JPH0644334B2 - 集積構造を有する磁気記録用読取り書込み装置 - Google Patents
集積構造を有する磁気記録用読取り書込み装置Info
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- JPH0644334B2 JPH0644334B2 JP60018786A JP1878685A JPH0644334B2 JP H0644334 B2 JPH0644334 B2 JP H0644334B2 JP 60018786 A JP60018786 A JP 60018786A JP 1878685 A JP1878685 A JP 1878685A JP H0644334 B2 JPH0644334 B2 JP H0644334B2
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- Japan
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
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- G—PHYSICS
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/17—Construction or disposition of windings
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- G—PHYSICS
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- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、集積構造を有する磁気記録用読取り書込み装
置に関する。この装置はコンピュータのディスクメモリ
用として使用される。
置に関する。この装置はコンピュータのディスクメモリ
用として使用される。
[従来の技術] ディスクメモリは、磁気フィルムで覆われた支持体から
成り、このフィルムに磁気ヘッドで情報を書込んだりあ
るいは読出したりすることができる。動作中、磁気ディ
スクは高速で回転し、その回転中に空気流の層を作り出
す。磁気ヘッドは、適切な外形を有することにより記録
層の上方の限られた距離のところで空気流の上を文字ど
うり飛行する支持体(スライダ)に取付けられている。
成り、このフィルムに磁気ヘッドで情報を書込んだりあ
るいは読出したりすることができる。動作中、磁気ディ
スクは高速で回転し、その回転中に空気流の層を作り出
す。磁気ヘッドは、適切な外形を有することにより記録
層の上方の限られた距離のところで空気流の上を文字ど
うり飛行する支持体(スライダ)に取付けられている。
このヘッドは、前置増幅、増幅、及び読取り書込み選択
のごとき各種機能を有する電子回路に電気的に接続され
ている。
のごとき各種機能を有する電子回路に電気的に接続され
ている。
組立体の信号対雑音比及び通過帯域を増大させるためば
かりでなく、ヘッドと集積回路との接続長を減らすため
に、スライダとして適切な外形に形成された同一のシリ
コン支持体上に、読取り書込みヘッドとこれに伴う電子
回路とを共に組合わせて構成することが提案されてい
る。この場合、電子回路は半導体技術で用いられている
従来技術で形成される。
かりでなく、ヘッドと集積回路との接続長を減らすため
に、スライダとして適切な外形に形成された同一のシリ
コン支持体上に、読取り書込みヘッドとこれに伴う電子
回路とを共に組合わせて構成することが提案されてい
る。この場合、電子回路は半導体技術で用いられている
従来技術で形成される。
このような集積回路は、例えば、J.W.BECK他によるIBM
テクニカルディスクロージャブルテン,Vol.22,No.
1,1979年6月の論文、さらに1983年7月13
日の特開昭58-118016 号(株式会社諏訪精工舎)に対応
する1983年10月8日のパテントアブストラクトオ
ブジャパン,Vol.7,No.228(p.228)に述べ
られている。
テクニカルディスクロージャブルテン,Vol.22,No.
1,1979年6月の論文、さらに1983年7月13
日の特開昭58-118016 号(株式会社諏訪精工舎)に対応
する1983年10月8日のパテントアブストラクトオ
ブジャパン,Vol.7,No.228(p.228)に述べ
られている。
第1図にこれら従来技術による装置の概要を示す。シリ
コン支持体1は、浮上面又は変位面を構成する表面Aに
エッチングで形成されたレール2を備えている。読取り
書込みヘッド3は、支持体1の横断面B上に形成されて
いる。集積回路4は、これと同一の面Bに形成されてい
てヘッド3に電気的に接続されている。集積回路4は、
シリコンへの拡散によって得られる。外部との電気的接
続には、導体6に接続されたコンタクト素子5を使用し
ている。
コン支持体1は、浮上面又は変位面を構成する表面Aに
エッチングで形成されたレール2を備えている。読取り
書込みヘッド3は、支持体1の横断面B上に形成されて
いる。集積回路4は、これと同一の面Bに形成されてい
てヘッド3に電気的に接続されている。集積回路4は、
シリコンへの拡散によって得られる。外部との電気的接
続には、導体6に接続されたコンタクト素子5を使用し
ている。
[発明が解決しようとする課題] ある観点からは満足できるが、このような従来装置には
問題点がある。例えば、この種の従来装置を製造するた
めには、まずシリコンブロックの面Bに集積回路と読取
り書込みヘッドとを形成し、次にこのブロックを面Bに
垂直な面によって切断しなければならない。次いで浮上
面(又は変位面)Aをエッチングで形成するのである。
問題点がある。例えば、この種の従来装置を製造するた
めには、まずシリコンブロックの面Bに集積回路と読取
り書込みヘッドとを形成し、次にこのブロックを面Bに
垂直な面によって切断しなければならない。次いで浮上
面(又は変位面)Aをエッチングで形成するのである。
このように従来技術によると、非常に厚いシリコンブロ
ック(4〜5mm)を使用する必要があり、しかもブロッ
クの互いに垂直の2つの面について加工を行わなければ
ならずこれは複雑な機器を必要とする。
ック(4〜5mm)を使用する必要があり、しかもブロッ
クの互いに垂直の2つの面について加工を行わなければ
ならずこれは複雑な機器を必要とする。
本発明の目的は従来技術の上述した問題点を除去するこ
とにある。
とにある。
[課題を解決するための手段] この目的は、浮上又は変位支持体を構成する同一のシリ
コンウエハ上に、読取り書込みヘッドと該読取り書込み
ヘッドに接続された集積回路とを備えた集積構造を有す
る磁気記録用読取り書込み装置であって、シリコンウエ
ハは結晶方位(100)面である2つの平行な面を有し
ており、これら2つの面のうちの1つが浮上面を構成し
ており、読取り書込みヘッドが水平構造を有しかつ上述
の浮上面上に配置されており、集積回路が上述の結晶方
位(100)面のうちの1つの面に位置している読取り
書込み装置によって達成される。
コンウエハ上に、読取り書込みヘッドと該読取り書込み
ヘッドに接続された集積回路とを備えた集積構造を有す
る磁気記録用読取り書込み装置であって、シリコンウエ
ハは結晶方位(100)面である2つの平行な面を有し
ており、これら2つの面のうちの1つが浮上面を構成し
ており、読取り書込みヘッドが水平構造を有しかつ上述
の浮上面上に配置されており、集積回路が上述の結晶方
位(100)面のうちの1つの面に位置している読取り
書込み装置によって達成される。
[作用] 結晶方位(100)面である2つの平行な面を有するシ
リコンウエハのこれら2つの面のうちの1つが浮上面を
構成しており、水平構造を有する読取り書込みヘッドが
この浮上面上に配置されている。従って読取り書込み装
置として、半導体集積回路に使用しているような標準的
な非常に薄いシリコンウエハを使用することができ、こ
のウエハの一つの面についてだけ加工すればよい構造を
提供できる。このため、構造が非常に容易であり、しか
も製造コストを大幅に低減することができる。
リコンウエハのこれら2つの面のうちの1つが浮上面を
構成しており、水平構造を有する読取り書込みヘッドが
この浮上面上に配置されている。従って読取り書込み装
置として、半導体集積回路に使用しているような標準的
な非常に薄いシリコンウエハを使用することができ、こ
のウエハの一つの面についてだけ加工すればよい構造を
提供できる。このため、構造が非常に容易であり、しか
も製造コストを大幅に低減することができる。
支持体の浮上面としてシリコンウエハの結晶方位(10
0)面を使用することそれ自体は既知であることを指摘
しておく。例えば、このような構成は、1977年3月
19日の特開昭52-36016号(株式会社日本製作所)に対
応する1977年9月13日のパテントアブストラクト
オブジャパン,Vol.1,No.103,p.3310 E77
に述べられている。
0)面を使用することそれ自体は既知であることを指摘
しておく。例えば、このような構成は、1977年3月
19日の特開昭52-36016号(株式会社日本製作所)に対
応する1977年9月13日のパテントアブストラクト
オブジャパン,Vol.1,No.103,p.3310 E77
に述べられている。
しかしながら、この構成は磁気ヘッドと集積回路とを上
述の面(100)上に組合わせて使用するものではな
い。この公報においては、磁気ヘッドは支持体(スライ
ダ)の側面(第1図のB面に対応する)に配置されてお
り、支持体が集積回路(これは必然的に上述の面Bに配
列される)を組込んでいることは明らかである。
述の面(100)上に組合わせて使用するものではな
い。この公報においては、磁気ヘッドは支持体(スライ
ダ)の側面(第1図のB面に対応する)に配置されてお
り、支持体が集積回路(これは必然的に上述の面Bに配
列される)を組込んでいることは明らかである。
[実施例] 第2図に示す装置は、結晶方位(100)の2つの面C
及びC′(互いに平行な面)を有するシリコンウエハ1
0を備えている。磁気読取り書込みヘッド11は、面C
上に配置されている。面C′は、集積回路12を担持し
ている。ヘッド11は入出力接続導体13を、集積回路
12は接続導体14を備えている。これらの接続導体
は、多層構造に今日使われる技術によりシリコンウエハ
を完全に横切る接続導体15によって相互接続されてい
る。これらの導体は、特に、薄い導電性コーティングの
形態で形成することができる。集積回路は、接続線17
に接続されている1つ以上の出力コンタクト素子16を
も備えている。
及びC′(互いに平行な面)を有するシリコンウエハ1
0を備えている。磁気読取り書込みヘッド11は、面C
上に配置されている。面C′は、集積回路12を担持し
ている。ヘッド11は入出力接続導体13を、集積回路
12は接続導体14を備えている。これらの接続導体
は、多層構造に今日使われる技術によりシリコンウエハ
を完全に横切る接続導体15によって相互接続されてい
る。これらの導体は、特に、薄い導電性コーティングの
形態で形成することができる。集積回路は、接続線17
に接続されている1つ以上の出力コンタクト素子16を
も備えている。
このような組立体は、記録媒体の支持体18の前側に配
置される。このようにしてウエハ10の面Cは、支持体
(スライダ)の浮上面(又は変位面)を構成する。この
面は、任意の外形(レール、溝、カタマラン形状等)と
なるようにエッチングすることができる。
置される。このようにしてウエハ10の面Cは、支持体
(スライダ)の浮上面(又は変位面)を構成する。この
面は、任意の外形(レール、溝、カタマラン形状等)と
なるようにエッチングすることができる。
集積回路12をヘッドと並べて面C上に配設することは
もちろん本発明の範囲を逸脱するものではない。この場
合には、接続導体は同一面C上にあることとなり、集積
回路と外部との接続導体はシリコン基板を横切るチャネ
ルとなる。
もちろん本発明の範囲を逸脱するものではない。この場
合には、接続導体は同一面C上にあることとなり、集積
回路と外部との接続導体はシリコン基板を横切るチャネ
ルとなる。
このような装置の製造には下記の工程が含まれる。
(A)シリコンウエハの面(100)上に、拡散工程で
読取り及び/又は書込み回路を組込んだ増幅器を形成す
る工程、 (B)同じ面上又は反対の面上に水平構造を有する読取
り書込みヘッドを形成する工程、 (C)読取り書込みヘッドとこれに伴う集積回路との間
に必要な電気的接続体を形成する工程、 (D)読取り書込みヘッドが形成されている面に浮上用
又は変位用の外形状を形成する工程、 (E)これら多数の支持体を互いに切断分離し、各支持
体(スライダ)を固定用ばね上に組立てる工程。
読取り及び/又は書込み回路を組込んだ増幅器を形成す
る工程、 (B)同じ面上又は反対の面上に水平構造を有する読取
り書込みヘッドを形成する工程、 (C)読取り書込みヘッドとこれに伴う集積回路との間
に必要な電気的接続体を形成する工程、 (D)読取り書込みヘッドが形成されている面に浮上用
又は変位用の外形状を形成する工程、 (E)これら多数の支持体を互いに切断分離し、各支持
体(スライダ)を固定用ばね上に組立てる工程。
磁気読取り書込みヘッドは、本発明によれば、浮上面上
に配設される。従ってこのヘッドは、水平構造でなけれ
ばならず、これは垂直構造である第1図の従来装置に使
用するヘッドとは全く異なる。このことは、磁気誘導を
発生したり又は磁束の変動から電圧を形成したりするの
に使用するコイルは浮上面と平行な内面に配置しなけれ
ばならないことを意味する。このようなヘッドの生産プ
ロセスの主な工程を、第3図〜第6図に示す。
に配設される。従ってこのヘッドは、水平構造でなけれ
ばならず、これは垂直構造である第1図の従来装置に使
用するヘッドとは全く異なる。このことは、磁気誘導を
発生したり又は磁束の変動から電圧を形成したりするの
に使用するコイルは浮上面と平行な内面に配置しなけれ
ばならないことを意味する。このようなヘッドの生産プ
ロセスの主な工程を、第3図〜第6図に示す。
まず第3図は、シリカコーティング22と磁気コーティ
ング28とを施したシリコンウエハ20を示す。磁気コ
ーティング内には溝30が8の字形にエッチングで形成
されており、これにより2つの磁極片34a及び34b
がエッチングされずに残る。二重螺線コイル31,32
が溝の中に形成されて2つの磁極片34a及び34bを
囲んでいる。次ぎに溝30に絶縁材が充填される。コイ
ルの外部接続体は導体33で形成される。
ング28とを施したシリコンウエハ20を示す。磁気コ
ーティング内には溝30が8の字形にエッチングで形成
されており、これにより2つの磁極片34a及び34b
がエッチングされずに残る。二重螺線コイル31,32
が溝の中に形成されて2つの磁極片34a及び34bを
囲んでいる。次ぎに溝30に絶縁材が充填される。コイ
ルの外部接続体は導体33で形成される。
この後、組立体に樹脂層をデポジットし、これをエッチ
ングして段38(第4図)を形成する。この段は、磁極
片34a及び34bの間に位置する側面36を有してい
る。次に非磁性材料の層40を組立体にデポジットす
る。この非磁性層40は、垂直壁42(第5図)として
後まで残る側面36の位置上の部分を残して除去され
る。その後、さらに磁気コーティング44がデポジット
される。これはコーティング28及び保護コーティング
46と同様である。これら2つのコーティングは、壁4
2の上に突出部を形成している。
ングして段38(第4図)を形成する。この段は、磁極
片34a及び34bの間に位置する側面36を有してい
る。次に非磁性材料の層40を組立体にデポジットす
る。この非磁性層40は、垂直壁42(第5図)として
後まで残る側面36の位置上の部分を残して除去され
る。その後、さらに磁気コーティング44がデポジット
される。これはコーティング28及び保護コーティング
46と同様である。これら2つのコーティングは、壁4
2の上に突出部を形成している。
この構造は、次に、層46中で分割され、非磁性壁42
で分離された2つの読取り書込み磁極片51及び52が
現われる。その結果、本発明の水平構造を有する磁気ヘ
ッドが形成されることとなる。
で分離された2つの読取り書込み磁極片51及び52が
現われる。その結果、本発明の水平構造を有する磁気ヘ
ッドが形成されることとなる。
[発明の効果] 以上詳細に説明したように本発明によれば、浮上又は変
位支持体を構成するシリコンウエハは結晶方位(10
0)面である2つの平行な面を有しており、これら2つ
の面のうちの1つが浮上面を構成しており、読取り書込
みヘッドが水平構造を有しかつ上述の浮上面上に配置さ
れており、集積回路が上述の結晶方位(100)面のう
ちの1つの面に位置しているので、浮上スライダ及びヘ
ッドを含めた読取り書込み装置を形成する場合に、半導
体集積回路に使用しているような標準的な非常に薄いシ
リコンウエハを使用することができ、このウエハの一つ
の面についてだけ加工すればよい。その結果、製造が非
常に容易になると共に製造コストを大幅に低減すること
ができる。
位支持体を構成するシリコンウエハは結晶方位(10
0)面である2つの平行な面を有しており、これら2つ
の面のうちの1つが浮上面を構成しており、読取り書込
みヘッドが水平構造を有しかつ上述の浮上面上に配置さ
れており、集積回路が上述の結晶方位(100)面のう
ちの1つの面に位置しているので、浮上スライダ及びヘ
ッドを含めた読取り書込み装置を形成する場合に、半導
体集積回路に使用しているような標準的な非常に薄いシ
リコンウエハを使用することができ、このウエハの一つ
の面についてだけ加工すればよい。その結果、製造が非
常に容易になると共に製造コストを大幅に低減すること
ができる。
第1図は従来技術による装置の斜視図、第2図は本発明
による装置の断面図、第3図〜第6図はシリコンウエハ
の(100)面に読取り書込みヘッドを形成する工程を
示す図である。 10……シリコンウエハ、11……読取り書込みヘッ
ド、12……集積回路、13,14,15……接続導
体、C,C′……結晶方位(100)の面。
による装置の断面図、第3図〜第6図はシリコンウエハ
の(100)面に読取り書込みヘッドを形成する工程を
示す図である。 10……シリコンウエハ、11……読取り書込みヘッ
ド、12……集積回路、13,14,15……接続導
体、C,C′……結晶方位(100)の面。
Claims (2)
- 【請求項1】浮上又は変位支持体を構成する同一のシリ
コンウエハ上に、読取り書込みヘッドと該読取り書込み
ヘッドに接続された集積回路とを備えた、集積構造を有
する磁気記録用読取り書込み装置であって、前記シリコ
ンウエハは結晶方位(100)面である2つの平行な面
を有しており、該2つの面のうちの1つが浮上面を構成
しており、前記読取り書込みヘッドが水平構造を有しか
つ前記浮上面上に配置されており、前記集積回路が前記
結晶方位(100)面のうちの1つの面に位置している
ことを特徴とする磁気記録用読取り書込み装置。 - 【請求項2】前記集積回路が前記読取り書込みヘッドを
有していない方の面に形成されており、該集積回路と該
読取り書込みヘッドとの電気的接続が前記ウエハを通っ
て行われるものである特許請求の範囲第1項に記載の磁
気記録用読取り書込み装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8401882 | 1984-02-03 | ||
FR8401882A FR2559297B1 (fr) | 1984-02-03 | 1984-02-03 | Nouveau patin de vol pour tetes magnetiques d'enregistrement |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60179918A JPS60179918A (ja) | 1985-09-13 |
JPH0644334B2 true JPH0644334B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=9300846
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60018786A Expired - Lifetime JPH0644334B2 (ja) | 1984-02-03 | 1985-02-04 | 集積構造を有する磁気記録用読取り書込み装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4809103A (ja) |
EP (1) | EP0152327B1 (ja) |
JP (1) | JPH0644334B2 (ja) |
DE (1) | DE3576870D1 (ja) |
FR (1) | FR2559297B1 (ja) |
Families Citing this family (63)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2606197B1 (fr) * | 1986-10-31 | 1988-12-02 | Commissariat Energie Atomique | Procede de realisation d'une tete magnetique permettant de simplifier la realisation des connexions electriques |
FR2630244B1 (fr) * | 1988-04-15 | 1990-07-13 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif d'ecriture et de lecture sur un support magnetique et son procede de fabrication |
JPH0731362Y2 (ja) * | 1988-06-03 | 1995-07-19 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッドおよび浮動式磁気ヘッド |
JPH0782630B2 (ja) * | 1989-02-28 | 1995-09-06 | 三菱電機株式会社 | 薄膜磁気ヘッド装置 |
US4972286A (en) * | 1989-03-03 | 1990-11-20 | Seagate Technology, Inc. | Grounding pole structures in thin film mganetic heads |
US5006946A (en) * | 1989-04-19 | 1991-04-09 | Tdk Corporation | Flexible polymeric resinous magnetic head supporting device |
US5001583A (en) * | 1989-04-19 | 1991-03-19 | Tdk Corporation | Flexible polymeric resinous magnetic head supporting device |
US5287239A (en) * | 1989-07-05 | 1994-02-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head using high saturated magnetic flux density film and manufacturing method thereof |
US5233492A (en) * | 1989-11-14 | 1993-08-03 | Hitachi Metals, Ltd. | Flying type composite magnetic head having Mn-Zn ferrite core |
US5476131A (en) * | 1989-11-27 | 1995-12-19 | Censtor Corporation | Unitary micro-flexure structure and method of making same |
US5453315A (en) * | 1989-11-27 | 1995-09-26 | Censtor Corp. | Unitary micro-flexure structure and method of making same |
US20020176210A1 (en) * | 1989-11-27 | 2002-11-28 | Hamilton Harold J. | Durable, low-vibration, dynamic-contact hard disk drive system |
US5111351A (en) * | 1989-11-27 | 1992-05-05 | Censtor Corp. | Integrated magnetic read/write head/flexure/conductor structure |
US5483025A (en) * | 1989-11-27 | 1996-01-09 | Censtor Corporation | Unitary micro-flexure structure |
US5041932A (en) * | 1989-11-27 | 1991-08-20 | Censtor Corp. | Integrated magnetic read/write head/flexure/conductor structure |
JP3158487B2 (ja) * | 1991-05-23 | 2001-04-23 | 株式会社日立製作所 | ヘッド支持機構 |
FR2683369B1 (fr) * | 1991-10-30 | 1993-12-24 | Commissariat A Energie Atomique | Patin de vol de type catamaran a decrochements peripheriques. |
JP2943579B2 (ja) | 1992-10-20 | 1999-08-30 | 三菱電機株式会社 | 磁気構造体並びにこれを用いた磁気ヘッドおよび磁気記録ヘッド |
JP3025120B2 (ja) * | 1992-12-21 | 2000-03-27 | キヤノン株式会社 | 記録再生装置 |
FR2709855B1 (fr) * | 1993-09-06 | 1995-10-20 | Commissariat Energie Atomique | Tête magnétique de lecture et d'écriture à élément magnétorésistant compensé en écriture. |
FR2718557B1 (fr) * | 1994-04-06 | 1996-06-21 | Silmag Sa | Patin de vol à moyens de suspension flexibles intégrés. |
US6091581A (en) * | 1994-08-26 | 2000-07-18 | Aiwa Co., Ltd. | Thin film magnetic head including a separately deposited diamond-like carbon gap structure and magnetic control wells |
US5909346A (en) * | 1994-08-26 | 1999-06-01 | Aiwa Research & Development, Inc. | Thin magnetic film including multiple geometry gap structures on a common substrate |
JPH08171712A (ja) * | 1994-08-26 | 1996-07-02 | Aiwa Co Ltd | 側面露出型薄膜磁気ヘッド並びにその製造方法 |
US5748417A (en) * | 1994-08-26 | 1998-05-05 | Aiwa Research And Development, Inc. | Thin film magnetic head including layered magnetic side poles |
US5563754A (en) * | 1994-08-26 | 1996-10-08 | Aiwa Research And Development, Inc. | Thin film magnetic head including a durable wear layer and gap structure |
US5544774A (en) * | 1994-08-26 | 1996-08-13 | Aiwa Research And Development, Inc. | Method of eliminating pole recession in a thin film magnetic head |
US5490028A (en) * | 1994-08-26 | 1996-02-06 | Aiwa Research And Development, Inc. | Thin film magnetic head including an integral layered shield structure |
US5801909A (en) * | 1994-08-26 | 1998-09-01 | Aiwa Research And Development, Inc. | Thin film magnetic head including durable wear layer and non-magnetic gap structures |
US5754377A (en) * | 1994-08-26 | 1998-05-19 | Aiwa Research And Development, Inc. | Thin film magnetic head including an elevated gap structure |
US5673474A (en) * | 1994-08-26 | 1997-10-07 | Aiwa Research And Development, Inc. | Method of fabricating a thin film magnetic head including layered magnetic side poles |
US5587857A (en) * | 1994-10-18 | 1996-12-24 | International Business Machines Corporation | Silicon chip with an integrated magnetoresistive head mounted on a slider |
US5539596A (en) * | 1994-12-29 | 1996-07-23 | International Business Machines Corporation | Integrated suspension, actuator arm and coil assembly with common structural support layer |
US5621594A (en) * | 1995-02-17 | 1997-04-15 | Aiwa Research And Development, Inc. | Electroplated thin film conductor coil assembly |
US5712747A (en) * | 1996-01-24 | 1998-01-27 | International Business Machines Corporation | Thin film slider with on-board multi-layer integrated circuit |
US5808832A (en) * | 1996-02-27 | 1998-09-15 | International Business Machines Corporation | Ultrathin silicon wear coating for a slider and thin film magnetic head elements at an ABS |
US6069015A (en) * | 1996-05-20 | 2000-05-30 | Aiwa Research And Development, Inc. | Method of fabricating thin film magnetic head including durable wear layer and non-magnetic gap structure |
US5805382A (en) * | 1996-06-21 | 1998-09-08 | International Business Machines Corporation | Integrated conductor magnetic recording head and suspension having cross-over integrated circuits for noise reduction |
DE69730691T2 (de) * | 1996-11-21 | 2005-09-22 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Magnetkopf mit integriertem schaltkreis und verfahren zu dessen herstellung |
US5757591A (en) | 1996-11-25 | 1998-05-26 | International Business Machines Corporation | Magnetoresistive read/inductive write magnetic head assembly fabricated with silicon on hard insulator for improved durability and electrostatic discharge protection and method for manufacturing same |
JP3130860B2 (ja) | 1997-03-04 | 2001-01-31 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気ヘッド装置及び該磁気ヘッド装置を備えた磁気ディスク装置 |
KR100238128B1 (ko) * | 1997-04-21 | 2000-01-15 | 윤종용 | 과전류 및 과전압 인가로부터 보호되는 구조의 플래너실리콘헤드 및 그 제조방법 |
US5768070A (en) * | 1997-05-14 | 1998-06-16 | International Business Machines Corporation | Horizontal thin film write, MR read head |
JP3001466B2 (ja) * | 1997-06-27 | 2000-01-24 | 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 | 磁気記録装置の駆動回路 |
US6356413B2 (en) * | 1997-10-31 | 2002-03-12 | Magnecomp Corp | Chip-mounted disk drive suspension |
US5871655A (en) * | 1998-03-19 | 1999-02-16 | International Business Machines Corporation | Integrated conductor magnetic recording head and suspension having cross-over integrated circuits for noise reduction |
US6239947B1 (en) | 1998-05-11 | 2001-05-29 | International Business Machines Corporation | Milliactuator with integrated sensor and drivers and method of manufacturing the same |
US6404575B1 (en) * | 1998-09-25 | 2002-06-11 | Seagate Technology Llc | Read/write preamp integrated head and process for fabricating same |
US6869870B2 (en) * | 1998-12-21 | 2005-03-22 | Megic Corporation | High performance system-on-chip discrete components using post passivation process |
JP2001067634A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-03-16 | Mitsumi Electric Co Ltd | 磁気ヘッド装置 |
US6513228B1 (en) * | 2000-01-05 | 2003-02-04 | Seagate Technology Llc | Method for forming a perpendicular recording read/write head |
US6643099B1 (en) * | 2000-06-20 | 2003-11-04 | Seagate Technology Llc | Transducer formed on a sacrificial metal substrate |
US7095594B2 (en) * | 2000-11-28 | 2006-08-22 | Texas Instruments Incorporated | Active read/write head circuit with interface circuit |
US6556380B2 (en) | 2001-04-10 | 2003-04-29 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Silicon sliders with trapezoidal shape and drie process for fabrication |
US20030043495A1 (en) * | 2002-02-22 | 2003-03-06 | Mayer David F. | Massively parallel fixed head disk drive |
US6870717B2 (en) * | 2002-05-16 | 2005-03-22 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Semiconductor slider with an integral spin valve transistor structure and method for making same without a bonding step |
US7196016B2 (en) * | 2003-09-29 | 2007-03-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Fabrication process for preparing recording head sliders made from silicon substrates with SiO2 overcoats |
US7535676B2 (en) * | 2004-08-26 | 2009-05-19 | Hitachi Global Storage Technologies B.V. | Slider with bonding pads opposite the air bearing surface |
JP4546483B2 (ja) * | 2005-01-24 | 2010-09-15 | パナソニック株式会社 | 半導体チップの製造方法 |
US7450342B2 (en) * | 2005-03-14 | 2008-11-11 | Seagate Technology Llc | Composite head-electrical conditioner assembly |
US7715150B2 (en) * | 2006-05-15 | 2010-05-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus and method for head gimbal assembly sharing power to slider amplifier and micro-actuator in a hard disk drive |
US8107197B2 (en) | 2008-12-30 | 2012-01-31 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Slider with integrated writer and semiconductor heterostucture read sensor |
US20110116193A1 (en) * | 2009-11-16 | 2011-05-19 | Seagate Technology Llc | Magnetic head with integrated write driver |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5634121A (en) * | 1979-08-27 | 1981-04-06 | Nec Corp | Thin film magnetic head |
JPS5798120A (en) * | 1980-12-10 | 1982-06-18 | Comput Basic Mach Technol Res Assoc | Thin film magnetic head |
JPS58118016A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-13 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘツド |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1307886A (en) * | 1970-05-12 | 1973-02-21 | Ibm | Magnetic transducing head |
US3657806A (en) * | 1970-12-28 | 1972-04-25 | Ibm | Method for manufacturing a thin-film magnetic head assembly |
FR2218611B1 (ja) * | 1973-02-21 | 1976-09-10 | Cii | |
US4030189A (en) * | 1973-02-21 | 1977-06-21 | Compagnie Internationale Pour L'informatique | Method of making magnetic head devices |
JPS5236016A (en) * | 1975-09-17 | 1977-03-19 | Hitachi Ltd | Manufacturing method for floating magnetic head |
JPS5369623A (en) * | 1976-12-03 | 1978-06-21 | Fujitsu Ltd | Magnetic head |
US4321641A (en) * | 1977-09-02 | 1982-03-23 | Magnex Corporation | Thin film magnetic recording heads |
US4219853A (en) * | 1978-12-21 | 1980-08-26 | International Business Machines Corporation | Read/write thin film head |
JPS55132520A (en) * | 1979-03-30 | 1980-10-15 | Fujitsu Ltd | Magnetic head |
JPS55135325A (en) * | 1979-04-09 | 1980-10-22 | Toshiba Corp | Vertically-magnetized type magnetic head |
JPS5674812A (en) * | 1979-11-26 | 1981-06-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Magnetic head assembly |
NL7908611A (nl) * | 1979-11-28 | 1981-07-01 | Philips Nv | Geintegreerde magneetkopconstructie. |
JPS6022406B2 (ja) * | 1979-12-13 | 1985-06-01 | 富士通株式会社 | 垂直磁気記録再生用ヘッド |
EP0032230A3 (en) * | 1980-01-14 | 1982-01-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Integrated magnetic transducer and method of manufacturing the same |
JPS56148713A (en) * | 1980-04-17 | 1981-11-18 | Fujitsu Ltd | Production of horizontal type magnetic head |
US4414554A (en) * | 1980-07-21 | 1983-11-08 | Ferix Corporation | Magnetic imaging apparatus |
JPS58118017A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-13 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘツド |
JPS58208925A (ja) * | 1982-05-28 | 1983-12-05 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツド |
JPS58208922A (ja) * | 1982-05-28 | 1983-12-05 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツド |
JPS5979417A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-08 | Sony Corp | 磁気ヘツド装置 |
US4503440A (en) * | 1983-03-08 | 1985-03-05 | Springer Gilbert D | Thin-film magnetic writing head with anti-saturation back-gap layer |
JPS59168968A (ja) * | 1983-03-17 | 1984-09-22 | Fujitsu Ltd | 磁気記憶装置 |
FR2559296B1 (fr) * | 1984-02-03 | 1988-12-30 | Commissariat Energie Atomique | Nouveau patin du type catamaran pour tetes magnetiques d'enregistrement et son procede de fabrication |
-
1984
- 1984-02-03 FR FR8401882A patent/FR2559297B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-01-28 DE DE8585400137T patent/DE3576870D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-01-28 EP EP85400137A patent/EP0152327B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1985-02-04 JP JP60018786A patent/JPH0644334B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-06-22 US US07/063,793 patent/US4809103A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5634121A (en) * | 1979-08-27 | 1981-04-06 | Nec Corp | Thin film magnetic head |
JPS5798120A (en) * | 1980-12-10 | 1982-06-18 | Comput Basic Mach Technol Res Assoc | Thin film magnetic head |
JPS58118016A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-13 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘツド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60179918A (ja) | 1985-09-13 |
DE3576870D1 (de) | 1990-05-03 |
FR2559297B1 (fr) | 1990-01-12 |
EP0152327A1 (fr) | 1985-08-21 |
FR2559297A1 (fr) | 1985-08-09 |
EP0152327B1 (fr) | 1990-03-28 |
US4809103A (en) | 1989-02-28 |
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