JPH10359A - スチレンへのエチルベンゼンの脱水素化用触媒及びそれを用いた脱水素化方法 - Google Patents

スチレンへのエチルベンゼンの脱水素化用触媒及びそれを用いた脱水素化方法

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JPH10359A
JPH10359A JP9051929A JP5192997A JPH10359A JP H10359 A JPH10359 A JP H10359A JP 9051929 A JP9051929 A JP 9051929A JP 5192997 A JP5192997 A JP 5192997A JP H10359 A JPH10359 A JP H10359A
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granules
styrene
holes
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ルビニ カルロ
Luigi Cavalli
カバッリ ルイジ
Conca Esterino
コンカ エステリノ
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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 活性成分として酸化第二鉄、並びにアル
カリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、ランタニド
系元素の酸化物、酸化クロム、酸化タングステン及び酸
化モリブデンから選択される促進剤とからなり、成形チ
ャンバーの内壁及び金型のプランジャーに塗布した滑剤
を用い、活性成分の前駆体及び/又は活性成分の粉末を
圧縮成形することにより得られる、1以上の貫通孔を備
えた一定の円筒形を有する顆粒の形状のスチレンへのエ
チルベンゼンの脱水素化に用いることができる触媒を提
供する。 【効果】 50000Åより大きい半径を有するマクロ
細孔がなく、かつ軸方向の耐破断性及び耐摩耗性の高い
機械的特性を有する中空の円筒顆粒形状の触媒を得るこ
とができ、スチレンへのエチルベンゼンの脱水素化に好
適な触媒として用いることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特定の幾何学形状
を有する中空顆粒の形状で、かつスチレンへのエチルベ
ンゼンの脱水素化用に好適な触媒に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】現在、
係属中の本出願人の先出願は、複雑な幾何学形状、例え
ば円又は多くの突出部(multilobed)断面を
有し、その異なる突出部(lobe)に貫通孔を有する
中空円筒形状を有し、潤滑用の成形チャンバーの内壁及
び金型のプランジャーに塗布した滑剤を用いることによ
り粉末の圧縮成形(タブレット化)によって得られる触
媒を開示している。
【0003】その得られる触媒は、一定のサイズパラメ
ーター、高い耐摩耗性及び耐破損性、並びに非常に狭い
細孔半径分布により特徴づけられる。上記の多孔度及び
粒子の表面積と体積との間の高い比を有することによ
り、触媒は固定床反応器中で生じる圧力低下をかなり減
少させることができ、触媒の活性及び選択性を著しく改
善させることができる。
【0004】スチレンへのエチルベンゼンの触媒による
脱水素化に関する特許文献では、これまで以上の十分な
性能に達するために、化学組成物を改良し、最適化する
ことに、ほとんど必ず関心が寄せられていた。その改善
は、主成分とみなされる組成物を変化させ、或いは異な
る促進剤を用いることにより一般的になされている。
【0005】触媒の幾何学に関しては、以下の留意点が
与えられる。形状の重要性は、直接には製造方法に用い
られる圧力に関連づけることができる。脱水素化反応が
体積の増加を伴うため、減圧が生成物(スチレン及び水
素)に対する平衡の移動を促進し、転化の改善となる。
したがって、低圧での操作を可能にする(すなわち、触
媒床における圧力低下をも減少させる)ため、触媒の形
状を改質することが望まれる。更に、脱水素化反応は、
スチレンの生成に対する平衡を移動させるためのスチレ
ン分圧を減少するための蒸気の存在下で行われる。
【0006】この問題を解決するために、形状に関して
以下の2つの改質が採用されている。 顆粒直径を、その長さを変化させずに増加させる(5
mmまで)。嵩密度の減少のために(したがって、空隙
区分における増加のために)、圧力低下は実際に減少す
るので、非常に限定された範囲のみ問題を解決するが、
同時に、触媒に曝される幾何学表面を減少させる。これ
らの2つの対照的な作用の結果、性能が低下する。 3又は5つの突出部を有する幾何学形状を導入する。
この場合、僅かな改善がなされる。しかしながら、突出
部が中実円筒形状に関してより弱い破断点を有するの
で、突出部形状は、粉末がより簡便に成形する欠点を有
していることに注意すべきである。
【0007】工業的に、触媒の成形に用いられる方法
は、押出成形である。この技術的に単純な方法には、非
常に重要な制限のあることを注意すべきである。特に、
それにより、複雑な幾何学形状、詳しくは中空形状を得
ることができない。組成物に関して、スチレンへのエチ
ルベンゼンの脱水素化用触媒は、酸化鉄、アルカリ金属
酸化物又はアルカリ土類金属酸化物、並びに酸化セリウ
ム、酸化モリブデン、酸化タングステン及び酸化クロム
から選択される他の酸化物からなる。
【0008】触媒の寿命は、安定剤として酸化クロムを
加えることにより改善できる。米国特許第3,360,
597号には、0.5〜5%Cr2 3 、次いで80〜
90%Fe2 3 及び9〜18%K2 CO3 を含有する
触媒が開示されている。この触媒は、ペーストを得るた
めに黄色酸化鉄、酸化クロム及び炭酸カリウムを水中で
混合し、触媒を押出、乾燥及びか焼により円筒顆粒の形
状で得ることを必要とする方法により製造される。
【0009】米国特許第5,023,225号には、触
媒の成形前に、黄色酸化鉄を少量の酸化クロムと混合す
ることを特徴とする、酸化鉄、アルカリ金属酸化物又は
アルカリ土類金属酸化物、並びに酸化セリウム、酸化モ
リブデン又は酸化タングステンをベースとするスチレン
へのエチルベンゼンの脱水素化用触媒を開示している。
その成形方法は、湿潤ペーストの形態で成分を混合する
前に、酸化クロムと混合した黄色酸化鉄を500〜10
00℃に加熱し、赤色酸化鉄に転化することで特徴づけ
られる。成形は、押出で行われる。
【0010】
【課題を解決するための手段】かくして本発明によれ
ば、活性成分として酸化第二鉄、並びにアルカリ金属酸
化物、アルカリ土類金属酸化物、ランタニド系元素の酸
化物、酸化クロム、酸化タングステン及び酸化モリブデ
ンから選択される促進剤とからなり、成形チャンバーの
内壁及び金型のプランジャーに塗布した滑剤を用い、活
性成分の前駆体及び/又は活性成分の粉末を圧縮成形す
ることにより得られる、1以上の貫通孔を備えた一定の
円筒形を有する顆粒の形状のスチレンへのエチルベンゼ
ンの脱水素化に用いることができる触媒が提供される。
【0011】また、本発明によれば、活性成分として酸
化第二鉄、並びにアルカリ金属酸化物、アルカリ土類金
属酸化物、ランタニド系元素の酸化物、酸化クロム、酸
化タングステン及び酸化モリブデンから選択される促進
剤とからなり、多孔度が0.15〜0.35cm3 /g
の範囲であり、細孔半径分布曲線における細孔の50%
以上が600Åより大きい半径を有し、かつ50000
Åより大きい半径を有するマクロ細孔がなく、1以上の
貫通孔を備えた一定の円筒形を有する顆粒の形状のスチ
レンへのエチルベンゼンの脱水素化に用いることができ
る触媒が提供される。
【0012】更に、本発明によれば、活性成分として酸
化第二鉄、並びにアルカリ金属酸化物、アルカリ土類金
属酸化物、ランタニド系元素の酸化物、酸化クロム、酸
化タングステン及び酸化モリブデンから選択される促進
剤とからなり、15N/粒子より大きい軸方向(孔の軸
方向)の極限引張強さを有する、1以上の貫通孔を備え
た一定の円筒形を有する幾何学形状のスチレンへのエチ
ルベンゼンの脱水素化に用いることができる触媒が提供
される。
【0013】更にまた、本発明によれば、上記触媒を用
いてなるスチレンへのエチルベンゼンの脱水素化方法が
提供される。
【0014】本発明の脱水素化触媒は、圧縮成形(タブ
レット化)により得られ、(1以上の貫通孔を有する)
中空幾何学形状である。その製造方法は、用いる滑剤を
成形する粉末のバルク(bulk)に分散させる方法
〔バルク潤滑(bulk lubrication)〕
ではなく、滑剤を成形チャンバーの内壁及び金型のプラ
ンジャーに塗布する方法〔外部潤滑(external
lubrication)〕でつくられる。
【0015】
【発明の実施の形態】バルク潤滑を用いて製造される触
媒に対して、得られる触媒は、高い多孔度、、狭い細孔
半径分布を有し、マクロ細孔を減少させる。多孔度(水
銀吸収により測定)は、一般に0.15〜0.35cm
3 /gの範囲である。表面積(BET法により測定)
は、一般に1〜6m2 /gの範囲である。細孔分布曲線
は、50000Åより大きい平均細孔半径を有するマク
ロ細孔を含まない。多孔度の50%以上は、600Å以
上の平均半径を有する。より好ましくは、平均半径は8
00〜1800Åの範囲である。
【0016】更に、触媒は、一定のサイズパラメーター
値を有する。一定のサイズパラメーターの恒常性を内部
潤滑を用いる成形方法では得ることができない。その方
法は、触媒粒子の一部又は全て、著しい微小亀裂を生
じ、粒子が脆化し、次いで変形を生ずるからである。こ
れらの変形のため、バルク潤滑を用いる圧縮成形方法
は、中空顆粒触媒の製造の工業的な実施に用いられな
い。更に、本発明の触媒は、バルク潤滑で得られる対応
する触媒よりかなり高度な機械特性、特に軸方向(孔の
軸方向)の極限引張強さを特徴とすることが見い出され
ている。軸方向の極限引張強さは、15N/粒子より大
きく、バルク潤滑で得られる対応する触媒のそれより
(孔の軸方向で)かなり大きい。軸方向の極限引張強さ
は、15N/粒子より大きく、20〜80N/粒子の範
囲が好ましい。また、耐摩耗性も大きい。粉末の割合
は、一般に3%未満である。押出で得られる触媒におけ
る耐摩耗性は、一般に4〜8重量%の範囲である。本発
明の触媒は、それらが中空であることにより、中実形状
の触媒に対して、同じ重量でより高い転化率を達成し得
る。
【0017】更に、これらの触媒が備える空隙が多く存
在することにより、中実形状の触媒を用いるときに必要
とされるよりも低い処理圧力下で、等しい流量で操作で
きる。空隙の存在が多いことが、中実形状を有する触媒
で使用可能な蒸気/エチルベンゼン比より高い比での操
作を可能にする。このため、等しい処理圧力で転化率の
増加が得られる。
【0018】本発明の触媒で使用可能な蒸気/エチルベ
ンゼン重量比は、1.5より高く、2.5又はそれ以上
に達することができる。孔の存在は、中実形状触媒より
薄い肉厚(wall thickness)で働かすこ
とができ、したがって、より良く触媒塊を使用させる。
これらの触媒が使用でき得る最小肉厚は、0.6〜0.
8mmの範囲である。本発明の触媒で用いられる触媒塊
は、同じ重量で、実用の力学的性能に矛盾しない最小直
径3mmを有する中実形状触媒のそれより少なくとも
1.5倍大きい。本発明の3つの突出部を有する触媒で
観察される圧力低下は、同等の露出幾何学面積に対し中
実形状触媒のそれより少なくとも1.3倍低い。本発明
の触媒を製造するのに用いることができる滑剤は、タブ
レット化する粉末とその粉末と接触させるタブレット成
形機(tableter)の部品との間の摩擦係数を低
下させ得る固体及び液体が含まれる。
【0019】好適な滑剤の例は、ステアリン酸及びパリ
ミチン酸;ステアリン酸マグネシウム及びステアリン酸
カリウムのようなこれらの酸のアルカリ金属塩及びアル
カリ土類金属塩;カーボンブラック、タルク、グリセロ
ールモノステアレート及びグリセロールモノオレエート
のようなモノ及びトリグリセリド類、流動パラフィン及
びパーフルオロポリエーテル類である。
【0020】液体滑剤は、溶液又は分散剤中の分散系と
して用いることができる。液体滑剤の量は、一般に1顆
粒当たり0.025〜25mgの範囲である。固体滑剤
は、成形チャンバー及びプランジャーにダスチングで塗
布できる。即ち、固体滑剤の最適の分散が達せられるよ
う、固体滑剤をを空気流又は他の気体流により連続的に
搬送して滑剤粉末の薄層で成形チャンバー及びプランジ
ャーが被覆される。成形チャンバー及びプランジャー
は、ポリテトラフルオロエチレン又はセラミック材料の
ような自滑性材料で組み立てるか、被覆することができ
る。これにより、滑剤の使用を避けるか、減らすことが
できる。
【0021】本発明の触媒は、1以上の貫通孔を有する
中空円筒形を有することが好ましい。2以上の貫通孔を
有する触媒の場合、軸は実質上互いに及び顆粒の軸に平
行で、実質上互いに等間隔である。好ましくは、貫通孔
は円形断面を有する。3つの貫通孔を有する触媒の場
合、粒子の横断面が実質上正三角形の頂点に形成される
軸を有する。前記頂点は、横断面が外接する円周に接触
する点の方向にある。突出部は、円筒及び円形であり、
互いに同一であり、かつ貫通孔に同軸であることが好ま
しい。その顆粒は、実質上曲線的な頂点を有する三角形
の横断面を有していてもよい。
【0022】孔のピッチ(即ち、それぞれの孔の軸間の
距離)と前記孔の直径との比は、好ましくは1.15〜
1.5の範囲、より好ましくは1.3〜1.4の範囲で
ある。粒子の高さと孔のピッチとの比は、好ましくは
1.5〜2.5の範囲、より好ましくは1.7〜2.3
の範囲である。
【0023】円形横断面を有する触媒の場合、各々の突
出部の曲率半径と孔のピッチとの比は、好ましくは0.
6〜0.9の範囲、より好ましくは0.7〜0.8の範
囲である。突出部の曲率半径と貫通孔の半径との比は、
好ましくは1.3〜2.7の範囲、より好ましくは1.
8〜2.10の範囲である。横断面に外接する円の半径
と円形突出部の曲率半径との比は、好ましくは1.6〜
2の範囲、より好ましくは1.7〜1.85の範囲であ
る。多くの突出部を有する場合、各々の顆粒の表面積/
体積比は、好ましくは2.0より高く、より好ましくは
2.2より高い。
【0024】三角形の横断面を有する触媒の場合、各々
の曲線的な頂点の曲率半径と孔のピッチとの比は、好ま
しくは0.6〜0.9の範囲、より好ましくは0.7〜
0.8の範囲である。横断面に外接する円の半径と各々
の曲線的な頂点の曲率半径との比は、好ましくは1.6
〜2の範囲、より好ましくは1.7〜1.85の範囲で
ある。三角形の横断面を有する場合、各々の顆粒の表面
積/体積比は、好ましくは2.0より高く、より好まし
くは2.2より高い。
【0025】本発明の触媒の製造において、触媒の活性
成分の前駆体及び/又は活性成分を含有する粉末は、均
一な分布成分を含む混合物を得るため、ドライブレンド
するか、又は少量の添加水と混合する。得られる混合物
は、水及び揮発性の分解生成物を除去するのに十分な時
間、120〜1000℃の範囲の温度で乾燥及び/又は
か焼サイクルに付される。用いられる圧力は、一般に1
00kg/cm2 より大きく、1000kg/cm2
それ以上に達することができる。
【0026】更に、外部潤滑での成形により得られる触
媒の特性に属する機械的特性、特に軸方向の極限引張強
さを有する触媒を、成形工程前に予め粉末を重量損失を
伴う分解反応を確実にし得る熱処理に付すと、バルク潤
滑を用いた成形によっても得ることができることが見い
出され、これは本発明の更なる態様をなすものである。
この場合、内部滑剤は5重量%未満の量で用いられる。
圧縮成形法を用いて得られる粉末は、所望の形状及びサ
イズの顆粒の製造に好適である。成形後、顆粒は600
〜900℃でか焼される。
【0027】カルシウム、マグネシウム、クロム、モリ
ブデン及びタングステンの酸化物のような促進剤及び安
定剤は、顆粒本体又はその表面に分布させることができ
る。様々な方法が、所望成分を表面堆積さすために用い
ることができる。例えば、一成分又は幾つかの成分は、
外部潤滑工程後のタブレット化の間、顆粒に噴霧しても
よい。更に、所望の化合物の前駆体として作用する滑
剤、例えばステアリン酸アルカリ金属塩及びアルカリ土
類金属塩を用いることができる。これらの化合物は、か
焼後、対応する酸化物、混合酸化物又は塩に転化され
る。滑剤と酸化物又は他の触媒活性化合物の他の混合物
を使用し、顆粒表面に成形の間、薄層に噴霧することが
できる。
【0028】別の方法として、タブレット化とは別でそ
の後での段階で、触媒顆粒を薄層で被覆することができ
る。好ましい方法によれば、か焼段階で生じる触媒顆粒
は、促進剤及び安定化している金属の酸化物又は塩の溶
液又は分散液を噴霧器で、80〜200℃の温度に加熱
しながら噴霧する。一般に0.1〜100ミクロンの範
囲の所望の厚さを有する表面層を形成するために、堆積
を行う分散液の濃度、接触時間及び堆積を行う温度は、
水又は他の分散液体の蒸発を素早くかつ完全に行われる
ように変化させることができる。
【0029】最終組成物を酸化物重量で表して、触媒
は、酸化第二鉄50〜92%、アルカリ金属酸化物5〜
20%、アルカリ土類金属酸化物0.5〜14%、ラン
タニド系元素の酸化物2〜10%、周期表の第VI族金
属酸化物0.5〜6%からなる。アルカリ金属酸化物の
中でも酸化カリウムが好ましく、同時にアルカリ土類金
属酸化物の中でも酸化マグネシウム及び酸化カルシウム
が好ましい。ランタニド系元素の酸化物の中でも酸化セ
リウムが好ましく、第VI族金属酸化物の中でも酸化モ
リブデン及び酸化タングステンが好ましい。例えば、活
性成分の前駆体として、水酸化第二鉄、硝酸第二鉄又は
炭酸第二鉄、水酸化カリウム又は炭酸カリウム、炭酸セ
リウム、又はモリブデン酸アンモニウムを用いることが
できる。
【0030】代表的な組成物は、以下のとおりであっ
て、これに限定されない。組成物は、酸化物の重量割合
として示す。 Fe2O3=78%;K2O=12%;CeO2= 5 %;MgO=2 %;WO3=0.
9 %;MoO3=2.1% 酸化物の重量割合として示して、別の代表的な組成物
は、 Fe2O3=74%;K2O=6 %;CeO2=10 %;MgO=4 %;WO3=6
% である。
【0031】顆粒上に促進剤及び安定成分を表面堆積さ
すことにより得られる不均一な組成を有する触媒は、酸
化鉄40〜95%、アルカリ金属酸化物5〜30%、ア
ルカリ土類金属酸化物0.05〜4%、ランタニド系元
素の酸化物0.1〜10%、クロム、モリブデン又はタ
ングステンの酸化物0.05〜4%を含む。特に、酸化
カリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化セ
リウム、並びに酸化クロム、酸化モリブデン及び酸化タ
ングステンは、酸化鉄に次いで好ましい。好ましい組成
物の例を表1に示すが、これに限定されない。表中
「*」は、表面析出し得る成分を示す。
【0032】
【表1】
【0033】スチレンへのエチルベンゼンの脱水素化反
応は、通常、大気圧より高いか、低いか、或いは等しい
圧力で、540〜650℃で行われる。等しい温度でよ
り高い転化が可能になるので、熱力学的理由から低圧力
が好ましい。
【0034】
【実施例】以下の実施例は説明のために供されるもの
で、本発明を限定するものではない。 (分析試験)軸方向の極限引張強さ(ultimate
tensile strength)は、ASTM
D4179/82により測定した。(タップした)見掛
密度は、ASTM D4164/82により測定した。
【0035】(比較例1)水和した酸化第二鉄、炭酸セ
リウム、炭酸マグネシウム及び酸化タングステンを、水
酸化カリウム水溶液と混合することによりペーストを調
整し、以下に示す組成を有する最終的な触媒生成物を得
た。 Fe2 3 76.1重量% K2 O 14.0重量% CeO2 6.5重量% MgO 2.5重量% WO3 0.9重量%
【0036】ペーストを押出し、長さ5mm×直径3.
5mmの顆粒を成形した。押出した顆粒を150℃で1
6時間乾燥し、次いで400℃で2時間か焼した。押出
した顆粒の一部を700℃で2時間か焼した。これらの
顆粒を触媒1とする。
【0037】(実施例1)比較例1により製造した顆粒
の第2の一部を粉砕し、その粉末を外部滑剤としてステ
アリン酸を用いてタブレット化した。プランジャーとタ
ブレット成形機の円筒チャンバーを、連続的に空気流で
運ばれるステアリン酸の薄層で被覆した。直径2mmの
貫通孔を有する長さ4mmの円柱をタブレット化した。
用いた圧力は500kg/cm2 であった。円筒形顆粒
を700℃で2時間か焼した。この顆粒を触媒2とす
る。この触媒の軸方向の極限引張強さは、13.4N/
粒子であった。
【0038】(実施例2)比較例1により製造した顆粒
の第2の一部を粉砕し、肉厚0.8mm×円周半径2.
5mm×高さ5mmを有し、内径1.3mmを有する3
つの平行な貫通孔を有する3 つの突出部形状に(ステア
リン酸を用いた外部潤滑で)タブレット化した。孔は正
三角形の頂点に位置していた。タブレットは700℃で
2時間か焼した。 この顆粒を触媒3とする。この触媒
の軸方向の極限引張強さは、20.9N/粒子であっ
た。
【0039】(実施例3)酸化物として重量%で示され
る以下の組成を有する触媒を、比較例1の方法で製造し
た。 Fe2O3=74.5%;K2O=6.1 %;CeO2=9.6%;MgO=4.0 %;
WO3=5.8 % 赤色の楕円形のFe2 3 をFe2 3 として用いた。
2 OをKOHとして用いた。か焼は、800℃で4時
間行った。この顆粒を触媒4とする。
【0040】(実施例4)実施例3により製造した顆粒
の一部を粉砕し、実施例2の方法によりタブレット化し
て、実施例2に記載した特徴を有する、3つの孔と3つ
の突出部を有する顆粒を得た。ステアリン酸の代わり
に、ステアリン酸マグネシウムを外部滑剤として用い
た。この触媒の軸方向の極限引張強さは32N/粒子
で、体積の38%は半径600〜800Åを有する細
孔、体積の11%は半径800〜1000Åを有する細
孔、体積の12%は半径1000〜2000Åを有する
細孔、体積の6%は半径2000〜4000Åを有する
細孔で形成されていた。50000Åより大きい半径を
有するマクロ細孔はなかった。この触媒の表面積は、
4.9m2 /gで、多孔度は0.17ml/gであっ
た。これを触媒5とする。
【0041】(実施例5)触媒1、2、3、4及び5
を、内径35mmを有するスチール製の反応器で試験し
た。各試験において、触媒200cm3 を反応器に入
れ、スチール製の格子で支持した。570℃、590℃
及び610℃での試験を各触媒に対して行った。これら
の試験において、上記温度に予備加熱した水蒸気及びエ
チルベンゼンを、水/エチルベンゼン重量比2.4で触
媒床に通した。出力圧力は1.05atmで、エチルベ
ンゼンの毎時空間的な速度は、0.5であった。反応生
成物のサンプルは、系を各条件で少なくとも20時間安
定化させた後、2時間以上で回収した。転化及びモル選
択性の割合を表2に示す。
【0042】
【表2】
【0043】
【発明の効果】本発明によれば、50000Åより大き
い半径を有するマクロ細孔がなく、かつ軸方向の耐破断
性及び耐摩耗性の高い機械的特性を有する中空の円筒顆
粒の触媒を得ることができ、スチレンへのエチルベンゼ
ンの脱水素化に好適な触媒として用いることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 5/42 9734−4H C07C 5/42 15/46 9734−4H 15/46 (72)発明者 ルイジ カバッリ イタリア、ノバラ 28100、ヴィア ポエ リオ、47 (72)発明者 エステリノ コンカ イタリア、ノバラ 28100、ヴィア モン テグラッパ、8

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 活性成分として酸化第二鉄、並びにアル
    カリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、ランタニド
    系元素の酸化物、酸化クロム、酸化タングステン及び酸
    化モリブデンから選択される促進剤とからなり、成形チ
    ャンバーの内壁及び金型のプランジャーに塗布した滑剤
    を用い、活性成分の前駆体及び/又は活性成分の粉末を
    圧縮成形することにより得られる、1以上の貫通孔を備
    えた一定の円筒形を有する顆粒の形状のスチレンへのエ
    チルベンゼンの脱水素化に用いることができる触媒。
  2. 【請求項2】 活性成分として酸化第二鉄、並びにアル
    カリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、ランタニド
    系元素の酸化物、酸化クロム、酸化タングステン及び酸
    化モリブデンから選択される促進剤とからなり、多孔度
    が0.15〜0.35cm3 /gの範囲であり、細孔半
    径分布曲線における細孔の50%以上が600Åより大
    きい半径を有し、かつ50000Åより大きい半径を有
    するマクロ細孔がなく、1以上の貫通孔を備えた一定の
    円筒形を有する顆粒の形状のスチレンへのエチルベンゼ
    ンの脱水素化に用いることができる触媒。
  3. 【請求項3】 顆粒が、互いにかつ顆粒の軸に平行であ
    る1以上の貫通孔を有する円筒形である請求項1又は2
    に記載の触媒。
  4. 【請求項4】 顆粒が、貫通孔に同軸である突出部を有
    する多くの突出部を有する形状である請求項1又は2に
    記載の触媒。
  5. 【請求項5】 顆粒が、孔のピッチとその孔の直径との
    比が1.15〜1.5の範囲であり、顆粒の高さと孔の
    ピッチとの比が1.5〜2.5である3つの孔を有する
    請求項4に記載の触媒。
  6. 【請求項6】 活性成分として酸化第二鉄、並びにアル
    カリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、ランタニド
    系元素の酸化物、酸化クロム、酸化タングステン及び酸
    化モリブデンから選択される促進剤とからなり、15N
    /粒子より大きい軸方向(孔の軸方向)の極限引張強さ
    を有する、1以上の貫通孔を備えた一定の円筒形を有す
    る幾何学形状のスチレンへのエチルベンゼンの脱水素化
    に用いることができる触媒。
  7. 【請求項7】 顆粒が、20〜80N/粒子の範囲の極
    限引張強さを有する請求項6に記載の触媒。
  8. 【請求項8】 顆粒が、孔の軸に同軸である突出部を有
    し、孔のピッチとその直径との比が1.15〜1.5の
    範囲であり、顆粒の高さと孔のピッチとの比が1.5〜
    2.5の範囲である多くの突出部を有する形状である請
    求項6又は7に記載の触媒。
  9. 【請求項9】 請求項1〜8に記載の触媒を用いてなる
    スチレンへのエチルベンゼンの脱水素化方法。
  10. 【請求項10】 エチルベンゼンの脱水素化で用いる蒸
    気/エチルベンゼン重量比が1.5より高い請求項9記
    載の方法。
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