JPH1031887A - 半導体メモリ装置 - Google Patents

半導体メモリ装置

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JPH1031887A
JPH1031887A JP8296159A JP29615996A JPH1031887A JP H1031887 A JPH1031887 A JP H1031887A JP 8296159 A JP8296159 A JP 8296159A JP 29615996 A JP29615996 A JP 29615996A JP H1031887 A JPH1031887 A JP H1031887A
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JP8296159A
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Jun-Young Jeon
峻 永 全
Gi-Won Cha
基 元 車
Sang-Jae Lee
▲祥▼ 載 李
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Samsung Electronics Co Ltd
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Samsung Electronics Co Ltd
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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 ワードラインピッチを縮少しても、各ワード
ライン駆動回路の占有面積を拡大することができる構造
として集積度を向上させる。 【解決手段】 ワードライン駆動回路をブロック40−
1、40−2、40−3に分割して、各セルアレイ3
2,33の間、及び左右の側面に配置する。各ブロック
は相互に並列に、かつビットライン方向に平行した2個
のワードライン駆動回路を有し、ワードライン駆動回路
39,40はセルアレイ32,33のサブワードライン
SWL(1),(3)を、ワードライン駆動回路37,
38はセルアレイ32のサブワードラインSWL
(2),(4)を、ワードライン駆動回路41,42は
セルアレイ33のサブワードラインSWL(2),
(4)とを各々駆動するように配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数のサブワード
ラインに分割されたワードラインを持つ半導体メモリ装
置に係り、特にワードライン駆動回路のレイアウトを改
善した半導体メモリ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体メモリ装置のレイアウト中ではメ
モリセル領域は最も広い面積を占有しており、装置の集
積度を高めるためには素子の微細化とともに占有面積の
縮小は重要な課題となる。
【0003】DRAMの集積度が64メガビット,25
6メガビットあるいはそれ以上に増加すると、行デコー
ダや列デコーダを構成するトランジスタのレイアウトや
占有面積の改善が高集積化の重要な課題として登場す
る。行デコーダや列デコーダは、アドレス信号に応答し
てメモリセル領域中の特定メモリセルを選択する機能を
有している。DRAMに多ビット検査のような並列検査
機能を採用することにより、ひとつのビットラインごと
にひとつの列デコーダだけを必要とするように構成でき
るため、列デコーダのレイアウトは容易に行われるよう
になった。
【0004】しかし、行デコーダは各ワードラインごと
に配置しなければならないため、行デコーダの出力を受
けメモリセルに接続されたワードラインを駆動するワー
ドライン駆動回路のレイアウトを改善することが、高集
積化の新たな課題として登場してくる。行デコーダの出
力ラインの電圧が一定の値に上昇した後、ワードライン
の電圧が十分に上昇するまでに要する時間が、DRAM
のアクセス時間を決定する。したがって、DRAMのア
クセス時間を減少させるためには、デコーダの出力電圧
が十分上昇した時点からワードラインの電圧が十分に上
昇する時点までの時間を減らすことが必要となる。
【0005】一方、装置の集積度を高めるためにはワー
ドライン間のピッチを減少させる必要がある。しかし、
装置の集積度が増加すればするほど各ワードラインに接
続されるメモリセルの個数も増加するため、ワードライ
ン駆動回路を構成するトランジスタの電流駆動力をより
増大させなければならなくなる。これは、ワードライン
駆動回路内の各トランジスタが占有する面積を増大させ
ることを意味する。
【0006】そこで、装置の集積度を増加させるために
は、二つの相反する要求を同時に満足させなければなら
なくなる。すなわち、一方ではワードライン駆動回路の
面積を増加させ、他方で短いワードラインピッチ内で各
ワードライン駆動回路の垂直方向の大きさを定めなけれ
ばならない。このような相反する要求を解決し高集積化
を実現するための技術として、アメリカ特許公報USP
5,148,401号公報に開示された技術が知られて
いる。
【0007】図3は、上記公報に開示されたDRAMの
レイアウトを示した図である。
【0008】メモリセルアレイは二つに分割され、それ
ぞれ左右に第1及び第2メモリセルアレイ15,16と
して配置されている。行デコーダ19に接続されて行方
向に伸長するメインワードライン20−1,20−2
は、それぞれ二つのサブワードライン22,23及び2
1,24に分割され、それぞれ第1及び第2のメモリセ
ルアレイ15,16内にメインワードライン20−1,
20−2と平行するように伸張している。
【0009】メモリセルアレイ15,16内のワードラ
インを駆動するためのワードライン駆動回路は、3個の
ブロック25−1,25−2及び25−3に分割され、
それぞれメモリセルアレイ15,16に隣接するように
配置される。第1のブロック25−1は、第1のメモリ
セルアレイ15と第2のメモリセルアレイ16との間に
配置され、それぞれ反対方向に伸張するサブワードライ
ン22,23に接続される。第2のブロック25−2と
第3のブロック25−3とは、メモリセルアレイ15及
びメモリセルアレイ16の外側に隣接するように各々配
置され、サブワードライン21及び24にそれぞれ接続
される。
【0010】このように、ワードライン駆動回路を構成
する各ブロックがメモリセルアレイ間とそれらのアレイ
の外側に交互に配置されているため、これらの各ブロッ
ク25−1,25−2,25−3によって占有される領
域をメインワードライン20−1,20−2間のライン
ピッチの約2倍に相当する大きさまで垂直方向に拡大す
ることが可能となる。
【0011】したがって、従来のレイアウトと比較し
て、メインワードライン間のピッチを縮小することが可
能となり、これに伴い、各ワードライン駆動回路の占有
面積を増加させることが可能となる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述したレイ
アウト構造を持つ半導体メモリ装置は、集積度を更に増
加させようとすると、次のような短所が現れる。すなわ
ち、集積度を更に増加させようとしてもワードライン駆
動回路の占める占有面積を縮小させるには限界があり、
しかもメインワードラインと同一本数のサブワードライ
ンを必要とする。そこで、メイン及びサブワードライン
各々の間のピッチは、ワードライン駆動回路の占有面積
によって決定される。
【0013】そこで、装置の集積度を更に高めるとして
も、図3に示すような分割されたワードライン構造を持
つようなレイアウトでは、それぞれのメインワードライ
ンピッチ及びサブワードラインピッチを十分に縮小させ
ることはできなかった。すなわち、高集積度化に際して
限界を有していた。
【0014】そこで、本発明は、ワードラインピッチを
より減少しつつ、かつ各ワードライン駆動回路の占有面
積を拡大することのできる構造を持った半導体メモリ装
置を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ装
置は、第1及び第2のメモリセルアレイと、行アドレス
信号に応答して第1ないし第4のプレディコーディング
信号を発生させるプレディコーダと、前記第1及び第2
のメモリセルアレイ内に延在し、4個のサブワードライ
ンに分割されたメインワードラインと、前記第1及び第
2のメモリセルアレイ間に配置され、前記サブワードラ
イン中の奇数番目のサブワードラインに接続され、前記
第1及び第3のプレディコーディング信号に応答して、
前記奇数番目のサブワードラインを駆動する第1群のワ
ードライン駆動回路を含む第1のブロックと、前記第1
のメモリセルアレイに隣接し、前記第1のメモリセルア
レイを挟んで前記第1のブロックに対向するよう配置さ
れ、前記サブワードライン中の偶数番目のサブワードラ
インに接続され、前記第2及び第4のプレディコーディ
ング信号に応答して、前記偶数番目のサブワードライン
を駆動する第2群のワードライン駆動回路を含む第2の
ブロックと、前記第2のメモリセルアレイに隣接し、前
記第2のメモリセルアレイを挟んで前記第1のブロック
に対向するよう配置され、前記サブワードライン中の偶
数番目のサブワードラインに接続され、前記第2及び第
4のプレディコーディング信号に応答して、前記偶数番
目のサブワードラインを駆動する第3群のワードライン
駆動回路を含む第3のブロックと、を具備するように構
成される。
【0016】さらに本発明は、第1及び第2のメモリセ
ルアレイと、行アドレス信号に応答して第1グループお
よび第2グループのプレディコーディング信号を発生さ
せるプレディコーダと、前記第1及び第2のメモリセル
アレイ内に延在し、8個のサブワードラインに分割され
たメインワードラインと、前記第1及び第2のメモリセ
ルアレイ間に配置され、前記サブワードライン中の奇数
番目のサブワードラインに接続され、前記第1グループ
のプレディコーディング信号に応答して、前記奇数番目
のサブワードラインを駆動する第1群のワードライン駆
動回路を含む第1のブロックと、前記第1のメモリセル
アレイに隣接し、前記第1のメモリセルアレイを挟んで
前記第1のブロックに対向するよう配置され、前記サブ
ワードライン中の偶数番目のサブワードラインに接続さ
れ、前記第2グループのプレディコーディング信号に応
答して、前記偶数番目のサブワードラインを駆動する第
2群のワードライン駆動回路を含む第2のブロックと、
前記第2のメモリセルアレイに隣接し、前記第2のメモ
リセルアレイを挟んで前記第1のブロックに対向するよ
う配置され、前記サブワードライン中の偶数番目のサブ
ワードラインに接続され、前記第2グループのプレディ
コーディング信号に応答して、前記偶数番目のサブワー
ドラインを駆動する第3群のワードライン駆動回路を含
む第3のブロックと、を具備するように構成される。
【0017】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施の形態に係
る半導体メモリ装置のレイアウトを示した図である。
【0018】メモリセルアレイは二つに分割され、第1
及び第2のメモリセルアレイ32,33としてそれぞれ
左右に配置されている。また、ワードライン駆動回路は
三つに分割され、それぞれ第1,第2及び第3のブロッ
ク40−1,40−2,40−3としてメモリセルアレ
イ32,33に隣接して配置されている。
【0019】第1のブロック40−1はメモリセルアレ
イ32,33の間に配置され、第2のブロック40−2
は第1のメモリセルアレイ32の左側面で、それを挟ん
で第1のブロック40−1に対向するように配置され
る。また、第3のブロック40−3は第2のメモリセル
アレイ33の右側面で、それを挟んで第1のブロック4
0−1に対向するように配置される。
【0020】各ブロック内に構成されるワードライン駆
動回路は、プレディコーディング信号φX1〜φX4に
よって選択的に活性化される。これらのプレディコーデ
ィング信号φX1〜φX4は、図示しないプレディコー
ダから供給され、行アドレス信号をプレディコーディン
グすることにより作成される。
【0021】各々のメモリセルアレイ32,33の上側
及び下側には、図示しないセンスアンプ回路が配置され
る。また、第1のメモリセルアレイ32の列方向には第
1群の図示しないビットラインが伸張し、第2のメモリ
セルアレイ33の列方向には図示しない第2群のビット
ラインが伸張する。
【0022】第1のブロック40−1にはワードライン
駆動回路39,40が並列に位置するように構成され、
メインワードライン36に対して垂直方向に配置され
る。また、第2のブロック40−2にはワードライン駆
動回路37,38が互いに並列になるように構成され、
メインワードライン36に対して垂直となるように配置
される。第3のブロック40−3にはワードライン駆動
回路41,42が互いに並列となるように構成され、か
つメインワードライン36に対して垂直方向に配置され
る。メインワードライン36は、行デコーダ31に接続
されている。
【0023】ワードライン駆動回路37,38にはプレ
ディコーディング信号φX2及びφX4がそれぞれ供給
され、ワードライン駆動回路39,40にはプレディコ
ーディング信号φX1,φX3が、ワードライン駆動回
路41,42にはプレディコーディング信号φX2,φ
X4がそれぞれ供給される。
【0024】メインワードライン36は、ブロック40
−1内で2個のサブワードラインSWL(1)及びSW
L(3)にそれぞれ分割される。これらの分割された2
個のサブワードラインSWL(1)及びSWL(3)
は、それぞれメモリセルアレイ32,33に伸張され、
サブワードラインSWL(1)はワードライン駆動回路
39により駆動され、サブワードラインSWL(3)は
ワードライン駆動回路40により駆動される。
【0025】また、メインワードライン36は、第2及
び第3のブロック40−2,40−3において各々二つ
のサブワードラインSWL(2)及びSWL(4)に分
割され、第2のブロック40−2においてはそれぞれワ
ードライン駆動回路37及び38により駆動される。ま
た、第3のブロック40−3においては、ワードライン
駆動回路41及び42によりそれぞれ駆動される。
【0026】第1及び第2のメモリセルアレイ32,3
3の間に第1のブロック40−1が配置され、ワードラ
イン駆動回路39,40が互いに並列に配置される。第
2のブロック40−2は、第1のメモリセルアレイ32
の左側面に第1のブロック40−1に対向するように配
置される。第3のブロック40−3は、第2のメモリセ
ルアレイ33の右側面に第1のブロック40−1に対向
するように配置される。
【0027】各ブロック内に構成されたワードライン駆
動回路37〜42は、対となるメインワードライン36
の間にビットライン方向に平行して配置される。各ワー
ドライン駆動回路37〜42は、MOSトランジスタか
らなる多数の駆動用トランジスタを内蔵している。
【0028】第1及び第2のメモリセルアレイ32,3
3に伸張されている奇数番目のサブワードラインSWL
(1),SWL(3)の一端は第1のブロック40−1
まで伸張し、そのブロック内のワードライン駆動回路3
9,40に各々接続される。すなわち、メモリセルアレ
イ32,33内のサブワードラインSWL(1)はブロ
ック40−1のワードライン駆動回路39に共に接続さ
れ、メモリセルアレイ32,33内のサブワードライン
SWL(3)はワードライン駆動回路40に共に接続さ
れる。
【0029】第1のメモリセルアレイ32内に伸張して
いる偶数番目のサブワードラインSWL(2),SWL
(4)の一端は第2のブロック40−2まで伸張し、そ
のブロック内のワードライン駆動回路37,38にそれ
ぞれ接続されている。すなわち、サブワードラインSW
L(2)はワードライン駆動回路37に、サブワードラ
インSWL(4)はワードライン駆動回路38に接続さ
れている。
【0030】また、第2のメモリセルアレイ33内の偶
数番目のサブワードラインSWL(2),SWL(4)
の一端は第3のブロック40−3まで伸張され、そのブ
ロック内のワードライン駆動回路41,42にそれぞれ
接続される。すなわち、サブワードラインSWL(2)
はワードライン駆動回路41に、サブワードラインSW
L(4)はワードライン駆動回路42に接続される。
【0031】各メモリセルアレイ32,33内の図示し
ないメモリセルは、奇数番目のサブワードラインSWL
(1),SWL(3)とビットラインとの交差点、及び
偶数番目のサブワードラインSWL(2),SWL
(4)とビットラインとの交差点にそれぞれ配置され
る。
【0032】また、フォールデッドビットライン構造を
持つメモリ装置の場合には、基準電圧(VCC/2)を供
給するための図示しないダミーセルが各ビットラインに
接続される。
【0033】また、行デコーダ31は行アドレスADr
を解読し、メインワードライン36を選択的に活性化さ
せる。
【0034】プレディコーディング信号φX1,φX3
がそれぞれワードライン駆動回路39,40に、プレデ
ィコーディング信号φX2,φX4はワードライン駆動
回路37,41及び38,42にそれぞれ供給されてい
る。
【0035】次に、図1に示す半導体メモリ装置の動作
を説明する。説明の便宜上、メモリセルアレイ32,3
3を構成する各メモリセルは、貯蔵コンデンサとこのコ
ンデンサとビットライン間に接続されて電荷を伝達する
伝達ゲートとからなるセルとして構成され、貯蔵コンデ
ンサは固定された電位に接続され、伝達ゲートはMOS
トランジスタで構成されていると仮定する。
【0036】メモリセルからデータを読み出すには、行
アドレスADrによって行デコーダ31の出力ラインの
ひとつを活性化する。したがって、この活性化された行
デコーダ出力ラインに対応するメインワードライン36
も活性化され、所定の電位に電位が上昇する。すなわ
ち、サブワードラインSWL(1)〜SWL(4)中の
ひとつを選択するための行アドレスADrが選択される
と、行デコーダ31によってメインワードライン36が
活性化される。また、このときプレディコーディング信
号φX1〜φX4の論理組合せにより、活性化されたメ
インワードラインに接続されたすべてのワードライン駆
動回路中の少なくともひとつが選択的に駆動可能とな
る。
【0037】すなわち、行アドレスADrがサブワード
ラインSWL(1)あるいはSWL(3)を選択する
と、プレディコーディング信号φX1あるいはφX3に
よってワードライン駆動回路39あるいは40が選択さ
れて駆動可能となる。また、行アドレスADrがサブワ
ードラインSWL(2)あるいはSWL(4)を選択す
ると、プレディコーディング信号φX2あるいはφX4
によってワードライン駆動回路37及び41あるいはワ
ードライン駆動回路38及び42が選択される。したが
って、少なくともひとつの選択されたワードライン駆動
回路によって少なくともひとつのサブワードラインが活
性化され、その電圧が所定の電位まで上昇する。
【0038】読出動作の間にサブワードラインが活性化
されれば、それに接続されたセルに貯蔵されたデータが
対応するビットラインに読み出されて伝達される。
【0039】以上説明したように、図1に示す実施の形
態に係る半導体メモリ装置では、ワードライン駆動回路
が3個のブロック40−1,40−2,40−3に分割
されて、それぞれセルアレイ32と33との間、セルア
レイ32の左側面及びセルアレイ33の右側面に各々配
置される。各ブロックは相互に並列に配置され、かつビ
ットライン方向に平行して配置された2個のワードライ
ン駆動回路を有している。
【0040】ワードライン駆動回路39,40は、各セ
ルアレイ32,33の奇数番目のサブワードラインSW
L(1)とSWL(3)とを各々駆動するように配置さ
れ、ワードライン駆動回路37と38とはセルアレイ3
2の偶数番目のサブワードラインSWL(2),SWL
(4)を各々駆動するように配置され、ワードライン駆
動回路41と42とはセルアレイ33の偶数番目のサブ
ワードラインSWL(2)とSWL(4)とを各々駆動
するように配置されている。
【0041】このようなワードライン構造を採用するこ
とにより、各ワードライン用の駆動回路によって占有さ
れる領域をワードラインピッチの4倍に該当する大きさ
まで垂直方向に拡大することが可能となる。換言すれ
ば、各ワードライン駆動回路の垂直方向のサイズは、ワ
ードラインピッチの4倍となる。
【0042】このようにして、従来のメモリ装置に比較
してメインワードラインピッチを大幅に短縮することが
できるだけでなく、各ワードライン駆動回路の占有面積
も増加させることができる。したがって、このような構
造を半導体メモリ装置の設計に適用すれば、メモリセル
領域とは無関係に装置の集積度を非常に向上させること
が可能となる。
【0043】図2は、本発明の他の実施の形態による半
導体メモリ装置のレイアウトを示した図である。
【0044】本実施の形態に係る半導体メモリ装置で
は、ワードライン駆動回路を構成する各ブロックが4個
のプレディコーディング信号によって選択される4個の
ワードライン駆動回路を包含することを除いては、図1
に示した装置と同一の構成を有する。
【0045】本実施の形態に係る装置では、ワードライ
ン駆動回路はメモリセルアレイ52と53との間、メモ
リセルアレイ52の左側面、メモリセルアレイ53の右
側面に各々配置される第1,第2及び第3のブロック5
0−1,50−2及び50−3に分割されている。各ブ
ロックは相互に並列かつビットライン方向に配置される
4個のワードライン駆動回路を有している。
【0046】第1のブロック50−1内のワードライン
駆動回路61〜64は、プレディコーディング信号φX
1,φX3,φX5,φX7に応答して、各メモリセル
アレイ52,53の奇数番目のサブワードラインSWL
(1),SWL(3),SWL(5)及びSWL(7)
を各々駆動する。
【0047】第2のブロック50−2内のワードライン
駆動回路57〜60は、プレディコーディング信号φX
2,φX4,φX6,φX8に応答して、メモリセルア
レイ52内の偶数番目のサブワードラインSWL
(2),SWL(4),SWL(6)及びSWL(8)
を各々駆動する。
【0048】また、第3のブロック50−3内のワード
ライン駆動回路65〜68は、プレディコーディング信
号φX2,φX4,φX6,φX8に応答して、メモリ
セルアレイ53の偶数番目のサブワードラインSWL
(2),SWL(4),SWL(6)及びSWL(8)
を各々駆動する。
【0049】このように本実施の形態に従うワードライ
ン構造では、各ワードライン駆動回路によって占有され
る領域をワードラインピッチの8倍に該当する大きさま
で垂直方向に拡大することが可能となる。換言すれば、
各ワードライン駆動回路の垂直サイズをワードラインピ
ッチの8倍にすることができる。
【0050】したがって、図1に示す実施の形態に係る
メモリ装置に比べ、メインワードラインピッチを更に減
少させるだけでなく、各ワードライン駆動回路の占有面
積を更に増加させることができる。
【0051】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の半
導体メモリ装置では、ワードラインピッチを縮小するこ
とができ、しかも各ワードライン駆動回路の占有面積を
増加させることができるため、装置の集積度の向上に多
大の効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る半導体メモリ装置の
レイアウトを示す図。
【図2】本発明の他の実施の形態による半導体メモリ装
置のレイアウトを示す図。
【図3】従来の半導体メモリ装置のレイアウトを示す
図。
【符号の説明】
31,51:行デコーダ 32,33,52,53:メモリセルアレイ 36,56:メインワードライン 37,38,39,40,41,42,57,58,5
9,60,61,62,63,64,65,66,6
7,68:ワードライン駆動回路 SWL:サブワードライン φX1,φX2,φX3,φX4,φX5,φX6,φ
X7,φX8:プレディコーディング信号

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1及び第2のメモリセルアレイと、 行アドレス信号に応答して第1ないし第4のプレディコ
    ーディング信号を発生させるプレディコーダと、 前記第1及び第2のメモリセルアレイ内に延在し、4個
    のサブワードラインに分割されたメインワードライン
    と、 前記第1及び第2のメモリセルアレイ間に配置され、前
    記サブワードライン中の奇数番目のサブワードラインに
    接続され、前記第1及び第3のプレディコーディング信
    号に応答して、前記奇数番目のサブワードラインを駆動
    する第1群のワードライン駆動回路を含む第1のブロッ
    クと、 前記第1のメモリセルアレイに隣接し、前記第1のメモ
    リセルアレイを挟んで前記第1のブロックに対向するよ
    う配置され、前記サブワードライン中の偶数番目のサブ
    ワードラインに接続され、前記第2及び第4のプレディ
    コーディング信号に応答して、前記偶数番目のサブワー
    ドラインを駆動する第2群のワードライン駆動回路を含
    む第2のブロックと、 前記第2のメモリセルアレイに隣接し、前記第2のメモ
    リセルアレイを挟んで前記第1のブロックに対向するよ
    う配置され、前記サブワードライン中の偶数番目のサブ
    ワードラインに接続され、前記第2及び第4のプレディ
    コーディング信号に応答して、前記偶数番目のサブワー
    ドラインを駆動する第3群のワードライン駆動回路を含
    む第3のブロックと、 を具備したことを特徴とする半導体メモリ装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体メモリ装置におい
    て、前記第1及び第2のメモリセルアレイ中のメモリセ
    ルは前記各サブワードラインに接続されていることを特
    徴とする半導体メモリ装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の半導体メモリ装置におい
    て、前記サブワードラインは各々が接続されたワードラ
    イン駆動回路を介して共通の一定な電位ノードに接続さ
    れていることを特徴とする半導体メモリ装置。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の半導体メモリ装置におい
    て、前記第1〜第3のブロックは各々2個のワードライ
    ン駆動回路を含むことを特徴とする半導体メモリ装置。
  5. 【請求項5】 請求項4記載の半導体メモリ装置におい
    て、前記2個のワードライン駆動回路は互いに並列に、
    かつ前記メインワードラインに直交する方向に配置され
    ていることを特徴とする半導体メモリ装置。
  6. 【請求項6】 請求項1記載の半導体メモリ装置におい
    て、前記第1のメモリセルアレイに延在する第1のグル
    ープのビットラインと、前記第2のメモリセルアレイに
    延在する第2のグループのビットラインとを更に含むこ
    とを特徴とする半導体メモリ装置。
  7. 【請求項7】 第1及び第2のメモリセルアレイと、 行アドレス信号に応答して第1グループおよび第2グル
    ープのプレディコーディング信号を発生させるプレディ
    コーダと、 前記第1及び第2のメモリセルアレイ内に延在し、8個
    のサブワードラインに分割されたメインワードライン
    と、 前記第1及び第2のメモリセルアレイ間に配置され、前
    記サブワードライン中の奇数番目のサブワードラインに
    接続され、前記第1グループのプレディコーディング信
    号に応答して、前記奇数番目のサブワードラインを駆動
    する第1群のワードライン駆動回路を含む第1のブロッ
    クと、 前記第1のメモリセルアレイに隣接し、前記第1のメモ
    リセルアレイを挟んで前記第1のブロックに対向するよ
    う配置され、前記サブワードライン中の偶数番目のサブ
    ワードラインに接続され、前記第2グループのプレディ
    コーディング信号に応答して、前記偶数番目のサブワー
    ドラインを駆動する第2群のワードライン駆動回路を含
    む第2のブロックと、 前記第2のメモリセルアレイに隣接し、前記第2のメモ
    リセルアレイを挟んで前記第1のブロックに対向するよ
    う配置され、前記サブワードライン中の偶数番目のサブ
    ワードラインに接続され、前記第2グループのプレディ
    コーディング信号に応答して、前記偶数番目のサブワー
    ドラインを駆動する第3群のワードライン駆動回路を含
    む第3のブロックと、 を具備したことを特徴とする半導体メモリ装置。
  8. 【請求項8】 請求項7記載の半導体メモリ装置におい
    て、前記第1及び第2のメモリセルアレイ中のメモリセ
    ルは前記各サブワードラインに接続されていることを特
    徴とする半導体メモリ装置。
  9. 【請求項9】 請求項7記載の半導体メモリ装置におい
    て、前記サブワードラインは各々が接続されたワードラ
    イン駆動回路を介して共通の一定な電位ノードに接続さ
    れていることを特徴とする半導体メモリ装置。
  10. 【請求項10】 請求項7記載の半導体メモリ装置にお
    いて、前記各ワードライン駆動回路は互いに並列に、か
    つ前記メインワードラインに直交する方向に配置されて
    いることを特徴とする半導体メモリ装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2005088642A1 (ja) * 2004-03-11 2008-02-21 富士通株式会社 半導体メモリ

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5892703A (en) 1997-06-13 1999-04-06 Micron Technology, Inc, Memory architecture and decoder addressing
KR100261174B1 (ko) * 1997-12-12 2000-07-01 김영환 비휘발성 강유전체 메모리 및 그의 제조 방법
KR100268908B1 (ko) * 1998-04-22 2000-10-16 김영환 에스더블유엘(swl) 강유전체 메모리 장치 및 그 구동회로
US6072711A (en) * 1997-12-12 2000-06-06 Lg Semicon Co., Ltd. Ferroelectric memory device without a separate cell plate line and method of making the same
US6144610A (en) * 1999-04-20 2000-11-07 Winbond Electronics Corporation Distributed circuits to turn off word lines in a memory array
JP4535563B2 (ja) * 2000-04-28 2010-09-01 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
DE10038925A1 (de) * 2000-08-09 2002-03-14 Infineon Technologies Ag Elektronische Treiberschaltung für Wortleitungen einer Speichermatrix und Speichervorrichtung
WO2003025938A1 (en) * 2001-09-17 2003-03-27 Cascade Semiconductor Corporation Low-power, high-density semiconductor memory device
US7170783B2 (en) * 2005-04-01 2007-01-30 Micron Technology, Inc. Layout for NAND flash memory array having reduced word line impedance
JP4907967B2 (ja) * 2005-12-01 2012-04-04 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
KR100935725B1 (ko) 2007-12-18 2010-01-08 주식회사 하이닉스반도체 워드라인 구동 회로
US7916572B1 (en) 2008-07-28 2011-03-29 Altera Corporation Memory with addressable subword support
US8370935B1 (en) * 2009-08-17 2013-02-05 Fatskunk, Inc. Auditing a device
US8949989B2 (en) 2009-08-17 2015-02-03 Qualcomm Incorporated Auditing a device
US8375442B2 (en) * 2009-08-17 2013-02-12 Fatskunk, Inc. Auditing a device
US8544089B2 (en) * 2009-08-17 2013-09-24 Fatskunk, Inc. Auditing a device
KR102109416B1 (ko) 2013-05-21 2020-05-12 삼성전자주식회사 서브 워드라인 드라이버를 갖는 반도체 메모리 장치 및 그것의 구동방법
JP2017147005A (ja) 2016-02-16 2017-08-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 フラッシュメモリ
KR102493814B1 (ko) * 2016-06-29 2023-02-02 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 장치
US11302365B2 (en) * 2018-09-27 2022-04-12 Synopsys, Inc. Area efficient and high-performance wordline segmented architecture
KR20210093607A (ko) 2020-01-20 2021-07-28 삼성전자주식회사 메모리 장치의 워드라인 구동 회로 및 그것의 동작 방법

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5148401A (en) * 1989-02-02 1992-09-15 Oki Electric Industry Co., Ltd. DRAM with split word lines
JPH03235290A (ja) * 1990-02-09 1991-10-21 Mitsubishi Electric Corp 階層的な行選択線を有する半導体記憶装置
KR930008310B1 (ko) * 1991-02-05 1993-08-27 삼성전자 주식회사 반도체 메모리장치의 워드라인드라이버단 배치방법
JP2812099B2 (ja) * 1992-10-06 1998-10-15 日本電気株式会社 半導体メモリ
WO1994017554A1 (en) * 1993-01-29 1994-08-04 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor memory device
US5502683A (en) * 1993-04-20 1996-03-26 International Business Machines Corporation Dual ported memory with word line access control
JP2725570B2 (ja) * 1993-11-02 1998-03-11 日本電気株式会社 半導体メモリ装置
US5506816A (en) * 1994-09-06 1996-04-09 Nvx Corporation Memory cell array having compact word line arrangement

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2005088642A1 (ja) * 2004-03-11 2008-02-21 富士通株式会社 半導体メモリ
JP4532481B2 (ja) * 2004-03-11 2010-08-25 富士通セミコンダクター株式会社 半導体メモリ

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Publication number Publication date
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GB2307076B (en) 1998-01-07
GB2307076A (en) 1997-05-14
KR100204542B1 (ko) 1999-06-15
US5812483A (en) 1998-09-22
KR970029785A (ko) 1997-06-26
GB9623412D0 (en) 1997-01-08

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