JPS58118016A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS58118016A JPS58118016A JP21295181A JP21295181A JPS58118016A JP S58118016 A JPS58118016 A JP S58118016A JP 21295181 A JP21295181 A JP 21295181A JP 21295181 A JP21295181 A JP 21295181A JP S58118016 A JPS58118016 A JP S58118016A
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- JP
- Japan
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- recording
- reproducing
- head
- thin film
- circuit
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- Pending
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/17—Construction or disposition of windings
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/12—Disposition of constructional parts in the apparatus, e.g. of power supply, of modules
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は薄膜ヘッドおよび記録再生回路を含む集積回路
を同一の基板上に製作した磁気ヘッドに関する。
を同一の基板上に製作した磁気ヘッドに関する。
フェライトや金属等に機椋的加工法を用いてコア部を形
成し、巻線溝に巻線を巻き、空隙部にスペーサを挿入す
ることにより作製していた。磁気ヘッドに代るものとし
て、蒸着、スパッタリング、電着、フォトエツチング等
の技術を用いて、コア部、巻線部分、空隙部分を等測的
に作製し、しかも集積化させた尚膜によって構成された
磁気ヘッドｃ以下薄膜ヘッドと呼ぶ）が提案され実用化
されている。薄膜ヘッドでは、小形化が実現され、巻線
を巻く際の困難さが解消される。さらにバラツキが少な
いため記録および再生の評価が容易になる。低い生産コ
ストで製造される等の多くの利点を有している。実際に
は、第１図に示す如く薄膜ヘッド１０２は、スライダ１
０１上に形成されている。然しなから、実際の磁気記録
再生装置で２− こうした磁気ヘッドを用いて記録再生を行なおうとする
と、従来記録再生に必要な電気回路又は電気回路を含む
集積回路（以下、記録再生回路と呼ぶ）を別に用意して
、ヘッドの巻線部と導線１０３等で接続する必要がある
。そのために、前記ヘッドと記録再生回路との距離が長
くなるために夕１部雑音を薄膜ヘッドで検出した微小信
号が加わっている前記導線部で拾い易く、それが再生波
形の劣化および信号対雑音比の劣化を招く一つの原因と
なシ、最終的なビットエラー率を増加させている。これ
を回避させるために、第２図に示す如く記録再生回路の
一部を集積回路２０２にして、アーム２０５上に配置す
ることによシ、スライダ上に搭載された前記ヘッド２０
１との間の電気的、接続のだめの導線２０３の長さを短
くして、ディスク２０６から２０１で検出した信号に外
部雑音が混入しないようにした例もあるが、その長さは
無視できない程度の長さであり、外部雑音をＮｉｌ ｆ
ｎｔ２接続線で不可避的に拾う傾向にある。そのために
、さらに前記接続線をシールドする等の手段が講じ３− られている。
成し、巻線溝に巻線を巻き、空隙部にスペーサを挿入す
ることにより作製していた。磁気ヘッドに代るものとし
て、蒸着、スパッタリング、電着、フォトエツチング等
の技術を用いて、コア部、巻線部分、空隙部分を等測的
に作製し、しかも集積化させた尚膜によって構成された
磁気ヘッドｃ以下薄膜ヘッドと呼ぶ）が提案され実用化
されている。薄膜ヘッドでは、小形化が実現され、巻線
を巻く際の困難さが解消される。さらにバラツキが少な
いため記録および再生の評価が容易になる。低い生産コ
ストで製造される等の多くの利点を有している。実際に
は、第１図に示す如く薄膜ヘッド１０２は、スライダ１
０１上に形成されている。然しなから、実際の磁気記録
再生装置で２− こうした磁気ヘッドを用いて記録再生を行なおうとする
と、従来記録再生に必要な電気回路又は電気回路を含む
集積回路（以下、記録再生回路と呼ぶ）を別に用意して
、ヘッドの巻線部と導線１０３等で接続する必要がある
。そのために、前記ヘッドと記録再生回路との距離が長
くなるために夕１部雑音を薄膜ヘッドで検出した微小信
号が加わっている前記導線部で拾い易く、それが再生波
形の劣化および信号対雑音比の劣化を招く一つの原因と
なシ、最終的なビットエラー率を増加させている。これ
を回避させるために、第２図に示す如く記録再生回路の
一部を集積回路２０２にして、アーム２０５上に配置す
ることによシ、スライダ上に搭載された前記ヘッド２０
１との間の電気的、接続のだめの導線２０３の長さを短
くして、ディスク２０６から２０１で検出した信号に外
部雑音が混入しないようにした例もあるが、その長さは
無視できない程度の長さであり、外部雑音をＮｉｌ ｆ
ｎｔ２接続線で不可避的に拾う傾向にある。そのために
、さらに前記接続線をシールドする等の手段が講じ３− られている。
本発明は、かかる欠点を除去したもので、その目的は上
記外部雑音の上記接続線への混入による信号対雑音比の
劣化の解決と磁気ヘッドと記録再生回路Ｃ以下、記録再
生系と呼ぶ）の小型化、高信頼化および軽葉化を実現す
る方法を提供するものである。
記外部雑音の上記接続線への混入による信号対雑音比の
劣化の解決と磁気ヘッドと記録再生回路Ｃ以下、記録再
生系と呼ぶ）の小型化、高信頼化および軽葉化を実現す
る方法を提供するものである。
以下、実施例に基すいて本発明を詳しく鯖、明する。第
３図は、本発明になる磁気ヘッドの基本的な原理構造を
示す概観図例である。第３図に於いて、３０１はシリコ
ン等の半導体基板を加工して作ったスライダであＦ）、
３０２は３０１上に形成された薄膜ヘッド、３０３は３
０１上で薄膜ヘッド３０２の近傍に形成された記録再生
用の集積回路、３０４は集積回路３０３の信号端子であ
る。
３図は、本発明になる磁気ヘッドの基本的な原理構造を
示す概観図例である。第３図に於いて、３０１はシリコ
ン等の半導体基板を加工して作ったスライダであＦ）、
３０２は３０１上に形成された薄膜ヘッド、３０３は３
０１上で薄膜ヘッド３０２の近傍に形成された記録再生
用の集積回路、３０４は集積回路３０３の信号端子であ
る。
第４図は第３図の３０２および３０３の一部を拡大した
ものであ、９．４０１および４０３はパーマロイ等の導
電性高透磁率磁性薄膜、４０５は巻線部を形成している
金等の導電性金属膜、４０６はアルミニウム等の導電性
金ｈ４％、４０２は半導体−４＝ 基板４０１上に形成された記録再生用集積回路である。
ものであ、９．４０１および４０３はパーマロイ等の導
電性高透磁率磁性薄膜、４０５は巻線部を形成している
金等の導電性金属膜、４０６はアルミニウム等の導電性
金ｈ４％、４０２は半導体−４＝ 基板４０１上に形成された記録再生用集積回路である。
第５図は、第４図のａ −ｂ問およびｃ −ｄ間の断面
図の例である。第５図で５０３がｃ −ｄ間の断面図で
あり、例えば５０１は単結晶シリコン等のＰ形半導体基
板、５１３は５０１上に形成されたＮ影領域、５１６は
Ｐ形領埴’１ ５１４．５１５．５１７は不純物濃度が
高いＮ影領域（Ｎ領域）、５１８は二酸化硅素などの絶
縁層、５１９はアルミなどで作られる電極であり、５０
３の部分は全体として１つのＮｌ’Ｎ型トランジスタを
構成している。５０２は第４図のａ−ｂ間の断面図であ
シ、５０４はパーマロイ等の導電性高透磁率磁性薄膜、
５０５．５０６および５１２は二酸化硅素等からなる絶
縁層、５０７，５０８，５０９．５１０および５１１は
金等の導電性金属膜である。第４図および第５図で、集
積回路部は通常のモノリシック半導体技術によって作ら
れ、薄膜ヘッド部は、スパッタリング等の技術で作られ
る。
図の例である。第５図で５０３がｃ −ｄ間の断面図で
あり、例えば５０１は単結晶シリコン等のＰ形半導体基
板、５１３は５０１上に形成されたＮ影領域、５１６は
Ｐ形領埴’１ ５１４．５１５．５１７は不純物濃度が
高いＮ影領域（Ｎ領域）、５１８は二酸化硅素などの絶
縁層、５１９はアルミなどで作られる電極であり、５０
３の部分は全体として１つのＮｌ’Ｎ型トランジスタを
構成している。５０２は第４図のａ−ｂ間の断面図であ
シ、５０４はパーマロイ等の導電性高透磁率磁性薄膜、
５０５．５０６および５１２は二酸化硅素等からなる絶
縁層、５０７，５０８，５０９．５１０および５１１は
金等の導電性金属膜である。第４図および第５図で、集
積回路部は通常のモノリシック半導体技術によって作ら
れ、薄膜ヘッド部は、スパッタリング等の技術で作られ
る。
両者の製造プロセス技術が相異なるために、集積回路部
の形成時に於いては薄膜ヘッド部をマスク５− し、薄膜ヘッド部の形成時に於いては集積回路部をマス
クする必要がある。
の形成時に於いては薄膜ヘッド部をマスク５− し、薄膜ヘッド部の形成時に於いては集積回路部をマス
クする必要がある。
また、上記集積回路は、モノリシック半導体技術ばかり
でなく、薄膜ヘッドの製造と同じ薄膜技術を用いて形成
することが可能である。
でなく、薄膜ヘッドの製造と同じ薄膜技術を用いて形成
することが可能である。
第６図にその場合の実施例を示す。同図は、第５図と同
様な断面図であって、６０１は非磁性かつ絶縁性の基板
であり、６０２は５０２と同じく薄膜ヘッドの一部の断
面図であシ、６０３は集積回路の一部の断面図である。
様な断面図であって、６０１は非磁性かつ絶縁性の基板
であり、６０２は５０２と同じく薄膜ヘッドの一部の断
面図であシ、６０３は集積回路の一部の断面図である。
６０４，６０５および６０６は金等の導電性金属膜、６
０７は硫化カドニウム等の半導体薄膜、６０８は二酸化
硅素等からなる誘電体薄膜である。６０３は、全体とし
て１つの電界効果型薄膜トランジスタを構成していて、
この場合６０４がソース、６０５がゲート、６０６がド
レインに相当していて、この例では、６０４が、ヘッド
の巻線につながっている。薄膜技術を用いて集積回路の
部分を形成すれば同一の製造プロセスによって、ヘッド
部と集積回路部とを形成することができるので、集積回
路部をモノ６− リシック半導体技術を用いて形成する場合と北較して、
製造の過程が簡単になる利点を有する。
０７は硫化カドニウム等の半導体薄膜、６０８は二酸化
硅素等からなる誘電体薄膜である。６０３は、全体とし
て１つの電界効果型薄膜トランジスタを構成していて、
この場合６０４がソース、６０５がゲート、６０６がド
レインに相当していて、この例では、６０４が、ヘッド
の巻線につながっている。薄膜技術を用いて集積回路の
部分を形成すれば同一の製造プロセスによって、ヘッド
部と集積回路部とを形成することができるので、集積回
路部をモノ６− リシック半導体技術を用いて形成する場合と北較して、
製造の過程が簡単になる利点を有する。
この様にして記録再生回路とに脚ヘッドとを同一の基板
上に形成すると、従来外部雑音を拾う大きな原因となっ
ていたヘッドと記録再生回路との接続線の距離が著しく
小さくすることが可能となり、外部雑音が検出信号に混
入しにくくなる。従って、信号対雑音比の大幅な向上が
期待できる。
上に形成すると、従来外部雑音を拾う大きな原因となっ
ていたヘッドと記録再生回路との接続線の距離が著しく
小さくすることが可能となり、外部雑音が検出信号に混
入しにくくなる。従って、信号対雑音比の大幅な向上が
期待できる。
さらに、記録再生回路と薄膜ヘッドとの一体化によって
記録再生系が大幅に小型化かつ軽量化することが可能と
なる。また、ヘッドを含む記録再生系全体を一体に集積
化するので、信頼性がさらに向上するものである。
記録再生系が大幅に小型化かつ軽量化することが可能と
なる。また、ヘッドを含む記録再生系全体を一体に集積
化するので、信頼性がさらに向上するものである。
いままでは、第３図に示したヘッドの様にハードディス
ク用のヘッドを例として説明してきたが、本発明による
構造の磁気ヘッドはフロッピーディスク等のフレキシブ
ルディスクに対しても有効である。実施例を第７図およ
び第８図に示す。第７図では、前記の如くして同一の半
導体基板上に記録再生系を形成して、それを７０１の形
状に加エアー したもので、７０２が薄膜ヘッド、７ｏ３が集積化され
た記録再生回路７０４が外部インタフェース回路等との
接続線である。第８図は第７図の７０１と同じ形状の基
板８０１を７０１に接着したものであシ、これをスライ
ダに搭載すれば、フレキシブルディスクに対しても利用
可能である。
ク用のヘッドを例として説明してきたが、本発明による
構造の磁気ヘッドはフロッピーディスク等のフレキシブ
ルディスクに対しても有効である。実施例を第７図およ
び第８図に示す。第７図では、前記の如くして同一の半
導体基板上に記録再生系を形成して、それを７０１の形
状に加エアー したもので、７０２が薄膜ヘッド、７ｏ３が集積化され
た記録再生回路７０４が外部インタフェース回路等との
接続線である。第８図は第７図の７０１と同じ形状の基
板８０１を７０１に接着したものであシ、これをスライ
ダに搭載すれば、フレキシブルディスクに対しても利用
可能である。
以上の様に、本発明による山気ヘッドによれば、ヘッド
と記録再生回路間に入る外部雑音が抵減し、信号対雑音
比が向上する。記録再生系が小型化、軽量化、高信頼化
されるという優れた効果を有しておシ、磁気ヘッドとし
て望しい性質を持つものである。
と記録再生回路間に入る外部雑音が抵減し、信号対雑音
比が向上する。記録再生系が小型化、軽量化、高信頼化
されるという優れた効果を有しておシ、磁気ヘッドとし
て望しい性質を持つものである。
第１図は従来のスライダ上に搭載した薄膜ヘッドの全体
の構造を示している。第２図は、集積回路化された記録
再生回路がアーム上に搭載されて、第１図で示した磁気
ヘッドと接続されていることを示している。第３図は、
本発明になる磁気ヘッドの構造例を示すものである。第
４図は、第３図８− の薄膜ヘッドと集積化された記録再生回路の一部の拡大
図を示すものである。 第５図は、記録再生回路部をモノリシック半導体技術を
用いて形成した場合の第４図の断面図の一部を模式的に
表現したものである。 第６図は、記録再生回路をヘッド部と同様に薄膜技術を
用いて形成した場合の第４図の断面図の一部である。第
７図および第８図は、本発明の磁気ヘッドを別の形状に
加工した例である。 １０２．３０２，５０２，６０２，７０２・・・・薄膜
ヘッド １０１．２０１．３０１・・スライダ ２０２．３０３，４０２，５０３，６０３，７０３・・
・集積化された記録再生回路 １０３．２０３・・薄膜ヘッドと記録再生回路との接続
線 以 上 出願人 株式会社趣訪精工舎 代理人 弁理士最 上 務 ９− 第４図 第７０ 第８ニー ９７−
の構造を示している。第２図は、集積回路化された記録
再生回路がアーム上に搭載されて、第１図で示した磁気
ヘッドと接続されていることを示している。第３図は、
本発明になる磁気ヘッドの構造例を示すものである。第
４図は、第３図８− の薄膜ヘッドと集積化された記録再生回路の一部の拡大
図を示すものである。 第５図は、記録再生回路部をモノリシック半導体技術を
用いて形成した場合の第４図の断面図の一部を模式的に
表現したものである。 第６図は、記録再生回路をヘッド部と同様に薄膜技術を
用いて形成した場合の第４図の断面図の一部である。第
７図および第８図は、本発明の磁気ヘッドを別の形状に
加工した例である。 １０２．３０２，５０２，６０２，７０２・・・・薄膜
ヘッド １０１．２０１．３０１・・スライダ ２０２．３０３，４０２，５０３，６０３，７０３・・
・集積化された記録再生回路 １０３．２０３・・薄膜ヘッドと記録再生回路との接続
線 以 上 出願人 株式会社趣訪精工舎 代理人 弁理士最 上 務 ９− 第４図 第７０ 第８ニー ９７−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １１）同一の基板上に薄膜で形成されたヘッド部と記録
再生を含む回路部とを有することを特徴とする磁気ヘッ
ド。 （２１基板が半導体である事を特徴とする嬉１項記載の
磁気ヘッド。 １３１半導体基板が単結晶シリコンである事を特徴とす
る第２狽記載の磁気ヘッド。 （４１記録再生を含む回路部は、半導体基板を用いて形
成されている事を特徴とする第２項記載の磁気ヘッド。 １５１記録再生を含む回路は、基板上に薄膜で形成され
ている事を特徴とする第１項記載のζＢ気ヘッド。 １−
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21295181A JPS58118016A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21295181A JPS58118016A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58118016A true JPS58118016A (ja) | 1983-07-13 |
Family
ID=16630991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21295181A Pending JPS58118016A (ja) | 1981-12-29 | 1981-12-29 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58118016A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2559297A1 (fr) * | 1984-02-03 | 1985-08-09 | Commissariat Energie Atomique | Nouveau patin de vol pour tetes magnetiques d'enregistrement |
| US5712747A (en) * | 1996-01-24 | 1998-01-27 | International Business Machines Corporation | Thin film slider with on-board multi-layer integrated circuit |
| EP1014342A2 (en) * | 1998-12-25 | 2000-06-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Head IC, head amplifier circuit, head suspension assembly, and magnetic disk drive for avoiding electrostatic breakdown of magnetic head |
-
1981
- 1981-12-29 JP JP21295181A patent/JPS58118016A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2559297A1 (fr) * | 1984-02-03 | 1985-08-09 | Commissariat Energie Atomique | Nouveau patin de vol pour tetes magnetiques d'enregistrement |
| JPS60179918A (ja) * | 1984-02-03 | 1985-09-13 | コミツサリア ア レネルジイ アトミツク | 集積構造を有する磁気記録用読取り書込み装置 |
| US4809103A (en) * | 1984-02-03 | 1989-02-28 | Commissariat A L'energie Atomique | Head slider with an integrated flat magnetic head |
| JPH0644334B2 (ja) * | 1984-02-03 | 1994-06-08 | コミツサリア ア レネルジイ アトミツク | 集積構造を有する磁気記録用読取り書込み装置 |
| US5712747A (en) * | 1996-01-24 | 1998-01-27 | International Business Machines Corporation | Thin film slider with on-board multi-layer integrated circuit |
| US5771571A (en) * | 1996-01-24 | 1998-06-30 | International Business Machines Corporation | Method for manufacturing thin film slider with on-board multi-layer integrated circuit |
| EP1014342A2 (en) * | 1998-12-25 | 2000-06-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Head IC, head amplifier circuit, head suspension assembly, and magnetic disk drive for avoiding electrostatic breakdown of magnetic head |
| US6377411B1 (en) | 1998-12-25 | 2002-04-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Head IC, head amplifier circuit, head suspension assembly, and magnetic disk drive for avoiding electrostatic breakdown of magnetic head |
| EP1014342A3 (en) * | 1998-12-25 | 2002-12-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Head IC, head amplifier circuit, head suspension assembly, and magnetic disk drive for avoiding electrostatic breakdown of magnetic head |
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