JP2776002B2

JP2776002B2 - 多チャンネル磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JP2776002B2
Application number: JP2167679A
Authority: JP
Inventors: 英樹奥村; 晶弘芦田
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1990-06-26
Filing date: 1990-06-26
Publication date: 1998-07-16
Anticipated expiration: 2013-07-16
Also published as: JPH0460909A

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、VTRなどの磁気記録再生装置における高密
度、高転送レート、多チャンネル記録に使用される複数
チャンネル磁気ヘッドの製造方法に関する。

従来の技術近年、VTRなどの磁気記録再生装置においては、高密
度記録化が要求され、それに伴い磁気ヘッドも狭トラッ
ク化、狭ギャップ化したものが要求されている。また、
記録方式も狭トラック化に対応するためアジマス記録と
いう手法で隣接トラック間のクロストークを軽減してい
る。

従来の家庭用および業務放送用VTRにおいては、特殊
再生機能（スロー、スチル、高速サーチ等）やYC分離記
録等の使途が実用化されており、複数個の記録再生ヘッ
ドが必要となってきている。

以下、従来の単一ヘッドベースの先端に２個のヘッド
チップを固定した磁気ヘッドについて第５図を用いて説
明する。

第５図（ａ）はヘッドベースを含めた全体の平面図で
あり、第５図（ｂ）はヘッド摺動面から見た正面図を表
す。

第５図（ａ）では、ヘッドチップ23、24を個別に作製
し、スリット９が設けてあるヘッドベース８に接着して
いる。

第５図（ｂ）において、10はヘッドギャップ、11はフ
ェライトから成るヘッドコア、14はモールドガラス、Ｔ
W1はヘッドチップ23のトラック幅、ＴW2はヘッドチップ
24のトラック幅である。

また、第５図（ｂ）で、ギャップ間距離Ｘを調整装置
にて所定寸法に規制し、ヘッドチップ23、24をそれぞれ
接着し、ヘッドベース８をシリンダに取り付ける面Syか
らのトラック位置H1、H2を最終的に調整するにあたって
は、スリット９の左右でヘッドベース８を弾性変形させ
て調整している。さらに、ヘッドチップ23、24はそれぞ
れアジマスθ１、θ２をもち、θ１とθ２は正負逆のア
ジマスであるために一般にダブルアジマスヘッドと呼ば
れている。その一例として特開昭60−83212号公報など
がある。

発明が解決しようとする課題しかしながら、今後さらに情報量が多くなった場合に
は、さらに複数の磁気ヘッドを用いて、同時に記録再生
を行うことにより全体としての転送レートを上げて行く
ことが不可欠であり、従来の技術の延長で、ヘッドチッ
プを１つ１つ個別にベースに接着し、複数のヘッドにつ
いてギャップ間距離Ｘやトラック位置H1＋Tw/2、H2＋Tw
/2を調整していくことは非常に困難であるという課題を
有していた。

本発明は、高速転送レート、マルチチャンネルに対応
するための多チャンネル磁気ヘッドを精度良く、容易に
製造できる方法の提供を目的とする。

課題を解決するための手段上記の目的を達成するために、本発明では、基準を定
めて一つの磁性体ブロックからヘッド加工を行うこと
で、プラスアジマスとマイナスアジマスとでそれぞれ一
体の複数チャンネルヘッドを作製し、スリットの設けて
ある一つのヘッドベースの先端にそれぞれの複数チャン
ネル磁気ヘッドを固定し、一体型２アジマス多チャンネ
ル磁気ヘッドを作製する。

使用するヘッドチップはバルクタイプ、MIGタイプ、
積層タイプのいずれかとする。

そこで本発明における多チャンネル磁気ヘッドの製造
方法は、バルクタイプ、MIGタイプ、積層タイプのいず
れかのギャップドバーをヘッドチップとした時、そのト
ラック位置がトラック幅方向に任意の寸法ずれるように
二体以上を並列に接合し、それをスライスしてヘッドチ
ップとし、そのヘッドチップをヘッドベースの先端に固
定する作用本発明は上記した構成によって、一つのヘッドベース
の先端に二つ以上のプラスアジマスヘッドチップ群と二
つ以上のマイナスアジマスヘッドチップ群が固定され、
プラスアジマスとマイナスアジマスで同一トラックピッ
チの多チャンネル磁気ヘッドとなり、ヘッドチップはバ
ルクタイプ、MIGタイプ、積層タイプのいずれでも実現
できる。

また、本発明の多チャンネル磁気ヘッドの製造方法は
ヘッドチップ群の加工精度と、そのヘッドチップ群のヘ
ッドベース先端への固定精度を向上する。

実施例以下、本発明の多チャンネル磁気ヘッドとその製造方
法の一実施例について図面を参照しながら説明する。

第１図（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は本発明の多
チャンネル磁気ヘッドの一例を示したものである。

第１図（ａ）は一部にスリット９が設けてあるヘッド
ベース８の先端にヘッドチップ１、２、３、４が搭載さ
れている４チャンネル磁気ヘッドの平面図であり、５は
巻線用のＣコア側の窓で、６は巻線用のＩコア側の窓、
７は巻線を示している。

第１図（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は本発明による磁気ヘ
ッドの各例をヘッド摺動面から見た正面図である。

第１図（ｂ）において１、２、３、４はフェライト、
センダストなどの軟磁性ブロック11からなるヘッドチッ
プで、14はモールドガラス、10はヘッドギャップ、16は
二つのヘッドチップの接着層であり、Twはトラック幅を
示している。

ここで、ヘッドベース８のスリット９を境に左右でプ
ラスアジマスθ１、マイナスアジマスθ２（＝−θ１）
としている。また、ヘッドベース８をシリンダに取り付
けるときの基準面Syからのトラック位置をH1＋Tw/2、H2
＋Tw/2、H3＋Tw/2、H4＋Tw/2と任意の寸法でずらしてい
る。

第１図（ｃ）は、第１図（ｂ）中のフェライト11のギ
ャップ10近傍に高飽和磁束密度の軟磁性薄膜12を配した
いわゆるMIG（Metal−in−gap）タイプのヘッドチップ
で構成されている多チャンネル磁気ヘッドの一例であ
る。

第１図（ｄ）は、非磁性の基板15で主コアとなる軟磁
性薄膜13を挟持し、軟磁性薄膜13の中に絶縁層19を配し
た積層コアから成る積層タイプの複数チャンネル磁気ヘ
ッドの一例であり、20は非磁性の基板15と軟磁性薄膜13
と絶縁層19からなる主コアを接合する接着層である。

次に第２図により本発明の多チャンネル磁気ヘッドの
製造方法の一実施例について説明する。

第２図（ａ）〜（ｉ）は、その製造工程を順次示して
いる。

第２図（ａ）は、フェライトからなる一体の大きな軟
磁性体ブロックa1のヘッド摺動面となる面に同一ピッチ
で直線の溝17をエッチング法で形成したところを示して
いる。

第２図（ｂ）は、その大きな磁性体ブロックa1を直線
の溝17に対して垂直方向に切断しコア半体b11、b12、b2
1、b22、b31、b32、b41、b42をそれぞれ形成し、b11、b
21、b31、b41をＣコア半体とし、b12、b22、b32、b42を
Ｉコア半体とする。これにより４チャンネルのヘッドが
でき、ヘッド摺動面となる面の直線の溝17は４チャンネ
ル全てのヘッドでの基準線となっている。

第２図（ｃ）は、Ｃコア半体b11にはギャップ面Sgに
巻線用のＣ窓溝５を、Ｉコア半体b12にはギャップ面Sg
と反対の面に巻線用のＩ窓溝６を施したところを示して
いる。

第２図（ｄ）は、前記ヘッド摺動面となる面に施して
ある直線の溝17を基準に、Ｃコア半体b11のギャップ面
とＩコア半体b12のギャップ面とにそれぞれ同一ピッチ
でトラック幅Twを規制する溝18をエッチング法で形成し
たところである。

第２図（ｅ）は、Ｃコア半体b11とＩコア半体b12とを
ガラスとSiO₂から成る空隙材を介してヘッドギャップ10
を形成し、トラック幅規制の溝18にモールド用のガラス
14を流し込みギャップドバーg1を得たところである。

Ｃコア半体b21とＩコア半体b22からギャップドバーg2
を、Ｃコア半体b31とＩコア本体b32からギャップドバー
g3を、Ｃコア半体b41とＩコア半体b42からギャップドバ
ーg4をそれぞれ形成する工程についても、第２図（ｃ）
（ｄ）（ｅ）までと同様である。

第２図（ｆ）は、ギャップドバーg1とg2を、ギャップ
ドバーg3とg4をそれぞれ接着層16を介して接合したとこ
ろを示している。この接着層16は、本実施例では、低融
点ガラスを使用したが、この接着層は樹脂でもよく、さ
らにクロストークを低減させるために非磁性の金属を挟
むことも可能である。

この第２図（ｆ）の工程で、第２図（ｇ）のようにg1
とg2のトラックピッチｐをｐ＋＝2Tw＋Ltanθ１だけず
らして接合を行う。Ｌはg1とg2のギャップ間距離であ
り、本実施例では1.2mmとした。そして、第２図（ｇ）
の一点鎖線のように接合されたギャップドバーg1とg2と
をアジマスθ１をつけてスライスする。

また、ギャップドバーg3とg4もトラックピッチｐ−＝
2Tw＋Ltanθ２とし、θ１と逆アジマスのθ２（＝−θ
１）の角度をつけて同様にスライスを行う。

第２図（ｈ）は、ヘッドベース８に、プラスアジマス
で一体となっているヘッドチップ１、２とマイナスアジ
マスで一体となっているヘッドチップ３、４とを接着
し、４チャンネル２アジマス任意トラックピッチからな
る磁気ヘッドを形成している。第２図（ｉ）のように摺
動面にＲ研磨を行い巻線７を施して回転シリンダに搭載
する。また、ヘッドベース８のスリット９の左のヘッド
チップ（１、２）と右のヘッドチップ（３、４）との相
対的なトラック位置の調整は、ヘッドベースの弾性変形
で最終的に行うことができる。

次に第３図を参照しながら本発明の多チャンネル磁気
ヘッドの製造方法の他の実施例について説明する。

第３図では、第２図で説明した製造方法の第２図
（ａ）〜（ｄ）までは同様の工程であるが、トラック幅
規制を施した後のギャップ面Sgに、高飽和磁束密度の軟
磁性薄膜12をスパッタリング法で第三図（ａ）のように
所定の厚さ形成する。本実施例では、この薄膜12にFe−
Al−Si合金薄膜を使用した。この薄膜12は、Fe、Co、Ni
の少なくとも一つの元素を含む軟磁性材料であればよ
い。

次に第２図（ｅ）〜（ｉ）までと同様な工程を経て、
最終的には、第３図（ｂ）のようなMIGタイプのヘッド
チップを搭載した多チャンネル磁気ヘッドを得た。

次に積層タイプのヘッドチップを搭載した多チャンネ
ル磁気ヘッドの製造方法について図面を参照しながら説
明する。

第４図（ａ）〜（ｈ）は、その製造工程を順次示して
いる。

第４図（ａ）は、非磁性の基板15上にスパッタリング
法で軟磁性薄膜13と絶縁層19とを交互に形成して主コア
となる積層磁性膜を形成しA₁基板とする。また、同様に
A₂、A₃、・・・と積層磁性膜を形成した基板を複数枚作
製する。ここで、20はガラスなどの接着層で、21は積層
された主コアである。

第４図（ｂ）は、積層磁性層の面ともう一方の非磁性
の基板の面とを接着層20を用いて接着し一体の多層ブロ
ックＡを形成したところである。

ここで、22は軟磁性薄膜13と絶縁層19と接着層20とを
表わしている。

第４図（ｃ）は、一体の多層ブロックを積層磁性膜に
対して垂直方向に切断したところであり、コア半体B1
1、B12、B21、B22、B31、B32、B41、B42をそれぞれ形成
し、B11、B21、B31、B41をＣコア半体とし、B12、B22、
B32、b42をＩコア半体とする。すなわち４チャンネルの
ヘッドができ、積層磁性膜の厚さは４チャンネル全ての
ヘッドでのトラック幅に相当する。

第４図（ｄ）は、Ｃコア半体B11にはギャップ面Sgに
巻線用のＣ窓溝５を、Ｉコア半体B12にはギャップ面Sg
と反対の面に巻線用のＩ窓溝６を施したところを示して
いる。

第４図（ｅ）は、Ｃコア半体B11とＩコア半体B12とを
ガラスとSiO₂から成る空隙材を介してヘッドギャップ10
を形成し、巻線窓に接着用のガラス14を流し込みギャッ
プドバーg1を得たところである。

Ｃコア半体B21とＩコア半体B22からギャップドバーg2
を、Ｃコア半体B31とＩコア半体B32からギャップドバー
g3を、Ｃコア半体B41とＩコア半体B42からギャップドバ
ーg4をそれぞれ形成する工程についても、第４図（ｄ）
（ｅ）と同様である。

第４図（ｆ）は、ギャップドバーg1とg2を、ギャップ
ドバーg3とg4をそれぞれ接着層16を介して接合したとこ
ろである。この接着層16は、本実施例では、低融点ガラ
スを使用したが、この接着層は樹脂でもよく、さらに、
クロストークを低減させるために非磁性の金属を挟むこ
とも可能である。

次に、第４図（ｇ）のようにg1とg2のトラックピッチ
ｐをｐ＋＝2Tw＋Ltanθ１だけずらして接合を行う。Ｌ
はg1とg2のギャップ間距離であり、本実施例では1.2mm
とした。そして、第４図（ｇ）の一点鎖線のように接合
されたギャップドバーg1とg2とをアジマスθ１をつけて
スライスする。

第４図（ｈ）は、ヘッドベース８に、プラスアジマス
で一体となっているヘッドチップ１、２とマイナスアジ
マスで一体となっているヘッドチップ３、４とを接着
し、４チャンネル２アジマス任意トラックピッチなる磁
気ヘッドを形成したこところを示している。なお、それ
ぞれのヘッドチップは、非磁性の基板15で主コアとなる
軟磁性薄膜を挟持した積層タイプのヘッドであり、第４
図（ｈ）の22は軟磁性薄膜と絶縁層と接着層を合わせた
積層コアを表わしており、15は非磁性基板、10はヘッド
ギャップである。

発明の効果以上のように本発明の多チャンネル磁気ヘッドの製造
方法によれば、一つのヘッドベースの先端に多チャンネ
ルの磁気ヘッドを搭載する構成としているので、多チャ
ンネル記録および高転送ルート化に優れた磁気ヘッドと
なる。

また、本発明の多チャンネル磁気ヘッドの製造方法に
よれば、一つのブロックから同一アジマスの多チャンネ
ルヘッドチップを加工するのでプラスアジマスとマイナ
スアジマスとでトラックピッチの精度に優れ、ヘッドベ
ースのスリットの弾性変形で左右のトラック位置を微調
整するので取り付け精度の良い製造方法が提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）は本発明の多チャンネル磁気ヘッドの側面
図、第１図（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は本発明による磁気
ヘッドの各例をヘッド摺動面から見た正面図、第２図
（ａ）〜（ｉ）はバルクタイプのヘッドチップを搭載し
た本発明の多チャンネル磁気ヘッドの製造工程図、第３
図（ａ）、（ｂ）はMIGタイプのヘッドチップを搭載し
た本発明の多チャンネル磁気ヘッドの製造工程図、第４
図（ａ）〜（ｈ）は積層タイプのヘッドチップを搭載し
た本発明の多チャンネル磁気ヘッドの製造工程図、第５
図（ａ）、（ｂ）はそれぞれ従来の磁気ヘッドの平面図
およびヘッド摺同動面から見た正面図である。 1,2,3,4……ヘッドチップ、８……ヘッドベース、９…
…スリット、Tw……トラック幅、θ1,θ２……アジマス
角、Sy……ベース基準面。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 5/265 - 5/29 G11B 5/31

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】磁性体ブロックのヘッド摺動面に同一ピッ
チで溝を形成する工程と、前記磁性体ブロックを前記摺
動面の溝に対して垂直方向に切断し、少なくとも二対以
上のＣコア半体とＩコア半体とを形成する工程と、Ｃコ
ア半体にはギャップ面にＩコア半体にはギャップ面と反
対の面にそれぞれ巻線用の溝を形成する工程と、Ｃコア
半体とＩコア半体とのギャップ面にそれぞれ同一ピッチ
でトラック幅規制を施す工程と、ギャップ面に非磁性材
を介してＣコア半体とＩコア半体とを接合しギャップド
バーを形成する工程と、前記摺動面の溝を基準としてト
ラック位置がトラック幅方向に任意の寸法ずれるように
二体以上のギャップドバーを並列に接合する工程と、そ
の二体以上のギャップドバーを切断しバルクタイプのヘ
ッドチップを形成する工程と、そのヘッドチップを前記
ヘッドベースに固定する工程からなる多チャンネル磁気
ヘッドの製造方法。
【請求項２】磁性体ブロックのヘッド摺動面に同一ピッ
チで溝を形成する工程と、前記磁性体ブロックを前記摺
動面の溝に対して垂直方向に切断し、少なくとも二対以
上のＣコア半体とＩコア半体とを形成する工程と、Ｃコ
ア半体にはギャップ面に、Ｉコア半体にはギャップ面と
反対の面にそれぞれ巻線用の溝を形成する工程と、Ｃコ
ア半体とＩコア半体とのギャップ面にそれぞれ同一ピッ
チでトラック幅規制を施す工程と、ギャップ面上に軟磁
性薄膜を形成する工程と、その軟磁性薄膜上に非磁性薄
膜を形成する工程と、その非磁性薄膜を介してＣコア半
体とＩコア半体とを接合しギャップドバーを形成する工
程と、前記摺動面の溝を基準としてトラック位置がトラ
ック幅方向に任意の寸法ずれるように二体以上のギャッ
プドバーを並列に接合する工程と、その二体以上のギャ
ップドバーを切断しMIGタイプのヘッドチップを形成す
る工程と、そのヘッドチップを前記ヘッドベースに固定
する工程からなる多チャンネル磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】非磁性の基板上に軟磁性薄膜と絶縁層を交
互に配し主コアとなる積層磁性膜を形成する工程と、そ
の積層磁性膜の面ともう一方の非磁性の基板の面とを接
着し一体の多層ブロックを形成する工程と、その多層ブ
ロックを前記積層磁性膜に対して垂直方向に切断し少な
くとも二対以上のＣコアとＩコア半体とを形成する工程
と、Ｃコア半体にはギャップ面にＩコア半体にはギャッ
プ面と反対の面にそれぞれ巻線用の溝を形成する工程
と、ギャップ面に非磁性材料を介してＣコア半体とＩコ
ア半体とを接合しギャップドバーを形成する工程と、ヘ
ッド摺動面の積層磁性膜を基準としてトラック位置がト
ラック幅方向に任意の寸法ずれるように二体以上のギャ
ップドバーを並列に接合する工程と、その二体以上のギ
ャップドバーを切断し積層タイプのヘッドチップを形成
する工程と、そのヘッドチップを前記ヘッドベースに固
定する工程からなる多チャンネル磁気ヘッドの製造方
法。