JPH1048770A - ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法Info
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- JPH1048770A JPH1048770A JP20587096A JP20587096A JPH1048770A JP H1048770 A JPH1048770 A JP H1048770A JP 20587096 A JP20587096 A JP 20587096A JP 20587096 A JP20587096 A JP 20587096A JP H1048770 A JPH1048770 A JP H1048770A
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- silver halide
- halide photographic
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 迅速処理において、残色に優れ、現像ムラの
改良されたハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法
の提供。 【解決手段】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
該ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に含有されるハ
ロゲン化銀粒子の全投影面積の50%以上が平均アスペ
クト比が2以上の平板状粒子であり、かつ該ハロゲン化
銀乳剤層の少なくとも一層にピラゾリドン化合物及びア
デニン化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料及びその処理方法。
改良されたハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法
の提供。 【解決手段】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
該ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に含有されるハ
ロゲン化銀粒子の全投影面積の50%以上が平均アスペ
クト比が2以上の平板状粒子であり、かつ該ハロゲン化
銀乳剤層の少なくとも一層にピラゾリドン化合物及びア
デニン化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料及びその処理方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料及びその処理方法に関する。
感光材料及びその処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、ハロゲン化銀写真感光材料に対す
る高感度化、高画質化のみならず、ハロゲン化銀写真材
料の現像処理の迅速化、低補充化が進んでいる。
る高感度化、高画質化のみならず、ハロゲン化銀写真材
料の現像処理の迅速化、低補充化が進んでいる。
【0003】ハロゲン化銀粒子の現像性向上のために、
例えばハロゲン化銀粒子への分光増感色素の吸着率を上
げる手段(例えば増感色素量アップ、AgI量調整な
ど)があるが、特に色素の増量は処理後の感光材料に色
素汚染が多く発生する問題があって迅速処理、低補充処
理においては残色が著しくなる問題があった。
例えばハロゲン化銀粒子への分光増感色素の吸着率を上
げる手段(例えば増感色素量アップ、AgI量調整な
ど)があるが、特に色素の増量は処理後の感光材料に色
素汚染が多く発生する問題があって迅速処理、低補充処
理においては残色が著しくなる問題があった。
【0004】一方、迅速、低補充化に伴い処理槽中の処
理液撹拌速度アップ、現像・定着ラックのローラーしご
き性アップ及び感光材料の液浸透速度アップ等により現
像性、定着性を向上させる技術が開示されているが、こ
れらには感光材料に含有される種々の化合物(活性剤、
水溶性ポリマー、ゼラチン等)の溶出を促進し、特に低
補充処理の場合にこれらの物質の滞留時間が延び凝集、
変質し処理液表面に漂っていたり、ローラーに圧着し排
出されず残存し、処理中の感光材料に付着し現像阻害、
定着阻害、処理済フィルムの汚れが生じる問題がある。
理液撹拌速度アップ、現像・定着ラックのローラーしご
き性アップ及び感光材料の液浸透速度アップ等により現
像性、定着性を向上させる技術が開示されているが、こ
れらには感光材料に含有される種々の化合物(活性剤、
水溶性ポリマー、ゼラチン等)の溶出を促進し、特に低
補充処理の場合にこれらの物質の滞留時間が延び凝集、
変質し処理液表面に漂っていたり、ローラーに圧着し排
出されず残存し、処理中の感光材料に付着し現像阻害、
定着阻害、処理済フィルムの汚れが生じる問題がある。
【0005】また、迅速、低補充化においては、感光材
料の現像処理ムラが生じやすいので、その改良が望まれ
ている。
料の現像処理ムラが生じやすいので、その改良が望まれ
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、迅速
処理性、残色に優れ、現像ムラの改良されたハロゲン化
銀写真感光材料及びその処理方法を提供することであ
る。
処理性、残色に優れ、現像ムラの改良されたハロゲン化
銀写真感光材料及びその処理方法を提供することであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成された。
記構成により達成された。
【0008】(1) 支持体上に少なくとも一層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、該ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に含有さ
れるハロゲン化銀粒子の全投影面積の50%以上が平均
アスペクト比が2以上の平板状粒子であり、かつ該ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に下記一般式(1)及
び一般式(2)で表される化合物を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。
ゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、該ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に含有さ
れるハロゲン化銀粒子の全投影面積の50%以上が平均
アスペクト比が2以上の平板状粒子であり、かつ該ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に下記一般式(1)及
び一般式(2)で表される化合物を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0009】
【化3】
【0010】(式中、Rは置換又は無置換のアリール基
を表し、R1、R2、R3及びR4は互いに同一であっても
異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は置換又は無
置換のアルキル基、アラルキル基、もしくはアリール基
を表す。)
を表し、R1、R2、R3及びR4は互いに同一であっても
異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は置換又は無
置換のアルキル基、アラルキル基、もしくはアリール基
を表す。)
【0011】
【化4】
【0012】(式中、Zはヘテロ環を形成するのに必要
な原子群を表す。) (2) 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤
層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも一層が上記一般式(1)及
び下記一般式(3)で表される化合物を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
な原子群を表す。) (2) 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤
層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも一層が上記一般式(1)及
び下記一般式(3)で表される化合物を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0013】一般式(3) R21−(S)m−R22 (式中、R21及びR22は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環
基又は互いに結合して環を形成することができる原子群
を表す。またR21、R22は同じでも異なっていてもよ
い。mは2〜6の整数を表す。) (3) 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤
層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも一層が上記一般式(1)及
び下記一般式(4)で表される化合物を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
基又は互いに結合して環を形成することができる原子群
を表す。またR21、R22は同じでも異なっていてもよ
い。mは2〜6の整数を表す。) (3) 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤
層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも一層が上記一般式(1)及
び下記一般式(4)で表される化合物を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0014】一般式(4) Het−(J)n−(Q)n1 (式中、Hetは置換基としてメルカプト基若しくはメ
ルカプト基をブロックされた基を有さない5〜6員の含
窒素ヘテロ環を表し、Jはa+1価の連結基を表し、Q
は水溶性基を表す。nは0〜5の整数を表し、n1及び
aは1以上の整数を表す。) (4) 前記1、2又は3記載のハロゲン化銀写真感光
材料を、自動現像機の処理槽に固体処理剤を供給する機
構を有する自動現像機で処理することを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料の処理方法。
ルカプト基をブロックされた基を有さない5〜6員の含
窒素ヘテロ環を表し、Jはa+1価の連結基を表し、Q
は水溶性基を表す。nは0〜5の整数を表し、n1及び
aは1以上の整数を表す。) (4) 前記1、2又は3記載のハロゲン化銀写真感光
材料を、自動現像機の処理槽に固体処理剤を供給する機
構を有する自動現像機で処理することを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0015】以下、本発明について具体的に説明する。
まず、一般式(1)について説明する。
まず、一般式(1)について説明する。
【0016】一般式(1)において、Rはアリール基
(例えばフェニル、ナフチル基)を表す。R1,R2,R
3,R4はそれぞれ水素原子、アルキル基(例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル等の低級アルキル
基、更に高級アルキル基)、アリール基(例えばフェニ
ル、ナフチル基)、アラルキル基(例えばベンジル基)
を表す。
(例えばフェニル、ナフチル基)を表す。R1,R2,R
3,R4はそれぞれ水素原子、アルキル基(例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル等の低級アルキル
基、更に高級アルキル基)、アリール基(例えばフェニ
ル、ナフチル基)、アラルキル基(例えばベンジル基)
を表す。
【0017】また上記のアリール基及びアルキル基、ア
リール基、アラルキル基は各々置換基を有していてもよ
く、置換基としては例えばヒドロキシ基、アルコキシ
基、ヒドロキシアルキル基、アミノ基、ニトロ基、スル
ホ基、カルボキシル基、ハロゲン原子を挙げることがで
きる。
リール基、アラルキル基は各々置換基を有していてもよ
く、置換基としては例えばヒドロキシ基、アルコキシ
基、ヒドロキシアルキル基、アミノ基、ニトロ基、スル
ホ基、カルボキシル基、ハロゲン原子を挙げることがで
きる。
【0018】上記の一般式のうちR1は水素原子かアミ
ノ基で置換されたアルキル基、ヒドロキシアルキル基が
好ましい。R4は水素原子が好ましい。
ノ基で置換されたアルキル基、ヒドロキシアルキル基が
好ましい。R4は水素原子が好ましい。
【0019】更に好ましくはR2がヒドロキシアルキル
基であって、R3がヒドロキシアルキル基、アルキル
基、又は置換アルキル基であって、Rがアリール又は置
換アリール基である。
基であって、R3がヒドロキシアルキル基、アルキル
基、又は置換アルキル基であって、Rがアリール又は置
換アリール基である。
【0020】これらのアルキル基の炭素原子数としては
4以下が好ましい。
4以下が好ましい。
【0021】以下に本発明の一般式で表される化合物の
例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【0022】A−1 1−フェニル−3−ピラゾリドン A−2 1−フェニル−4,4−ジヒドロキシメチル−
3−ピラゾリドン A−3 1−p−トリル−4,4−ジヒドロキシメチル
−3−ピラゾリドン A−4 1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4−メ
チル−3−ピラゾリドン A−5 1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン A−6 1−フェニル−2−ヒドロキシメチル−4,4
−ジメチル−3−ピラゾリドン A−7 1−フェニル−2−モルホリノメチル−4,4
−ジメチル−3−ピラゾリドン A−8 1−フェニル−2−モルホリノメチル−4−メ
チル−3−ピラゾリドン A−9 1−フェニル−2−ヒドロキシメチル−4−メ
チル−3−ピラゾリドン A−10 1−フェニル−5,5−ジメチル−3−ピラ
ゾリドン A−11 1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリド
ン A−12 1−p−トリル−4−メチル−4−ジヒドロ
キシメチル−3−ピラゾリドン A−13 1−p−ヒドロキシフェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン A−14 1−o−トリル−4−メチル−4−ジヒドロ
キシメチル−3−ピラゾリドン A−15 1−p−メトキシフェニル−4−メチル−4
−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン A−16 1−(3,5−ジメチル)フェニル−4−メ
チル−4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 一般式(1)で表される化合物をハロゲン化銀乳剤層に
添加する場合は、ハロゲン化銀1モル当たり1×10-6
〜5×10-1モルが好ましく、更に好ましくは、3×1
0-6〜1×10-2モルが好ましい。
3−ピラゾリドン A−3 1−p−トリル−4,4−ジヒドロキシメチル
−3−ピラゾリドン A−4 1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4−メ
チル−3−ピラゾリドン A−5 1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン A−6 1−フェニル−2−ヒドロキシメチル−4,4
−ジメチル−3−ピラゾリドン A−7 1−フェニル−2−モルホリノメチル−4,4
−ジメチル−3−ピラゾリドン A−8 1−フェニル−2−モルホリノメチル−4−メ
チル−3−ピラゾリドン A−9 1−フェニル−2−ヒドロキシメチル−4−メ
チル−3−ピラゾリドン A−10 1−フェニル−5,5−ジメチル−3−ピラ
ゾリドン A−11 1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリド
ン A−12 1−p−トリル−4−メチル−4−ジヒドロ
キシメチル−3−ピラゾリドン A−13 1−p−ヒドロキシフェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン A−14 1−o−トリル−4−メチル−4−ジヒドロ
キシメチル−3−ピラゾリドン A−15 1−p−メトキシフェニル−4−メチル−4
−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン A−16 1−(3,5−ジメチル)フェニル−4−メ
チル−4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 一般式(1)で表される化合物をハロゲン化銀乳剤層に
添加する場合は、ハロゲン化銀1モル当たり1×10-6
〜5×10-1モルが好ましく、更に好ましくは、3×1
0-6〜1×10-2モルが好ましい。
【0023】また、一般式(1)で表される化合物を非
感光性ゼラチン層に添加する場合は、1×10-7〜5×
10-2モル/m2が好ましく、更に好ましくは、3×1
0-7〜1×10-3モル/m2が好ましい。
感光性ゼラチン層に添加する場合は、1×10-7〜5×
10-2モル/m2が好ましく、更に好ましくは、3×1
0-7〜1×10-3モル/m2が好ましい。
【0024】本発明に用いられる一般式(2)で表され
る化合物は、酸解離定数が1×10-8以下、銀イオンと
の溶解度積が1×10-10以下の物性値を有するような
ものであればよく、式中のZはヘテロ環を形成するのに
必要な原子群であり、該ヘテロ環は任意のヘテロ環を選
ぶことができるが、特に好ましいものとしてはベンゾイ
ミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、8−
アザプリン環、ピラゾロピリミジン環を挙げることがで
きる。該ヘテロ環は置換基を有していてもよく、例え
ば、ハロゲン原子(例えば塩素、臭素、沃素等の各原
子)、ニトロ基、アミノ基、それぞれ置換されてもよい
C1〜C20のアルキル基、C1〜C16のアルキルチオ基、
アルキルアミノ基等が挙げられる。
る化合物は、酸解離定数が1×10-8以下、銀イオンと
の溶解度積が1×10-10以下の物性値を有するような
ものであればよく、式中のZはヘテロ環を形成するのに
必要な原子群であり、該ヘテロ環は任意のヘテロ環を選
ぶことができるが、特に好ましいものとしてはベンゾイ
ミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、8−
アザプリン環、ピラゾロピリミジン環を挙げることがで
きる。該ヘテロ環は置換基を有していてもよく、例え
ば、ハロゲン原子(例えば塩素、臭素、沃素等の各原
子)、ニトロ基、アミノ基、それぞれ置換されてもよい
C1〜C20のアルキル基、C1〜C16のアルキルチオ基、
アルキルアミノ基等が挙げられる。
【0025】本発明において、一般式(2)で表される
化合物の酸解離定数は1×10-8〜1×10-18の範囲
が好ましい。
化合物の酸解離定数は1×10-8〜1×10-18の範囲
が好ましい。
【0026】以下に本発明に用いられる一般式(2)で
表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
【0027】
【化5】
【0028】
【化6】
【0029】
【化7】
【0030】
【化8】
【0031】上記一般式(2)で表される化合物のハロ
ゲン化銀乳剤に添加される添加量はハロゲン化銀1モル
当たり2×10-7〜1×10-2モルを用いるのが好まし
いが、更に好ましくは2×10-7〜5×10-3モルであ
る。上記一般式(2)で表される化合物のハロゲン化銀
乳剤への添加方法は、該乳剤に有害な作用を及ぼさない
適当な溶媒、例えば水或いはアルカリ水溶液に溶解し
て、溶液として添加する方法を挙げることができる。
又、固体微粒子状にして添加することもできる。上記一
般式(2)で表される化合物をハロゲン化銀乳剤に添加
する際の添加時間は、化学増感工程の開始前、途中、終
了後の何れの時間でもよい。
ゲン化銀乳剤に添加される添加量はハロゲン化銀1モル
当たり2×10-7〜1×10-2モルを用いるのが好まし
いが、更に好ましくは2×10-7〜5×10-3モルであ
る。上記一般式(2)で表される化合物のハロゲン化銀
乳剤への添加方法は、該乳剤に有害な作用を及ぼさない
適当な溶媒、例えば水或いはアルカリ水溶液に溶解し
て、溶液として添加する方法を挙げることができる。
又、固体微粒子状にして添加することもできる。上記一
般式(2)で表される化合物をハロゲン化銀乳剤に添加
する際の添加時間は、化学増感工程の開始前、途中、終
了後の何れの時間でもよい。
【0032】本発明に用いられる一般式(3)で表され
る化合物について説明する。
る化合物について説明する。
【0033】前記一般式(3)において、R21及びR22
で表される脂肪族基としては炭素数1〜30、好ましく
は1〜20の直鎖、又は分岐したアルキル、アルケニ
ル、アルキニル又はシクロアルキル基が挙げられる。具
体的には例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、
ヘキシル、デシル、ドデシル、イソプロピル、t−ブチ
ル、2−エチルヘキシル、アリル、2−ブテニル、7−
オクテニル、プロパルギル、2−ブチニル、シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロドデシ
ル等の各基が挙げられる。R21及びR22で表される芳香
族基としては炭素数6〜20のものが挙げられ、具体的
には例えばフェニル、ナフチル、アントラニル等の各基
が挙げられる。R21及びR22で表されるヘテロ環基とし
ては、単環でも縮合環でもよく、O、S、及びN原子の
少なくとも1種を環内に有する5〜6員のヘテロ環基が
挙げられる。具体的には例えば、ピロリジン、ピペリジ
ン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、オキシ
ラン、モルホリン、チオモルホリン、チオピラン、テト
ラヒドロチオフェン、ピロール、ピリジン、フラン、チ
オフェン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、
チアゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、トリア
ゾール、テトラゾール、チアジアゾール、オキサジアゾ
ール及びこれらのベンゼローグ類から導かれる基が挙げ
られる。R21及びR22で環を形成するものとしては員数
4から7員環を挙げることができる。このましくは5〜
7員環である。R21及びR22で好ましい基としてはヘテ
ロ環基であり、更に好ましくはヘテロ芳香族環基であ
る。R21及びR22で表される脂肪族基、芳香族基又はヘ
テロ環基は更に置換されていてもよく、該置換基として
はハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アル
キル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、
ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロ
メチル基、t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例え
ばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アラルキ
ル基(例えばベンジル基、2−フェネチル基等)、アリ
ール基(例えばフェニル基、ナフチル基、p−トリル
基、p−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例えば
メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基、4−
メトキシフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基
(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基
等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチ
オ基、ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェ
ニルチオ基、p−メチルフェニルチオ基等)、スルホニ
ルアミノ基(例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼ
ンスルホニルアミノ基等)、ウレイド基(例えば3−メ
チルウレイド基、3,3−ジメチルウレイド基、1,3
−ジメチルウレイド基等)、スルファモイルアミノ基
(ジメチルスルファモイルアミノ基、ジエチルスルファ
モイルアミノ基等)、カルバモイル基(例えばメチルカ
ルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバ
モイル基等)、スルファモイル基(例えばエチルスルフ
ァモイル基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキ
シカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例
えばフェノキシカルボニル基、p−クロロフェノキシカ
ルボニル基等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニ
ル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基
等)、アシル基(例えばアセチル基、プロパノイル基、
ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エチル
アミノ基、ジメチルアミノ基等)、ヒドロキシ基、ニト
ロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基(例えばピリジン
ン−オキシド基等)、イミド基(例えばフタルイミド基
等)、ジスルフィド基(例えばベンゼンジスルフィド
基、ベンズチアゾリル−2−ジスルフィド基等)、ヘテ
ロ環基(例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、
ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)が挙げ
られる。R21及びR22はこれらの置換基の中から単独又
は複数を有することができる。またそれぞれの置換基は
更に上記の置換基で置換されていてもよい。mは2〜6
の整数で、好ましくは2〜3である。
で表される脂肪族基としては炭素数1〜30、好ましく
は1〜20の直鎖、又は分岐したアルキル、アルケニ
ル、アルキニル又はシクロアルキル基が挙げられる。具
体的には例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、
ヘキシル、デシル、ドデシル、イソプロピル、t−ブチ
ル、2−エチルヘキシル、アリル、2−ブテニル、7−
オクテニル、プロパルギル、2−ブチニル、シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロドデシ
ル等の各基が挙げられる。R21及びR22で表される芳香
族基としては炭素数6〜20のものが挙げられ、具体的
には例えばフェニル、ナフチル、アントラニル等の各基
が挙げられる。R21及びR22で表されるヘテロ環基とし
ては、単環でも縮合環でもよく、O、S、及びN原子の
少なくとも1種を環内に有する5〜6員のヘテロ環基が
挙げられる。具体的には例えば、ピロリジン、ピペリジ
ン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、オキシ
ラン、モルホリン、チオモルホリン、チオピラン、テト
ラヒドロチオフェン、ピロール、ピリジン、フラン、チ
オフェン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、
チアゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、トリア
ゾール、テトラゾール、チアジアゾール、オキサジアゾ
ール及びこれらのベンゼローグ類から導かれる基が挙げ
られる。R21及びR22で環を形成するものとしては員数
4から7員環を挙げることができる。このましくは5〜
7員環である。R21及びR22で好ましい基としてはヘテ
ロ環基であり、更に好ましくはヘテロ芳香族環基であ
る。R21及びR22で表される脂肪族基、芳香族基又はヘ
テロ環基は更に置換されていてもよく、該置換基として
はハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アル
キル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、
ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロ
メチル基、t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例え
ばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アラルキ
ル基(例えばベンジル基、2−フェネチル基等)、アリ
ール基(例えばフェニル基、ナフチル基、p−トリル
基、p−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例えば
メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基、4−
メトキシフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基
(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基
等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチ
オ基、ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェ
ニルチオ基、p−メチルフェニルチオ基等)、スルホニ
ルアミノ基(例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼ
ンスルホニルアミノ基等)、ウレイド基(例えば3−メ
チルウレイド基、3,3−ジメチルウレイド基、1,3
−ジメチルウレイド基等)、スルファモイルアミノ基
(ジメチルスルファモイルアミノ基、ジエチルスルファ
モイルアミノ基等)、カルバモイル基(例えばメチルカ
ルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバ
モイル基等)、スルファモイル基(例えばエチルスルフ
ァモイル基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキ
シカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例
えばフェノキシカルボニル基、p−クロロフェノキシカ
ルボニル基等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニ
ル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基
等)、アシル基(例えばアセチル基、プロパノイル基、
ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エチル
アミノ基、ジメチルアミノ基等)、ヒドロキシ基、ニト
ロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基(例えばピリジン
ン−オキシド基等)、イミド基(例えばフタルイミド基
等)、ジスルフィド基(例えばベンゼンジスルフィド
基、ベンズチアゾリル−2−ジスルフィド基等)、ヘテ
ロ環基(例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、
ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)が挙げ
られる。R21及びR22はこれらの置換基の中から単独又
は複数を有することができる。またそれぞれの置換基は
更に上記の置換基で置換されていてもよい。mは2〜6
の整数で、好ましくは2〜3である。
【0034】以下に本発明で用いられる一般式(3)で
表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
【0035】
【化9】
【0036】
【化10】
【0037】
【化11】
【0038】一般式(3)で表される化合物のハロゲン
化銀乳剤層に添加される添加量は、ハロゲン化銀1モル
当たり1×10-6〜1×10-1モルが好ましく、更に好
ましくは、3×10-6〜1×10-2モルが好ましい。
化銀乳剤層に添加される添加量は、ハロゲン化銀1モル
当たり1×10-6〜1×10-1モルが好ましく、更に好
ましくは、3×10-6〜1×10-2モルが好ましい。
【0039】本発明の一般式(4)で表される化合物は
下記一般式(5)又は(6)で表される化合物が好まし
い。
下記一般式(5)又は(6)で表される化合物が好まし
い。
【0040】
【化12】
【0041】一般式(4)、(5)及び(6)で表され
る化合物に於いてメルカプト基をブロックされた基と
は、現像処理時にブロック基が解裂してメルカプト基に
なりうる基で、そのブロック基の具体例としてはアシル
基、スルホニル基、シアノエチル基等が挙げられる。一
般式(4)におけるHetで表される含窒素ヘテロ環の
具体例としてはピロリジン、ピペリジン、モルホリン、
チオモルホリン、ピロール、ピリジン、ピリミジン、ピ
ラジン、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、オキ
サゾール、チアゾール、イソキサゾール、イソチアゾー
ル、トリアゾール、テトラゾール、チアジアゾール、オ
キサジアゾールなどのヘテロ環及びこれらのベンゼン環
との縮合環類が挙げられる。
る化合物に於いてメルカプト基をブロックされた基と
は、現像処理時にブロック基が解裂してメルカプト基に
なりうる基で、そのブロック基の具体例としてはアシル
基、スルホニル基、シアノエチル基等が挙げられる。一
般式(4)におけるHetで表される含窒素ヘテロ環の
具体例としてはピロリジン、ピペリジン、モルホリン、
チオモルホリン、ピロール、ピリジン、ピリミジン、ピ
ラジン、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、オキ
サゾール、チアゾール、イソキサゾール、イソチアゾー
ル、トリアゾール、テトラゾール、チアジアゾール、オ
キサジアゾールなどのヘテロ環及びこれらのベンゼン環
との縮合環類が挙げられる。
【0042】一般式(4)〜(6)におけるJで表され
る連結基は具体的にはアルキレン、アリーレン、ヘテロ
アリーレン、−SO2−、−SO−、−O−、−S−、
−N(R13)−を単独、又は組み合わせて構成される基
が挙げられる。但し、R13はアルキル基、アリール基、
水素原子を表す。Jは好ましくはアリーレンであり、最
も好ましくはフェニレンである。nは0又は1が好まし
い。
る連結基は具体的にはアルキレン、アリーレン、ヘテロ
アリーレン、−SO2−、−SO−、−O−、−S−、
−N(R13)−を単独、又は組み合わせて構成される基
が挙げられる。但し、R13はアルキル基、アリール基、
水素原子を表す。Jは好ましくはアリーレンであり、最
も好ましくはフェニレンである。nは0又は1が好まし
い。
【0043】一般式(4)〜(6)におけるQで表され
る水溶性基とは、現像液中でアニオン化が可能な基を表
し具体的にはスルホンアミド基、スルファモイル基、フ
ェノール性水酸基、カルボキシル基、スルホ基、及びそ
れらの塩が挙げられる。好ましくはカルボキシル基、ス
ルホ基である。n1、aは1又は2が好ましい。
る水溶性基とは、現像液中でアニオン化が可能な基を表
し具体的にはスルホンアミド基、スルファモイル基、フ
ェノール性水酸基、カルボキシル基、スルホ基、及びそ
れらの塩が挙げられる。好ましくはカルボキシル基、ス
ルホ基である。n1、aは1又は2が好ましい。
【0044】一般式(5)のWは酸素原子、硫黄原子、
窒素原子又はC(R11)を表し、Xは窒素原子又はC
(R11)を表し、Z1とともに5〜6員のヘテロ環を表
す。
窒素原子又はC(R11)を表し、Xは窒素原子又はC
(R11)を表し、Z1とともに5〜6員のヘテロ環を表
す。
【0045】一般式(5)においてZ1とともに構成さ
れる5〜6員のヘテロ環としてはピリジン、ピリミジ
ン、ピラジン、トリアジン、イミダゾール、ピラゾー
ル、オキサゾール、チアゾール、イソキサゾール、イソ
チアゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアジアゾ
ール、オキサジアゾールの各環及びこれらのベンゼン環
との縮合環類が挙げられる。好ましくはトリアゾール、
テトラゾールである。
れる5〜6員のヘテロ環としてはピリジン、ピリミジ
ン、ピラジン、トリアジン、イミダゾール、ピラゾー
ル、オキサゾール、チアゾール、イソキサゾール、イソ
チアゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアジアゾ
ール、オキサジアゾールの各環及びこれらのベンゼン環
との縮合環類が挙げられる。好ましくはトリアゾール、
テトラゾールである。
【0046】R11で表される置換基としては具体的には
ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロ
キシエチル基、メトキメチル基、トリフルオロメチル
基、t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例えばシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アラルキル基
(例えばベンジル基、2−フェネチル基等)、アリール
基(例えばフェニル基、ナフチル基、p−トリル基、p
−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例えばメトキ
シ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基
等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基等)、シ
アノ基、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プ
ロピオニルアミノ基、アルキルチオ基(例えばメチルチ
オ基、エチルチオ基、n−ブチルチオ基等)、アリール
チオ基(例えばフェニルチオ基等)、スルホニルアミノ
基(例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホ
ニルアミノ基等)、ウレイド基(例えば3−メチルウレ
イド、3,3−ジメチルウレイド基、1,3−ジメチル
ウレイド基等)、スルファモイルアミド基(ジメチルス
ルファモイルアミノ基等)、カルバモイル基(例えばメ
チルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチル
カルバモイル基等)、スルファモイル基(例えばエチル
スルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等)、ア
ルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル
基(例えばフェノキシカルボニル基等)、スルホニル基
(例えば背メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、
フェニルスルホニル基等)、アシル基(例えばアセチル
基、プロパノイル基、ブチロイル基等)、アミノ基(メ
チルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基
等)、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオ
キシド基(例えばピリジン−オキシド基)、イミド基
(例えばフタルイミド基等)、ジスルフィド基(例えば
ベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−2−ジス
ルフィド基等)、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環
基(例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベン
ズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)が挙げられ
る。
ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロ
キシエチル基、メトキメチル基、トリフルオロメチル
基、t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例えばシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アラルキル基
(例えばベンジル基、2−フェネチル基等)、アリール
基(例えばフェニル基、ナフチル基、p−トリル基、p
−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例えばメトキ
シ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基
等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基等)、シ
アノ基、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プ
ロピオニルアミノ基、アルキルチオ基(例えばメチルチ
オ基、エチルチオ基、n−ブチルチオ基等)、アリール
チオ基(例えばフェニルチオ基等)、スルホニルアミノ
基(例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホ
ニルアミノ基等)、ウレイド基(例えば3−メチルウレ
イド、3,3−ジメチルウレイド基、1,3−ジメチル
ウレイド基等)、スルファモイルアミド基(ジメチルス
ルファモイルアミノ基等)、カルバモイル基(例えばメ
チルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチル
カルバモイル基等)、スルファモイル基(例えばエチル
スルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等)、ア
ルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル
基(例えばフェノキシカルボニル基等)、スルホニル基
(例えば背メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、
フェニルスルホニル基等)、アシル基(例えばアセチル
基、プロパノイル基、ブチロイル基等)、アミノ基(メ
チルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基
等)、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオ
キシド基(例えばピリジン−オキシド基)、イミド基
(例えばフタルイミド基等)、ジスルフィド基(例えば
ベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−2−ジス
ルフィド基等)、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環
基(例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベン
ズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)が挙げられ
る。
【0047】一般式(6)において、P、V、Y、Tは
各々窒素原子又はC(R11)を表す。R11は一般式
(5)と同義である。P、V、Y、Tはそのうちの3つ
がN原子であることが好ましく、特にP、V、Yが窒素
原子である場合が特に好ましい。
各々窒素原子又はC(R11)を表す。R11は一般式
(5)と同義である。P、V、Y、Tはそのうちの3つ
がN原子であることが好ましく、特にP、V、Yが窒素
原子である場合が特に好ましい。
【0048】一般式(4)〜(6)で表される化合物の
−(J)n−(Q)n1以外のヘテロ環の置換位置には
置換基を有していても良く、その具体例は上述の置換基
を挙げることが出来る。
−(J)n−(Q)n1以外のヘテロ環の置換位置には
置換基を有していても良く、その具体例は上述の置換基
を挙げることが出来る。
【0049】以下、本発明の一般式(4)から(6)で
表される化合物の具体例を挙げるが本発明はこれらに限
定されるものではない。
表される化合物の具体例を挙げるが本発明はこれらに限
定されるものではない。
【0050】
【化13】
【0051】
【化14】
【0052】本発明の一般式(4)〜(6)で表される
化合物はJ.Prakt.Chem.[2],124,
286等の公知の文献に記載の方法で容易に合成するこ
とができる。
化合物はJ.Prakt.Chem.[2],124,
286等の公知の文献に記載の方法で容易に合成するこ
とができる。
【0053】一般式(4)で表される化合物のハロゲン
化銀乳剤層に添加される添加量は、ハロゲン化銀1モル
当たり1×10-6〜1×10-1モルが好ましく、更に好
ましくは、3×10-6〜1×10-2モルが好ましい。
化銀乳剤層に添加される添加量は、ハロゲン化銀1モル
当たり1×10-6〜1×10-1モルが好ましく、更に好
ましくは、3×10-6〜1×10-2モルが好ましい。
【0054】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子のハ
ロゲン組成は任意であり、臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化
銀、塩臭化銀、塩化銀、塩沃化銀、沃化銀のいずれであ
ってもよい。
ロゲン組成は任意であり、臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化
銀、塩臭化銀、塩化銀、塩沃化銀、沃化銀のいずれであ
ってもよい。
【0055】本発明のアスペクト比2以上の平板状ハロ
ゲン化銀粒子は、2つの平行する(111)の主平面に
互いに平行な双晶面を2枚有する平板状ハロゲン化銀粒
子でも、2つの平行する(100)面を主平面とする平
板状ハロゲン化銀粒子でもよい。
ゲン化銀粒子は、2つの平行する(111)の主平面に
互いに平行な双晶面を2枚有する平板状ハロゲン化銀粒
子でも、2つの平行する(100)面を主平面とする平
板状ハロゲン化銀粒子でもよい。
【0056】双晶とは、一つの粒子内に一つ以上の双晶
面を有するハロゲン化銀結晶であるが、双晶の形態の分
類はクラインとモイザーによる報文ホトグラフィッシェ
・コレスポンデンツ〔Photographishe
Korrespondenz〕99巻99頁、同100
巻、57頁に詳しく述べられている。
面を有するハロゲン化銀結晶であるが、双晶の形態の分
類はクラインとモイザーによる報文ホトグラフィッシェ
・コレスポンデンツ〔Photographishe
Korrespondenz〕99巻99頁、同100
巻、57頁に詳しく述べられている。
【0057】双晶面は、透過型電子顕微鏡により観察す
ることができる。具体的な方法は次のとおりである。ま
ず、含有されるハロゲン化銀粒子が支持体上に配向する
様にハロゲン化銀写真乳剤を塗布し、試料を作製する。
これをダイヤモンド・カッターを用いて切削し、厚さ
0.1μm程度の薄切片を得る。この切片を透過型電子
顕微鏡で観察することにより双晶面の存在を確認するこ
とができる。
ることができる。具体的な方法は次のとおりである。ま
ず、含有されるハロゲン化銀粒子が支持体上に配向する
様にハロゲン化銀写真乳剤を塗布し、試料を作製する。
これをダイヤモンド・カッターを用いて切削し、厚さ
0.1μm程度の薄切片を得る。この切片を透過型電子
顕微鏡で観察することにより双晶面の存在を確認するこ
とができる。
【0058】平板状ハロゲン化銀乳剤を得る方法として
は、種結晶上にハロゲン化銀を析出させる方法を用いて
もよく、平板状ハロゲン化銀乳剤を得るための、水溶性
銀塩溶液と水溶性ハロゲン化物溶液を保護コロイドの存
在化に供給して行うハロゲン化銀写真乳剤の製造方法に
おいて、 (イ)分散媒体中に銀塩及びハロゲン化物塩を導入し平
板状の核形成を行う工程 (ロ)核形成に引き続き、平板状粒子の(100)また
は(111)主面を維持する条件でオストワルド熟成を
行う工程 (ハ)次いで、水溶性銀塩溶液と水溶性ハロゲン化物溶
液及び/又はハロゲン化微粒子を加えて種粒子を肥大さ
せ、所望の粒径、ハロゲン組成になるように粒子成長を
行う工程(粒子形成工程)を設ける方法を用いてもよ
い。
は、種結晶上にハロゲン化銀を析出させる方法を用いて
もよく、平板状ハロゲン化銀乳剤を得るための、水溶性
銀塩溶液と水溶性ハロゲン化物溶液を保護コロイドの存
在化に供給して行うハロゲン化銀写真乳剤の製造方法に
おいて、 (イ)分散媒体中に銀塩及びハロゲン化物塩を導入し平
板状の核形成を行う工程 (ロ)核形成に引き続き、平板状粒子の(100)また
は(111)主面を維持する条件でオストワルド熟成を
行う工程 (ハ)次いで、水溶性銀塩溶液と水溶性ハロゲン化物溶
液及び/又はハロゲン化微粒子を加えて種粒子を肥大さ
せ、所望の粒径、ハロゲン組成になるように粒子成長を
行う工程(粒子形成工程)を設ける方法を用いてもよ
い。
【0059】アスペクト比は粒子厚さに対する粒径の比
で表されるが、ここで粒径とは平均投影面積径(以下粒
径と記す)のことで、平板状ハロゲン化銀粒子の投影面
積の円相当直径(該ハロゲン化銀粒子と同じ投影面積を
有する円の直径)で示され、厚さとは平板状ハロゲン化
銀粒子を形成する2つの平行な主平面間の距離をいう。
で表されるが、ここで粒径とは平均投影面積径(以下粒
径と記す)のことで、平板状ハロゲン化銀粒子の投影面
積の円相当直径(該ハロゲン化銀粒子と同じ投影面積を
有する円の直径)で示され、厚さとは平板状ハロゲン化
銀粒子を形成する2つの平行な主平面間の距離をいう。
【0060】本発明において平板状ハロゲン化銀粒子が
含まれる乳剤層には全投影面積の50%以上が平板状ハ
ロゲン化銀粒子からなり、好ましくは70%以上、更に
好ましくは90%以上である。
含まれる乳剤層には全投影面積の50%以上が平板状ハ
ロゲン化銀粒子からなり、好ましくは70%以上、更に
好ましくは90%以上である。
【0061】平板状ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.
15〜5.0μmであることが好ましく、0.4〜3.
0μmであることが更に好ましく、最も好ましくは0.
4〜2.0μmである。
15〜5.0μmであることが好ましく、0.4〜3.
0μmであることが更に好ましく、最も好ましくは0.
4〜2.0μmである。
【0062】平板状ハロゲン化銀粒子の平均厚さは0.
15〜0.3μmであることが好ましく、粒径及び厚さ
は、感度、その他写真特性を最良にするように最適化す
ることができる。感度、その他写真特性に影響する感光
材料を構成する他の因子(親水性コロイド層の厚さ、硬
膜度、化学熟成条件、感光材料の設定感度、銀付量等)
によって最適粒径、最適厚さは異なる。
15〜0.3μmであることが好ましく、粒径及び厚さ
は、感度、その他写真特性を最良にするように最適化す
ることができる。感度、その他写真特性に影響する感光
材料を構成する他の因子(親水性コロイド層の厚さ、硬
膜度、化学熟成条件、感光材料の設定感度、銀付量等)
によって最適粒径、最適厚さは異なる。
【0063】ハロゲン化銀粒子は粒子間のハロゲン組成
比率がより均一になっていることが好ましい。例えば、
EPMA法により粒子間の沃度含有量の分布を測定した
とき、相対標準偏差が35%以下、更に20%以下であ
ることが好ましい。
比率がより均一になっていることが好ましい。例えば、
EPMA法により粒子間の沃度含有量の分布を測定した
とき、相対標準偏差が35%以下、更に20%以下であ
ることが好ましい。
【0064】平板状ハロゲン化銀粒子は転位を有してい
てもよい。転位は例えばJ.F.Hamilton,P
hot.Sci.Eng,57(1967)や、T.S
hiozawa,J.Soc.Phot.Sci.Ja
pan,35,213(1972)に記載の低温での透
過型電子顕微鏡を用いた直接的な方法により観察するこ
とができる。即ち、乳剤から粒子に転位が発生する程の
圧力をかけないよう注意して取りだしたハロゲン化銀粒
子を電子顕微鏡観察用のメッシュに載せ、電子線による
損傷(プリントアウト等)を防ぐように試料を冷却した
状態で透過法により観察を行う。このとき、粒子の厚み
が厚いほど電子線が透過しにくくなるので、高圧型
(0.25μmの厚さの粒子に対して200kv以上)
の電子顕微鏡を用いた方がより鮮明に観察することがで
きる。
てもよい。転位は例えばJ.F.Hamilton,P
hot.Sci.Eng,57(1967)や、T.S
hiozawa,J.Soc.Phot.Sci.Ja
pan,35,213(1972)に記載の低温での透
過型電子顕微鏡を用いた直接的な方法により観察するこ
とができる。即ち、乳剤から粒子に転位が発生する程の
圧力をかけないよう注意して取りだしたハロゲン化銀粒
子を電子顕微鏡観察用のメッシュに載せ、電子線による
損傷(プリントアウト等)を防ぐように試料を冷却した
状態で透過法により観察を行う。このとき、粒子の厚み
が厚いほど電子線が透過しにくくなるので、高圧型
(0.25μmの厚さの粒子に対して200kv以上)
の電子顕微鏡を用いた方がより鮮明に観察することがで
きる。
【0065】平板状ハロゲン化銀粒子は粒径分布の狭い
単分散乳剤が好ましく、具体的には (粒径の標準偏差/平均粒径)×100=粒径分布の広
さ(%) によって分布の広さを定義したとき25%以下のものが
好ましく、更に好ましくは20%以下のものである。
単分散乳剤が好ましく、具体的には (粒径の標準偏差/平均粒径)×100=粒径分布の広
さ(%) によって分布の広さを定義したとき25%以下のものが
好ましく、更に好ましくは20%以下のものである。
【0066】平板状ハロゲン化銀粒子は厚さの分布が小
さいことが好ましい。具体的には、 (厚さの標準偏差/平均厚さ)×100=厚さ分布の広
さ(%) によって分布の広さを定義したとき25%以下のものが
好ましく、更に好ましくは20%以下のものである。
さいことが好ましい。具体的には、 (厚さの標準偏差/平均厚さ)×100=厚さ分布の広
さ(%) によって分布の広さを定義したとき25%以下のものが
好ましく、更に好ましくは20%以下のものである。
【0067】ハロゲン化銀粒子を得るために、製造され
た種粒子を肥大させる条件としては、特開昭51−39
027号、同55−142329号、同58−1139
28号、同54−48521号及び同58−49938
号にも見られるように、水溶性銀塩溶液と水溶性ハライ
ド溶液をダブルジェット法によって添加し、添加速度を
粒子の肥大に応じて新核形成が起こらず、オストワルド
熟成が起こらない範囲で徐々に変化させることが挙げら
れる。種粒子を肥大させる別の条件として、日本写真学
会昭和58年年次大会要旨集88項に見られるように、
ハロゲン化銀微粒子を加え溶解、再結晶することにより
肥大させる方法も用い得る。
た種粒子を肥大させる条件としては、特開昭51−39
027号、同55−142329号、同58−1139
28号、同54−48521号及び同58−49938
号にも見られるように、水溶性銀塩溶液と水溶性ハライ
ド溶液をダブルジェット法によって添加し、添加速度を
粒子の肥大に応じて新核形成が起こらず、オストワルド
熟成が起こらない範囲で徐々に変化させることが挙げら
れる。種粒子を肥大させる別の条件として、日本写真学
会昭和58年年次大会要旨集88項に見られるように、
ハロゲン化銀微粒子を加え溶解、再結晶することにより
肥大させる方法も用い得る。
【0068】成長に当たっては硝酸銀水溶液とハロゲン
化物水溶液をダブルジェット添加すことができるが、沃
度は沃化銀として系内に供給することもできる。添加速
度は、新しい核が発生しないような速度で、かつオスト
ワルド熟成によるサイズ分布の広がりがない速度、即ち
新しい核が発生する速度の30〜100%の範囲で添加
することが好ましい。
化物水溶液をダブルジェット添加すことができるが、沃
度は沃化銀として系内に供給することもできる。添加速
度は、新しい核が発生しないような速度で、かつオスト
ワルド熟成によるサイズ分布の広がりがない速度、即ち
新しい核が発生する速度の30〜100%の範囲で添加
することが好ましい。
【0069】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、
上述した平板状ハロゲン化銀粒子の外に、立方体、14
面体、8面体のような正常晶粒子でもよく、球状の粒
子、板状の粒子あるいはアスペクト比が2未満の双晶粒
子から成っていてもよく、じゃがいも状などの変則的な
結晶形を有するものでもよい。
上述した平板状ハロゲン化銀粒子の外に、立方体、14
面体、8面体のような正常晶粒子でもよく、球状の粒
子、板状の粒子あるいはアスペクト比が2未満の双晶粒
子から成っていてもよく、じゃがいも状などの変則的な
結晶形を有するものでもよい。
【0070】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤の製
造に当たっては、製造時の撹拌条件が極めて重要であ
る。撹拌装置としては特開昭62−160128号に示
される、添加液ノズルを撹拌機の母液吸入口に近く液中
に設置した装置が特に好ましく用いられる。又、この
際、撹拌回転数は100〜1200rpmにすることが
好ましい。
造に当たっては、製造時の撹拌条件が極めて重要であ
る。撹拌装置としては特開昭62−160128号に示
される、添加液ノズルを撹拌機の母液吸入口に近く液中
に設置した装置が特に好ましく用いられる。又、この
際、撹拌回転数は100〜1200rpmにすることが
好ましい。
【0071】また、乳剤の調製に当たって、種粒子形成
工程及び種粒子の成長時にアンモニア、チオエーテル、
チオ尿素等の公知のハロゲン化銀溶剤を存在させること
ができる。
工程及び種粒子の成長時にアンモニア、チオエーテル、
チオ尿素等の公知のハロゲン化銀溶剤を存在させること
ができる。
【0072】ハロゲン化銀粒子の作成において、成長時
は銀塩溶液とハライド溶液をダブルジェット法によって
添加し、添加速度を粒子の成長に応じて、新核形成が起
こらず、かつオストワルド熟成によるサイズ分布の広が
りがない速度、即ち新しい核が発生する速度の30〜1
00%の範囲で徐々に変化させる方法により所望の粒
径、分布を有する粒子を得ることができる。
は銀塩溶液とハライド溶液をダブルジェット法によって
添加し、添加速度を粒子の成長に応じて、新核形成が起
こらず、かつオストワルド熟成によるサイズ分布の広が
りがない速度、即ち新しい核が発生する速度の30〜1
00%の範囲で徐々に変化させる方法により所望の粒
径、分布を有する粒子を得ることができる。
【0073】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、
いわゆるハロゲン変換型(コンバージョン型)の粒子で
あっても構わない。ハロゲン変換量は銀量に対して0.
2モル%〜0.5モル%が好ましく、変換の時期は物理
熟成中でも物理熟成終了後でも良い。
いわゆるハロゲン変換型(コンバージョン型)の粒子で
あっても構わない。ハロゲン変換量は銀量に対して0.
2モル%〜0.5モル%が好ましく、変換の時期は物理
熟成中でも物理熟成終了後でも良い。
【0074】ハロゲン変換の方法としては、通常ハロゲ
ン変換前の粒子表面のハロゲン組成よりも銀との溶解度
積の小さいハロゲン水溶液またはハロゲン化銀微粒子を
添加する。このときの微粒子サイズとしては0.2μm
以下が好ましく、より好ましくは0.02〜0.1μm
である。
ン変換前の粒子表面のハロゲン組成よりも銀との溶解度
積の小さいハロゲン水溶液またはハロゲン化銀微粒子を
添加する。このときの微粒子サイズとしては0.2μm
以下が好ましく、より好ましくは0.02〜0.1μm
である。
【0075】ハロゲン化銀粒子の最表面の沃化銀を含有
させる場合、その方法としては、基盤となるハロゲン化
銀粒子を含有する乳剤に硝酸銀溶液とヨードイオンを含
有する溶液を同時添加する方法、沃化銀,沃臭化銀また
は塩沃臭化銀等のハロゲン化銀微粒子を添加する方法、
沃化カリウムまたは沃化カリウムと臭化カリウムの混合
物等の添加法などが適用できる。これらのうち好ましい
のはハロゲン化銀微粒子を添加する方法である。特に好
ましいのは沃化銀微粒子の添加である。
させる場合、その方法としては、基盤となるハロゲン化
銀粒子を含有する乳剤に硝酸銀溶液とヨードイオンを含
有する溶液を同時添加する方法、沃化銀,沃臭化銀また
は塩沃臭化銀等のハロゲン化銀微粒子を添加する方法、
沃化カリウムまたは沃化カリウムと臭化カリウムの混合
物等の添加法などが適用できる。これらのうち好ましい
のはハロゲン化銀微粒子を添加する方法である。特に好
ましいのは沃化銀微粒子の添加である。
【0076】上記の最表面の沃化銀含有率を調整する時
期は、ハロゲン化銀結晶の製造工程の最終的過程から化
学熟成工程、更にハロゲン化銀乳剤の塗布直前の調液工
程終了までの間に選ぶことができるが、化学熟成工程終
了までに調整することが好ましい。ここで言う化学熟成
工程とは、本発明のハロゲン化銀乳剤の物理熟成及び脱
塩操作が終了した時点から、化学増感剤を添加し、その
後化学熟成を停止するための操作を施した時点までの間
を指す。又、ハロゲン化銀微粒子の添加は時間間隔をと
って数回に分けて行ってもよいし、該微粒子の添加後
に、更に別の化学熟成済み乳剤を加えてもよい。
期は、ハロゲン化銀結晶の製造工程の最終的過程から化
学熟成工程、更にハロゲン化銀乳剤の塗布直前の調液工
程終了までの間に選ぶことができるが、化学熟成工程終
了までに調整することが好ましい。ここで言う化学熟成
工程とは、本発明のハロゲン化銀乳剤の物理熟成及び脱
塩操作が終了した時点から、化学増感剤を添加し、その
後化学熟成を停止するための操作を施した時点までの間
を指す。又、ハロゲン化銀微粒子の添加は時間間隔をと
って数回に分けて行ってもよいし、該微粒子の添加後
に、更に別の化学熟成済み乳剤を加えてもよい。
【0077】ハロゲン化銀微粒子を添加する際の本発明
の乳剤液の温度は、30〜80℃の範囲が好ましく、更
には40〜65℃の範囲が特に好ましい。又、本発明は
添加するハロゲン化銀微粒子が、添加後塗布直前までの
間に一部もしくは全部が消失する条件で実施されること
が好ましく、更に好ましい条件は添加したハロゲン化銀
微粒子の20%以上が塗布直前において消失しているこ
とである。
の乳剤液の温度は、30〜80℃の範囲が好ましく、更
には40〜65℃の範囲が特に好ましい。又、本発明は
添加するハロゲン化銀微粒子が、添加後塗布直前までの
間に一部もしくは全部が消失する条件で実施されること
が好ましく、更に好ましい条件は添加したハロゲン化銀
微粒子の20%以上が塗布直前において消失しているこ
とである。
【0078】本発明において現像速度を促進するために
脱塩工程前にハロゲン化銀溶剤を添加することも好まし
い。例えば、チオシアン酸化合物(チオシアン酸カリウ
ム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウ
ム等)を銀1モル当たり1×10-3モル以上、3×10
-2モル以下加えることが好ましい。
脱塩工程前にハロゲン化銀溶剤を添加することも好まし
い。例えば、チオシアン酸化合物(チオシアン酸カリウ
ム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウ
ム等)を銀1モル当たり1×10-3モル以上、3×10
-2モル以下加えることが好ましい。
【0079】本発明において、ハロゲン化銀粒子の保護
コロイド用分散媒としてはゼラチンを用いることが好ま
しく、ゼラチンとしてはアルカリ処理ゼラチン、酸処理
ゼラチン、低分子量ゼラチン(分子量が1000〜5
万)、フタル化ゼラチン等の修飾ゼラチンが用いられ
る。また、これ以外の親水性コロイドも使用できる。具
体的にはリサーチ・ディスクロージャー誌(Resea
rch Disclosure.以下RDと略す)第1
76巻No.17643(1978年12月)の項に記
載されているものが挙げられる。
コロイド用分散媒としてはゼラチンを用いることが好ま
しく、ゼラチンとしてはアルカリ処理ゼラチン、酸処理
ゼラチン、低分子量ゼラチン(分子量が1000〜5
万)、フタル化ゼラチン等の修飾ゼラチンが用いられ
る。また、これ以外の親水性コロイドも使用できる。具
体的にはリサーチ・ディスクロージャー誌(Resea
rch Disclosure.以下RDと略す)第1
76巻No.17643(1978年12月)の項に記
載されているものが挙げられる。
【0080】ハロゲン化銀粒子の作成において、ハロゲ
ン化銀粒子の成長時に不要な可溶性塩類を除去してもよ
いし、或いは含有させたままでもよい。該塩類を除去す
る場合にはRD第176巻No.17643のII項に記
載の方法に基づいて行うことができる。
ン化銀粒子の成長時に不要な可溶性塩類を除去してもよ
いし、或いは含有させたままでもよい。該塩類を除去す
る場合にはRD第176巻No.17643のII項に記
載の方法に基づいて行うことができる。
【0081】更に本発明に用いられるハロゲン化銀粒子
は、粒子を形成する過程及び/又は成長する過程で、カ
ドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩
(錯塩を含む)、ロジウム塩(錯塩を含む)及び鉄塩
(錯塩を含む)から選ばれる少なくとも1種の金属イオ
ンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子表面層にこれら
の金属元素を含有させることができ、また適当な還元的
雰囲気におくことにより、粒子内部及び/又は粒子表面
に還元増感核を付与できる。
は、粒子を形成する過程及び/又は成長する過程で、カ
ドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩
(錯塩を含む)、ロジウム塩(錯塩を含む)及び鉄塩
(錯塩を含む)から選ばれる少なくとも1種の金属イオ
ンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子表面層にこれら
の金属元素を含有させることができ、また適当な還元的
雰囲気におくことにより、粒子内部及び/又は粒子表面
に還元増感核を付与できる。
【0082】また、粒子形成の所望の時点で添加した還
元剤の作用を過酸化水素(水)及びその付加物、ペルオ
キソ酸塩、オゾン、I2等の酸化剤を所望の時点で添加
することによって失活させ、還元剤を抑制又は停止する
ことが好ましい。
元剤の作用を過酸化水素(水)及びその付加物、ペルオ
キソ酸塩、オゾン、I2等の酸化剤を所望の時点で添加
することによって失活させ、還元剤を抑制又は停止する
ことが好ましい。
【0083】酸化剤の添加時期は、ハロゲン化銀粒子形
成時から化学増感工程の金増感剤(金増感剤を用いない
場合には、化学増感剤)添加前までならば任意である。
成時から化学増感工程の金増感剤(金増感剤を用いない
場合には、化学増感剤)添加前までならば任意である。
【0084】ハロゲン化銀写真乳剤は、ハロゲン化銀粒
子の成長の終了時に不要な可溶性塩類を除去してもよい
し、あるいは含有させたままでもよい。該塩類を除去す
る場合には、リサーチ・ディスクロージャー(Rese
arch Disclosure,以下RDと略す)N
o.17643号II項に記載の方法に基づいて行うこと
ができ本発明のハロゲン化銀粒子は化学増感を施すこと
ができる。化学熟成即ち化学増感の工程の条件、例えば
pH、pAg、温度、時間等については特に制限がな
く、当業界で一般に行われている条件で行うことができ
る。化学増感のためには銀イオンと反応しうる硫黄を含
む化合物や活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、セレン化
合物を用いるセレン増感法、テルル化合物を用いるテル
ル増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金その他、
貴金属を用いる貴金属増感法等を単独または組み合わせ
て用いることができる。
子の成長の終了時に不要な可溶性塩類を除去してもよい
し、あるいは含有させたままでもよい。該塩類を除去す
る場合には、リサーチ・ディスクロージャー(Rese
arch Disclosure,以下RDと略す)N
o.17643号II項に記載の方法に基づいて行うこと
ができ本発明のハロゲン化銀粒子は化学増感を施すこと
ができる。化学熟成即ち化学増感の工程の条件、例えば
pH、pAg、温度、時間等については特に制限がな
く、当業界で一般に行われている条件で行うことができ
る。化学増感のためには銀イオンと反応しうる硫黄を含
む化合物や活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、セレン化
合物を用いるセレン増感法、テルル化合物を用いるテル
ル増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金その他、
貴金属を用いる貴金属増感法等を単独または組み合わせ
て用いることができる。
【0085】セレン増感剤の使用量は、使用するセレン
化合物、ハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等により変わ
るが一般にハロゲン化銀1モル当たり10-8〜10-4モ
ル程度を用いる。添加方法は使用するセレン化合物の性
質に応じて水またはメタノール、エタノールなどの有機
溶媒の単独または混合溶媒に溶解して添加する方法でも
よい。またゼラチン溶液と予め混合して添加する方法、
或いは特開平4−140739号に開示されている方法
で有機溶媒可溶性の重合体との混合溶液の乳化分散物の
形態で添加する方法でもよい。
化合物、ハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等により変わ
るが一般にハロゲン化銀1モル当たり10-8〜10-4モ
ル程度を用いる。添加方法は使用するセレン化合物の性
質に応じて水またはメタノール、エタノールなどの有機
溶媒の単独または混合溶媒に溶解して添加する方法でも
よい。またゼラチン溶液と予め混合して添加する方法、
或いは特開平4−140739号に開示されている方法
で有機溶媒可溶性の重合体との混合溶液の乳化分散物の
形態で添加する方法でもよい。
【0086】セレン増感剤を用いる化学熟成の温度は4
0〜90℃の範囲が好ましく、より好ましくは45℃以
上、80℃以下である。またpHは4〜9、pAgは6
〜9.5の範囲が好ましい。
0〜90℃の範囲が好ましく、より好ましくは45℃以
上、80℃以下である。またpHは4〜9、pAgは6
〜9.5の範囲が好ましい。
【0087】テルル増感剤の使用技術は、セレン増感剤
の使用技術に準じる。
の使用技術に準じる。
【0088】また適当な還元的雰囲気におくことによ
り、粒子表面にいわゆる還元増感を行うことも好まし
い。
り、粒子表面にいわゆる還元増感を行うことも好まし
い。
【0089】還元剤の好ましい例としては、二酸化チオ
尿素およびアスコルビン酸およびそれらの誘導体が挙げ
られる。また別の好ましい還元剤としては、ヒドラジ
ン,ジエチレントリアミンのごときポリアミン類、ジメ
チルアミンボラン類、亜硫酸塩類等が挙げられる。
尿素およびアスコルビン酸およびそれらの誘導体が挙げ
られる。また別の好ましい還元剤としては、ヒドラジ
ン,ジエチレントリアミンのごときポリアミン類、ジメ
チルアミンボラン類、亜硫酸塩類等が挙げられる。
【0090】還元剤の添加量は、還元増感剤の種類、ハ
ロゲン化銀粒子の粒径、組成及び晶癖、反応系の温度、
pH、pAgなどの環境条件によって変化させることが
好ましいが、例えば二酸化チオ尿素の場合は、大凡の目
安としてハロゲン化銀1モル当たり約0.01〜2mg
を用いると好ましい結果が得られる。アスコルビン酸の
場合はハロゲン化銀1モル当たり約50mg〜2gの範
囲が好ましい。
ロゲン化銀粒子の粒径、組成及び晶癖、反応系の温度、
pH、pAgなどの環境条件によって変化させることが
好ましいが、例えば二酸化チオ尿素の場合は、大凡の目
安としてハロゲン化銀1モル当たり約0.01〜2mg
を用いると好ましい結果が得られる。アスコルビン酸の
場合はハロゲン化銀1モル当たり約50mg〜2gの範
囲が好ましい。
【0091】還元増感の条件としては温度が約40〜7
0℃、時間は約10〜200分、pHは約5〜11、p
Agは約1〜10の範囲が好ましい(尚、ここでpAg
値はAg+イオン濃度の逆数である)。
0℃、時間は約10〜200分、pHは約5〜11、p
Agは約1〜10の範囲が好ましい(尚、ここでpAg
値はAg+イオン濃度の逆数である)。
【0092】水溶性銀塩としては硝酸銀が好ましい。水
溶性銀塩の添加により還元増感技術の1種であるいわゆ
る銀熟成が行われる。銀熟成時のpAgは1〜6が適当
であり、好ましくは2〜4である。温度、pH、時間な
どの条件は上記の還元増感条件範囲が好ましい。
溶性銀塩の添加により還元増感技術の1種であるいわゆ
る銀熟成が行われる。銀熟成時のpAgは1〜6が適当
であり、好ましくは2〜4である。温度、pH、時間な
どの条件は上記の還元増感条件範囲が好ましい。
【0093】本発明におけるハロゲン化銀粒子は、メチ
ン色素類その他によって分光増感されてもよい。用いら
れる色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シ
アニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシア
ニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素及びヘミオ
キソノール色素が包含される。特に有用な色素はシアニ
ン色素、メロシアニン色素及び複合メロシアニン色素に
属する色素である。
ン色素類その他によって分光増感されてもよい。用いら
れる色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シ
アニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシア
ニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素及びヘミオ
キソノール色素が包含される。特に有用な色素はシアニ
ン色素、メロシアニン色素及び複合メロシアニン色素に
属する色素である。
【0094】これらの色素類は通常利用されている核の
いずれをも適用できる。即ち、ピロリン核、オキサゾリ
ン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール核、チ
アゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、テトラ
ゾール核、ピリジン核などで、これらの核に脂肪式炭化
水素環が融合した核、即ちインドレニン核、ベンズイン
ドレニン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナ
フトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチア
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール
核、キノリン核などが適用できる。これらの核は炭素原
子上に置換基を有していてもよい。
いずれをも適用できる。即ち、ピロリン核、オキサゾリ
ン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール核、チ
アゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、テトラ
ゾール核、ピリジン核などで、これらの核に脂肪式炭化
水素環が融合した核、即ちインドレニン核、ベンズイン
ドレニン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナ
フトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチア
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール
核、キノリン核などが適用できる。これらの核は炭素原
子上に置換基を有していてもよい。
【0095】メロシアニン色素又は複合メロシアニン色
素にはケトメチン構造を有する核として、ピラゾリン−
5−オン核、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリ
ジン−2,4−ジオン核、チアゾリン−2,4−ジオン
核、ローダニン核、チオバルビツール酸核などの5〜6
員異節環核を適用することができる。
素にはケトメチン構造を有する核として、ピラゾリン−
5−オン核、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリ
ジン−2,4−ジオン核、チアゾリン−2,4−ジオン
核、ローダニン核、チオバルビツール酸核などの5〜6
員異節環核を適用することができる。
【0096】これらの増感色素は単独又は組み合わせて
用いてもよく組み合わせは特に強色増感の目的でしばし
ば用いられる。また、増感色素とともにそれ自身、分光
増感性を持たない色素或いは可視光を実質的に吸収しな
い物質であって、強色増感作用を示す物質を乳剤層中に
含有してもよい。例えば含窒素異節環核基であって置換
されたアミノスチルベン化合物(例えば米国特許2,9
33,390号、同3,635,721号記載のも
の)、芳香族有機酸ホルムアルデヒド縮合物(例えば米
国特許3,743,510号記載のも)、カドミウム
塩、アザインデン化合物などを含有してもよい。
用いてもよく組み合わせは特に強色増感の目的でしばし
ば用いられる。また、増感色素とともにそれ自身、分光
増感性を持たない色素或いは可視光を実質的に吸収しな
い物質であって、強色増感作用を示す物質を乳剤層中に
含有してもよい。例えば含窒素異節環核基であって置換
されたアミノスチルベン化合物(例えば米国特許2,9
33,390号、同3,635,721号記載のも
の)、芳香族有機酸ホルムアルデヒド縮合物(例えば米
国特許3,743,510号記載のも)、カドミウム
塩、アザインデン化合物などを含有してもよい。
【0097】米国特許3,615,613号、同3,6
15,641号、同3,617,295号、同3,63
5,721号などに記載の組み合わせはとくに有用であ
る。なお増感色素は核形成、成長、脱塩、化学増感の各
工程中または工程の間、或いは化学増感後のいずれに添
加してもよい。
15,641号、同3,617,295号、同3,63
5,721号などに記載の組み合わせはとくに有用であ
る。なお増感色素は核形成、成長、脱塩、化学増感の各
工程中または工程の間、或いは化学増感後のいずれに添
加してもよい。
【0098】本発明の写真感光材料は迅速処理に適する
ように、該感材の塗布工程において、予め適量の硬膜剤
を添加しておき、現像−定着−水洗工程での水膨潤率を
調整することで乾燥開始前の感光材料中の含水量を少な
くしておくことが好ましい。
ように、該感材の塗布工程において、予め適量の硬膜剤
を添加しておき、現像−定着−水洗工程での水膨潤率を
調整することで乾燥開始前の感光材料中の含水量を少な
くしておくことが好ましい。
【0099】尚、本発明のハロゲン化銀感光材料は現像
処理中の膨潤率が150〜250%が好ましく、膨張後
の膜厚が70μm以下が好ましい。水膨潤率が250%
を越えると乾燥不良を生じ、例えば自動現像機処理、特
に迅速処理において搬送不良も併発する。
処理中の膨潤率が150〜250%が好ましく、膨張後
の膜厚が70μm以下が好ましい。水膨潤率が250%
を越えると乾燥不良を生じ、例えば自動現像機処理、特
に迅速処理において搬送不良も併発する。
【0100】また、水膨潤率が150%未満では現像し
た際に現像ムラや残色が増加する悪い傾向がある。ここ
で言う水膨潤率とは、各処理液中で膨潤した後の膜厚と
現像処理前の膜厚との差を求め、これを処理前の膜厚で
除して100倍したものを言う。
た際に現像ムラや残色が増加する悪い傾向がある。ここ
で言う水膨潤率とは、各処理液中で膨潤した後の膜厚と
現像処理前の膜厚との差を求め、これを処理前の膜厚で
除して100倍したものを言う。
【0101】本発明において粉末処理剤や錠剤、丸薬、
顆粒の如き固形処理剤などを使用しても良く、更に必要
に応じ防湿加工を施したものを使用しても良い。
顆粒の如き固形処理剤などを使用しても良く、更に必要
に応じ防湿加工を施したものを使用しても良い。
【0102】本発明でいう粉末とは、微粒結晶の集合体
のことをいう。本発明でいう顆粒とは、粉末に造粒工程
を加えたもので、粒径50〜5000μmの粒状物のこ
とをいう。本発明でいう錠剤とは、粉末又は顆粒を一定
の形状に圧縮成型したもののことを言う。
のことをいう。本発明でいう顆粒とは、粉末に造粒工程
を加えたもので、粒径50〜5000μmの粒状物のこ
とをいう。本発明でいう錠剤とは、粉末又は顆粒を一定
の形状に圧縮成型したもののことを言う。
【0103】写真性能の変動原因として、自動現像機中
の現像液の開口係数を小さくすることが有効である。特
に開口係数が80cm2/l以下が好ましい。すなわ
ち、開口係数が80cm2/lを超えると未溶解の固形
処理剤や溶解した直後の濃厚な液が空気酸化を受け易く
その結果、不溶物やスカムが発生し、自現機あるいは処
理される感材を汚染する等の問題を発生するが、開口係
数が80m2/l以下でこれらの問題が解決される。こ
こで言う開口係数は、処理液単位体積当たりの空気との
接触面積で表され、単位は(cm2/l)である。この
発明においては開口係数が80cm2/l以下が好まし
く、より好ましくは50〜3cm2/lであり、さらに
好ましくは35〜10cm2/lである。
の現像液の開口係数を小さくすることが有効である。特
に開口係数が80cm2/l以下が好ましい。すなわ
ち、開口係数が80cm2/lを超えると未溶解の固形
処理剤や溶解した直後の濃厚な液が空気酸化を受け易く
その結果、不溶物やスカムが発生し、自現機あるいは処
理される感材を汚染する等の問題を発生するが、開口係
数が80m2/l以下でこれらの問題が解決される。こ
こで言う開口係数は、処理液単位体積当たりの空気との
接触面積で表され、単位は(cm2/l)である。この
発明においては開口係数が80cm2/l以下が好まし
く、より好ましくは50〜3cm2/lであり、さらに
好ましくは35〜10cm2/lである。
【0104】開口係数は一般に空気遮断する樹脂等を浮
きブタとすることで小さくしたり、また、特開昭63−
131138号、同63−216050号、同63−2
35940号とに記載のスリット型現像装置によって小
さくできる。
きブタとすることで小さくしたり、また、特開昭63−
131138号、同63−216050号、同63−2
35940号とに記載のスリット型現像装置によって小
さくできる。
【0105】本発明に用いられる固形処理剤は現像剤、
定着剤、リンス剤等写真用処理剤に用いられるが、本発
明の効果とりわけ写真性能を安定化させる効果が大きい
のは現像剤である。
定着剤、リンス剤等写真用処理剤に用いられるが、本発
明の効果とりわけ写真性能を安定化させる効果が大きい
のは現像剤である。
【0106】本発明に用いられる固形処理剤はある処理
剤の1部の成分のみ固形化しても良いが、好ましくは該
処理剤の全成分が固形化されていることである。各成分
は別々の固形処理剤として成型され、同一個装されてい
ることが望ましい。又別々の成分が定期的に包装でくり
返し投入される順番に包装されていることも望ましい。
剤の1部の成分のみ固形化しても良いが、好ましくは該
処理剤の全成分が固形化されていることである。各成分
は別々の固形処理剤として成型され、同一個装されてい
ることが望ましい。又別々の成分が定期的に包装でくり
返し投入される順番に包装されていることも望ましい。
【0107】本発明において固形処理剤を処理槽に供給
する供給手段としては、例えば、固形処理剤が錠剤であ
る場合、実開昭63−137783号公報、同63−9
7522号公報、実開平1−85732号公報等公知の
方法があるが要は錠剤を処理槽に供給せしめる機能が最
低限付与されていればいかなる方法でも良い。又固形処
理剤が顆粒又は粉末である場合には実開昭62−819
64号、同63−84151号、特開平1−29237
5号、記載の重力落下方式や実開昭63−105159
号、同63−195345号等記載のスクリュー又はネ
ジによる方式が公知の方法としてあるがこれらに限定さ
れるものではない。
する供給手段としては、例えば、固形処理剤が錠剤であ
る場合、実開昭63−137783号公報、同63−9
7522号公報、実開平1−85732号公報等公知の
方法があるが要は錠剤を処理槽に供給せしめる機能が最
低限付与されていればいかなる方法でも良い。又固形処
理剤が顆粒又は粉末である場合には実開昭62−819
64号、同63−84151号、特開平1−29237
5号、記載の重力落下方式や実開昭63−105159
号、同63−195345号等記載のスクリュー又はネ
ジによる方式が公知の方法としてあるがこれらに限定さ
れるものではない。
【0108】本発明の固形処理剤を投入する場所は処理
槽中であればよいが、好ましいのは、感光材料を処理す
る処理部と連通し、該処理部との間を処理液が流通して
いる場所であり、更に処理部との間に一定の処理液循環
量があり溶解した成分が処理部に移動する構造が好まし
い。固形処理剤は温調されている処理液中に投入される
ことが好ましい。
槽中であればよいが、好ましいのは、感光材料を処理す
る処理部と連通し、該処理部との間を処理液が流通して
いる場所であり、更に処理部との間に一定の処理液循環
量があり溶解した成分が処理部に移動する構造が好まし
い。固形処理剤は温調されている処理液中に投入される
ことが好ましい。
【0109】また、現像剤中には、現像主薬として特開
平6−138591号(19〜20頁)記載のジヒドロ
キシベンゼン類、アミノフェノール類、ピラゾリドン類
の他に特開平5−165161号記載のレダクトン類も
好ましく用いられる。使用されるピラゾリドン類のうち
特に4位が置換されたもの(ジメゾン、ジメゾンS等)
は水溶性や固形処理剤自身の経時による変化が少なく特
に好ましい。
平6−138591号(19〜20頁)記載のジヒドロ
キシベンゼン類、アミノフェノール類、ピラゾリドン類
の他に特開平5−165161号記載のレダクトン類も
好ましく用いられる。使用されるピラゾリドン類のうち
特に4位が置換されたもの(ジメゾン、ジメゾンS等)
は水溶性や固形処理剤自身の経時による変化が少なく特
に好ましい。
【0110】保恒剤として特開平6−138591号記
載の亜硫酸塩の他、有機還元剤を保恒剤として用いるこ
とができる。その他にキレート剤や硬膜剤の重亜硫酸塩
付加物を添加することができる。また、銀スラッジ防止
剤として特開平5−289255号、特開平6−308
680号(一般式[4−a][4−b])記載の化合物
を添加することも好ましい。シクロデキストリン化合物
の添加も好ましく、特開平1−124853号記載の化
合物が特に好ましい。
載の亜硫酸塩の他、有機還元剤を保恒剤として用いるこ
とができる。その他にキレート剤や硬膜剤の重亜硫酸塩
付加物を添加することができる。また、銀スラッジ防止
剤として特開平5−289255号、特開平6−308
680号(一般式[4−a][4−b])記載の化合物
を添加することも好ましい。シクロデキストリン化合物
の添加も好ましく、特開平1−124853号記載の化
合物が特に好ましい。
【0111】現像剤にアミン化合物を添加することもで
き、米国特許4,269,929号記載の化合物が特に
好ましい。
き、米国特許4,269,929号記載の化合物が特に
好ましい。
【0112】現像剤には、緩衝剤を用いることが必要
で、緩衝剤としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、リン酸三ナトリウ
ム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウム、ホウ酸ナト
リウム、ホウ酸カリウム、四ホウ酸ナトリウム(ホウ
酸)、四ホウ酸カリウム、o−ヒドロキシ安息香酸ナト
リウム(サリチル酸ナトリウム)、o−ヒドロキシ安息
香酸カリウム、5−スルホ−2−ヒドロキシ安息香酸ナ
トリウム(5−スルホサリチル酸ナトリウム)、5−ス
ルホ−2−ヒドロキシ安息香酸カリウム(5−スルホサ
リチル酸カリウム)等を挙げることができる。
で、緩衝剤としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、リン酸三ナトリウ
ム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウム、ホウ酸ナト
リウム、ホウ酸カリウム、四ホウ酸ナトリウム(ホウ
酸)、四ホウ酸カリウム、o−ヒドロキシ安息香酸ナト
リウム(サリチル酸ナトリウム)、o−ヒドロキシ安息
香酸カリウム、5−スルホ−2−ヒドロキシ安息香酸ナ
トリウム(5−スルホサリチル酸ナトリウム)、5−ス
ルホ−2−ヒドロキシ安息香酸カリウム(5−スルホサ
リチル酸カリウム)等を挙げることができる。
【0113】現像促進剤としては、特公昭37−160
88号、同37−5987号、同38−7826号、同
44−12380号、同45−9019号及び米国特許
3813247号等に表されるチオエーテル系化合物、
特開昭52−49829号及び同50−15554号に
表されるp−フェニレンジアミン系化合物、特開昭50
−137726号、特公昭44−30074号、特開昭
56−156826号及び同52−43429号等に表
される4級アンモニウム塩類、米国特許2610122
号及び同4119462号記載のp−アミノフェノール
類、米国特許2494903号、同3128182号、
同4230796号、同3253919号、特公昭41
−11431号、米国特許2482546号、同259
6926号及び同3582346号等に記載のアミン系
化合物、特公昭37−16088号、同42−2520
1号、米国特許3128183号、特公昭41−114
31号、同42−23883号及び米国特許35325
01号等に表されるポリアルキレンオキサイド、その他
1−フェニル−3−ピラゾリドン類、ヒドロジン類、メ
ソイオン型化合物、イオン型化合物、イミダゾール類、
等を必要に応じて添加することができる。
88号、同37−5987号、同38−7826号、同
44−12380号、同45−9019号及び米国特許
3813247号等に表されるチオエーテル系化合物、
特開昭52−49829号及び同50−15554号に
表されるp−フェニレンジアミン系化合物、特開昭50
−137726号、特公昭44−30074号、特開昭
56−156826号及び同52−43429号等に表
される4級アンモニウム塩類、米国特許2610122
号及び同4119462号記載のp−アミノフェノール
類、米国特許2494903号、同3128182号、
同4230796号、同3253919号、特公昭41
−11431号、米国特許2482546号、同259
6926号及び同3582346号等に記載のアミン系
化合物、特公昭37−16088号、同42−2520
1号、米国特許3128183号、特公昭41−114
31号、同42−23883号及び米国特許35325
01号等に表されるポリアルキレンオキサイド、その他
1−フェニル−3−ピラゾリドン類、ヒドロジン類、メ
ソイオン型化合物、イオン型化合物、イミダゾール類、
等を必要に応じて添加することができる。
【0114】カブリ防止剤としては、沃化カリウムの如
きアルカリ金属ハロゲン化物及び有機カブリ防止剤が使
用できる。有機カブリ防止剤としては、例えば、ベンゾ
トリアゾール、6−ニトロベンズイミダゾール、5−ニ
トロイソインダゾール、5−メチルベンゾトリアゾー
ル、5−ニトロベンゾトリアゾール、5−クロロ−ベン
ゾトリアゾール、2−チアゾリル−ベンズイミダゾー
ル、2−チアゾリルメチル−ベンズイミダゾール、イン
ダゾール、ヒドロキシアザインドリジン、アデニンの如
き含窒素ヘテロ環化合物を代表例1−フェニル−5−メ
ルカプトテトラゾールを例として挙げることができる。
きアルカリ金属ハロゲン化物及び有機カブリ防止剤が使
用できる。有機カブリ防止剤としては、例えば、ベンゾ
トリアゾール、6−ニトロベンズイミダゾール、5−ニ
トロイソインダゾール、5−メチルベンゾトリアゾー
ル、5−ニトロベンゾトリアゾール、5−クロロ−ベン
ゾトリアゾール、2−チアゾリル−ベンズイミダゾー
ル、2−チアゾリルメチル−ベンズイミダゾール、イン
ダゾール、ヒドロキシアザインドリジン、アデニンの如
き含窒素ヘテロ環化合物を代表例1−フェニル−5−メ
ルカプトテトラゾールを例として挙げることができる。
【0115】さらに、現像剤組成物には、必要に応じ
て、メチルセロソルブ、メタノール、アセトン、ジメチ
ルホルムアミド、シクロデキストリン化合物、その他特
公昭47−33378号、同44−9509号各公報記
載の化合物を現像主薬の溶解度を上げるための有機溶剤
として使用することができる。
て、メチルセロソルブ、メタノール、アセトン、ジメチ
ルホルムアミド、シクロデキストリン化合物、その他特
公昭47−33378号、同44−9509号各公報記
載の化合物を現像主薬の溶解度を上げるための有機溶剤
として使用することができる。
【0116】さらにまた、その他ステイン防止剤、スラ
ッジ防止剤、重層効果促進剤等各種添加剤を用いること
ができる。
ッジ防止剤、重層効果促進剤等各種添加剤を用いること
ができる。
【0117】定着剤は定着剤として公知の化合物を添加
できる。定着主薬やキレート剤、pH緩衝剤、硬膜剤、
保恒剤などが添加でき、これらは例えば特開平4−24
2246号(4頁)や特開平5−113632号(2〜
4頁)記載のものが使用できる。その他に硬膜剤の重亜
硫酸塩付加物や公知の定着促進剤も添加することができ
る。
できる。定着主薬やキレート剤、pH緩衝剤、硬膜剤、
保恒剤などが添加でき、これらは例えば特開平4−24
2246号(4頁)や特開平5−113632号(2〜
4頁)記載のものが使用できる。その他に硬膜剤の重亜
硫酸塩付加物や公知の定着促進剤も添加することができ
る。
【0118】処理に先立ち、スターターを添加すること
も好ましく、スターターを固形化して添加することも好
ましい。スターターとしてはポリカルボン酸化合物の如
き有機酸の他にKBrの如きアルカリ土類金属のハロゲ
ン化物や有機抑制剤、現像促進剤が用いられる。
も好ましく、スターターを固形化して添加することも好
ましい。スターターとしてはポリカルボン酸化合物の如
き有機酸の他にKBrの如きアルカリ土類金属のハロゲ
ン化物や有機抑制剤、現像促進剤が用いられる。
【0119】本発明は、黒白ハロゲン化銀写真感光材料
(例えば医療用感材、印刷用感材、一般撮影用ネガ感材
等)、カラー写真感光材料(例えば、カラーネガ感材、
カラーリバーサル感材、カラープリント用感材等)、拡
散転写用感光材料、熱現像感光材料等に適用できるが、
黒白ハロゲン化銀写真感光材料により好ましく適用する
ことができる。
(例えば医療用感材、印刷用感材、一般撮影用ネガ感材
等)、カラー写真感光材料(例えば、カラーネガ感材、
カラーリバーサル感材、カラープリント用感材等)、拡
散転写用感光材料、熱現像感光材料等に適用できるが、
黒白ハロゲン化銀写真感光材料により好ましく適用する
ことができる。
【0120】一般的に、黒白写真感光材料の現像処理に
用いられる現像液には、多くの場合、現像主薬としてハ
イドロキノン類が使用されているが、本発明は作業上の
安全性改善及び環境保全の観点から実質的にハイドロキ
ノン類を含まない、例えば米国特許第5236816号
に記載されているアスコルビン酸を用いた現像液を使用
しても良い。
用いられる現像液には、多くの場合、現像主薬としてハ
イドロキノン類が使用されているが、本発明は作業上の
安全性改善及び環境保全の観点から実質的にハイドロキ
ノン類を含まない、例えば米国特許第5236816号
に記載されているアスコルビン酸を用いた現像液を使用
しても良い。
【0121】本発明の黒白写真感光材料の現像時間は3
〜90秒で、より好ましくは5〜60秒であり、処理時
間はDry to Dryで15〜210秒で、より好
ましは15〜90秒である。
〜90秒で、より好ましくは5〜60秒であり、処理時
間はDry to Dryで15〜210秒で、より好
ましは15〜90秒である。
【0122】本発明のハロゲン化銀写真感光材料はハロ
ゲン化銀乳剤に更に目的に応じて種々の添加剤を添加す
ることができる。使用される添加剤その他としては例え
ばRD−17643(1978年12月)、同1871
6(1979年11月)及び同308119(1989
年12月)に記載されたものが挙げられる。それらの記
載箇所を以下に掲載した。
ゲン化銀乳剤に更に目的に応じて種々の添加剤を添加す
ることができる。使用される添加剤その他としては例え
ばRD−17643(1978年12月)、同1871
6(1979年11月)及び同308119(1989
年12月)に記載されたものが挙げられる。それらの記
載箇所を以下に掲載した。
【0123】 添加剤 RD−17643 RD−18716 RD−308119 頁 分類 頁 分類 頁 分類 化学増感剤 23 III 648右上 996 III 増感色素 23 IV 648〜649 996〜8 IVA 減感色素 23 IV 998 IVB 染料 25〜26 VIII 649〜650 1003 VIII 現像促進剤 29 XXI 648右上 カブリ抑制剤・安定剤 24 IV 649右上 1006〜7 VI 増白剤 24 V 998 V 硬膜剤 26 X 651左 1004〜5 X 界面活性剤 26〜7 XI 650右 1005〜6 XI 帯電防止剤 27 XII 650右 1006〜7 XIII 可塑剤 27 XII 650右 1006 XII スベリ剤 27 XII マット剤 28 XVI 650右 1008〜9 XVI バインダー 26 XXII 1003〜4 IX 支持体 28 XVII 1009 XVII 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いることのでき
る支持体としては、例えば前述のRD−17643の2
8頁及びRD−308119の1009頁に記載されて
いるものが挙げられる。
る支持体としては、例えば前述のRD−17643の2
8頁及びRD−308119の1009頁に記載されて
いるものが挙げられる。
【0124】適当な支持体としてはプラスチックフィル
ムなどで、これら支持体の表面は塗布層の接着をよくす
るために下塗層を設けたり、コロナ放電、紫外線照射な
どを施してもよい。
ムなどで、これら支持体の表面は塗布層の接着をよくす
るために下塗層を設けたり、コロナ放電、紫外線照射な
どを施してもよい。
【0125】
【実施例】以下、本発明を実施例にて説明するが、本発
明はこれらによって限定されるものではない。
明はこれらによって限定されるものではない。
【0126】実施例1 (種乳剤Aの調製) A1液 オセインゼラチン 37.5g KI 0.625g NaCl 16.5g 蒸留水で 7500ml B1液 硝酸銀 1500g 蒸留水で 2500ml C1液 KI 4g NaCl 140g 蒸留水で 684ml D1液 NaCl 375g 蒸留水で 1816ml 40℃において、特公昭58−58288号明細書に示
されている混合撹拌機中のA1液に、B1液の684m
lとC1液の全量を1分間かけて添加した。EAgを1
49mVに調整し、20分間オストワルド熟成した後に
B1液の残り全量とD1液の全量を40分かけて添加し
た。その間、EAgを149mVに制御した。
されている混合撹拌機中のA1液に、B1液の684m
lとC1液の全量を1分間かけて添加した。EAgを1
49mVに調整し、20分間オストワルド熟成した後に
B1液の残り全量とD1液の全量を40分かけて添加し
た。その間、EAgを149mVに制御した。
【0127】添加終了後、直ちに脱塩、水洗を行い種乳
剤EM−Aとした。このように作成した種乳剤Aは、ハ
ロゲン化銀粒子の全投影面積の60%以上が(100)
面を主平面とするアスペクト比2以上の平板状粒子から
なり、平均厚さ0.07μ、平均直径0.5μ、変動係
数が25%であることが電子顕微鏡観察により判明し
た。
剤EM−Aとした。このように作成した種乳剤Aは、ハ
ロゲン化銀粒子の全投影面積の60%以上が(100)
面を主平面とするアスペクト比2以上の平板状粒子から
なり、平均厚さ0.07μ、平均直径0.5μ、変動係
数が25%であることが電子顕微鏡観察により判明し
た。
【0128】(乳剤Bの調製)以下の4種類の溶液を用
いて平板状沃塩化銀乳剤を調製した。
いて平板状沃塩化銀乳剤を調製した。
【0129】 A2液 オセインゼラチン 29.4g HO(CH2CH2)m−(CH(CH3)CH2O)17−(CH2CH2O)n−H (m+n≒5.7 分子量1700)(10%メタノール溶液) 1.25ml 種乳剤A 0.98モル相当 蒸留水で 3000ml B2液 3.5N 硝酸銀水溶液 2240ml C2液 NaCl 455g 蒸留水で 2240ml D2液 1.75N NaCl水溶液 下記銀電位制御量 40℃において、特公昭58−58288号明細書に示
されている混合撹拌機を用いて、A2液に、B2液及び
C2液の全量を同時混合法(ダブルジェット法)により
添加終了後の流速が添加開始時の流速の3倍になるよう
にし、110分間の時間を要して添加成長を行った。こ
の間のEAgは、D2液を用いて120mVに制御し
た。
されている混合撹拌機を用いて、A2液に、B2液及び
C2液の全量を同時混合法(ダブルジェット法)により
添加終了後の流速が添加開始時の流速の3倍になるよう
にし、110分間の時間を要して添加成長を行った。こ
の間のEAgは、D2液を用いて120mVに制御し
た。
【0130】添加終了後、過剰な塩類を除去するため、
直ちに沈澱脱塩、水洗を行った。
直ちに沈澱脱塩、水洗を行った。
【0131】得られた乳剤Bの約3000個を電子顕微
鏡観察により観察・測定し、形状を分析したところ、全
投影面積の80%以上が(100)面を主平面とするア
スペクト比2以上の平均直径1.17μ、平均厚さ0.
12μの平板状粒子であり、変動係数は25%であっ
た。
鏡観察により観察・測定し、形状を分析したところ、全
投影面積の80%以上が(100)面を主平面とするア
スペクト比2以上の平均直径1.17μ、平均厚さ0.
12μの平板状粒子であり、変動係数は25%であっ
た。
【0132】 (沃化銀微粒子の調製) A3液 オセインゼラチン 100g KI 8.5g 蒸留水で 2000ml B3液 硝酸銀 360g 蒸留水で 605ml C3液 KI 352g 蒸留水で 605ml 反応器にA3液を加え、40℃に保ち撹拌しながら、B
3液とC3液を同時混合法により30分間かけて低速で
添加した。添加中のPAgは常法のPAg制御手段で1
3.5に保った。
3液とC3液を同時混合法により30分間かけて低速で
添加した。添加中のPAgは常法のPAg制御手段で1
3.5に保った。
【0133】生成した沃化銀は平均粒径0.06μであ
った。この乳剤を沃化銀微粒子と呼ぶ。
った。この乳剤を沃化銀微粒子と呼ぶ。
【0134】(分光増感色素の固体微粒子分散物の調
製)5,5′−ジクロロ−9−エチル−3,3′−ジ−
(3−スルホプロピル)オキサカルボシアニン塩無水物
(増感色素A)及び5,5′−ジ−(ブトキシカルボニ
ル)−1,1′−ジエチル−3,3′−ジ−(4−スル
ホブチル)ベンゾイミダロカルボシアニン−ナトリウム
塩無水物(増感色素B)を100:1の比率で予め27
℃に調温した水に加え、高速撹拌機(ディゾルバー)で
3500r.p.m.にて30〜120分間にわたって
撹拌することによって、分光増感色素の固体微粒子状の
分散物を得た。このとき増感色素Aの濃度が2%になる
ように調製した。
製)5,5′−ジクロロ−9−エチル−3,3′−ジ−
(3−スルホプロピル)オキサカルボシアニン塩無水物
(増感色素A)及び5,5′−ジ−(ブトキシカルボニ
ル)−1,1′−ジエチル−3,3′−ジ−(4−スル
ホブチル)ベンゾイミダロカルボシアニン−ナトリウム
塩無水物(増感色素B)を100:1の比率で予め27
℃に調温した水に加え、高速撹拌機(ディゾルバー)で
3500r.p.m.にて30〜120分間にわたって
撹拌することによって、分光増感色素の固体微粒子状の
分散物を得た。このとき増感色素Aの濃度が2%になる
ように調製した。
【0135】(化学増感)乳剤Bに以下の方法で分光増
感及び化学増感を施すことによって、化学増感乳剤を得
た。
感及び化学増感を施すことによって、化学増感乳剤を得
た。
【0136】乳剤を60℃にした後、増感色素Aが46
0mg/AgX1モルになるように、上記固体微粒子分
散物を加えた後に、チオシアン酸アンモニウム塩を7×
10-4モル/AgX1モルを加え、塩化金酸カリウムと
チオ硫酸ナトリウム及びトリフェニルフォスフィンセレ
ナイドを3×10-6モル/AgX1モル添加して最適に
化学増感を行い、上記沃化銀微粒子乳剤を3×10-3モ
ル/AgX1モル添加後、4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデン1×10-2モル
/AgX1モルで安定化した。
0mg/AgX1モルになるように、上記固体微粒子分
散物を加えた後に、チオシアン酸アンモニウム塩を7×
10-4モル/AgX1モルを加え、塩化金酸カリウムと
チオ硫酸ナトリウム及びトリフェニルフォスフィンセレ
ナイドを3×10-6モル/AgX1モル添加して最適に
化学増感を行い、上記沃化銀微粒子乳剤を3×10-3モ
ル/AgX1モル添加後、4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデン1×10-2モル
/AgX1モルで安定化した。
【0137】次にこの様にして増感を施した乳剤に、後
記する添加剤を加え乳剤層塗布液とした。また、同時に
保護層塗布液も調製した。
記する添加剤を加え乳剤層塗布液とした。また、同時に
保護層塗布液も調製した。
【0138】(支持体の作成)次に、濃度0.170に
青色着色したX線用のポリエチレンテレフタレートフィ
ルムベース(厚み175μm)の両側に、0.5kV・
A・min/m2のコロナ放電処理を施した後、同じベ
ースの一方の側に下記(L−2)で示す下塗りラテック
ス液を乾燥後の膜厚が0.2μmになるように、下記
(L−1)を乾燥後の膜厚が0.053μmになるよう
に順次塗布して123℃で2分間乾燥した。
青色着色したX線用のポリエチレンテレフタレートフィ
ルムベース(厚み175μm)の両側に、0.5kV・
A・min/m2のコロナ放電処理を施した後、同じベ
ースの一方の側に下記(L−2)で示す下塗りラテック
ス液を乾燥後の膜厚が0.2μmになるように、下記
(L−1)を乾燥後の膜厚が0.053μmになるよう
に順次塗布して123℃で2分間乾燥した。
【0139】もう一方の側の下層には(合成例1)で合
成したSnO2ゾル、下記(L−2)液及び下記(L−
4)液を容量比で35:15:50で混合した塗布液
を、乾燥後の膜厚0.12μm、ゾル成分の付き量25
0mg/m2になるように、上層には下記(L−1)及
び下記(L−3)液を容量比で70:30で混合した塗
布液を乾燥後の膜厚0.053μmになるように同時に
塗布し、120℃で1分間乾燥し支持体を作製した。
成したSnO2ゾル、下記(L−2)液及び下記(L−
4)液を容量比で35:15:50で混合した塗布液
を、乾燥後の膜厚0.12μm、ゾル成分の付き量25
0mg/m2になるように、上層には下記(L−1)及
び下記(L−3)液を容量比で70:30で混合した塗
布液を乾燥後の膜厚0.053μmになるように同時に
塗布し、120℃で1分間乾燥し支持体を作製した。
【0140】
【化15】
【0141】(L−2)n−ブチルアクリレート10重
量%、t−ブチルアクリレート35重量%、スチレン2
7重量%及び2−ヒドロキシエチルアクリレート28重
量%の共重合体ラテックス液(固形分30%)。
量%、t−ブチルアクリレート35重量%、スチレン2
7重量%及び2−ヒドロキシエチルアクリレート28重
量%の共重合体ラテックス液(固形分30%)。
【0142】(L−3)テレフタル酸ジメチル34.0
2重量部、イソフタル酸ジメチル25.52重量部、5
−スルホイソフタル酸ジメチルナトリウム塩12.97
重量部、エチレングリコール47.85重量部、1,4
−シクロヘキサンジメタノール18.95重量部、酢酸
カルシウム1水塩0.065重量部、酢酸マンガン4水
塩0.022重量部を窒素気流下において170〜22
0℃でメタノールを留去しながらエステル交換反応を行
った後、リン酸トリメチル0.04重量部、重縮合触媒
として3酸化アンチモン0.04重量部及び1,4−シ
クロヘキサンジカルボン酸15.08重量部を加え、2
20〜235℃の反応温度でほぼ理論量の水を留去しエ
ステル化を行った。その後、更に反応系内を約1時間か
けて減圧、昇温し最終的に280℃、1mmHg以下で
約1時間重縮合を行い、ポリエステル重合体を得た(固
有粘度0.35)。
2重量部、イソフタル酸ジメチル25.52重量部、5
−スルホイソフタル酸ジメチルナトリウム塩12.97
重量部、エチレングリコール47.85重量部、1,4
−シクロヘキサンジメタノール18.95重量部、酢酸
カルシウム1水塩0.065重量部、酢酸マンガン4水
塩0.022重量部を窒素気流下において170〜22
0℃でメタノールを留去しながらエステル交換反応を行
った後、リン酸トリメチル0.04重量部、重縮合触媒
として3酸化アンチモン0.04重量部及び1,4−シ
クロヘキサンジカルボン酸15.08重量部を加え、2
20〜235℃の反応温度でほぼ理論量の水を留去しエ
ステル化を行った。その後、更に反応系内を約1時間か
けて減圧、昇温し最終的に280℃、1mmHg以下で
約1時間重縮合を行い、ポリエステル重合体を得た(固
有粘度0.35)。
【0143】得られたポリエステル重合体の水溶液73
00gに、スチレン30g、ブチルメタクリレート30
g、グリシジルメタクリレート20g、アクリルアミド
20g及び過硫酸アンモニウム1.0gを投入して80
℃で5時間反応させ、室温に冷却して固形分を10重量
%に調整し塗布液を得た。
00gに、スチレン30g、ブチルメタクリレート30
g、グリシジルメタクリレート20g、アクリルアミド
20g及び過硫酸アンモニウム1.0gを投入して80
℃で5時間反応させ、室温に冷却して固形分を10重量
%に調整し塗布液を得た。
【0144】(L−4)n−ブチルアクリレート40重
量%、スチレン20重量%、グリシジルメタクリレート
40重量%の共重合体ラテックス液。
量%、スチレン20重量%、グリシジルメタクリレート
40重量%の共重合体ラテックス液。
【0145】(感光材料の作製)次に、上記支持体の両
面に表1で示されるように一般式(1)及び一般式
(2)の化合物を第2層(乳剤層)に添加し、かつ下記
のクロスオーバーカット層塗布液と乳剤層塗布液と保護
層塗布液を下記の所定の塗布量になるように同時重層塗
布、乾燥し、試料1〜8を作製した。
面に表1で示されるように一般式(1)及び一般式
(2)の化合物を第2層(乳剤層)に添加し、かつ下記
のクロスオーバーカット層塗布液と乳剤層塗布液と保護
層塗布液を下記の所定の塗布量になるように同時重層塗
布、乾燥し、試料1〜8を作製した。
【0146】 第1層(クロスオーバーカット層) 固体微粒子分散体染料(AH) 20mg/m2 ゼラチン 0.2g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 5mg/m2 化合物(I) 5mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩 5mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.014μ) 10mg/m2 第2層(乳剤層) 上記で得た各々の乳剤に下記の各種添加剤を加えた。 化合物(G) 0.5mg/m2 2,6−ビス(ヒドロキシアミノ)−4−ジエチルアミノ−1,3,5−トリ アジン 5mg/m2 t−ブチル−カテコール 5mg/m2 ポリビニルピロリドン(分子量10,000) 20mg/m2 スチレン−無水マレイン酸共重合体 80mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 80mg/m2 トリメチロールプロパン 350mg/m2 ジエチレングリコール 50mg/m2 ニトロフェニル−トリフェニル−ホスホニウムクロリド 50mg/m2 1,3−ジヒドロキシベンゼン−4−スルホン酸アンモニウム 50mg/m2 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム 5mg/m2 化合物(H) 0.5mg/m2 n−C4H9OCH2CH(OH)CH2N (CH2COOH)2 20mg/m2 化合物(M) 5mg/m2 化合物(N) 5mg/m2 コロイダルシリカ 0.5g/m2 ラテックス(L) 0.2g/m2 スチレンスルホン酸ナトリウム(分子量約50万) 7mg/m2 但し、ゼラチンとしては1.0g/m2になるように調整した。
【0147】 第3層(保護層下層) ゼラチン 0.4g/m2 ジオクチルフタレート 195mg/m2 スチレンスルホン酸ナトリウム(分子量約50万) 7mg/m2 第4層(保護層上層) ゼラチン 0.28g/m2 ポリメチルメタクリレートからなるマット剤(面積平均粒径7.0μ) 27mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩 10mg/m2 ラテックス(L) 0.2g/m2 ポリアクリルアミド(平均分子量10000) 0.1g/m2 ポリアクリル酸ナトリウム 30mg/m2 化合物(SI) 30mg/m2 化合物(I) 30mg/m2 化合物(J) 2mg/m2 化合物(S−1) 7mg/m2 化合物(S−2) 5mg/m2 C9F19−O−(CH2CH2O)11−H 3mg/m2 化合物(K) 2mg/m2 化合物(O) 1mg/m2 C7H15CH2−O−(CH2CH2O)13−H 10mg/m2
【0148】
【化16】
【0149】
【化17】
【0150】
【化18】
【0151】なお、素材の付量は片面分であり、塗布銀
量は片面分として1.5g/m2になるように調整し
た。
量は片面分として1.5g/m2になるように調整し
た。
【0152】(現像補充用錠剤の作製)以下の操作
(A,B)に従って現像補充用錠剤を作成した。
(A,B)に従って現像補充用錠剤を作成した。
【0153】操作(A) 現像主薬のハイドロキノン3000gを市販のバンダン
ミル中で平均粒径10μになるまで粉砕する。この粉砕
に、亜硫酸ナトリウム3000g、亜硫酸カリウム20
00g、ジメゾンS1000gを加え、ミル中で30分
間混合して市販の撹拌造粒機中で室温にて約10分間、
30mlの水を添加することにより造粒した後、造粒物
を流動層乾燥機で40℃にて2時間乾燥して造粒物の水
分をほぼ完全に除去する。このようにして調製した造粒
物にポリエチレングリコール6000の100gを25
℃、40%RH以下に調湿された部屋で混合機を用いて
10分間均一に混合した後、得られた混合物を菊水製作
所(株)製タフプレストコレクト1527HUを改造し
た打錠機により1錠当たりの充填量を3.84gにして
圧縮打錠を行い、2500個の現像補充用錠剤A剤を作
製した。
ミル中で平均粒径10μになるまで粉砕する。この粉砕
に、亜硫酸ナトリウム3000g、亜硫酸カリウム20
00g、ジメゾンS1000gを加え、ミル中で30分
間混合して市販の撹拌造粒機中で室温にて約10分間、
30mlの水を添加することにより造粒した後、造粒物
を流動層乾燥機で40℃にて2時間乾燥して造粒物の水
分をほぼ完全に除去する。このようにして調製した造粒
物にポリエチレングリコール6000の100gを25
℃、40%RH以下に調湿された部屋で混合機を用いて
10分間均一に混合した後、得られた混合物を菊水製作
所(株)製タフプレストコレクト1527HUを改造し
た打錠機により1錠当たりの充填量を3.84gにして
圧縮打錠を行い、2500個の現像補充用錠剤A剤を作
製した。
【0154】操作(B) DTPA(ジエチレントリアミン5酢酸)100g、炭
酸カリウム4000g,5−メチルベンゾトリアゾール
10g、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール7
g,2−メルカプトヒポキサンチン5g、KOH200
g,N−アセチル−D,L−ペニシラミン10gを操作
(A)と同様、粉砕、造粒する。水の添加量は、30m
lとし、造粒後、50℃で30分間乾燥して造粒物の水
分をほぼ完全に除去する。このようにして得られた混合
物を上記打錠機により1錠当たりの充填量を1.73g
にして圧縮打錠を行い、2500個の現像補充用錠剤B
剤を作製した。
酸カリウム4000g,5−メチルベンゾトリアゾール
10g、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール7
g,2−メルカプトヒポキサンチン5g、KOH200
g,N−アセチル−D,L−ペニシラミン10gを操作
(A)と同様、粉砕、造粒する。水の添加量は、30m
lとし、造粒後、50℃で30分間乾燥して造粒物の水
分をほぼ完全に除去する。このようにして得られた混合
物を上記打錠機により1錠当たりの充填量を1.73g
にして圧縮打錠を行い、2500個の現像補充用錠剤B
剤を作製した。
【0155】(定着用補充用錠剤の作製)以下の操作で
定着用補充用錠剤を作製した。
定着用補充用錠剤を作製した。
【0156】操作(C) チオ硫酸アンモニウム/チオ硫酸ナトリウム(70/3
0重量比)14000g,亜硫酸ナトリウム1500g
を操作(A)と同様粉砕した後、市販の混合機で均一に
混合する。次に操作(A)と同様にして、水の添加量を
500mlにして造粒を行う。造粒後、造粒物を60℃
で30分間乾燥して造粒物の水分をほぼ完全に除去す
る。このようにして、調製した造粒物にN−ラウロイル
アラニンナトリウム4gを添加し、25℃、40%RH
以下に調湿された部屋で混合機を用いて3分間混合す
る。次に得られた混合物を上記打錠機により1錠当たり
の充填量を6.202gにして圧縮打錠を行い、250
0個の定着用補充用錠剤C剤を作製した。
0重量比)14000g,亜硫酸ナトリウム1500g
を操作(A)と同様粉砕した後、市販の混合機で均一に
混合する。次に操作(A)と同様にして、水の添加量を
500mlにして造粒を行う。造粒後、造粒物を60℃
で30分間乾燥して造粒物の水分をほぼ完全に除去す
る。このようにして、調製した造粒物にN−ラウロイル
アラニンナトリウム4gを添加し、25℃、40%RH
以下に調湿された部屋で混合機を用いて3分間混合す
る。次に得られた混合物を上記打錠機により1錠当たり
の充填量を6.202gにして圧縮打錠を行い、250
0個の定着用補充用錠剤C剤を作製した。
【0157】操作(D) ホウ酸1000g,硫酸アルミニウム・18水塩150
0g,酢酸水素ナトリウム(氷酢酸と酢酸ナトリウムを
等モル混ぜ乾燥させたもの)3000g,酒石酸200
gを操作(A)と同様、粉砕、造粒する。水の添加量を
100mlとし、造粒後、造粒物を50℃で30分間乾
燥して造粒物の水分をほぼ完全に除去する。このように
して、調製した造粒物にN−ラウロイルアラニンナトリ
ウム4gを添加し、3分間混合した後、得られた混合物
を上記打錠機により1錠当たりの充填量を4.562g
にして圧縮打錠を行い、1250個の定着用補充用錠剤
D剤を作製した。
0g,酢酸水素ナトリウム(氷酢酸と酢酸ナトリウムを
等モル混ぜ乾燥させたもの)3000g,酒石酸200
gを操作(A)と同様、粉砕、造粒する。水の添加量を
100mlとし、造粒後、造粒物を50℃で30分間乾
燥して造粒物の水分をほぼ完全に除去する。このように
して、調製した造粒物にN−ラウロイルアラニンナトリ
ウム4gを添加し、3分間混合した後、得られた混合物
を上記打錠機により1錠当たりの充填量を4.562g
にして圧縮打錠を行い、1250個の定着用補充用錠剤
D剤を作製した。
【0158】(感光材料の現像処理) 現像液 スターター 氷酢酸 2.98g KBr 4.0g 水を加えて1lとした。
【0159】現像液の処理開始(ランニング開始)時に
は現像補充用錠剤のA剤及びB剤各々434個を希釈水
で希釈調製した現像液16.5lに対しスターター33
0mlを添加した液をスタート液として現像槽を満たし
て処理を開始した。尚、スターターを添加した現像液の
pHは10.45であった。また、定着開始液は、定着
補充用錠剤のC剤298g相当、D剤149g相当を希
釈水で希釈調製した定着液11.0lをスタート液とし
て定着槽を満たした。試料の現像処理後の光学濃度が
1.0となるように露光を施し、ランニングを行った。
ランニングにはコニカ(株)製自動現像機SRX−50
2に固体処理剤の投入部材をつけ、処理速度が25秒で
処理できるように改造したものを用いた。
は現像補充用錠剤のA剤及びB剤各々434個を希釈水
で希釈調製した現像液16.5lに対しスターター33
0mlを添加した液をスタート液として現像槽を満たし
て処理を開始した。尚、スターターを添加した現像液の
pHは10.45であった。また、定着開始液は、定着
補充用錠剤のC剤298g相当、D剤149g相当を希
釈水で希釈調製した定着液11.0lをスタート液とし
て定着槽を満たした。試料の現像処理後の光学濃度が
1.0となるように露光を施し、ランニングを行った。
ランニングにはコニカ(株)製自動現像機SRX−50
2に固体処理剤の投入部材をつけ、処理速度が25秒で
処理できるように改造したものを用いた。
【0160】ランニング中、現像液には感光材料0.6
2m2当たり上記A,B剤が各々2個と水を76mlを
添加して行った。A,B剤を各38mlの水に溶解した
ときのpHは10.70であった。定着液には感光材料
0.62m2当たり上記C剤を2個とD剤を1個及び水
を74mlを添加した。各処理剤1個に対して水の添加
速度は処理剤の添加とほぼ同時に開始し、処理剤の溶解
速度におよそ比例して10分間等速で添加した。
2m2当たり上記A,B剤が各々2個と水を76mlを
添加して行った。A,B剤を各38mlの水に溶解した
ときのpHは10.70であった。定着液には感光材料
0.62m2当たり上記C剤を2個とD剤を1個及び水
を74mlを添加した。各処理剤1個に対して水の添加
速度は処理剤の添加とほぼ同時に開始し、処理剤の溶解
速度におよそ比例して10分間等速で添加した。
【0161】 <センシトメトリー(写真性能)の評価>得られた試料
をそれぞれ2枚の増感紙(コニカ(株)製;SRO−2
50)で挟み、アルミウエッジを介して管電圧60kV
p、管電流100mAで0.064秒間X線を照射し
た。
をそれぞれ2枚の増感紙(コニカ(株)製;SRO−2
50)で挟み、アルミウエッジを介して管電圧60kV
p、管電流100mAで0.064秒間X線を照射し
た。
【0162】次いで前述の現像処理を行い、現像処理し
て得られた各試料を評価した。
て得られた各試料を評価した。
【0163】感度はカブリ+1.0の濃度を与える露光
量の逆数で表し、試料NO.1の感度を100とした時
の相対感度で示した。
量の逆数で表し、試料NO.1の感度を100とした時
の相対感度で示した。
【0164】<現像ムラの評価>試料を半切サイズに裁
断し、濃度が1.2になる光量で一様に露光してから前
記の処理方法で処理し、発生した現像ムラを目視で以下
の基準で評価した。
断し、濃度が1.2になる光量で一様に露光してから前
記の処理方法で処理し、発生した現像ムラを目視で以下
の基準で評価した。
【0165】 A:現像ムラは全く発生しないレベル B:濃度差が小さい(目立たない)現像ムラが一部分で
発生している C:現像ムラは発生しているが僅かで市場で許容される
下限のレベル D:現像ムラが一面に発生しているが濃度差はEの1/
2レベル E:現像ムラが激しく発生し、使用に耐えないレベル <残色性の評価>未露光の試料を前記の処理方法で処理
し、以下の基準で評価した。
発生している C:現像ムラは発生しているが僅かで市場で許容される
下限のレベル D:現像ムラが一面に発生しているが濃度差はEの1/
2レベル E:現像ムラが激しく発生し、使用に耐えないレベル <残色性の評価>未露光の試料を前記の処理方法で処理
し、以下の基準で評価した。
【0166】 A:全く発生しない B:注視するとフィルム辺縁部が僅かに赤っぽいが、実
用上支障はない C:注視するとフィルム辺縁部がムラ状に赤っぽいが、
実用上支障なし D:フィルム中央部に赤っぽいムラが発生し、実用上支
障あり E:フィルム中央部に濃い赤っぽいムラが発生し、実用
不能 得られた結果を表1に示す。
用上支障はない C:注視するとフィルム辺縁部がムラ状に赤っぽいが、
実用上支障なし D:フィルム中央部に赤っぽいムラが発生し、実用上支
障あり E:フィルム中央部に濃い赤っぽいムラが発生し、実用
不能 得られた結果を表1に示す。
【0167】
【表1】
【0168】表1から明らかなように、本発明の試料
は、高感度で残色及び現像ムラが良く迅速処理性に優れ
ていることがわかる。
は、高感度で残色及び現像ムラが良く迅速処理性に優れ
ていることがわかる。
【0169】実施例2 実施例1の一般式(2)の代わりに一般式(3)の化合
物(C−5)、(C−8)を表2のように添加した以外
は、実施例1と同様に試料9〜13を作製し、実施例1
と同様に評価した。
物(C−5)、(C−8)を表2のように添加した以外
は、実施例1と同様に試料9〜13を作製し、実施例1
と同様に評価した。
【0170】得られた結果を表2に示す。
【0171】
【表2】
【0172】表2から明らかなように、本発明の試料
は、高感度で残色及び現像ムラが良く迅速処理性に優れ
ていることがわかる。
は、高感度で残色及び現像ムラが良く迅速処理性に優れ
ていることがわかる。
【0173】実施例3 実施例2の一般式(3)の代わりに一般式(4)の化合
物(D−1)、(D−2)、(D−4)を表3のように
添加した以外は、実施例1と同様に試料14〜19を作
製し、実施例1と同様に評価した。
物(D−1)、(D−2)、(D−4)を表3のように
添加した以外は、実施例1と同様に試料14〜19を作
製し、実施例1と同様に評価した。
【0174】得られた結果を表3に示す。
【0175】
【表3】
【0176】表3から明らかなように、本発明の試料
は、高感度で残色及び現像ムラが良く迅速処理性に優れ
ていることがわかる。
は、高感度で残色及び現像ムラが良く迅速処理性に優れ
ていることがわかる。
【0177】
【発明の効果】本発明により、迅速処理において、残色
に優れ、現像ムラの改良されたハロゲン化銀写真感光材
料及びその処理方法を提供することができた。
に優れ、現像ムラの改良されたハロゲン化銀写真感光材
料及びその処理方法を提供することができた。
Claims (4)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
該ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に含有されるハ
ロゲン化銀粒子の全投影面積の50%以上が平均アスペ
クト比が2以上の平板状粒子であり、かつ該ハロゲン化
銀乳剤層の少なくとも一層に下記一般式(1)及び一般
式(2)で表される化合物を含有することを特徴とする
ハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 (式中、Rは置換又は無置換のアリール基を表し、
R1、R2、R3及びR4は互いに同一であっても異なって
いてもよく、それぞれ水素原子又は置換又は無置換のア
ルキル基、アラルキル基、もしくはアリール基を表
す。) 【化2】 (式中、Zはヘテロ環を形成するのに必要な原子群を表
す。) - 【請求項2】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
該ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層が上記一般式
(1)及び下記一般式(3)で表される化合物を含有す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式(3) R21−(S)m−R22 (式中、R21及びR22は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環
基又は互いに結合して環を形成することができる原子群
を表す。またR21、R22は同じでも異なっていてもよ
い。mは2〜6の整数を表す。) - 【請求項3】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
該ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層が上記一般式
(1)及び下記一般式(4)で表される化合物を含有す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式(4) Het−(J)n−(Q)n1 (式中、Hetは置換基としてメルカプト基若しくはメ
ルカプト基をブロックされた基を有さない5〜6員の含
窒素ヘテロ環を表し、Jはa+1価の連結基を表し、Q
は水溶性基を表す。nは0〜5の整数を表し、n1及び
aは1以上の整数を表す。) - 【請求項4】 請求項1、2又は3記載のハロゲン化銀
写真感光材料を、自動現像機の処理槽に固体処理剤を供
給する機構を有する自動現像機で処理することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20587096A JPH1048770A (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20587096A JPH1048770A (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1048770A true JPH1048770A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16514096
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20587096A Pending JPH1048770A (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1048770A (ja) |
-
1996
- 1996-08-05 JP JP20587096A patent/JPH1048770A/ja active Pending
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