JPH10291368A

JPH10291368A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH10291368A
Application number: JP9115299A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Tomura; 辰也戸村; Tsutomu Sato; 勉佐藤; Noboru Sasa; 登笹; Yasunobu Ueno; 泰伸植野
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1997-04-17
Filing date: 1997-04-17
Publication date: 1998-11-04
Anticipated expiration: 2017-04-17
Also published as: JP3776201B2

Abstract

(57)【要約】【課題】従来の波長域より短波長に発振波長を有する
半導体レーザを用いる高密度光ディスクシステムに適用
可能な耐光性、保存安定性に優れた光記録媒体を提供す
ること、及び現状システムで記録、再生が可能で且つ次
世代の高密度光ディスクシステムにおいても再生のみは
可能なＣＤ−Ｒ媒体用の記録媒体を提供すること。【解決手段】下記一般式（Ｉ）等で示される化合物の
少なくとも１種あるいは該化合物と６８０〜７５０ｎｍ
に最大吸収波長を有する有機色素とを記録層に含有させ
る。【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録媒体に関する
ものであって、特に光ビームを照射することにより、記
録材料の透過率、反射率等の光学的な変化を生じさせ、
情報の記録、再生を行ない、且つ追記が可能な光記録媒
体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】現在の追記光型ディスクシステム（ＷＯ
ＲＭ、ＣＤ−Ｒ）では、使用レーザの発振波長が７７０
ｎｍ〜７９０ｎｍにあり、記録媒体は上記波長で記録、
再生が可能なように構成されている。今後、情報量の増
大に伴い記録媒体の大容量化への流れは必須である。従
って、記録、再生に用いるレーザ波長が短波長化するこ
とも必然的に起ってくることが容易に予想される。た
ゞ、データ用追記光型ディスクとして、シアニン色素や
フタロシアニン色素を記録材料として用いた数多くの提
案がなされている（例えば、シアニン色素を記録材料と
して用いたものには、特開昭５７−８２０９３号、特開
昭５８−５６８９２号、特開昭５８−１１２７９０号、
特開昭５８−１１４９８９号、特開昭５９−８５７９１
号、特開昭６０−８３２３６号、特開昭６０−８９８４
２号、特開昭６１−２５８８６号各公報等が、また、フ
タロシアニン色素を記録材料として用いたものには、特
開昭６１−１５０２４３号、特開昭６１−１７７２８７
号、特開昭６１−１５４８８８号、特開昭６１−２４６
０９１号、特開昭６２−３９２８６号、特開昭６３−３
７７９１号、特開昭６３−３９８８８号各公報等があ
る）が、耐光性、保存安定性に優れ、且つ７００ｎｍ以
下のレーザを用いた光ピックアップで記録、再生が可能
な記録材料は、未だ開発されていないのが現状である。

【０００３】現在のＣＤ−Ｒディスクシステムも、使用
レーザの発振波長である７７０ｎｍ〜７９０ｎｍで、記
録、再生が可能なように構成されている。このシステム
も上記同様に、大容量化、記録・再生波長の短波長化は
必須である。この点、現在のＣＤ及びＣＤ−ＲＯＭは、
基板自体の凹凸上にＡｌがコーティングしてあり、Ａｌ
の反射率の波長依存性が小さいため、将来、レーザ波長
が短波長化されても再生は可能である。しかしながら、
ＣＤ−Ｒは記録層に６８０ｎｍ〜７５０ｎｍに最大吸収
波長を有する色素を用い、その光学定数及び膜厚構成か
ら７７０ｎｍ〜７９０ｎｍに高い反射率が得られる様設
定してあるため、７００ｎｍ以下の波長域では反射率は
極めて低く、レーザ波長の短波長化に対応できず、現在
のＣＤ−Ｒシステムで記録、再生している情報が、将来
のシステムでは再生出来ない事態を招く。これまでＣＤ
−Ｒとして、シアニン色素／金属反射層、フタロシアニ
ン色素／金属反射層又はアゾ金属キレート色素／金属反
射層などを記録材料として用いた数多くの提案がなされ
ている（例えば、シアニン色素／金属反射層を記録材料
として用いたものには、特開平１−１５９８４２号、特
開平２−４２６５２号、特開平２−１３６５６号、特開
平２−１６８４４６号各公報等が、フタロシアニン色素
を記録材料として用いたものには、特開平１−１７６５
８５号、特開平３−２１５４６６号、特開平４−１１３
８８６号、特開平４−２２６３９０号、特開平５−１２
７２号、特開平５−１７１０５２号、特開平５−１１６
４５６号、特開平５−６９８６０号、特開平５−１３９
０４４号各公報等が、またアゾ金属キレート色素を記録
材料として用いたものには、特開平４−４６１８６号、
特開平４−１４１４８９号、特開平４−３６１０８８
号、特開平５−２７９５８０号各公報等がある）が、こ
のような点に解決を与えるものは未だ見出されていな
い。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
のような状況に鑑みてなされたものであって、上記従来
システムに比べて、短波長に発振波長を有する半導体レ
ーザを用いる高密度光ディスクシステムに適用可能な耐
光性、保存安定性に優れた光記録媒体用の記録材料を提
供するとともに、現状システムで記録、再生が可能で且
つ次世代の高密度光ディスクシステムにおいても再生可
能なＣＤ−Ｒ媒体用の記録材料を提供すること目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討を
重ねた結果、特定の構造を有する色素を主成分とする記
録層を設けることにより、発振波長７００ｎｍ以下の半
導体レーザを用いる高密度光ディスクシステムに適用可
能なことを見出し、更には本色素を現在ＣＤ−Ｒ用記録
材料として用いられている有機色素と混合して用いるこ
とにより、７００ｎｍ以下の波長域にも高い反射率を得
ることが可能であることを見出し、本発明を完成するに
至った。

【０００６】即ち、本発明によれば、第一に、基板上に
直接又は下引き層を介して記録層を設け、更に必要に応
じて、その上に反射層、保護層を設けてなる光記録媒体
において、前記記録層中に下記一般式（Ｉ）〜（IV）で
示される化合物の少なくとも１種を含有してなることを
特徴とする光記録媒体が提供される。

【化１】

【化２】

【化３】

【化４】〔式中、Ｒ¹〜Ｒ⁷、１、ｍ、ｎ、Ｙ、Ｚ、Ｘ、及びＱ
は、それぞれ以下のものを表す。Ｒ¹〜Ｒ³：各々独立にアミノ基、炭素数１〜６の置換さ
れていてもよいジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニ
トロ基、水酸基、置換若しくは未置換のアルキル基、置
換若しくは未置換のアルコキシ基、置換若しくは未置換
のアルキルチオ基、置換若しくは未置換のカルボン酸エ
ステル基、置換若しくは未置換のアリール基、置換若し
くは未置換のアリールオキシ基、又は置換若しくは未置
換のアリールチオ基、Ｒ⁴〜Ｒ⁶：各々独立にハロゲン原子、ニトロ基、水酸
基、置換若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未
置換のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアルキルチ
オ基、置換若しくは未置換のジアルキルアミノ基、
Ｏ^-、ＣＯＯ^-、又はＳＯ₃ ^-、ｌ、ｍ：各々独立に０〜３の整数、ｎ：０〜４の整数、Ｒ⁷：ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、置換若しくは
未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアルコキシ
基、置換若しくは未置換のアルキルチオ基、アミノ基、
ジアルキルアミノ基、Ｏ^-、ＣＯＯ^-、又はＳＯ₃ ^-、Ｙ：炭素原子、硫黄原子又は酸素原子、Ｚ：複素環残基、Ｘ：酸アニオン又は金属錯体アニオン、Ｑ：０又は１。〕第二に、前記記録層が前記一般式（Ｉ）〜（IV）で示さ
れる化合物の少なくとも１種と６８０ｎｍ〜７５０ｎｍ
に最大吸収波長を有する有機色素とを含有してなること
を特徴とする上記第一に記載した光記録媒体が提供され
る。第三に、前記６８０ｎｍ〜７５０ｎｍに最大吸収波
長を有する有機色素がペンタメチンのシアニン色素、フ
タロシアニン色素及びアゾ金属キレート色素の少なくと
も１種である上記第二に記載した光記録媒体が提供され
る。第四に、前記記録層が波長６３０〜７２０ｎｍのレ
ーザ光によって記録されるものである上記第一〜第三の
いずれかに記載した光記録媒体が提供される。第五に、
前記反射層がアルミニウム又は金からなる上記第一〜第
四のいずれかに記載した光記録媒体が提供される。第六
に、前記保護層が紫外線硬化型樹脂からなる上記第一〜
第五のいずれかに記載した光記録媒体が提供される。

【０００７】本発明の光記録媒体は、前記一般式（Ｉ）
〜（IV）で示される化合物の少なくとも１種を含有する
記録層を設けたことから、７００ｎｍ以下の波長域のレ
ーザ光で記録、再生が可能で、しかも耐光性且つ保存安
定性に優れたものとなり、また別の態様では、前記一般
式（Ｉ）〜（IV）で示される少なくとも１種の化合物
と、６８０〜７５０ｎｍに最大吸収波長を有する有機色
素との混合物からなる記録層を設けたことから、現状シ
ステムでのＣＤ−Ｒ媒体として使用でき、しかも次世代
の高密度光ディスクシステムとなっても、記載された情
報を再生することが可能なものとなる。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
本発明の光記録媒体は、記録層中に下記一般式（Ｉ）〜
（IV）で示される化合物の少なくとも１種を含有してな
ることを特徴とする。

【化１】

【化２】

【化３】

【化４】

【０００９】まず、本発明で使用する上記一般式
（Ｉ）、（II）、(III）及び（IV）で示される化合物に
ついて説明すると、上記一般式（Ｉ）〜（IV）におい
て、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、各々独立にアミノ基、炭素数１
〜６の置換されていてもよいジアルキルアミノ基、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、水酸基、置換若しくは未置換のア
ルキル基、置換若しくは未置換のアルコキシ基、置換若
しくは未置換のアルキルチオ基、置換若しくは未置換の
カルボン酸エステル基、置換若しくは未置換のアリール
基、置換若しくは未置換のアリールオキシ基、又は置換
若しくは未置換のアリールチオ基を表し、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ
⁶は各々独立にハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、置換
若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のア
ルコキシ基、置換若しくは未置換のアルキルチオ基、置
換若しくは未置換のジアルキルアミノ基、Ｏ^-、ＣＯ
Ｏ^-、又はＳＯ₃ ^-を表す。ｌ、ｍは、各々独立に０〜３
の整数を表し、ｎは０〜４の整数を表す。Ｒ⁷は、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、水酸基、置換若しくは未置換のア
ルキル基、置換若しくは未置換のアルコキシ基、置換若
しくは未置換のアルキルチオ基、アミノ基、ジアルキル
アミノ基、Ｏ^-、ＣＯＯ^-、又はＳＯ₃ ^-を表し、Ｙは炭素
原子、硫黄原子、酸素原子のいずれかを表し、Ｚは複素
環残基を表す。また、Ｘは酸アニオン又は金属錯体アニ
オンを表し、Ｑは０又は１を表す。

【００１０】Ｘは、ハロゲンイオン、過ハロゲン酸イオ
ン、アルキル硫酸アニオン、ＰＦ₆アニオン、ＢＦ₄アニ
オン、ＳｂＦ₆アニオン等の酸アニオンを表し、Ｒ¹、Ｒ
²、Ｒ³における置換基がジアルキルアミノ基のアルキル
炭素数が６以上になると、安定性（耐光性、保存安定
性）が極端に低下する。

【００１１】一般式（Ｉ）〜（IV）中のＲ¹〜Ｒ⁷のアル
キル基（アルコキシ基、アルキルアルコキシ基、カルボ
ン酸エステル基中のアルキル部分を含む）の具体例とし
ては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブ
チル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル
基、イソアミル基、２−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル
基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４
−メチルペンチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘプチ
ル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、
４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２−エ
チルペンチル基、３−エチルペンチル基、ｎ−オクチル
基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、４
−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル基、２−エチ
ルヘキシル基、３−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、
ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基等の一級アルキル基；イ
ソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、１−エチルプロピル
基、１−メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル
基、１−メチルヘプチル基、１−エチルブチル基、１，
３−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１
−エチル−２−メチルプロピル基、１−メチルヘキシル
基、１−エチルヘプチル基、１−プロピルブチル基、１
−イソプロピル−２−メチルプロピル基、１−エチル−
２−メチルブチル基、１−プロピル−２−メチルプロピ
ル基、１−メチルヘプチル基、１−エチルヘキシル基、
１−プロピルペンチル基、１−イソプロピルぺンチル
基、１−イソプロピル−２−メチルブチル基、１−イソ
プロピル−３−メチルブチル基、１−メチルオクチル
基、１−エチルヘプチル基、１−プロピルヘキシル基、
１−イソブチル−３−メチルブチル基等の二級アルキル
基；ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、ｔｅ
ｒｔ−アミル基、ｔｅｒｔ−オクチル基等の三級アルキ
ル基；シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル
基、４−エチルシクロヘキシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルシクロヘキシル基、４−（２−エチルヘキシル）シク
ロヘキシル基、ボルニル基、イソボルニル基、アダマン
タン基等のシクロアルキル基等が挙げられ、これらのア
ルキル基はハロゲン原子等の置換基で置換されていても
良い。

【００１２】また、置換若しくは未置換のアリール基
（置換若しくは未置換のアリールオキシ基のアリール部
分を含む）の具体例としては、フェニル基、メチルフェ
ニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、
エチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、ノニルフェニル基、メトキシフェニル
基、ジメトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ナフ
チル基、ピリジル基、メチルピリジル基等が挙げられ
る。また、これらのアリール基はハロゲン原子等の置換
基で置換されていても良い。

【００１３】Ｚは複素環残基を表すが、その具体例とし
ては、置換若しくは未置換のピリジン残基、ピリダジン
残基、ピリミジン残基、ピラジン残基、チオフェン残基
等が挙げられる。

【００１４】また、Ｑについては０又は１であるが、Ｒ
⁴若しくはＲ⁷がＯ^-、ＣＯＯ^-、ＳＯ₃ ^-のいずれかになっ
た場合のみＱは０となり、それ以外はすべて１である。

【００１５】また、Ｘにおける金属錯体アニオンの具体
例としては、以下に示すものが挙げられる。

【化５】式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、水素原子、置換若しくは未置換の
アルキル基、アリール基、又は複素環残基を表す。ま
た、ＭはＮｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ又はＣｏを表す。

【化６】式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は、水素原子、ハロゲン
原子、直接若しくは２価の連結基を介して間接的に結合
するアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、又は
複素環残基を表す。なお、Ｍは前記と同じである。

【化７】式中、Ｘ¹はＳ又はＣＲ¹¹Ｒ¹²を表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、
ＣＮ、ＣＯＲ¹³、ＣＯＯＲ¹⁴、ＣＯＮＲ¹⁵Ｒ¹⁶若しくは
ＳＯＲ¹⁷、５員環、６員環を形成するのに必要な原子群
を表し、Ｒ¹³〜Ｒ¹⁷は置換若しくは無置換のアルキル
基、又はアリール基を表す。なお、Ｍは前記と同じであ
る。

【００１６】

【化８】式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は、水素原子、ハロゲン
原子、直接若しくは２価の連結基を介して間接的に結合
するアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、又は
複素環残基を表す。Ｒ¹⁵は、水素原子、アルキル基、ア
リール基、アシル基、カルボキシル基、又はスルホニル
基を表す。なお、Ｍは前記と同じである。

【化９】式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は、水素原子、ハロゲン
原子、直接若しくは２価の連結基を介して間接的に結合
するアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、又は
複素環残基を表す。Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶は、水素原子、アルキル
基、アリール基、アシル基、カルボキシル基、又はスル
ホニル基を表す。なお、Ｍは前記と同じである。

【化１０】式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、水素原子、アルキル基、又はアリ
ール基を表す。Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶は、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基を表す。な
お、Ｍは前記と同じである。

【００１７】

【化１１】式中、Ｘ¹はＯ又はＳを表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³は、直
接オキシ基、チオ基、アミノ基を介して結合する置換若
しくは無置換のアルキル基、アリール基、又はシクロア
ルキル基を表す。なお、Ｍは前記と同じである。

【化１２】式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³は、直接若しくはオキシ基、チ
オ基、アミノ基を介して結合する置換若しくは無置換の
アルキル基、アリール基、又はシクロアルキル基を表
す。Ｘ¹はＯ又はＳを表す。Ｒ¹⁴はアルキル基、又はア
リール基を表す。なお、Ｍは前記と同じである。

【化１３】式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、水素原子、置換若しくは未置換の
アルキル基、アリール基、又は複素環残基を表す。な
お、Ｍは前記と同じである。

【００１８】

【化１４】式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は、水素原子、ハロゲン
原子、直接若しくは２価の連結基を介して間接的に結合
するアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、又は
複素環残基を表す。なお、Ｍは前記と同じである。

【化１５】式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は、水素原子、ハロゲン
原子、直接若しくは２価の連結基を介して間接的に結合
するアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、又は
複素環残基を表す。Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶は、水素原子、アルキル
基、アリール基、アシル基、カルボキシル基、又はスル
ホニル基を表す。なお、Ｍは前記と同じである。

【化１６】式中、Ｒ¹¹はアルキル基又はアリール基を表す。Ｒ¹²、
Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵は、水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、又はアリール基を表す。なお、Ｍは前記と同じで
ある。

【００１９】金属錯体アニオンの化合物例を表１に示
す。

【００２０】

【表１−（１）】

【００２１】

【表１−（２）】

【００２２】前記一般式（Ｉ）〜（IV）で表わされる化
合物の具体例としては、例えば表２−（１）〜表２−
（３）に示されるものが挙げられる。

【００２３】

【表２−（１）】

【００２４】

【表２−（２）】

【００２５】

【表２−（３）】

【００２６】また、記録層においては、前記したよう
に、前記一般式（Ｉ）〜（IV）で示される少なくとも１
種の化合物と、６８０〜７５０ｎｍに最大吸収波長を有
する有機色素との混合物を主成分とすることにより、現
状システムで記録再生が可能であるとともに、次世代シ
ステムにおいても再生のみは可能なＣＤ−Ｒ記録媒体と
なる。この場合の６８０〜７５０ｎｍに最大吸収波長を
有する色素としては、ペンタメチンのシアニン色素、フ
タロシアニン色素及びアゾ金属キレート色素が好まし
い。

【００２７】ペンタメチンのシアニン色素の好ましい例
としては、下記一般式（Ｖ）で示されるものが挙げられ
る。

【化１７】式中、Ｒ²¹、Ｒ²²は炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ²³、
Ｒ²⁴は炭素数１〜６の置換又は未置換のアルキル基、Ｘ
²は酸アニオンを表わす。なお、芳香族環は他の芳香族
環と縮合されていてもよく、また、アルキル基、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基又はアシル基で置換されていても
よい。

【００２８】フタロシアニン色素の好ましい例として
は、下記一般式（VI−１）若しくは（VI−２）で示され
るものが挙げられる。

【化１８】式中、Ｍ¹はＮｉ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｆ
ｅ、ＴｉＯ又はＶＯを、Ｘ⁵〜Ｘ⁸はそれぞれ独立に置換
位置α位の−ＯＲ又は−ＳＲを、Ｒは置換されていても
よい炭素数３〜１２の直鎖、分岐若しくは脂環式アルキ
ル基又は同じく置換されていてもよいアリール基を表わ
す。Ｘ⁵〜Ｘ⁸以外のベンゼン環の置換基は水素原子又は
ハロゲン原子である。

【００２９】

【化１９】式中、Ｍ²は、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｉｎ、又はＳｎを、Ｘ⁹〜Ｘ
¹²はそれぞれ独立に置換位置α位の−ＯＲ又は−ＳＲ
を、Ｒは置換されていてもよい炭素数３〜１２の直鎖、
分岐若しくは脂環式アルキル基又は同じく置換されてい
てもよいアリール基を、Ｙ⁵、Ｙ⁶は−ＯＳｉＲ²⁵Ｒ²⁶Ｒ
²⁷、−ＯＣＯＲ²⁵Ｒ²⁶Ｒ²⁷、又は−ＯＰＯＲ²⁵Ｒ²⁶Ｒ²⁷
を表わし、Ｒ²⁵〜Ｒ²⁷はそれぞれ独立に炭素数１〜１０
のアルキル基又はアリール基を表わす。Ｘ⁹〜Ｘ¹²以外
のベンゼン環の置換基は、水素原子又はハロゲン原子で
ある。

【００３０】また、アゾ金属キレート色素の好ましい例
としては、下記一般式（VII）で示されるアゾ系化合物
と金属とのアゾ金属キレート化合物の１種又は２種以上
が挙げられ、、金属の好ましい例としては、Ｎｉ、Ｐ
ｔ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎなどが挙げられる。

【化２０】式中、Ａはそれが結合している炭素原子及び窒素原子と
一緒になって複素環を形成する残基を表わし、Ｂはそれ
が結合している二つの炭素原子と一緒になって芳香環又
は複素環を形成する残基を表わし、またＸ³は活性水素
を有する基を表わす。

【００３１】本発明の前記一般式（Ｉ）〜(IV）で示さ
れる少なくとも１種の色素と前記一般式（Ｖ）〜（VI
I）で示される少なくとも１種の色素とを併用する場合
の重量組成比は、本発明色素／〔（Ｖ）〜（VII）の色
素〕＝１０／１００〜９０／１００、好ましくは４０／
１００〜２０／１００である。また、両色素を併用した
場合の記録層の膜厚は５００Å〜５μｍ、好ましくは１
０００Å〜５０００Åである。

【００３２】次に、本発明の記録媒体の構成について述
べる。図１は、本発明の記録媒体に適用し得る層構成例
を示す図で、これは追記型光ディスクの例である。基板
１の上に、必要に応じて下引き層３を介して、記録層２
を設け、更に必要に応じ保護層４が設けられている。ま
た、必要に応じて基板１の下にハードコート層を設ける
ことができる。図２は、本発明の記録媒体に適用し得る
別のタイプの層構成例を示す図で、これはＣＤ−Ｒメデ
ィアの例である。図１の構成の記録層２の上に反射層６
が設けられている。なお、本発明の記録媒体は、図１及
び図２に示した構成の記録層（有機薄膜層）を内側にし
て、他の基板と空間を介して密封したエアーサンドイッ
チ構造にしてもよく、また保護層を介して接着した貼合
せ構造にしてもよい。

【００３３】次に、構成各層の必要特性及びその構成材
料について述べる。１）基板基板の必要特性としては、基板側より記録再生を行なう
場合には使用レーザ光に対して透明でなければならない
が、記録層側から記録再生を行なう場合は透明である必
要はない。基板材料としては、例えばポリエステル、ア
クリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート樹脂、ポリ
オレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
イミドなどのプラスチック、ガラス、セラミックあるい
は金属などを用いることができる。なお、基板の表面に
トラッキング用の案内溝や案内ピット、更にアドレス信
号などのプレフォーマットが形成されていてもよい。

【００３４】２）記録層記録層はレーザ光の照射により何らかの光学的変化を生
じさせその変化により情報を記録できるものであって、
この記録層中には前記一般式（Ｉ）〜(III）で示される
化合物の少なくとも１種、場合により更に前記一般式
（IV）〜（VI）で示される色素の少なくとも１種が含有
されている必要がある。更に、これらの色素は光学特
性、記録感度、信号特性の向上のため、他の有機色素及
び金属、金属化合物と混合又は積層化して用いること
も、もちろん可能である。この場合の他の有機色素とし
ては、ポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシ
アニン系、スクアリリウム系、クロコニウム系、ピリリ
ウム系、ナフトキノン系、アントラキノン（インダンス
レン）系、キサンテン系、トリフェニルメタン系、アズ
レン系、テトラヒドロコリン系、フェナンスレン系、ト
リフェノチアジン系染料、及び金属錯体化合物などが挙
げられる。また金属、金属化合物例としては、Ｉｎ、Ｔ
ｅ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｂｅ、Ｔｅ
Ｏ₂、ＳｎＯ、Ａｓ、Ｃｄなどが挙げられ、それぞれを
分散混合あるいは積層の形態で用いることができる。更
に、上記染料中に高分子材料、例えばアイオノマー樹
脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シリ
コーン、液状ゴムなどの種々の材料若しくはシランカッ
プリング剤などを分散混合しても良いし、特性改良の目
的で、安定剤（例えば遷移金属錯体）、分散剤、難燃
剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤などと一緒
に用いることができる。

【００３５】記録層の形成は、蒸着、スパッタリング、
ＣＶＤ又は溶剤塗布などの通常の手段によって行なうこ
とができる。塗布法を用いる場合には、上記染料などを
有機溶剤に溶解して、スプレー、ローラーコーティン
グ、ディッピング又はスピンコーティングなどの慣用の
コーティング法で行なうことができる。用いられる有機
溶剤としては、一般にメタノール、エタノール、イソプ
ロパノールなどアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドな
どのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシ
ド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエ
ーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、
クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、四塩化
炭素、トリクロロエタンなどの脂肪族ハロゲン化炭素
類、ベンゼン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンなどの芳香族類、あるいはメトキシエタノー
ル、エトキシエタノールなどのセルソルブ類、ヘキサ
ン、ペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン
などの炭化水素類などが挙げられる。記録層の膜厚は、
１００Å〜１０μｍ、好ましくは２００Å〜２０００Å
が適当である。

【００３６】３）下引き層下引き層は、接着性の向上、水又はガスなどに対す
るバリヤー、記録層の保存安定性の向上、反射率の
向上、溶剤からの基板の保護、案内溝、案内ピッ
ト、プレフォーマットの形成などを目的として使用され
る。の目的に対しては高分子材料、例えばアイオノマ
ー樹脂、ポリアミド、ビニル系樹脂、天然樹脂、天然高
分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の高分子化合物
及びシランカップリング剤などを用いることができ、
及びの目的に対しては、上記高分子材料以外に無機化
合物、例えばＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｉＯ、ＴｉＯ₂、Ｚ
ｎＯ、ＴｉＮ、ＳｉＮなどがあり、更に金属又は半金
属、例えばＺｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ａ
ｕ、Ａｇ、Ａｌなどを用いることができる。また、の
目的に対しては、金属、例えばＡｌ、Ａｕ、Ａｇなど
や、金属光沢を有する有機薄膜、例えばメチン染料、キ
サンテン系染料などを用いることができ、及びの目
的に対しては、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性
樹脂などを用いることができる。下引き層の膜厚は０．
０１〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜１０μｍが適当
である。

【００３７】４）反射層反射層は単体で高反射率の得られる腐食されにくい金
属、半金属などが使用できる。材料例としては、Ａｕ、
Ａｇ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｎなどが挙げられ、
反射率、生産性の点からＡｕ、Ａｌが最も好ましい。こ
れらの金属、半金属は単独で使用してもよく、２種以上
の合金としてもよい。膜形成法としては蒸着、スパッタ
リングなどが挙げられ、膜厚としては５０〜５０００
Å、好ましくは１００〜３０００Åである。

【００３８】５）保護層、基板面ハードコート層保護層又は基板面ハードコート層は、記録層（反射吸
収層）を傷、埃、汚れなどから保護する、記録層（反
射吸収層）の保存安定性の向上、反射率の向上などを
目的として使用される。これらの目的に対しては、前記
の下引き層に示した材料を用いることができる。また、
無機材料としてＳｉＯ、ＳｉＯ₂なども用いることもで
き、有機材料としてポリメチルアクリレート、ポリカー
ボネート、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリエステル
樹脂、ビニル樹脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹脂、
天然ゴム、スチレン−ブタジエン樹脂、クロロプレンゴ
ム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジンなどの
熱軟化性、熱溶融性樹脂も用いることができる。上記材
料のうち最も好ましいものは、生産性に優れた紫外線硬
化樹脂である。保護層又は基板面ハードコート層の膜厚
は０．０１〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜１０μｍ
が適当である。

【００３９】本発明において、前記の下引き層、保護層
及び基板面ハードコート層には記録層の場合と同様に、
安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性
剤、可塑剤などを含有させることができる。

【００４０】

【実施例】以下実施例について本発明を説明するが、本
発明これらに限定されるものではない。

【００４１】実施例１実施例１厚さ１．２μｍのポリメチルメタクリレート基板上にフ
ォトポリマーにて、深さ１２００Å、半値幅０．４μ
ｍ、トラックピッチ１．４μｍの案内溝を形成した基板
上に、化合物具体例Ｎｏ．１の１，２−ジクロロエタン
溶液をスピンナー塗布し、厚さ８００Åの記録層を設け
て記録媒体を得た。

【００４２】実施例２〜８実施例１において、化合物具体例Ｎｏ．１の代わりに、
化合物具体例Ｎｏ．２、Ｎｏ．６、Ｎｏ．１３、Ｎｏ．
１７、Ｎｏ．１９、Ｎｏ．２２、Ｎｏ．２４を用いたこ
と以外は、実施例１と同様にして実施例２〜８の記録媒
体を得た。

【００４３】比較例１実施例１において、化合物具体例Ｎｏ．１の代わりに下
記式（VIII）で示される化合物を用いたこと以外は、実
施例１と同様にして比較例１の記録媒体を得た。

【化２１】

【００４４】前記の実施例１〜８及び比較例１の記録媒
体を用い、下記の記録条件で基板から光を入射して記録
し、その後記録位置を再生光によりＣ／Ｎ及び反射率を
測定した。その結果を表３に示す。記録条件：レーザ発振波長６８０ｎｍ記録周波数１．２５ＭＨｚ記録線速１．２ｍ／ｓｅｃ再生条件：レーザ発振波長６８０ｎｍ（実施例１〜５、比較例１）６３５ｎｍ（実施例６〜８）再生パワー０．２５〜０．３ｍＷの連続光スキャニングバンド巾３０ＫＨｚ耐光テスト条件：耐光テスト４万Ｌｕｘ、Ｘｅ光、２０時間連続照射保存テスト８５℃、８５％、７２０時間放置

【００４５】

【表３】

【００４６】実施例９深さ１０００Å、半値幅０．４μｍ、トラックピッチ
１．６μｍの案内溝を有する厚さ１．２ｍｍの射出成形
ポリカーボネート基板上に、化合物具体例Ｎｏ．８をメ
チルシクロヘキサン、２−メトキシエタノール、メチル
エチルケトン、テトラヒドロフランの混合溶液に溶解し
た液をスピンナー塗布し、厚さ１８００Åの記録層を形
成し、次いでその上にスパッタ法により金２０００Åの
反射層を設け、更にその上にアクリル系フォトポリマー
にて５μｍの保護層を設け、記録媒体を得た。

【００４７】実施例１０〜１６実施例９において、化合物具体例Ｎｏ．８の代わりにそ
れぞれ化合物具体例Ｎｏ．３、Ｎｏ．５、Ｎｏ．２６、
Ｎｏ．３０、Ｎｏ．４３、Ｎｏ．１６、Ｎｏ．２１を用
いたこと以外は、実施例９と同様にして実施例１０〜１
６の記録媒体を得た。

【００４８】比較例２実施例９において、化合物具体例Ｎｏ．８の代わりに比
較例１で用いた前記式（VIII）で示される化合物を用い
たこと以外は、実施例９と同様にして比較例２の記録媒
体を得た。

【００４９】実施例９〜１６及び比較例２の記録媒体に
発振波長６８０ｎｍ、ビーム径１．４μｍの半導体レー
ザ光を用い、トラッキングしながらＥＦＭ信号を記録し
（線速１．４ｍ／ｓｅｃ）、同じレーザの連続光で再生
（但し、実施例１５及び１６は発振波長６３５ｎｍで再
生）し、再生波形を観察した。その結果を表４に示す。

【００５０】

【表４】

【００５１】実施例１７深さ１０００Å、半値幅０．４５μｍ、トラックピッチ
１．６μｍの案内溝を有する厚さ１．２ｍｍの射出成形
ポリカーボネート基板上に、下記の式（IX）で示される
化合物と化合物具体例Ｎｏ．１１とを、重量比（１／
１）のメチルシクロヘキサン、２−メトキシエタノー
ル、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン混合溶媒
に溶解し、スピンナー塗布して、厚さ１７００Åの記録
層を形成し、次いで、スパッタ法により金２０００Åの
反射層を形成し、更にその上にアクリル系フォトポリマ
ーにて５μｍの保護層を設け、記録媒体を得た。

【００５２】

【化２２】

【００５３】実施例１８及び１９実施例１７において、化合物具体例Ｎｏ．１１の代わり
にそれぞれ化合物具体例Ｎｏ．７、Ｎｏ．２７を用いた
こと以外は、実施例１７と同様にして実施例１８及び１
９の記録媒体を得た。

【００５４】実施例２０及び２１実施例１７において、化合物具体例Ｎｏ．１１の代わり
にそれぞれ化合物具体例Ｎｏ．２８、Ｎｏ．３８を用
い、且つ前記式（IX）で示される化合物の代わりに下記
式（Ｘ）で示される化合物を用いたこと以外は、実施例
１７と同様にして実施例２０及び２１の記録媒体を得
た。

【００５５】

【化２３】

【００５６】実施例２２及び２３実施例１７において、化合物具体例Ｎｏ．１１の代わり
にそれぞれ化合物具体例Ｎｏ．４６、Ｎｏ．１４を用
い、且つ前記式（IX）で示される化合物の代わりに下記
式（XI）で示される化合物を用いたこと以外は、実施例
１７と同様にして実施例２２及び２３の記録媒体を得
た。

【００５７】

【化２４】

【００５８】比較例３〜５実施例１７において、記録層をそれぞれ前記一般式（I
X）で示される化合物のみ、前記一般式（Ｘ）で示され
る化合物のみ、前記一般式（XI）で示される化合物のみ
としたこと以外は、実施例１７と同様にして比較例３〜
５の記録媒体を得た。

【００５９】実施例１７〜２３及び比較例３〜５の記録
媒体に発振波長７８０ｎｍ、ビーム径１．６μｍの半導
体レーザ光を用い、トラッキングしながらＥＦＭ信号を
記録し（線速１．４ｍ／ｓｅｃ）、前記レーザ及び発振
波長６８０ｎｍ（但し、実施例２３のみ再生発振波長６
３５ｎｍにて実施）、ビーム径１．４μｍの半導体レー
ザの連続光で再生し、再生波形を観察した。その結果を
表５に示す。

【００６０】

【表５】

【００６１】

【発明の効果】請求項１の光記録媒体は、前記一般式
（Ｉ）〜（IV）で示される化合物の少なくとも１種を記
録層中に含有してなるものとしたことから、波長７００
ｎｍ以下に高い光吸収能と光反射性を有しているため、
高密度記録が可能な７００ｎｍ以下の波長域のレーザ光
で記録、再生が可能であり、しかも耐光性、保存安定性
に優れている。

【００６２】請求項２の光記録媒体は、前記一般式
（Ｉ）〜（IV）で示される化合物の少なくとも１種と６
８０〜７５０ｎｍに最大吸収波長を有する有機色素とを
記録層中に含有してなるものとしたことから、現状シス
テムで記録、再生が可能で、しかも次世代の高密度光デ
ィスクシステムでも、記録された情報を再生することが
可能になる。

【００６３】請求項３の光記録媒体は、６８０〜７５０
ｎｍに最大吸収波長を有する有機色素として、ペンタメ
チンのシアニン色素、フタロシアニン色素及びアゾ金属
キレート色素の少なくとも一種を選択したことから、高
品位の信号特性が記録可能となる。

【００６４】請求項４の光記録媒体は、記録層が波長６
３０〜７２０ｎｍのレーザ光によって記録されるもので
あるため、７７０〜８３０ｎｍ対応の光記録媒体に比べ
１．６〜１．８倍の高密度化追記型光記録媒体が得られ
る。

【００６５】請求項５の光記録媒体は、前記反射層がア
ルミニウム又は金からなるものとしたことから、生産性
の良い高反射率化、ＣＤ−Ｒメディア化が可能となる。

【００６６】請求項６の光情報記録媒体は、前記保護層
が紫外線硬化型樹脂からなるものとしたことから、生産
性の高い保護層化したメディア化が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の記録媒体に適用し得る通常の追記型光
記録媒体としての層構成例を示す図である。

【図２】本発明の記録媒体に適用し得るＣＤ−Ｒ用とし
ての層構成例を示す図である。

【符号の説明】

１基板２記録層（有機色素層）３下引き層４保護層５ハードコート層６反射層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者植野泰伸東京都大田区中馬込１丁目３番６号株式会社リコー内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に直接又は下引き層を介して記録
層を設け、更に必要に応じて、その上に反射層、保護層
を設けてなる光記録媒体において、前記記録層中に下記
一般式（Ｉ）〜（IV）で示される化合物の少なくとも１
種を含有してなることを特徴とする光記録媒体。【化１】【化２】【化３】【化４】〔式中、Ｒ¹〜Ｒ⁷、１、ｍ、ｎ、Ｙ、Ｚ、Ｘ、及びＱ
は、それぞれ以下のものを表す。Ｒ¹〜Ｒ³：各々独立にアミノ基、炭素数１〜６の置換さ
れていてもよいジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニ
トロ基、水酸基、置換若しくは未置換のアルキル基、置
換若しくは未置換のアルコキシ基、置換若しくは未置換
のアルキルチオ基、置換若しくは未置換のカルボン酸エ
ステル基、置換若しくは未置換のアリール基、置換若し
くは未置換のアリールオキシ基、又は置換若しくは未置
換のアリールチオ基、Ｒ⁴〜Ｒ⁶：各々独立にハロゲン原子、ニトロ基、水酸
基、置換若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未
置換のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアルキルチ
オ基、置換若しくは未置換のジアルキルアミノ基、
Ｏ^-、ＣＯＯ^-、又はＳＯ₃ ^-、ｌ、ｍ：各々独立に０〜３の整数、ｎ：０〜４の整数、Ｒ⁷：ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、置換若しくは
未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアルコキシ
基、置換若しくは未置換のアルキルチオ基、アミノ基、
ジアルキルアミノ基、Ｏ^-、ＣＯＯ^-、又はＳＯ₃ ^-、Ｙ：炭素原子、硫黄原子又は酸素原子、Ｚ：複素環残基、Ｘ：酸アニオン又は金属錯体アニオン、Ｑ：０又は１。〕
【請求項２】前記記録層が前記一般式（Ｉ）〜（IV）
で示される化合物の少なくとも１種と６８０ｎｍ〜７５
０ｎｍに最大吸収波長を有する有機色素とを含有してな
ることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】前記６８０ｎｍ〜７５０ｎｍに最大吸収
波長を有する有機色素がペンタメチンのシアニン色素、
フタロシアニン色素及びアゾ金属キレート色素の少なく
とも１種である請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項４】前記記録層が波長６３０〜７２０ｎｍの
レーザ光によって記録されるものである請求項１〜３の
いずれかに記載の光記録媒体。
【請求項５】前記反射層がアルミニウム又は金からな
る請求項１〜４のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項６】前記保護層が紫外線硬化型樹脂からなる
請求項１〜５のいずれかに記載の光記録媒体。