JPH0461013A - マルチトラック薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ビデオテープレコーダ（ＶＴＲ）等の磁気記
録再生装置に用いられる磁気ヘッドに関し、特に複数の
信号トラックに対する同時記録又は再生が可能なマルチ
トラック薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関するもの
である。

（従来の技術） 斯種マルチトラック薄膜磁気ヘッドは、例えば第１１図
に示す如く、磁性基板（９）上に、薄膜形成技術、フォ
トリソグラフィ等を用いて、下部磁性コア（９１）、ギ
ャップスペーサ（９２）、上部磁性コア（９３）等から
なるヘッド素子を、基板表面に沿う方向へ間隔をおいて
形成し、更にこれらのヘッド素子上に絶縁層（９４）を
介して補強板（９５）を固定したものである。

又、ＶＴＲ用の磁気ヘッドにおいては、高記録密度化を
図るべく、各信号トラック間にガートバンドを設けない
所謂アジマス記録方式が採用されており、アジマス記録
方式を採用したマルチトラック薄膜磁気ヘッドが例えば
特開平１−１１９９１１号公報［：　Ｇｌ　ＩＢ５／３
１）に提案されている。

（解決しようとする課題） しかし、上記マルチトラック薄膜磁気ヘッドにおいては
、基板上に、複数のヘッド素子を夫々所定のアジマス角
度で形成するための斜面溝を一定ピッチで凹設する機械
加工が必要であり、製造工程が複雑となるばかりでなく
、機械加工の精度によって歩留りが大きく影響される等
の問題があった。然も各ヘッド素子の薄膜コイル等を同
一面上に形成していたから、薄膜コイルの大きさによっ
てトラックピッチの狭小化に限界があった。

一方、第１２図に示す様に、磁性基板（９６）上に階段
面を加工して、各段にギャップスペーサ（９７）を介し
て上部磁性コア（９８）を形成したマルチトラック薄膜
磁気ヘッドが提案されているが（特開昭６２−３１０１
３号（Ｇ１１Ｂ５／２９）　）、該磁気ヘッドにおいて
も、階段面の加工精度には限界があるから、各磁気ギャ
ップ部の形状及び配列に十分な高い精度は得られない問
題がある。

本発明の目的は、従来よりもトラックピッチを狭小化出
来、然も各ヘッド素子の磁気ギャップ部の形状及び配列
精度を高めることが出来るマルチトラック薄膜磁気ヘッ
ド及びその製造方法を提供することである。

（課題を解決する為の手段） 本発明に係るマルチトラック薄膜磁気ヘッドにおいては
、第１図及び第３図の如く、記録媒体に対する相対移動
方向（第３図の上下方向）とは直交するトラック幅方向
（第３図の左右方向）へ伸びる複数の線上に、夫々複数
のヘッド素子（２）　（３）が配列され、同一線上に並
ぶ複数のヘッド素子（２）（２）は互いに同一のアジマ
ス角度を有すると共に、異なる線上に設置されたヘッド
素子（２）（３）は、互いに食違い位置に設置されてい
る。

又本発明に係るマルチトラック薄膜磁気ヘッドの製造方
法においては、第１工程（第４図乃至第８図参照）にて
、先ず第１の非磁性基板（４４）上へ、該基板表面とは
平行な複数段の面上に夫々複数のヘッド素子（２）を形
成する。この過程で同一面上のヘッド素子（２）は一定
ピッチで並び、且つ異なる面上のヘッド素子（２）どう
しは食違い位置となる様に形成される。その後、これら
のヘッド素子（２）を覆って第２の非磁性基板（４４）
を固定し、体のヘッドブロックを作製する。

次に第２工程（第８図及び第９図参照）では、前記ヘッ
ドブロックを、前記基板表面に対して所定のアジマス角
度θを為す斜め方向に切断し、前記食違い位置の複数の
ヘッド素子（２）（２）が含まれた平板状のヘッドアレ
イチップ（８）を作製する。

そして第３工程（第１０図参照）では、前記第１及び第
２工程を経て作製された複数のヘッドアレイチップ（８
）（８１）を夫々の切断面にて重ね合せて一体化して、
各ヘッドアレイチップ（８）（８１）のヘッド素子（２
）（３）が互いに食違い位置に設置された磁気ヘッド体
を作製する。

（作　用） 上記マルチトラック薄膜磁気ヘッドにおいては、複数の
ヘッド素子（２）　（３）が、トラック幅方向へずれて
互いに食違い位置に設置されているから、各ヘッド素子
（２）　（３）が夫々異なる信号トラックへ所定のアジ
マス角度で信号の記録又は再生を行なう。

上記マルチトラック薄膜磁気ヘッドの製造方法において
は、第１工程（第４図乃至第８図参照）にて、第１の非
磁性基板（４４）上へ複数のヘッド素子（２）を複数段
に形成する際、第１１図に示す従来のアジマス角度を有
しない薄膜磁気ヘッドと同様の薄膜形成工程を採用出来
、これらのヘッド素子（２）は基板表面とは平行な面上
に形成されるから、ヘッド素子の形状及び配列に高い精
度が得られる。

第２工程にてヘッドブロックを切断して得られたヘッド
アレイチップ（８）においては、各ヘッド素子（２）が
切断面に対して所定のアジマス角度を有することになる
。

尚、第１工程で同一線上に形成すべきヘッド素子の間隔
を拡縮して、第２工程でのへラドブロックの切断方向の
傾斜角度を変えることにより、ヘッド素子のアジマス角
度が異なる複数種類のヘッドアレイチップ（８）（８１
）を得ることが出来る。

第３工程で一体化されるべき複数のヘッドアレイチップ
（８）（８１）は、同一のアジマス角度を有するものの
みで構成することも可能であり、異なるアジマス角度を
有する複数種類から構成することも可能である。第３工
程により作製された磁気ヘッド体においては、トラック
幅方向へ伸びる複数の線上に、夫々複数のヘッド素子（
２）　（３）が配列され、同一線上に並ぶ複数のヘッド
素子（２）（２）は互いに同一のアジマス角度を有する
と共に、異なる線上に設置されたヘッド素子（２）（３
）は、互いに食違い位置に設置されることになる。

（発明の効果） 本発明に係るマルチトラック薄膜磁気ヘッドによれば、
各ヘッド素子が、記録媒体との相対移動方向へずれた複
数段の平面上に、食違い関係で形成されるから、従来よ
りも広い薄膜コイルの形成領域が確保出来、これに伴っ
て各ヘッド素子の間隔、即ちトラックピッチを狭小化出
来る。

又、本発明に係るマルチトラック薄膜磁気ヘッドの製造
方法によれば、各ヘッド素子は基板表面に対して平行な
面上に形成出来るから、従来の如き傾斜溝や階段面の加
工は不要となり、この結果、磁気ギャップ部の形状及び
配列に高い精度が得られる。

（実施例） 図面に沿って、本発明の一実施例について説明する。尚
、実施例は本発明を説明するためのものであって、特許
請求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する
様に解すべきではない。

本発明に係るマルチトラック薄膜磁気ヘッドは、第１図
乃至第３図に示す如く、第１補強板（１）上に第１及び
第２のヘッドアレイチップ（８）（８１，）を重ねて設
置し、更にその上に第２補強板（１１）を設置して構成
される。各ヘッドアレイチップ（８）（８１）は複数の
ヘッド素子（２）　（３）を具えており、これらのヘッ
ド素子の周囲には絶縁層（６）が形成され、更にその両
側には非磁性部（４）　（４１）　（４２）　（４３）
が設けられている。

各ヘッド素子（２）（３）は、第３図の如く磁気テープ
の信号トラックＴ、〜Ｔ４の夫々に対応してトラック幅
方向にずれた位置であって、且つ第１補強板（１）の表
面とは平行な上下２段の平面上に、互いに食違い関係で
配置されている。下段の平面上に並ぶ第１ヘツド素子（
２）（２）は互いに同一のアジマス角度θ、を有してい
る。又、上段の平面上に並ぶ第２ヘツド素子（３）（３
）は、互いに同一であって、且つ第１ヘツド素子（２）
のアジマス角度θｌとは異なるアジマス角度θ２を有し
ている。

第１図及び第２図の如く、第１のヘッドアレイチップ（
８）は第１補強板（１）と同じ奥行き長さに形成され、
第２のヘッドアレイチップ（８１）は第１のヘッドアレ
イチップ（８）よりも短く、更に第２補強板（１１）は
第２のヘッドアレイチップ（８１）よりも短く形成され
ている。各ヘッドアレイチップ（８）（８１）の後部の
上面には、各ヘッド素子（２）（３）の薄膜コイルに連
繋する一対の端子部、（５）（５１）が露出している。

各ヘッド素子（２）　（３）は、下部磁性層（２１）（
３１）上にギャップスペーサ（２２）　（３２）を介し
て上部磁性層（２３）（３３）を形成しており、更に細
部の構成については後述の製造方法の説明にて言及する
。

以下、上記マルチトラック薄膜磁気へ・ソドの製造方法
について説明する。

第４図に示す如く、セラミック等からなる非磁性基板（
４４）上に、断面直角三角形の斜面溝（４５）をダイソ
ングソー等により一定ピッチで凹設した後、該斜面溝（
４５）に、５ｉｎ２、Ａ１２（ｈ等の絶縁層（６１）を
スパッタリング等によって充填し、更に該充填面にダイ
ヤモンドペースト等による鏡面研磨を施す。

次に、第６図（ａ）〜（ｇ）に示す薄膜形成工程を経て
、第５図に示す如く同一平面上に並ぶ複数の第１ヘツド
素子（２）及び該ヘッド素子を覆う絶縁層（６２）を形
成する。第７図は、第１ヘツド素子を構成する薄膜コイ
ル（７）及び上部磁性層（２３）の形状を示し、第６図
の各工程図は、第７図のＡ−Ａ線に沿う断面を表わして
いる。

第６図（ａ）の如く前記非磁性基板（４４）上の絶縁層
（６１）の研磨面の端部領域に、センダスト、ＣＯ系ア
モルファス等からなる下部磁性層（２１）を形成する。

更に、該下部磁性層（２１）を覆う全面に絶縁層（６２
）を形成した後、フォトリソグラフィ等により表面を平
坦化し、同図（ｂ）の如く下部磁性層（２１）と絶縁層
（６２）の表面を同一面上に揃える。

同図（ｃ）の如く、下部磁性層（２１）及び絶縁層（６
２）の表面に、Ｃｕ、　Ａ１等からなる渦巻き状の薄膜
コイル（７）を形成する。該薄膜コイル（７）には、第
７図の如く後方へ伸びる一対のコイル端子部（７１）（
７２）が形成される。

第６図（ｄ）の如く、薄膜コイル（７）を覆って絶縁層
（６３）を形成した後、該絶縁層（６３）に対し、フロ
ントギャップ部Ｇ１及びバックギャップ部Ｇ２となる箇
所にスルーホール加工を施す。

更に同図（ｅ）の如く、フロントギャップ部Ｇ。

にギャップスペーサ（２２）を形成した後、該ギャップ
スペーサ（２２）及びパックギャップ部Ｇ２の絶縁層（
６３）を覆って上部磁性層（２３）を形成する。

次に同図（ｆ）に示す如く、上部磁性層（２３）及びコ
イル端子部（７１）の全面を覆って絶縁層（６４）を形
成し、その表面を平坦化する。その後、該絶縁層（６４
）に対し、図中の破線で示す如くコイル端子部（７１）
（７２）を露出せしめるスルーホール加工（６０）を施
す。

そして最後に、同図（ｇ）の如く前記スルーホール部に
、スパッタリング、蒸着、鍍金等の方法によって、導体
層（５２）を充填形成する。これによってコイル端子部
（７１）（７２）上に導体層（５２）が直接に形成され
る。

この結果、第５図に示す如く非磁性基板（４４）上の第
１ヘツド素子（２）及び絶縁層（６２）が形成される。

第８図に示す如く、前記絶縁層（６２）の上層に、同様
の薄膜形成工程を経て、複数の第１ヘツド素子（２）を
一定ピッチで形成する。上層の第１ヘツド素子（２）は
、下層の第１ヘツド素子（２）とは所定のアジマス角度
θに応じた食違い位置に形成され、更にその上に、第４
図に示す非磁性基板（４４）をガラス接合等によって固
定し、一体のへ・ソドブロ・ツタを作製する。

次に該ヘッドブロックを第８図中の破線に沿って切断し
、前記食違い位置の複数のへ・ソド素子（２）（２）が
含まれた板体を作製する。そして、該板体の両端を切り
落として、第１０図に示す如く、両端部に非磁性部（４
）（４１）を具えたヘッドアレイチップ（８）を得る。

上記へラドブロクの切断工程で、各ヘッド素子（２）の
後端部に重ねて形成された一対の導体層（５２）（５３
）は、第９図の破線に沿って切断されることになり、導
体層（５２）（５３）の切断面が露出する。これらの導
体層（５２）（５３）の切断面が、第２図に示す一対の
端子部（５）（５１）となるのである。尚、第９図は第
７図のＢ−Ｂ線に沿う断面を示している。

上記同様の工程を経て、第１０図の如く前記ヘッドアレ
イチップ（８）とはアジマス角度の異なる複数のヘッド
素子（３）を具えると共に、両側部に非磁性部（４２）
　（４３）を具えた第２のヘッドアレイチップ（８１）
を作製する。即ち、第８図に示すヘッドブロックの第１
ヘツド素子（２）間のピッチを拡縮して、切断方向の角
度θを変えることにより、第１０図の如く切断面に対す
る第２ヘツド素子（３）の傾き角度、即ちアジマス角度
に変化を与えることが出来る。

この様にして作製された複数のヘッドアレイチップ（８
）（８１）を積層し、更に該積層体の上下に第１及び第
２補強板（１）（１１）を設置して、これらをガラス接
合等によって一体化する。

これによって得られた磁気ヘッド体に、必要な加工を施
すことにより、第１図乃至第３図のマルチトラック薄膜
磁気ヘッドが完成する。

上記実施例の説明は、本発明を説明するためのものであ
って、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲
を減縮する様に解すべきではない。

又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である
ことは勿論である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るマルチトラック薄膜磁気ヘッドの
斜視図、第２図は該磁気ヘッドの平面図、第３図は該磁
気ヘッドの正面図、第４図乃至第１０図は本発明に係る
マルチトラック薄膜磁気ヘッドの製造工程を示し、第４
図及び第５図は非磁性基板上にヘッド素子を形成する工
程図、第６図（ａ）乃至（ｇ）は薄膜形成工程図、第７
図は上部磁性層及び薄膜コイルのパターンを示す平面図
、第８図及び第９図は夫々ヘッドブロックの切断工程を
説明する正面図及び断面図、第１０図は磁気ヘッド体を
得るための接合工程を示す正面図、第１１図及び第１２
図は夫々従来のマルチトラック薄膜磁気ヘッドの構造を
示す正面図である。 （１０１１）・・・補強板 （２）（３）・・・ヘッド素子 （２１）　（３１）・・・下部磁性層 （２２）　（３２）・・・ギャップスペーサ（２３）　
（３３）・・・上部磁性層 （８）　（８１）・・・ヘッドアレイチップ（５）　（
５１）・・・端子部 （Ｃ） （ｄ） ご 第７図 第８図 （ｅ） （千） 第６図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ［１］下部磁性層（２１）と上部磁性層（２３）の間に
   ギャップスペーサ（２２）を介装してなる複数のヘッド
   素子（２）（３）が、記録媒体に対する相対移動方向と
   は直交するトラック幅方向の間隔をおいて配備されたマ
   ルチトラック薄膜磁気ヘッドにおいて、前記複数のヘッ
   ド素子（２）（３）は、前記トラック幅方向へ伸びる複
   数の線上へ複数段に配列され、同一線上に並ぶ複数のヘ
   ッド素子（２）（２）は互いに同一のアジマス角度を有
   すると共に、異なる線上に設置されたヘッド素子（２）
   （３）は、互いに食違い位置に設置されていることを特
   徴とするマルチトラック薄膜磁気ヘッド。 ［２］下部磁性層（２１）と上部磁性層（２３）の間に
   ギャップスペーサ（２２）を介装してなる複数のヘッド
   素子（２）（３）が、記録媒体に対する相対移動方向と
   は直交するトラック幅方向の間隔をおいて配備されたマ
   ルチトラック薄膜磁気ヘッドの製造方法において、 第１の非磁性基板（４４）上へ、該基板表面とは平行な
   複数段の面上に夫々複数のヘッド素子（２）を形成し、
   この過程で同一面上のヘッド素子（２）は一定ピッチで
   並び、且つ異なる面上のヘッド素子（２）どうしは食違
   い位置となる様に形成され、その後、これらのヘッド素
   子（２）を覆って第２の非磁性基板（４４）を固定し、
   一体のヘッドブロックを作製する第１工程と、 前記ヘッドブロックを、前記基板表面に対して所定のア
   ジマス角度を為す斜め方向に切断し、前記食違い位置の
   複数のヘッド素子（２）（２）が含まれた平板状のヘッ
   ドアレイチップ（８）を作製する第２工程と、 前記第１及び第２工程を経て作製された複数のヘッドア
   レイチップ（８）（８１）を夫々の切断面にて重ね合せ
   て一体化して、各ヘッドアレイチップ（８）（８１）の
   ヘッド素子（２）（３）が互いに食違い位置に設置され
   た磁気ヘッド体を作製する第３工程 とを具えていることを特徴とするマルチトラック薄膜磁
   気ヘッドの製造方法。