りのマイクロメカニカル操作で各ヘッド
を機械加工することができる。

【００３４】上述した実施の形態では、アレイとカウン
タアレイとを作成するために１つの基板を使用すること
が可能である。この変形は有利である。というのは、特
に互いに対面する場合に、異なるヘッドに一貫した特性
を獲得することができるからである。しかし、当然、ア
レイの作成とカウンタアレイの作成とを分離することも
できる。

【００３５】以上の記述で、本発明が無数の利点をもた
らすことが明白になった。

【００３６】これによって、アレイごとまたはプレート
ごとの幾つかの機械的アセンブリ・ステージを伴うシリ
コン技術に基づき、薄膜を有する一体の方位角付き二重
ヘッドを、一括生産することができ、大量生産ではコス
ト上の利益が重要になることがある。

【００３７】これは、極めて精密なマイクロエレクトロ
ニクス・エッチング・プロセスによってアセンブリの基
準面を規定することにより、一方のヘッドの他方に対す
る角度および横方向の位置合わせの問題を解決する。ア
センブルされる２つの部品間の接着剤接合は、十分の数
マイクロメートルを超えず、これは２つのヘッド間に取
り入れられた角度についても、横方向の偏差（信号のト
ラック幅に関する誤差をもたらす）についても、十分に
当該システムの許容差内である。

【００３８】記録システムに本発明で得られる一体式二
重ヘッドを取り付けるのは、単一のヘッドの取付と同様
に単純になり、したがって対応する方法での前記操作の
コストが削減される。

【００３９】ヘッドの特性の一貫性は、アセンブルした
２つのヘッドを、シリコン上で生産中に互いに隣接させ
ると、極めて優れたものになる。

【００４０】最後に、ヘッドを封入したシリコンの優れ
た摩擦特性により、ヘッドは、その寿命の間、緩やか
に、一定に磨耗する。

【図面の簡単な説明】

【図１】隣接する２本の記録トラックを示す図である。

【図２】方位角が反対の２個のヘッドを示す図である。

【図３】２個の変位ヘッドのアセンブリを示す図であ
る。

【図４】方位角を付けたヘッド・ギャップのある既知の
ヘッドの詳細を示す図である。

【図５】磁気回路の周囲にコイルを巻いた磁気ヘッドの
概略平面図である。

【図６】コイル接続部および接点部片を付けた磁気ヘッ
ドの概略平面図である。

【図７】本発明のプロセスを概略的に示す図である。

【図８】ヘッド、接続部、接点部片、およびアレイおよ
びカウンタアレイのエッチングの平面図である。

【図９】アレイの一部およびカウンタアレイの一部の透
視図である。

【図１０】本発明のプロセスで得られた二重ヘッドの方
位角付きヘッド・ギャップの領域を示す図である。

【図１１】２つのアレイを反転させ、合わせた後に得ら
れるアセンブリを示す図である。

【符号の説明】

１０トラック１２、１６磁気ヘッド１８極２０、１５０基板２２、５０極部片５２磁気部片５４巻線６０後部磁束閉部片７０、１４２ヘッド７２導体ストリップ７４、１０４、１１４、１３４接点部片８０₁ 、１００、１０２第１ヘッド８０₂ 、１３０第２ヘッド９０₁ 第１空白位置９０₂ 第２空白位置９１第１ヘッド・ギャップ９２第２ヘッド・ギャップ１１０ステップ１１２接点回復部片１１３接続トラック１２０第１窪み１３２アセンブリ１４０第２窪み１６０絶縁層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ピエールゴーフランス国， 38400 クーブレヴィー, アンパスデマノリア， 111番地 (72)発明者アンリシビュエットフランス国， 38120 ルフォンタニル, リュデエコル，７番地

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】方位角が反対の２つのヘッド・ギャップ
を有する二重磁気ヘッドの作成方法であって、 − 第１基板（１５０）上に、第１方位角をもたらすこ
とができる特定の傾斜角度を有する第１ヘッド・ギャッ
プ（９１）を備える第１磁気ヘッド（１００）を形成す
る操作と、 − 第２基板（１５０）上に、任意選択で第１磁気ヘッ
ドと一致して、第１磁気ヘッドと反対の第２方位角をも
たらすことができるある傾斜角度の第２ヘッド・ギャッ
プ（９２）を有する第２磁気ヘッド（１３０）を形成す
る操作と、 − 第１ヘッド（１００）に沿って、第２ヘッド（１３
０）を受けることができる第１窪み（１２０）をエッチ
ングし、第２ヘッド（１３０）に沿って、第１ヘッド
（１００）を受けることができる第２窪み（１４０）を
エッチングする操作と、 − 一方のヘッド（１３０）を反転させる操作と、 − 共通の基準枠内で傾斜角度が反対になり、反対の方
位角をもたらすように、第１ヘッド（１００）を第２窪
み（１４０）に、第２ヘッド（１３０）を第１窪みには
め込む操作と、 − 得られたアセンブリを互いに接合する操作とを含む
ことを特徴とする方法。
【請求項２】ヘッド・ギャップと反対の方位角とを有
する二重磁気ヘッドの一括作成方法であって、 − 第１基板（１５０）上に、第１方位角をもたらすこ
とができる第１傾斜角度の第１ヘッド・ギャップ（９
１）を有する第１グループの第１磁気ヘッド（１００）
の少なくとも１つのアレイ（Ａ）を作成する操作と、 − 第２基板（１５０）上に、任意選択で第１磁気ヘッ
ドと一致して、第１磁気ヘッドと反対の第２方位角をも
たらすことができる第２傾斜角度の第２ヘッド・ギャッ
プ（９２）を有する第２グループの第２磁気ヘッド（１
３０）の少なくとも１つのカウンタアレイ（Ｂ）を作成
する操作と、 − アレイ（Ａ）の第１基板（１５０）をエッチングし
て、第１ヘッド（１００）に沿って、カウンタアレイ
（Ｂ）の第２ヘッド（１３０）を受けることができる第
１窪み（１２０）を形成する操作と、 − カウンタアレイの第２基板（１５０）をエッチング
して、第２ヘッド（１３０）に沿って、アレイ（Ａ）の
第１ヘッド（１００）を受けることができる第２窪み
（１４０）を形成する操作と、 − 共通の基準枠内で第１傾斜角度と第２傾斜角度とが
反対になり、第１方位角と第２方位角が反対になるよう
に、カウンタアレイ（Ｂ）を反転させてアレイ（Ａ）に
当て、カウンタアレイ（Ｂ）の各第２ヘッド（１３０）
をアレイ（Ａ）の第１窪み（１００）の１つにはめ込
み、アレイ（Ａ）の各第１ヘッド（１００）をカウンタ
アレイ（Ｂ）の第２窪み（１４０）にはめ込む操作と、 − アレイ（Ａ）とカウンタアレイ（Ｂ）とを互いに接
合する操作と、 − 第１ヘッドと第２隣接ヘッドを形成したアセンブリ
を互いに分離し、方位角が反対のヘッド・ギャップ（９
１、９２）を備える二重ヘッド（１０２、１４２）を得
る操作とを含むことを特徴とする方法。
【請求項３】アレイ（Ａ）の第１ヘッド（１０）とカ
ウンタアレイ（Ｂ）の第２ヘッド（１３０）を、先頭と
末尾を合わせて食い違い形で２本の平行な列に配置し、
アレイ（Ａ）の作成に使用する第１基板（１５０）とカ
ウンタアレイ（Ｂ）の作成に使用する第２基板（１５
０）が同一の基板（１５０）であることを特徴とする、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】アレイ（Ａ）とカウンタアレイ（Ｂ）
を、接着剤で接合することを特徴とする、請求項２に記
載の方法。
【請求項５】 − アレイ（Ａ）の第１ヘッド（１０
０）を、第１基板上に形成された第１絶縁層（１６０）
内に配置し、 − カウンタアレイ（Ｂ）の第２ヘッド（１３０）を、
第２基板上に形成された第２絶縁層（１６０）内に配置
し、 − 第１絶縁層（１６０）と第１基板（１５０）をエッ
チングして、第１窪み（１２０）を形成し、 − 第２絶縁層（１６０）と第２基板（１５０）をエッ
チングして、第２窪み（１４０）を形成し、アレイ
（Ａ）とカウンタアレイ（Ｂ）が互いに嵌合する補完的
輪郭を有することを特徴とする、請求項１に記載のプロ
セス。
【請求項６】第１磁気ヘッド（１００）を第１磁気回
路（５０₁ 、５０₂、５２₁ 、５２₂ 、６０）と、第１
磁気回路の一部の周囲に、巻いた第１導体コイル（５４
₁ 、５４₂ ）付きで作成し、第２磁気ヘッド（１３０）
を第２磁気回路（５０₁ 、５０₂ 、５２₁ 、５２₂ 、６
０）と、第２磁気回路の一部の周囲に巻いた第２導体コ
イル（５４₁ 、５４₂ ）付きで形成することを特徴とす
る、請求項２に記載の方法。
【請求項７】 − 第２ヘッド（１３０）の第２コイル
の接続部片（１３４₁ 、１３４₂ ）を解放するために、
カウンタアレイ（Ｂ）の第２絶縁層（１６０）をエッチ
ングし、 − 第１絶縁体（１６０）と任意選択でアレイ（Ａ）の
第１基板（１５０）をエッチングして、第１窪み（１２
０）の深さより低い深さレベルまでステップ（１１０）
を形成し、 − アレイ（Ａ）の前記ステップ（１１０）上に、その
間隔がカウンタアレイ（Ｂ）の第２ヘッド（１３０）の
第２コイルの接続部片（１３４₁ 、１３４₂ ）に対応す
る接点回復部片（１１２₁ 、１１２₂ ）を形成して、カ
ウンタアレイ（Ｂ）を反転させ、次にアレイ（Ａ）に当
てたとき、第２ヘッド（１３０）の接続部片（１３４
₁ 、１３４₂ ）がアレイ（Ａ）の接点回復部片（１１２
₁ 、１１２₂）に電気的に接触するように、アレイ
（Ａ）の前記ステップ（１１０）上に第２接続部片（１
１４₁ 、１１４₂ ）を形成し、次に、第１ヘッド（１１
０）の接続部片（１０４₁ 、１０４₂ ）と第２ヘッドの
第２接続部片（１１４₁ 、１１４₂）を、二重ヘッドの
同じ側で同じ面上に配置することを特徴とする、請求項
６に記載の方法。
【請求項８】溝（１１４）も、ステップ（１１０）上
に形成されることを特徴とする、請求項７に記載の方
法。