JPH05334627A - ダブルアジマス薄膜磁気ヘッド - Google Patents
ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH05334627A JPH05334627A JP14263892A JP14263892A JPH05334627A JP H05334627 A JPH05334627 A JP H05334627A JP 14263892 A JP14263892 A JP 14263892A JP 14263892 A JP14263892 A JP 14263892A JP H05334627 A JPH05334627 A JP H05334627A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 デジタルＶＴＲ、ハイビジョンＶＴＲなどに
適した２チャンネル記録用ダブルアジマス薄膜磁気ヘッ
ドを提供する。 【構成】 ２個の磁気ギャップ４１、４２はトラック幅
方向に高さ位置が異なっており、少なくとも一方の磁気
回路の磁気ヨーク６１は、他方の磁気回路の磁気コア３
３、３４と同一平面に形成される。または、非磁性基板
１に近い側に磁気ギャップが形成された磁気回路の磁気
ヨークは、他方の磁気回路の磁気ヨーク材と同一平面に
形成される。さらに他の態様では、非磁性基板に近い側
に磁気ギャップが形成された磁気回路の磁気ヨークは接
続増厚部を介して磁気コアと接続されており、接続増厚
部は他方の磁気回路の磁気コア材で磁気コアと同一平面
に形成される。
適した２チャンネル記録用ダブルアジマス薄膜磁気ヘッ
ドを提供する。 【構成】 ２個の磁気ギャップ４１、４２はトラック幅
方向に高さ位置が異なっており、少なくとも一方の磁気
回路の磁気ヨーク６１は、他方の磁気回路の磁気コア３
３、３４と同一平面に形成される。または、非磁性基板
１に近い側に磁気ギャップが形成された磁気回路の磁気
ヨークは、他方の磁気回路の磁気ヨーク材と同一平面に
形成される。さらに他の態様では、非磁性基板に近い側
に磁気ギャップが形成された磁気回路の磁気ヨークは接
続増厚部を介して磁気コアと接続されており、接続増厚
部は他方の磁気回路の磁気コア材で磁気コアと同一平面
に形成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、とくにデジタルＶＴ
Ｒ、ハイビジョンＶＴＲなどに使用される２チャンネル
記録用ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドに関するものであ
る。
Ｒ、ハイビジョンＶＴＲなどに使用される２チャンネル
記録用ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】図６はたとえば特開昭６０−１６４９１
３号公報に示された従来のＶＴＲ用ダブルアジマス薄膜
磁気ヘッドを示す斜視図である。図６において、１は非
磁性基板、３１、３２、３３は磁気コア、４１、４２は
磁気ギャップ、５１、５２はコイル、６は磁気ヨークで
ある。磁気コア３１、３２、３３と磁気ヨーク６は３箇
所で接続されており、コイル５１、５２は一方の接続部
のまわりにスパイラル状に巻かれている。簡単化のた
め、図６では１ターンで示されている。また、分かりや
すくするために図６では絶縁層や保護層は省略してあ
る。
３号公報に示された従来のＶＴＲ用ダブルアジマス薄膜
磁気ヘッドを示す斜視図である。図６において、１は非
磁性基板、３１、３２、３３は磁気コア、４１、４２は
磁気ギャップ、５１、５２はコイル、６は磁気ヨークで
ある。磁気コア３１、３２、３３と磁気ヨーク６は３箇
所で接続されており、コイル５１、５２は一方の接続部
のまわりにスパイラル状に巻かれている。簡単化のた
め、図６では１ターンで示されている。また、分かりや
すくするために図６では絶縁層や保護層は省略してあ
る。
【０００３】図７は前記従来の薄膜磁気ヘッドの記録再
生面を示す正面図である。２はコイル５１、５２や磁気
ヨーク６などを絶縁すると共に保護する絶縁保護層であ
る。Ｔｗはトラック幅である。このばあい、Ｔｗは磁気
コア３１、３２、３３の膜厚に相当する。磁気ギャップ
４１、４２は、非磁性基板１の垂線に対して所定のアジ
マス角θ1、θ2で傾いている。このようなダブルアジマ
ス型の磁気ヘッドはスチル、スローなどの特殊再生に用
いられる。
生面を示す正面図である。２はコイル５１、５２や磁気
ヨーク６などを絶縁すると共に保護する絶縁保護層であ
る。Ｔｗはトラック幅である。このばあい、Ｔｗは磁気
コア３１、３２、３３の膜厚に相当する。磁気ギャップ
４１、４２は、非磁性基板１の垂線に対して所定のアジ
マス角θ1、θ2で傾いている。このようなダブルアジマ
ス型の磁気ヘッドはスチル、スローなどの特殊再生に用
いられる。
【０００４】また、図８は図６に示した従来のＶＴＲ用
ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの磁気コアと磁気ヨーク
の接続部の断面図（図６のＡ−Ａ断面図）である。
ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの磁気コアと磁気ヨーク
の接続部の断面図（図６のＡ−Ａ断面図）である。
【０００５】従来の薄膜磁気ヘッドは前記のように構成
されており、左側の磁気回路について説明すると、記録
はコイル５１に流れる信号電流により発生する磁束が磁
気コア３１、３２、磁気ヨーク６を流れ、磁気ギャップ
４１での漏れ磁束で磁気記録媒体にトラック幅で信号を
記録する。また、再生は磁気記録媒体からの漏れ磁束を
ギャップ４１で拾い、磁気コア３１、３２、磁気ヨーク
６を流れる磁束の変化を電磁誘導によりコイル５１に発
生する電圧に変換する。
されており、左側の磁気回路について説明すると、記録
はコイル５１に流れる信号電流により発生する磁束が磁
気コア３１、３２、磁気ヨーク６を流れ、磁気ギャップ
４１での漏れ磁束で磁気記録媒体にトラック幅で信号を
記録する。また、再生は磁気記録媒体からの漏れ磁束を
ギャップ４１で拾い、磁気コア３１、３２、磁気ヨーク
６を流れる磁束の変化を電磁誘導によりコイル５１に発
生する電圧に変換する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のＶＴＲ用薄膜磁
気ヘッドをデジタルＶＴＲ、ハイビジョンＶＴＲなどに
適用しようとすると、記録に必要な情報量は従来のＶＴ
Ｒの数倍以上必要であるが、１個の磁気ヘッドでは転送
レートの問題や線記録密度に限界がある。従って必要な
情報量を２つのトラックに分割して２個の磁気ヘッドで
記録再生する２チャンネル記録の方法が適している。こ
れには、複数個の磁気ヘッドが同一基板上に形成できる
薄膜磁気ヘッドの方がバルク磁気ヘッドよりも有利であ
る。
気ヘッドをデジタルＶＴＲ、ハイビジョンＶＴＲなどに
適用しようとすると、記録に必要な情報量は従来のＶＴ
Ｒの数倍以上必要であるが、１個の磁気ヘッドでは転送
レートの問題や線記録密度に限界がある。従って必要な
情報量を２つのトラックに分割して２個の磁気ヘッドで
記録再生する２チャンネル記録の方法が適している。こ
れには、複数個の磁気ヘッドが同一基板上に形成できる
薄膜磁気ヘッドの方がバルク磁気ヘッドよりも有利であ
る。
【０００７】しかし、図６に示すような従来のダブルア
ジマス薄膜磁気ヘッドでは、２つの磁気ギャップが同じ
高さ位置に形成されている。媒体走行方向が基板面に平
行のばあいは、２つの磁気ギャップは１本のトラックを
走行することになるので、２チャンネル記録には適さな
いという問題がある。
ジマス薄膜磁気ヘッドでは、２つの磁気ギャップが同じ
高さ位置に形成されている。媒体走行方向が基板面に平
行のばあいは、２つの磁気ギャップは１本のトラックを
走行することになるので、２チャンネル記録には適さな
いという問題がある。
【０００８】さらに、従来のダブルアジマス薄膜磁気ヘ
ッドでは、磁気コアの一方が２つの磁気回路で共用され
ているので、２つの磁気回路に完全に分離しておらず、
クロストークが大きいという問題がある。
ッドでは、磁気コアの一方が２つの磁気回路で共用され
ているので、２つの磁気回路に完全に分離しておらず、
クロストークが大きいという問題がある。
【０００９】一方、２つの磁気回路を全く別個に順次形
成したのでは、製造工程が２倍になり製造コストが増す
という問題がある。
成したのでは、製造工程が２倍になり製造コストが増す
という問題がある。
【００１０】本発明は、かかる問題を解決するためにな
されたもので、２チャンネル記録に適し、製造工程の少
ないダブルアジマス薄膜磁気ヘッドをうることを目的と
している。
されたもので、２チャンネル記録に適し、製造工程の少
ないダブルアジマス薄膜磁気ヘッドをうることを目的と
している。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明に係るダブルアジ
マス薄膜磁気ヘッドは、非磁性基板上に磁性薄膜が順次
形成されて磁気ギャップを有する磁気回路が２個形成さ
れており、前記２個の磁気ギャップの面が基板面と非平
行なダブルアジマス薄膜磁気ヘッドであって、前記２個
の磁気回路は、それぞれ前記磁気ギャップ面を挟んで左
右に形成された一対の磁気コアと、前記磁気ギャップの
反対側で閉磁路を形成する磁気ヨークとで構成されてお
り、かつ、前記２個の磁気ギャップはトラック幅方向に
高さ位置が異なっており、少なくとも一方の磁気回路の
磁気ヨークは、他方の磁気回路の磁気コアと同一平面に
形成されたものである。
マス薄膜磁気ヘッドは、非磁性基板上に磁性薄膜が順次
形成されて磁気ギャップを有する磁気回路が２個形成さ
れており、前記２個の磁気ギャップの面が基板面と非平
行なダブルアジマス薄膜磁気ヘッドであって、前記２個
の磁気回路は、それぞれ前記磁気ギャップ面を挟んで左
右に形成された一対の磁気コアと、前記磁気ギャップの
反対側で閉磁路を形成する磁気ヨークとで構成されてお
り、かつ、前記２個の磁気ギャップはトラック幅方向に
高さ位置が異なっており、少なくとも一方の磁気回路の
磁気ヨークは、他方の磁気回路の磁気コアと同一平面に
形成されたものである。
【００１２】また、請求項２記載の発明に係るダブルア
ジマス薄膜磁気ヘッドは、前記２個の磁気ギャップがト
ラック幅方向に高さが異なって形成されており、かつ、
前記非磁性基板に近い側に前記磁性ギャップが形成され
ている磁気回路の前記磁気ヨークが、他方の磁気回路の
前記磁気ヨークと同一平面に同一の磁気ヨーク材で形成
されたものである。
ジマス薄膜磁気ヘッドは、前記２個の磁気ギャップがト
ラック幅方向に高さが異なって形成されており、かつ、
前記非磁性基板に近い側に前記磁性ギャップが形成され
ている磁気回路の前記磁気ヨークが、他方の磁気回路の
前記磁気ヨークと同一平面に同一の磁気ヨーク材で形成
されたものである。
【００１３】また請求項３記載の発明は、前記２個の磁
気ギャップはトラック幅方向に異なった高さで形成さ
れ、かつ、２個の磁気回路の各コイルが同一平面に形成
されていることにある。
気ギャップはトラック幅方向に異なった高さで形成さ
れ、かつ、２個の磁気回路の各コイルが同一平面に形成
されていることにある。
【００１４】さらに、請求項４記載のダブルアジマス薄
膜磁気ヘッドは、前記非磁性基板に近い側に前記磁気ギ
ャップが形成されている磁気回路の磁気ヨークは接続増
厚部を介して磁気コアと接続されており、接続増厚部は
他方の磁気回路の磁気コア材で磁気コアと同一平面に形
成されたものである。
膜磁気ヘッドは、前記非磁性基板に近い側に前記磁気ギ
ャップが形成されている磁気回路の磁気ヨークは接続増
厚部を介して磁気コアと接続されており、接続増厚部は
他方の磁気回路の磁気コア材で磁気コアと同一平面に形
成されたものである。
【００１５】
【作用】上記のように構成された本発明によるダブルア
ジマス薄膜磁気ヘッドでは、磁気ギャップの高さ位置が
異なるので２チャンネル記録が可能となる。
ジマス薄膜磁気ヘッドでは、磁気ギャップの高さ位置が
異なるので２チャンネル記録が可能となる。
【００１６】また、少なくとも一方の磁気ヨークは他方
の磁気回路の磁気コアの形成時に同時形成が可能なの
で、磁気ヨークの形成を省略でき、製造工程が簡単にな
る。
の磁気回路の磁気コアの形成時に同時形成が可能なの
で、磁気ヨークの形成を省略でき、製造工程が簡単にな
る。
【００１７】さらに、非磁性基板に近い側に磁気ギャッ
プが形成されている磁気回路の磁気ヨークは、他方の磁
気回路の磁気ヨーク材で同時形成が可能であり、また磁
気回路のコイルが同一平面に形成されれば同時に形成で
き、製造工程が簡単になる。
プが形成されている磁気回路の磁気ヨークは、他方の磁
気回路の磁気ヨーク材で同時形成が可能であり、また磁
気回路のコイルが同一平面に形成されれば同時に形成で
き、製造工程が簡単になる。
【００１８】さらに、接続増厚部は、他方の磁気回路の
磁気コア材で同時形成が可能であり、製造工程が簡単に
なると共に、磁気ヨークの凹凸を少なくできる。
磁気コア材で同時形成が可能であり、製造工程が簡単に
なると共に、磁気ヨークの凹凸を少なくできる。
【００１９】
【実施例】本発明によるダブルアジマス薄膜磁気ヘッド
は、たとえば図２に示すように、チタン酸カルシウム、
結晶化ガラスなどのセラミックスなどの非磁性基板１上
にセンダスト、ＣｏＺｒＮｂまたはＣｏ系アモルファス
合金などの磁性材料で磁気ギャップ４１、４２を介して
一対の磁気コア３１、３２と３３、３４がそれぞれ形成
されると共に、磁気ギャップと反対側で前述と同様の磁
気材料で形成された磁気ヨーク６１、６２（図３参照）
で磁気回路が形成され、その回路と交差するようにＣｕ
（銅）やＡｌ（アルミニウム）などで形成された導体コ
イル５１、５２で構成されている。本発明ではこの磁気
回路を２個有し、磁気ギャップ４１、４２が基板１の面
とそれぞれ非平行なギャップ面を有するダブルアジマス
薄膜磁気ヘッドで、磁気ギャップ４１、４２が、基板１
から異なった高さに形成されると共に、両磁気回路で磁
性材料が同時に形成されるようにその配置を工夫したも
のである。
は、たとえば図２に示すように、チタン酸カルシウム、
結晶化ガラスなどのセラミックスなどの非磁性基板１上
にセンダスト、ＣｏＺｒＮｂまたはＣｏ系アモルファス
合金などの磁性材料で磁気ギャップ４１、４２を介して
一対の磁気コア３１、３２と３３、３４がそれぞれ形成
されると共に、磁気ギャップと反対側で前述と同様の磁
気材料で形成された磁気ヨーク６１、６２（図３参照）
で磁気回路が形成され、その回路と交差するようにＣｕ
（銅）やＡｌ（アルミニウム）などで形成された導体コ
イル５１、５２で構成されている。本発明ではこの磁気
回路を２個有し、磁気ギャップ４１、４２が基板１の面
とそれぞれ非平行なギャップ面を有するダブルアジマス
薄膜磁気ヘッドで、磁気ギャップ４１、４２が、基板１
から異なった高さに形成されると共に、両磁気回路で磁
性材料が同時に形成されるようにその配置を工夫したも
のである。
【００２０】すなわち、たとえば図２〜３に示すように
第１の磁気回路の一対の磁気コア３１、３２と第２の磁
気回路の磁気ヨーク６２を同一平面に形成したり、この
逆の構成にしたり、また図４〜５に示すように、第１の
磁気回路の磁気コアと同一面での第２の磁気回路では絶
縁層が形成され、第１の磁気回路に接続増厚部が形成さ
れて第２の磁気回路の磁気コアと同一面で同一材料によ
り形成され、磁気ヨークも同一面に形成できるようにし
たものである。このように接触増厚部７１、７２、７
３、７４を利用することにより、製造工数をそれほど増
やすことなく、また表面の段差をあまり生じないで磁気
ギャップに段差を形成したダブルアジマス薄膜磁気ヘッ
ドがえられる。
第１の磁気回路の一対の磁気コア３１、３２と第２の磁
気回路の磁気ヨーク６２を同一平面に形成したり、この
逆の構成にしたり、また図４〜５に示すように、第１の
磁気回路の磁気コアと同一面での第２の磁気回路では絶
縁層が形成され、第１の磁気回路に接続増厚部が形成さ
れて第２の磁気回路の磁気コアと同一面で同一材料によ
り形成され、磁気ヨークも同一面に形成できるようにし
たものである。このように接触増厚部７１、７２、７
３、７４を利用することにより、製造工数をそれほど増
やすことなく、また表面の段差をあまり生じないで磁気
ギャップに段差を形成したダブルアジマス薄膜磁気ヘッ
ドがえられる。
【００２１】［実施例１］図１は、本発明の一実施例に
よるダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの記録、再生面を示
す正面図である。同図において、３１、３２、３３、３
４は磁気コア、４１、４２は基板垂線とアジマス角
θ1、θ2を有する磁気ギャップである。２は絶縁保護層
である。
よるダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの記録、再生面を示
す正面図である。同図において、３１、３２、３３、３
４は磁気コア、４１、４２は基板垂線とアジマス角
θ1、θ2を有する磁気ギャップである。２は絶縁保護層
である。
【００２２】本実施例において、２つの磁気回路はそれ
ぞれトラック幅Ｔｗ1、Ｔｗ2を有している。磁気ギャッ
プ４１、４２はトラック幅方向に高さ位置がｄだけ異な
っており、媒体走行方向が基板面に平行方向なばあいの
２チャンネルアジマス記録が可能になっている。このば
あい、ｄはガードバンド幅になる。
ぞれトラック幅Ｔｗ1、Ｔｗ2を有している。磁気ギャッ
プ４１、４２はトラック幅方向に高さ位置がｄだけ異な
っており、媒体走行方向が基板面に平行方向なばあいの
２チャンネルアジマス記録が可能になっている。このば
あい、ｄはガードバンド幅になる。
【００２３】図２は、図１に示す実施例１の斜視図であ
る。分かりやすくするために絶縁保護層は省略してあ
る。７１、７２、７３、７４は接続増厚部で、磁気コア
と同じ材料で形成されている。上記のように構成された
ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドでは、磁気ヨーク６１は
磁気コア３１、３２の上側に位置し、他方の磁気コア３
３、３４と同一平面に形成されている。同様に、磁気ヨ
ーク６２は磁気コア３３、３４の下側に位置し、他方の
磁気コア３１、３２と同一平面に形成されている。
る。分かりやすくするために絶縁保護層は省略してあ
る。７１、７２、７３、７４は接続増厚部で、磁気コア
と同じ材料で形成されている。上記のように構成された
ダブルアジマス薄膜磁気ヘッドでは、磁気ヨーク６１は
磁気コア３１、３２の上側に位置し、他方の磁気コア３
３、３４と同一平面に形成されている。同様に、磁気ヨ
ーク６２は磁気コア３３、３４の下側に位置し、他方の
磁気コア３１、３２と同一平面に形成されている。
【００２４】図３は、図２の磁気コアと磁気ヨークの接
続部の断面図（図２のＡ−Ａ断面図）である。磁気ヨー
ク６２は磁気コア３１、３２と同一平面にあり、磁気コ
ア材で同時形成が可能である。同様に磁気ヨーク６１も
磁気コア３３、３４と同一平面にあり、磁気コア材で同
時形成が可能である。
続部の断面図（図２のＡ−Ａ断面図）である。磁気ヨー
ク６２は磁気コア３１、３２と同一平面にあり、磁気コ
ア材で同時形成が可能である。同様に磁気ヨーク６１も
磁気コア３３、３４と同一平面にあり、磁気コア材で同
時形成が可能である。
【００２５】また、薄膜コイル５１、５２も同一平面に
あり、同時形成可能である。
あり、同時形成可能である。
【００２６】［実施例２］図４は、本発明の他の実施例
によるダブルアジマス薄膜磁気ヘッドを示す斜視図であ
る。図４においても、分かりやすくするために絶縁保護
層は省略してある。７１、７２は接続増厚部、６１、６
２は磁気ヨークである。
によるダブルアジマス薄膜磁気ヘッドを示す斜視図であ
る。図４においても、分かりやすくするために絶縁保護
層は省略してある。７１、７２は接続増厚部、６１、６
２は磁気ヨークである。
【００２７】２つの磁気回路はそれぞれトラック幅Ｔｗ
1、Ｔｗ2を有している。磁気ギャップ４１、４２の高さ
位置はトラック幅方向に隣接しており、ガードバンドの
ない２チャンネルアジマス記録が可能である。
1、Ｔｗ2を有している。磁気ギャップ４１、４２の高さ
位置はトラック幅方向に隣接しており、ガードバンドの
ない２チャンネルアジマス記録が可能である。
【００２８】図５は、図４の磁気コアと磁気ヨークの接
続部の断面図（図４のＡ−Ａ断面図）である。非磁性基
板１側の磁気回路の接続増厚部７１、７２は他方の磁気
回路の磁気コア３３、３４と同一平面にあり、磁気コア
材で同時形成が可能である。
続部の断面図（図４のＡ−Ａ断面図）である。非磁性基
板１側の磁気回路の接続増厚部７１、７２は他方の磁気
回路の磁気コア３３、３４と同一平面にあり、磁気コア
材で同時形成が可能である。
【００２９】また、磁気ヨーク６１、６２は同一平面に
あり、同時形成が可能である。磁気ヨーク６１は接続増
厚部７１、７２があるため、凹凸の少ない形成が可能で
ある。また薄膜コイル５１、５２も同一平面にあり、同
時形成が可能である。
あり、同時形成が可能である。磁気ヨーク６１は接続増
厚部７１、７２があるため、凹凸の少ない形成が可能で
ある。また薄膜コイル５１、５２も同一平面にあり、同
時形成が可能である。
【００３０】また、本実施例では、第２の磁気回路の非
磁性基板側にヨーク６２を形成して、コイル５１、５２
を第２層の磁気コア３３、３４および接続増厚部７１、
７２の位置に配置することもできる。
磁性基板側にヨーク６２を形成して、コイル５１、５２
を第２層の磁気コア３３、３４および接続増厚部７１、
７２の位置に配置することもできる。
【００３１】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、磁気ギ
ャップの高さ位置が異なるので２チャンネルアジマス記
録が可能となる。
ャップの高さ位置が異なるので２チャンネルアジマス記
録が可能となる。
【００３２】また、少なくとも一方の磁気回路の磁気ヨ
ークは他方の磁気回路の磁気コアと同一平面にあり、磁
気コア材で同時形成が可能なので、製造工程が簡単にな
る効果がある。
ークは他方の磁気回路の磁気コアと同一平面にあり、磁
気コア材で同時形成が可能なので、製造工程が簡単にな
る効果がある。
【００３３】また、非磁性基板に近い側に磁気ギャップ
が形成されている磁気回路の磁気ヨークが、他方の磁気
回路の磁気ヨークと同一平面に形成されることにより、
同時形成が可能なので、磁気ヨークの形成が１回で済
み、製造工程が簡単になる効果がある。
が形成されている磁気回路の磁気ヨークが、他方の磁気
回路の磁気ヨークと同一平面に形成されることにより、
同時形成が可能なので、磁気ヨークの形成が１回で済
み、製造工程が簡単になる効果がある。
【００３４】さらに、磁気コアと磁気ヨークのあいだに
接続増厚部が形成されることにより、製造工程が簡略化
されると共に磁気ヨークの凹凸を少なくする効果があ
る。
接続増厚部が形成されることにより、製造工程が簡略化
されると共に磁気ヨークの凹凸を少なくする効果があ
る。
【００３５】また、２つの磁気回路の薄膜コイルも同一
平面に同時形成が可能なので製造工程が簡単になる効果
がある。
平面に同時形成が可能なので製造工程が簡単になる効果
がある。
【図１】本発明の実施例１による薄膜磁気ヘッドを示す
正面図である。
正面図である。
【図２】本発明の実施例１を示す斜視図である。
【図３】図２のＡ−Ａ断面を示す断面図である。
【図４】本発明の実施例２を示す斜視図である。
【図５】図４のＡ−Ａ断面を示す断面図である。
【図６】従来のダブルアジマス薄膜磁気ヘッドを示す斜
視図である。
視図である。
【図７】従来のダブルアジマス薄膜磁気ヘッドを示す正
面図である。
面図である。
【図８】図７のＡ−Ａ断面を示す断面図である。
１ 非磁性基板 ２ 絶縁保護層 ３１、３２、３３、３４ 磁気コア ４１、４２ 磁気ギャップ ５１、５２ コイル ６１、６２ 磁気ヨーク ７１、７２、７３、７４ 接続増厚部
Claims (4)
- 【請求項１】 非磁性基板上に磁性薄膜が順次形成され
て磁気ギャップを有する磁気回路が２個形成されてお
り、前記２個の磁気ギャップの面が基板面と非平行なダ
ブルアジマス薄膜磁気ヘッドであって、前記２個の磁気
回路は、それぞれ前記磁気ギャップ面を挟んで左右に形
成された一対の磁気コアと、前記磁気ギャップの反対側
で閉磁路を形成する磁気ヨークとで構成されており、か
つ、前記２個の磁気ギャップはトラック幅方向に高さ位
置が異なっており、少なくとも一方の磁気回路の磁気ヨ
ークは、他方の磁気回路の磁気コアと同一平面に形成さ
れていることを特徴とするダブルアジマス薄膜磁気ヘッ
ド。 - 【請求項２】 非磁性基板上に磁性薄膜が順次形成され
て磁気ギャップを有する磁気回路が２個形成され、前記
２個の磁気ギャップの面が基板面と非平行なダブルアジ
マス薄膜磁気ヘッドであって、前記２個の磁気回路は、
それぞれ前記磁気ギャップ面を挟んで左右に形成された
一対の磁気コアと、前記磁気ギャップの反対側で閉磁路
を形成する磁気ヨークとで構成されており、かつ、前記
磁気ギャップはトラック幅方向に高さ位置が異なってお
り、前記非磁性基板に近い側に前記磁気ギャップが形成
されている磁気回路の前記磁気ヨークは、他方の磁気回
路の前記磁気ヨークと同一平面に同一の磁気ヨーク材で
形成されていることを特徴とするダブルアジマス薄膜磁
気ヘッド。 - 【請求項３】 非磁性基板上に磁性薄膜が順次形成され
て磁気ギャップを有する磁気回路が２個形成されてお
り、前記２個の磁気ギャップの面が基板面と非平行なダ
ブルアジマス薄膜磁気ヘッドであって、前記２個の磁気
回路は、それぞれ前記磁気ギャップ面を挟んで左右に形
成された一対の磁気コアと、前記磁気ギャップの反対側
で閉磁路を形成する磁気ヨークとで構成されており、か
つ、前記２個の磁気ギャップはトラック幅方向に高さ位
置が異なっており、前記２個の磁気回路の各コイルが、
同一平面に形成されていることを特徴とするダブルアジ
マス薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項４】 非磁性基板上に磁性薄膜が順次形成され
て磁気ギャップを有する磁気回路が２個形成されてお
り、前記２個の磁気ギャップの面が基板面と非平行なダ
ブルアジマス薄膜磁気ヘッドであって、前記２個の磁気
回路は、それぞれ前記磁気ギャップ面を挟んで左右に形
成された一対の磁気コアと、前記磁気ギャップの反対側
で閉磁路を形成する磁気ヨークとで構成されており、か
つ、前記２個の磁気ギャップはトラック幅方向に高さ位
置が異なっており、前記非磁性基板に近い側に前記磁気
ギャップが形成されている磁気回路の前記磁気コアと前
記磁気ヨークのあいだに接続増厚部が設けられており、
前記接続増厚部は、他方の磁気回路の磁気コア材で磁気
コアと同一平面に形成されていることを特徴とするダブ
ルアジマス薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14263892A JPH05334627A (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | ダブルアジマス薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14263892A JPH05334627A (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | ダブルアジマス薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05334627A true JPH05334627A (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=15320008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14263892A Pending JPH05334627A (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | ダブルアジマス薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05334627A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0800160A1 (fr) * | 1996-04-04 | 1997-10-08 | Commissariat A L'energie Atomique | Procédés de réalisation d'une tête magnétique double à entrefers d'azimuts opposés |
| FR2774797A1 (fr) * | 1998-02-11 | 1999-08-13 | Commissariat Energie Atomique | Procede de realisation d'un ensemble a plusieurs tetes magnetiques et ensemble a tetes multiples obtenu par ce procede |
-
1992
- 1992-06-03 JP JP14263892A patent/JPH05334627A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0800160A1 (fr) * | 1996-04-04 | 1997-10-08 | Commissariat A L'energie Atomique | Procédés de réalisation d'une tête magnétique double à entrefers d'azimuts opposés |
| FR2747226A1 (fr) * | 1996-04-04 | 1997-10-10 | Commissariat Energie Atomique | Procedes de realisation d'une tete magnetique double a entrefers d'azimuts opposes |
| US5842269A (en) * | 1996-04-04 | 1998-12-01 | Commissariat A L'energie Atomique | Processes for producing a double magnetic head having head gaps with opposite azimuths |
| FR2774797A1 (fr) * | 1998-02-11 | 1999-08-13 | Commissariat Energie Atomique | Procede de realisation d'un ensemble a plusieurs tetes magnetiques et ensemble a tetes multiples obtenu par ce procede |
| EP0951010A1 (fr) * | 1998-02-11 | 1999-10-20 | Commissariat A L'energie Atomique | Procédé de réalisation d'un ensemble à plusieurs têtes magnétiques et ensemble à têtes multiples obtenu par ce procédé |
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