JPS6342327B2 - - Google Patents
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- JPS6342327B2 JPS6342327B2 JP55142780A JP14278080A JPS6342327B2 JP S6342327 B2 JPS6342327 B2 JP S6342327B2 JP 55142780 A JP55142780 A JP 55142780A JP 14278080 A JP14278080 A JP 14278080A JP S6342327 B2 JPS6342327 B2 JP S6342327B2
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- track width
- magnetic
- ferromagnetic
- ferromagnetic layer
- Prior art date
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- Expired
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、トラツク幅が非常に狭い略リング状
磁気回路を有する磁気ヘツドを容易に製作できる
ような方法に関するものである。
磁気回路を有する磁気ヘツドを容易に製作できる
ような方法に関するものである。
大量の情報を記録し、かつ再生できる最も一般
的な技術は、磁気ヘツドを用いた磁気記録技術で
ある。例えばビデオテープレコーダや各種デジタ
ル記録装置などがある。これらの技術分野におい
ては、情報の記録密度を向上させるべく常に努力
が払われている。そのためには、トラツク密度
（単位幅当りのトラツク数）を高めることが肝要
であり、できるだけ狭トラツク幅の磁気ヘツドを
量産できるような方法を開発することが望まれて
いる。
的な技術は、磁気ヘツドを用いた磁気記録技術で
ある。例えばビデオテープレコーダや各種デジタ
ル記録装置などがある。これらの技術分野におい
ては、情報の記録密度を向上させるべく常に努力
が払われている。そのためには、トラツク密度
（単位幅当りのトラツク数）を高めることが肝要
であり、できるだけ狭トラツク幅の磁気ヘツドを
量産できるような方法を開発することが望まれて
いる。
従来、狭トラツク磁気ヘツドとしては、第１図
Ａに示すような薄板状ヘツドと、同図Ｂに示すよ
うなトラツク幅調整ヘツドがある。前者は、通常
の磁気ヘツドをそのまま薄形化したようなもの
で、ギヤツプ部１その他の部分の厚みは一定で、
その厚みがトラツク幅Twであるから、機械的強
度の関係から、100μｍ以下とすることは困難で
ある。これに対し後者は、ギヤツプ部１に溝入れ
加工し、そこに非磁性体２を充填することによつ
てトラツク幅Twを決定するもので、前者よりも
狭トラツク化しうるが、トラツク幅の精度は溝入
れピツチ及び加工変質層によつて決まり、トラツ
ク幅30μｍ以下で精度より作ることは困難であ
る。
Ａに示すような薄板状ヘツドと、同図Ｂに示すよ
うなトラツク幅調整ヘツドがある。前者は、通常
の磁気ヘツドをそのまま薄形化したようなもの
で、ギヤツプ部１その他の部分の厚みは一定で、
その厚みがトラツク幅Twであるから、機械的強
度の関係から、100μｍ以下とすることは困難で
ある。これに対し後者は、ギヤツプ部１に溝入れ
加工し、そこに非磁性体２を充填することによつ
てトラツク幅Twを決定するもので、前者よりも
狭トラツク化しうるが、トラツク幅の精度は溝入
れピツチ及び加工変質層によつて決まり、トラツ
ク幅30μｍ以下で精度より作ることは困難であ
る。
本発明の目的は、このような従来技術の欠点を
解消し、従来品よりもはるかに狭トラツク幅の磁
気ヘツドを容易に量産しうるような方法を提供す
ることにある。
解消し、従来品よりもはるかに狭トラツク幅の磁
気ヘツドを容易に量産しうるような方法を提供す
ることにある。
以下、図面に基づき本発明について詳述する。
第２図は本発明の一実施例を製造工程の順に示し
たものである。まず、同図Ａに示すようにサブス
トレート１０を用意する。サブストレート１０
は、強磁性材１１（例えばフエライト）の一角を
非磁性材１２（例えばチタン酸バリウムやチタン
酸カルシウムのようなセラミツクやガラスなど）
とし、両者を接合一体化して表面を鏡面仕上げし
たものである。このようなサブストレート１０の
表面にトラツク幅に相当する厚さの強磁性層１３
を形成する（同図Ｂ参照）。この強磁性層１３の
形成法としては、スパツタリングや蒸着でもよい
し、磁性箔を接着する方法でもよい。材質的に
は、センダスト、アモルフアス磁性材、パーマロ
イ、フエライトなどが用いられる。
第２図は本発明の一実施例を製造工程の順に示し
たものである。まず、同図Ａに示すようにサブス
トレート１０を用意する。サブストレート１０
は、強磁性材１１（例えばフエライト）の一角を
非磁性材１２（例えばチタン酸バリウムやチタン
酸カルシウムのようなセラミツクやガラスなど）
とし、両者を接合一体化して表面を鏡面仕上げし
たものである。このようなサブストレート１０の
表面にトラツク幅に相当する厚さの強磁性層１３
を形成する（同図Ｂ参照）。この強磁性層１３の
形成法としては、スパツタリングや蒸着でもよい
し、磁性箔を接着する方法でもよい。材質的に
は、センダスト、アモルフアス磁性材、パーマロ
イ、フエライトなどが用いられる。
次に、同図Ｃに示すように、このような強磁性
層１３の付いたサブストレート１０を複数個積層
一体化した後、サブストレート１０の磁性材１１
と非磁性材１２との境界ａに沿つて、仮想線で示
されている如く、厚さ方向に溝入れ加工を行う。
こうして得られたバー状物１５を２個用意し、そ
れら各々の強磁性層１３の端部が対向するようギ
ヤツプ形成材１６を介して衝合一体化する（同図
Ｄ，Ｅ参照）。ギヤツプ形成材１６としては、チ
タン箔や二酸化珪素またはガラス等のスパツタ膜
等が用いられる。同図Ｅで示されているように一
体化されたヘツドブロツクは、仮想線で示されて
いるように、前記サブストレート１０の中間部で
それぞれ切断することにより、同図Ｆで示すよう
な磁気ヘツド１７が得られる。
層１３の付いたサブストレート１０を複数個積層
一体化した後、サブストレート１０の磁性材１１
と非磁性材１２との境界ａに沿つて、仮想線で示
されている如く、厚さ方向に溝入れ加工を行う。
こうして得られたバー状物１５を２個用意し、そ
れら各々の強磁性層１３の端部が対向するようギ
ヤツプ形成材１６を介して衝合一体化する（同図
Ｄ，Ｅ参照）。ギヤツプ形成材１６としては、チ
タン箔や二酸化珪素またはガラス等のスパツタ膜
等が用いられる。同図Ｅで示されているように一
体化されたヘツドブロツクは、仮想線で示されて
いるように、前記サブストレート１０の中間部で
それぞれ切断することにより、同図Ｆで示すよう
な磁気ヘツド１７が得られる。
磁気ヘツド前面からみた同図Ｇからも明らかな
ように、強磁性層１３の厚みそのものがトラツク
幅であるため、極狭のトラツク幅を実現できる
し、またトラツク幅の寸法精度もだし易い。ま
た、強磁性層１３は、サブストレート上に設けら
れているから、機械的強度は十分であり、取扱い
も容易である。サブストレート１０と強磁性層１
３とは別の材料を用いる事が可能なため、それぞ
れ最適材質（例えばサブストレートをHighμ材、
強磁性層をHighB材といつたように）を選択使
用することができる。更には、ラミネート構造で
製作するため、強磁性層同志の位置合わせも容易
だし、加工精度もだし易い。ギヤツプ部近傍以外
は、強磁性層１３は強磁性材１１でサンドイツチ
された構造だから、トラツク幅が狭くても磁気抵
抗は小さくできる。
ように、強磁性層１３の厚みそのものがトラツク
幅であるため、極狭のトラツク幅を実現できる
し、またトラツク幅の寸法精度もだし易い。ま
た、強磁性層１３は、サブストレート上に設けら
れているから、機械的強度は十分であり、取扱い
も容易である。サブストレート１０と強磁性層１
３とは別の材料を用いる事が可能なため、それぞ
れ最適材質（例えばサブストレートをHighμ材、
強磁性層をHighB材といつたように）を選択使
用することができる。更には、ラミネート構造で
製作するため、強磁性層同志の位置合わせも容易
だし、加工精度もだし易い。ギヤツプ部近傍以外
は、強磁性層１３は強磁性材１１でサンドイツチ
された構造だから、トラツク幅が狭くても磁気抵
抗は小さくできる。
第３図は本発明の他の実施例を示すものであ
る。基本的には第２図のものと同じであるから、
各部材の材質や形成法については、重復を避ける
ため記載を昇略する。まず、同図Ｑに示すような
サブストレート２０を用意する。サブストレート
２０は、強磁性材２１の一部を非磁性材２２で置
換した構造のものである。このようなサブストレ
ート２０は、例えば同図Ｐに示すように、強磁性
材ブロツク３０の一面にＶ型溝３１を形成し、そ
の溝３１に三角柱状の非磁性体ブロツク３２を接
着剤を用いて埋設一体化し、その後、仮想線で示
されているように切断すれば容易に得ることがで
きる。このようなサブストレート２０の表面にト
ラツク幅に相当する厚さの強磁性層２３を形成す
る（同図Ｒ参照）。
る。基本的には第２図のものと同じであるから、
各部材の材質や形成法については、重復を避ける
ため記載を昇略する。まず、同図Ｑに示すような
サブストレート２０を用意する。サブストレート
２０は、強磁性材２１の一部を非磁性材２２で置
換した構造のものである。このようなサブストレ
ート２０は、例えば同図Ｐに示すように、強磁性
材ブロツク３０の一面にＶ型溝３１を形成し、そ
の溝３１に三角柱状の非磁性体ブロツク３２を接
着剤を用いて埋設一体化し、その後、仮想線で示
されているように切断すれば容易に得ることがで
きる。このようなサブストレート２０の表面にト
ラツク幅に相当する厚さの強磁性層２３を形成す
る（同図Ｒ参照）。
次に、同図Ｓに示すように、このような強磁性
層２３の付いたサブストレート２０を複数個積層
一体化した後、略中央より２分割し、この２個を
一組として使用する（同図Ｔ参照）。この積層体
は、丁度第２図Ｃに示すものと同じであり、以
下、第２図Ｃ，Ｄ、…で述べたのと同じ様にして
磁気ヘツドを得ることができる。
層２３の付いたサブストレート２０を複数個積層
一体化した後、略中央より２分割し、この２個を
一組として使用する（同図Ｔ参照）。この積層体
は、丁度第２図Ｃに示すものと同じであり、以
下、第２図Ｃ，Ｄ、…で述べたのと同じ様にして
磁気ヘツドを得ることができる。
このようにして積層体を構成し、切断した２個
を対として用いれば、サブストレート厚さのばら
つきによる積層時の累積誤差の影響を避けること
ができ、各々の強磁性層の端部の対向具合が常に
良好となり好ましい。
を対として用いれば、サブストレート厚さのばら
つきによる積層時の累積誤差の影響を避けること
ができ、各々の強磁性層の端部の対向具合が常に
良好となり好ましい。
勿論、第３図Ｒの状態から直接、その略中央で
２分割することも可能であり（第３図Ｕ参照）、
そうすれば、丁度第２図Ｂに示すものと同じもの
が得られ、以下、第２図Ｃ，Ｄ、…で述べたと同
様の手順で磁気ヘツドを得ることができる。
２分割することも可能であり（第３図Ｕ参照）、
そうすれば、丁度第２図Ｂに示すものと同じもの
が得られ、以下、第２図Ｃ，Ｄ、…で述べたと同
様の手順で磁気ヘツドを得ることができる。
以上本発明の好ましい二、三の実施例について
詳述したが、シングルトラツクヘツドのみならず
マルチチヤンネルヘツドの製造にも容易に適用で
きること明らかであろう。例えば、マルチチヤン
ネルビデオヘツドやウインチエスタータイプのマ
ルチトラツクヘツドなども、本発明方法によつて
容易に製造できる。サブストレート中の非磁性材
の形状や溝形状、最終的に得られるヘツド形状等
は、適宜変更できること無論である。
詳述したが、シングルトラツクヘツドのみならず
マルチチヤンネルヘツドの製造にも容易に適用で
きること明らかであろう。例えば、マルチチヤン
ネルビデオヘツドやウインチエスタータイプのマ
ルチトラツクヘツドなども、本発明方法によつて
容易に製造できる。サブストレート中の非磁性材
の形状や溝形状、最終的に得られるヘツド形状等
は、適宜変更できること無論である。
本発明は上記のように構成した磁気ヘツドの製
造方法であるから、トラツク幅の非常に狭い磁気
ヘツドを容易に製造することができ、しかもトラ
ツク幅の精度は極めて良く、量産性に富むという
すぐれた効果があり、この磁気ヘツドを使用する
ことによつて高トラツク密度化（情報の記録密度
の向上）を図ることができる点も考慮すると、そ
の効果は極めて大である。
造方法であるから、トラツク幅の非常に狭い磁気
ヘツドを容易に製造することができ、しかもトラ
ツク幅の精度は極めて良く、量産性に富むという
すぐれた効果があり、この磁気ヘツドを使用する
ことによつて高トラツク密度化（情報の記録密度
の向上）を図ることができる点も考慮すると、そ
の効果は極めて大である。
第１図Ａ，Ｂはそれぞれ従来技術の説明図、第
２図は本発明に係る製造方法の一実施例を工程順
で示した説明図、第３図は他の実施例の説明図で
ある。 １０…サブストレート、１１…強磁性材、１２
…非磁性材、１３…強磁性層、１５…バー状物、
１６…ギヤツプ形成材、１７…磁気ヘツド。
２図は本発明に係る製造方法の一実施例を工程順
で示した説明図、第３図は他の実施例の説明図で
ある。 １０…サブストレート、１１…強磁性材、１２
…非磁性材、１３…強磁性層、１５…バー状物、
１６…ギヤツプ形成材、１７…磁気ヘツド。
Claims (1)
- １ 強磁性体サブストレートの一部を非磁性体と
し、このサブストレート上にトラツク幅に相当す
る厚さの強磁性層を設け、これを複数個積層一体
化した後、前記サブストレートの磁性体と非磁性
体との境界に沿つて厚さ方向に溝入れ加工を行な
い、得られた２個のバー状物をそれらの強磁性層
の端部が対向するようギヤツプを介して衝合一体
化し、サブストレート部分で切断することを特徴
とする狭トラツク磁気ヘツドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14278080A JPS5766524A (en) | 1980-10-13 | 1980-10-13 | Manufacture of narrow-track magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14278080A JPS5766524A (en) | 1980-10-13 | 1980-10-13 | Manufacture of narrow-track magnetic head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5766524A JPS5766524A (en) | 1982-04-22 |
| JPS6342327B2 true JPS6342327B2 (ja) | 1988-08-23 |
Family
ID=15323413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14278080A Granted JPS5766524A (en) | 1980-10-13 | 1980-10-13 | Manufacture of narrow-track magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5766524A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62141613A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツド |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5564625A (en) * | 1978-11-10 | 1980-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacuture of magnetic head |
-
1980
- 1980-10-13 JP JP14278080A patent/JPS5766524A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5564625A (en) * | 1978-11-10 | 1980-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacuture of magnetic head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5766524A (en) | 1982-04-22 |
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